JP4902518B2 - スパッタリング装置 - Google Patents
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Description
第一の発明はスパッタリング装置であって、前記第一、第二のマグネトロン磁石装置は複数設けられ、前記各第一、第二のマグネトロン磁石装置は、周回移動して前記第一のターゲットの裏面を繰り返し通過するように構成されたスパッタリング装置である。
第一の発明はスパッタリング装置であって、第二のターゲットを有し、前記第一、第二のマグネトロン磁石装置は、一回の前記周回移動によって、前記第一、第二のターゲットの両方の裏面を通過するように構成されたスパッタリング装置である。
第一の発明はスパッタリング装置であって、前記第一、第二のマグネトロン磁石装置は、往復移動するように構成されたスパッタリング装置である。
第二の発明は、一乃至複数個の第一のマグネトロン磁石装置が配置され、前記第一のマグネトロン磁石装置が移動する第一の磁石走行軌道と、前記第一のマグネトロン磁石装置とは別の第二のマグネトロン磁石装置が配置され、前記第二のマグネトロン磁石装置が移動する第二の磁石走行軌道と、前記第一、第二の磁石走行軌道の一部が裏面に位置する第一のターゲットとを有するスパッタリング装置であって、前記第一、第二のマグネトロン磁石装置のうち、少なくとも一方のマグネトロン磁石装置は、中心磁石と、リング状の第一、第二のリング磁石とを有し、前記第一、第二のリング磁石は、前記第一のターゲットの表面とそれぞれ平行にされ、前記第一のリング磁石のリング内側に前記中心磁石が配置され、前記第二のリング磁石のリング内側に前記第一のリング磁石が配置され、前記中心磁石と、前記第一、第二のリング磁石は、S極とN極のうち、前記第一のターゲット側の面に一方の磁極が、前記第一のターゲットと反対側の面に他方の磁極がそれぞれ形成され、前記中心磁石と前記第一のリング磁石は、前記第一のターゲット側の面の磁極の極性が互いに反対にされ、前記第一、第二のリング磁石は前記第一のターゲット側の面の磁極の極性が互いに反対にされたスパッタリング装置である。
第二の発明はスパッタリング装置であって、前記第一、第二の磁石走行軌道はそれぞれ環状に形成され、前記第一、第二のマグネトロン磁石装置が、前記第一、第二の磁石走行軌道に沿ってそれぞれ周回移動するように構成されたスパッタリング装置である。
第二の発明はスパッタリング装置であって、前記第一の磁石走行軌道は、前記第二の磁石走行軌道の内側に位置するスパッタリング装置である。
第二の発明はスパッタリング装置であって、前記第一、第二の磁石走行軌道が裏面に位置する第二のターゲットを有するスパッタリング装置である。
後述する第一、第二の発明のスパッタリング装置は、二種類以上のマグネトロン磁石装置(第一、第二のマグネトロン磁石装置)を有している。
マグネトロン磁石装置201、202、81、82は、第一のリング磁石46と、中心磁石45をそれぞれ有している。第一のリング磁石46はリング状である。中心磁石45は、外周が第一のリング磁石46のリング内周よりも小さい相似形である。
次に、上記マグネトロン磁石装置を用いた第一の発明のスパッタリング装置について説明する。
第一、第二のターゲット21、22は、第一のターゲット21が基板移動軌道29の上流側、第二のターゲット22が基板移動軌道29の下流側に配置されており、基板ホルダ19に基板8を保持させ、基板8の表面が第一、第二のターゲット21、22表面と対面するように通過させると、基板8の表面は、第一のターゲット21の表面と第二のターゲット22の表面に、この順序で対面するように配置されている。
第一、第二のターゲット21、22の裏面には、磁石走行軌道23が敷設されており、該磁石走行軌道23には、大きさが異なる第一、第二のマグネトロン磁石装置201、202がそれぞれ一個、又は二個以上取り付けられている。
半円部分は、第一、第二のターゲット21、22の真裏から離間した位置に配置されており、直線部分の両端は半円形部分に接続されることで、環状になっている。
第一、第二のリング磁石46、47と中心磁石45は、金属ヨーク40とは反対側の底面(表面)が第一、第二のターゲット21、22の表面が位置する平面Hに向けられている。
図8は第二の発明のスパッタリング装置50であり、第一の発明と同様に、真空槽57を有しており、真空槽57内部には基板移動軌道85が敷設されている。
