JP5076295B2 - 膜パターンの形成方法、デバイスの製造方法、有機エレクトロルミネッセンス装置 - Google Patents
膜パターンの形成方法、デバイスの製造方法、有機エレクトロルミネッセンス装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5076295B2 JP5076295B2 JP2005264864A JP2005264864A JP5076295B2 JP 5076295 B2 JP5076295 B2 JP 5076295B2 JP 2005264864 A JP2005264864 A JP 2005264864A JP 2005264864 A JP2005264864 A JP 2005264864A JP 5076295 B2 JP5076295 B2 JP 5076295B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- area
- region
- effective
- dummy
- liquid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 82
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 28
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 title claims description 13
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 161
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 82
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 65
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 62
- 238000005192 partition Methods 0.000 claims description 48
- 239000010408 film Substances 0.000 description 123
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 69
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 63
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 36
- OQCFWECOQNPQCG-UHFFFAOYSA-N 1,3,4,8-tetrahydropyrimido[4,5-c]oxazin-7-one Chemical compound C1CONC2=C1C=NC(=O)N2 OQCFWECOQNPQCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 17
- 239000011344 liquid material Substances 0.000 description 17
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 16
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 16
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 14
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 description 14
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 13
- 230000002940 repellent Effects 0.000 description 13
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 13
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 12
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 11
- 230000008569 process Effects 0.000 description 11
- 230000008859 change Effects 0.000 description 8
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 8
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 7
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 7
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 7
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 5
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 5
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 5
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 4
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 4
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 4
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 4
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 4
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 4
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 4
- -1 polyphenylene vinylene Polymers 0.000 description 4
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 4
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 4
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920001609 Poly(3,4-ethylenedioxythiophene) Polymers 0.000 description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 3
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 3
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 3
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 3
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HBEDSQVIWPRPAY-UHFFFAOYSA-N 2,3-dihydrobenzofuran Chemical compound C1=CC=C2OCCC2=C1 HBEDSQVIWPRPAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 2
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 2
- 229920000265 Polyparaphenylene Polymers 0.000 description 2
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- ZYGHJZDHTFUPRJ-UHFFFAOYSA-N coumarin Chemical compound C1=CC=C2OC(=O)C=CC2=C1 ZYGHJZDHTFUPRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000006837 decompression Effects 0.000 description 2
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000012454 non-polar solvent Substances 0.000 description 2
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 2
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 2
- CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N peryrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=3C2=C2C=CC=3)=C3C2=CC=CC3=C1 CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 2
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 2
- 229920003227 poly(N-vinyl carbazole) Polymers 0.000 description 2
- 229920000172 poly(styrenesulfonic acid) Polymers 0.000 description 2
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 229940005642 polystyrene sulfonic acid Drugs 0.000 description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 2
- 238000000638 solvent extraction Methods 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- YJUUZFWMKJBVFJ-UHFFFAOYSA-N 1,3-dimethylimidazolidin-4-one Chemical compound CN1CN(C)C(=O)C1 YJUUZFWMKJBVFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KLCLIOISYBHYDZ-UHFFFAOYSA-N 1,4,4-triphenylbuta-1,3-dienylbenzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(C=1C=CC=CC=1)=CC=C(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 KLCLIOISYBHYDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FCNCGHJSNVOIKE-UHFFFAOYSA-N 9,10-diphenylanthracene Chemical compound C1=CC=CC=C1C(C1=CC=CC=C11)=C(C=CC=C2)C2=C1C1=CC=CC=C1 FCNCGHJSNVOIKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N Quinacridone Chemical compound N1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=C1C(=O)C3=CC=CC=C3NC1=C2 NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SNAAJJQQZSMGQD-UHFFFAOYSA-N aluminum magnesium Chemical compound [Mg].[Al] SNAAJJQQZSMGQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 229960000956 coumarin Drugs 0.000 description 1
- 235000001671 coumarin Nutrition 0.000 description 1