第一、第二のターゲット61、62の裏面側には、第一、第二の磁石走行軌道71、72が配置されている。第一のターゲット61の真裏位置には、第一、第二の磁石走行軌道71、72の一部がそれぞれ配置され、同様に、第二のターゲット62の真裏位置にも、第一、第二の磁石走行軌道71、72の他の一部がそれぞれ配置されている。
ここでは、第一の磁石走行軌道71の一周距離は、第二の磁石走行軌道72の一周距離よりも短く、第一の磁石走行軌道71は第二の磁石走行軌道72の内側に位置する。
第一、第二のマグネトロン磁石装置81、82のうち、いずれか一方又は両方は、上記図2(a)に示したマグネトロン磁石装置である。
各エロージョン領域85a〜85d、86a〜86dは、第一、第二のターゲット61、62の長辺と平行であり、両端は、第一、第二のターゲット61、62の短辺上に位置している。
第一、第二のリング磁石46、47と中心磁石45は、具体的には永久磁石である。
Claims (8)
- 板状の第一のターゲットと、
第一のマグネトロン磁石装置と、
前記第一のマグネトロン磁石装置よりも小径の第二のマグネトロン磁石装置と、
前記第一、第二のマグネトロン磁石装置を前記第一のターゲットの裏面位置を繰り返し通過させる磁石移動装置とを有するスパッタリング装置であって、
前記第一、第二のマグネトロン磁石装置のうち、少なくとも一方のマグネトロン磁石装置は、中心磁石と、リング状の第一、第二のリング磁石とを有し、
前記第一、第二のリング磁石は、前記第一のターゲットの表面とそれぞれ平行にされ、
前記第一のリング磁石のリング内側に前記中心磁石が配置され、前記第二のリング磁石のリング内側に前記第一のリング磁石が配置され、
前記中心磁石と、前記第一、第二のリング磁石は、S極とN極のうち、前記第一のターゲット側の面に一方の磁極が、前記第一のターゲットと反対側の面に他方の磁極がそれぞれ形成され、
前記中心磁石と前記第一のリング磁石は、前記第一のターゲット側の面の磁極の極性が互いに反対にされ、
前記第一、第二のリング磁石は前記第一のターゲット側の面の磁極の極性が互いに反対にされたスパッタリング装置。 - 前記第一、第二のマグネトロン磁石装置は複数設けられ、前記各第一、第二のマグネトロン磁石装置は、周回移動して前記第一のターゲットの裏面を繰り返し通過するように構成された請求項1記載のスパッタリング装置。
- 第二のターゲットを有し、
前記第一、第二のマグネトロン磁石装置は、一回の前記周回移動によって、前記第一、第二のターゲットの両方の裏面を通過するように構成された請求項2記載のスパッタリング装置。 - 前記第一、第二のマグネトロン磁石装置は、往復移動するように構成された請求項1記載のスパッタリング装置。
- 一乃至複数個の第一のマグネトロン磁石装置が配置され、前記第一のマグネトロン磁石装置が移動する第一の磁石走行軌道と、
前記第一のマグネトロン磁石装置とは別の第二のマグネトロン磁石装置が配置され、前記第二のマグネトロン磁石装置が移動する第二の磁石走行軌道と、
前記第一、第二の磁石走行軌道の一部が裏面に位置する第一のターゲットとを有するスパッタリング装置であって、
前記第一、第二のマグネトロン磁石装置のうち、少なくとも一方のマグネトロン磁石装置は、中心磁石と、リング状の第一、第二のリング磁石とを有し、
前記第一、第二のリング磁石は、前記第一のターゲットの表面とそれぞれ平行にされ、
前記第一のリング磁石のリング内側に前記中心磁石が配置され、前記第二のリング磁石のリング内側に前記第一のリング磁石が配置され、
前記中心磁石と、前記第一、第二のリング磁石は、S極とN極のうち、前記第一のターゲット側の面に一方の磁極が、前記第一のターゲットと反対側の面に他方の磁極がそれぞれ形成され、
前記中心磁石と前記第一のリング磁石は、前記第一のターゲット側の面の磁極の極性が互いに反対にされ、
前記第一、第二のリング磁石は前記第一のターゲット側の面の磁極の極性が互いに反対にされたスパッタリング装置。 - 前記第一、第二の磁石走行軌道はそれぞれ環状に形成され、前記第一、第二のマグネトロン磁石装置が、前記第一、第二の磁石走行軌道に沿ってそれぞれ周回移動するように構成された請求項5記載のスパッタリング装置。
- 前記第一の磁石走行軌道は、前記第二の磁石走行軌道の内側に位置する請求項5記載のスパッタリング装置。
- 前記第一、第二の磁石走行軌道が裏面に位置する第二のターゲットを有する請求項5乃至請求項7のいずれか1項記載のスパッタリング装置。
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