- VBVAVBCYMYWNOU-UHFFFAOYSA-N coumarin 6 Chemical compound C1=CC=C2SC(C3=CC4=CC=C(C=C4OC3=O)N(CC)CC)=NC2=C1 VBVAVBCYMYWNOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HHNHBFLGXIUXCM-GFCCVEGCSA-N cyclohexylbenzene Chemical compound [CH]1CCCC[C@@H]1C1=CC=CC=C1 HHNHBFLGXIUXCM-GFCCVEGCSA-N 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 1
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 239000008204 material by function Substances 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- VOFUROIFQGPCGE-UHFFFAOYSA-N nile red Chemical compound C1=CC=C2C3=NC4=CC=C(N(CC)CC)C=C4OC3=CC(=O)C2=C1 VOFUROIFQGPCGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 1
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 1
- 229920000553 poly(phenylenevinylene) Polymers 0.000 description 1
- 229920000548 poly(silane) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002098 polyfluorene Polymers 0.000 description 1
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 1
- 229920000123 polythiophene Polymers 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- ZXZKYYHTWHJHFT-UHFFFAOYSA-N quinoline-2,8-diol Chemical compound C1=CC(=O)NC2=C1C=CC=C2O ZXZKYYHTWHJHFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 230000001846 repelling effect Effects 0.000 description 1
- 239000001022 rhodamine dye Substances 0.000 description 1
- YYMBJDOZVAITBP-UHFFFAOYSA-N rubrene Chemical compound C1=CC=CC=C1C(C1=C(C=2C=CC=CC=2)C2=CC=CC=C2C(C=2C=CC=CC=2)=C11)=C(C=CC=C2)C2=C1C1=CC=CC=C1 YYMBJDOZVAITBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010301 surface-oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
- Optical Filters (AREA)
Description
この方法によれば、非有効領域における液体受容部の配置密度を有効領域の中心部から遠い領域ほど大きくしているので、配置した機能液から蒸発する溶媒の分圧の低くなり易い有効領域の角部等においても溶媒の分圧が急激に低下することがなく、有効領域全体で蒸発した溶媒分子の分圧を均一化することが可能である。溶媒蒸気の分圧は、配置された溶媒の表面積に依存し、配置された溶媒の表面積が大きいほど蒸発した溶媒分子の分圧は大きくなる。本発明においては、配置する溶媒の表面積を液体受容部の配置密度によって調節し、これにより有効領域内で溶媒の分圧に偏りが生じないようにしているので、有効領域全体で機能液から溶媒が蒸発する速度、すなわち乾燥速度が均一になり、膜厚むらや膜の偏りなどがない高品質な膜を形成することができる。特に膜厚むらや膜の偏りなどが発生し易い有効領域の角部等においても、均一で高品質な膜を形成することが可能となる。
この方法によれば、より乾燥むらの少ない膜パターンを形成することができる。また、液滴吐出法で機能液を吐出する場合には、液体受容部の配置密度を複数段階で変化させる方が連続的に変化させる場合に比べて吐出が容易になる。すなわち、マルチヘッドの液滴吐出装置では、液滴吐出ノズルを回転させることによって機能液の吐出ピッチを変えるが、液体受容部の配置密度を連続的に変化させた場合には、この吐出ピッチの変化も連続的に変化させなければならず、操作が複雑になる。一方、配置密度を3段階、4段階…のように段階的に変化させた場合には、吐出ピッチの変化も3段階、4段階…で変化させればよいので、操作が容易であり効率的に吐出を行うことができる。また、吐出ミスによる不良も防止することができる。
この方法によれば、従来最も問題となっていた有効領域の角部近傍における膜厚むらや膜の偏りなどの不均一性を解消し、有効領域全体にわたって均一な膜を形成することができる。
この方法によれば、隔壁によって膜パターンの形状が規定されることから、例えば隣接する隔壁間の幅を狭くするなど、隔壁を適切に形成することにより、膜パターンの微細化や細線化を図ることができる。
この方法によれば、非有効領域への機能液又は溶媒の配置を有効領域に配置する場合と同じ条件で行なうことができる。
この方法によれば、より確実に乾燥むらを防止することができる。
この方法によれば、液滴吐出法を用いることにより、スピンコート法などの他の塗布技術に比べて、液体材料の消費に無駄が少なく、基体上に配置する液体材料の量や位置の制御を行ないやすい。
この方法によれば、有効領域全体にわたって均一な膜を有する高性能なデバイスを提供することができる。
本発明のデバイスとしては、例えば、有機エレクトロルミネッセンス装置やカラーフィルタ基板等があり、これら有機エレクトロルミネッセンス装置の有機機能層(発光層、電荷輸送層等)や画素電極のパターン、又はカラーフィルタ基板のカラーフィルタパターンの形成工程等に、本発明の膜パターンの形成方法を好適に適用することができる。
この構成によれば、有効領域の液体受容部に有機エレクトロルミネッセンス素子の発光層等を液体プロセスで形成する場合に、非有効領域の液体受容部にダミーの溶媒を塗布しておけば、該発光層等において膜厚むらが発生することを防止ないし抑制することができる。つまり、非有効領域の液体受容部にダミーの溶媒を塗布しておくことで、有効領域において蒸発する溶媒分子の分圧が該有効領域の中央部と周辺部とで略同一となり、その結果、有効領域全体で発光層等の膜厚を均一化することができるようになるのである。
特に、本発明では、前記液体受容部の配置密度を前記有効領域の中心部から遠い領域ほど大きくしているので、有効領域全体で蒸発した溶媒の分圧を均一化することができ、発光層等の膜厚むらや膜の偏りなどがない高性能且つ信頼性の高い有機エレクトロルミネッセンス装置を提供することができる。
図1は、本発明の膜パターンの形成方法を示す概念図である。
本発明の膜パターンの形成方法は、基体P上に機能性材料を含む機能液を配置し、前記機能液を乾燥することにより、前記基体P上に前記機能性材料からなる膜パターンを形成するものである。膜パターンが形成される領域のうち、膜本来の機能が有効に発揮される一群の膜パターンによって構成される領域を有効領域TEといい、膜パターンは形成されるが、膜本来の機能を発揮しない一群の膜パターンによって構成される領域を非有効領域TDという。ただし、非有効領域TDには必ずしも膜パターンが形成される必要はなく、機能性材料を含まない溶媒のみを配置する領域、又は溶媒のみを配置する領域とダミーの膜パターンを形成する領域との双方を含む領域を非有効領域という場合もある。本発明では、これらを総称して非有効領域という。
まず、図3(a)に示すように、基体Pの有効光学領域TE及びダミー領域TD(T1,T2,T3)に隔壁Bを形成する。
基体Pとしては、ガラス、石英ガラス、Siウエハ、プラスチックフィルム、金属板など各種のものが挙げられる。さらに、これら各種の素材基板の表面に半導体膜、金属膜、誘電体膜、有機膜などが下地層として形成されたものも含む。
親液処理としては、酸素を処理ガスとしたプラズマ処理(O2プラズマ処理等)や、酸素雰囲気中での紫外線照射処理等を用いることができる。
撥液処理としては、CF4、SF6、CHF3等のフッ素成分を有するガス(フッ素含有ガス)を用いたプラズマ処理を用いることができる。撥液処理に代えて、隔壁Bの素材自体(例えば有機物層B2の形成材料)に予めフッ素基等の撥液成分を充填しておいてもよい。隔壁Bの表面を撥液化することにより、隔壁Bの開口部にのみ膜を形成し、隔壁Bの上面に不要な膜が形成されるのを防ぐことができる。
ダミー画素PDのサイズは有効画素PEのサイズと同じとされているため、ダミー画素PDに吐出する液滴の量は、有効画素PEに吐出する液滴の量と同一とすることができる。ただし、有効光学領域TEの中心部Cから遠い領域では、液滴の乾燥時間も短くなるため、当該領域において十分な持続時間を確保したい場合には、その乾燥時間に応じて、吐出する液滴の量を変えることも可能である。液滴の配置量は、例えば液滴のショット数を変えることによって調節することができる。
次に、本発明のデバイスの製造方法の一実施の形態として、本発明の膜パターンの形成方法を有機EL装置の製造方法に適用した例について説明する。この有機EL装置は、有機EL素子を画素として基体上に配列してなる有機EL装置であり、例えば電子機器等の表示手段として好適に用いることができるものである。
次に、有機EL装置70の製造方法について図面を参照しながら説明する。本実施形態では、図5から図8に示した構成を備えた有機EL装置を液体プロセスである液滴吐出法を用いて製造する例について説明する。
なお、以下に示す手順や液体材料の材料構成は一例であってこれに限定されるものではない。また、液滴吐出装置については前述のものを用いることができる。
なお、ダミー画素PDには、赤色、緑色及び青色の3つの発光層形成材料が形成されることになるが、図10(c)では、これらを纏めて符号140Dで示している。
次に、本発明のデバイスの製造方法の一実施の形態として、本発明の膜パターンの形成方法をカラーフィルタ基板の製造方法に適用した例について説明する。このカラーフィルタ基板は、例えば液晶表示パネルの色表示手段として好適に適用可能なものである。
このカラーフィルタ基板の製造方法では、ガラスやプラスチック等からなる基体P上に、前述の液滴吐出ヘッド20を用いて複数のカラーフィルタF(FR,FG,FB)を形成する。生産性を向上させる観点から、基体Pとしてはガラスやプラスチック等からなる大面積の基板(大型基板)を用い、この大型基板P上に形成された複数のパネル領域TEの内部に、ドット状に配列した複数のカラーフィルタFを形成する。
図12には、パネル領域TEとダミー領域TDの境界部分が図示されている。パネル領域TEには、赤色カラーフィルタFRが形成される赤色有効画素が示されている。
バンクBは、カラーフィルタFが形成される領域を仕切る仕切り部材として機能するものである。バンクBは、パネル領域TE、及び該パネル領域TEの周辺の領域(非有効領域)に形成される。パネル領域TEに形成されるバンクBは、表示パネルの画素パターンに対応する開口部を有している。本発明のカラーフィルタ基板の製造方法では、バンクBによって区画された領域に着色材料を含む機能液が配置され、この機能液が乾燥することにより、大型基板P上にカラーフィルタ(膜パターン)Fが形成される。この場合、バンクBによってカラーフィルタFの形状が規定されることから、例えば隣接するバンクBの幅を狭くするなど、バンクBを適切に形成することにより、カラーフィルタFの微細化が図られる。
その後、大型基板Pをパネル領域TE,TEの間に設けたスクライブラインに沿って切断し、個々のカラーフィルタ基板を得る。これにより、カラーフィルタ基板が完成する。
次に、本発明の膜パターンの形成方法の実施例について説明する。
図13は、サンプル基板Pに形成した有効画素PE及びダミー画素PDの配置を示す平面模式図である。図13(a)は、ダミー画素PDの配置密度を有効領域TEの縁辺中央部から角部に向けて3段階で変化させた場合の模式図(サンプル1)、図13(b)は、ダミー画素PDの配置密度を有効領域TEの縁辺中央部と角部の2段階で変化させた場合の模式図(サンプル2)、図13(c)は、ダミー画素PDの配置密度を有効画素PEと同じ密度で形成した場合の模式図(サンプル3)である。いずれのサンプルにおいても、有効画素の形状及びサイズとダミー画素の形状及びサイズは、同じものとされている。
次に、本発明の電子機器の具体例について説明する。
図16は、携帯電話の一例を示した斜視図である。図16において、符号600は携帯電話本体を示し、符号601は上記実施形態の有機EL装置又はカラーフィルタ基板を備えた表示部を示している。
図16に示す電子機器は、上述した本発明の膜パターンの形成方法により形成された膜パターンを備えたものであるので、高い表示品質や高い性能が得られるものとなる。
なお、本発明の有機EL装置、カラーフィルタ基板等のデバイスは、前述した携帯電話機に限らず、種々の電子機器に搭載することができる。この電子機器としては例えば、電子ブック、パーソナルコンピュータ、ディジタルスチルカメラ、液晶テレビ、ビューファインダ型あるいはモニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、POS端末、タッチパネルを備えた機器等がある。
Claims (6)
- 機能性材料を溶媒に溶解ないし分散させてなる機能液を基体上に配置し、前記機能液から溶媒を除去することにより、前記機能性材料からなる膜パターンを形成する方法であって、
前記膜パターンが形成される前記基体の有効領域に隔壁によって区画された複数の第一液体受容部を形成する工程と、
前記有効領域の周囲の非有効領域に隔壁によって区画された複数の第二液体受容部を形成する工程と、
前記有効領域に形成された前記複数の第一液体受容部に前記機能液を配置する工程と、
前記非有効領域に形成された前記複数の第二液体受容部に前記機能液又は溶媒を配置する工程と、を有し、
前記有効領域は矩形形状を有し、前記非有効領域であって、前記矩形の各辺での中央部を第一領域、前記各辺の角部を第二領域、前記第一領域と前記第二領域との間に配置され、前記角部を含まない領域を第三領域とを有し、
前記第一領域の前記複数の第二液体受容部は第一配置密度で配置され、前記第二領域の前記複数の第二液体受容部は第二配置密度で配置され、前記第三領域の前記複数の第二液体受容部は第三配置密度で配置されており、
前記第一配置密度は、前記第三配置密度よりも小さく、前記第三配置密度は前記第二配置密度よりも小さいことを特徴とする、膜パターンの形成方法。 - 前記有効領域における前記液体受容部のサイズと前記非有効領域における前記液体受容部のサイズとを同じサイズで形成することを特徴とする、請求項1に記載の膜パターンの形成方法。
- 前記非有効領域における前記液体受容部を、前記有効領域の外周に沿って少なくとも2列以上形成することを特徴とする、請求項1または2に記載の膜パターンの形成方法。
- 前記機能液又は前記溶媒の配置を液滴吐出法により行なうことを特徴とする、請求項1〜3のいずれかの項に記載の膜パターンの形成方法。
- 膜パターンを有するデバイスの製造方法であって、
前記膜パターンの形成工程が、請求項1〜4のいずれかの項に記載の膜パターンの形成方法により行なわれることを特徴とする、デバイスの製造方法。 - 隔壁によって区画された有機エレクトロルミネッセンス素子と、
前記有機エレクトロルミネッセンス素子が設けられた有効領域と、
前記有効領域の周囲の非有効領域に設けられ、隔壁によって区画された複数の液体受容部とを有し、
前記有効領域は矩形形状を有し、前記非有効領域であって、前記矩形の各辺での中央部を第一領域、前記各辺の角部を第二領域、前記第一領域と前記第二領域との間に配置され、前記角部を含まない領域を第三領域とを有し、
前記第一領域の前記複数の第二液体受容部は第一配置密度で配置され、前記第二領域の前記複数の第二液体受容部は第二配置密度で配置され、前記第三領域の前記複数の第二液体受容部は第三配置密度で配置されており、
前記第一配置密度は、前記第三配置密度よりも小さく、前記第三配置密度は前記第二配置密度よりも小さいことを特徴とする、有機エレクトロルミネッセンス装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005264864A JP5076295B2 (ja) | 2005-09-13 | 2005-09-13 | 膜パターンの形成方法、デバイスの製造方法、有機エレクトロルミネッセンス装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005264864A JP5076295B2 (ja) | 2005-09-13 | 2005-09-13 | 膜パターンの形成方法、デバイスの製造方法、有機エレクトロルミネッセンス装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007080602A JP2007080602A (ja) | 2007-03-29 |
JP5076295B2 true JP5076295B2 (ja) | 2012-11-21 |
Family
ID=37940688
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005264864A Active JP5076295B2 (ja) | 2005-09-13 | 2005-09-13 | 膜パターンの形成方法、デバイスの製造方法、有機エレクトロルミネッセンス装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5076295B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102008063562B4 (de) * | 2008-12-18 | 2011-07-14 | Fachhochschule Osnabrück, 49076 | Thermoplastisches Vulkanisat, Herstellungsverfahren und Verwendung desselben |
JP5708028B2 (ja) * | 2011-02-25 | 2015-04-30 | 東洋インキScホールディングス株式会社 | カラーフィルタ用着色組成物、及びカラーフィルタ |
EP2779797A1 (en) | 2011-11-09 | 2014-09-17 | Showa Denko K.K. | Light-emitting device and method of manufacturing light-emitting device |
KR101881083B1 (ko) | 2011-11-09 | 2018-07-24 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기 발광 표시 장치 |
KR101924606B1 (ko) | 2012-04-27 | 2018-12-04 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기 발광 표시 장치와, 이의 제조 방법 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3059678B2 (ja) * | 1995-07-14 | 2000-07-04 | キヤノン株式会社 | カラーフィルタの製造方法及び製造装置 |
JP3814469B2 (ja) * | 2000-07-10 | 2006-08-30 | キヤノン株式会社 | カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法および製造装置、カラーフィルタを備えた表示装置の製造方法、表示装置を備えた装置の製造方法 |
JP3778176B2 (ja) * | 2002-05-28 | 2006-05-24 | セイコーエプソン株式会社 | 発光装置および電子機器 |
-
2005
- 2005-09-13 JP JP2005264864A patent/JP5076295B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2007080602A (ja) | 2007-03-29 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7897211B2 (en) | Method for forming film pattern and method for manufacturing an organic EL device, a color filter substrate and a liquid crystal display device | |
JP5338266B2 (ja) | 有機エレクトロルミネッセンス装置および有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法 | |
JP2007080603A (ja) | 膜パターンの形成方法、デバイスの製造方法、有機エレクトロルミネッセンス装置 | |
KR100691702B1 (ko) | 유기 일렉트로루미네선스 장치, 그 제조 방법 및 전자 기기 | |
US7244158B2 (en) | Method of manufacturing color filter substrate, method of manufacturing electro-optical device, electro-optical device, and electronic apparatus | |
US8029850B2 (en) | Method of manufacturing organic electroluminescent device and method of manufacturing device | |
JP4918752B2 (ja) | 有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法、有機エレクトロルミネッセンス装置、電子機器 | |
JP4715226B2 (ja) | 有機エレクトロルミネッセンス装置、有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法、電子機器 | |
JP4497156B2 (ja) | 有機エレクトロルミネッセンス装置及び電子機器 | |
JP5076295B2 (ja) | 膜パターンの形成方法、デバイスの製造方法、有機エレクトロルミネッセンス装置 | |
JP2004335180A (ja) | 電気光学装置、電気光学装置用基板、及び電気光学装置の製造方法 | |
US20060017671A1 (en) | Display device and electronic apparatus | |
JP2009259570A (ja) | 有機エレクトロルミネッセンス装置及び電子機器 | |
JP2009259457A (ja) | 有機エレクトロルミネッセンス素子とその製造方法、及び電子機器 | |
JP5082217B2 (ja) | 膜パターンの形成方法、デバイスの製造方法 | |
JP2007115563A (ja) | 電気光学装置、電気光学装置の製造方法及び電子機器 | |
JP4957318B2 (ja) | 有機el装置の製造方法 | |
JP2009048830A (ja) | 有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法、エレクトロルミネッセンス装置、および電子機器 | |
JP2007035484A (ja) | 膜パターンの形成方法及びデバイスの製造方法 | |
JP2016195028A (ja) | 隔壁構造体、隔壁構造体の製造方法、電気光学装置、及び電子デバイス | |
JP2005294204A (ja) | 電気光学装置の製造方法、電気光学装置、電子機器 | |
JP2007080765A (ja) | 膜パターンの形成方法、デバイス及び電子機器 | |
JP2005353528A (ja) | 電気光学装置の製造方法、電気光学装置、電子機器 | |
JP2007081271A (ja) | 膜パターンの形成方法、デバイス及び電子機器 | |
JP2016195024A (ja) | 有機el装置の製造方法、有機el装置および電子機器 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20070404 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080818 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20101020 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20101026 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20101208 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110920 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20111118 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120731 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120813 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150907 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5076295 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |