JP4886984B2 - 電子線描画装置 - Google Patents
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Description
1)平面性の良い被加工物の提供。(そりの補正)
2)装置セット時の新たな高周波面振れ成分の発生防止方法の検討(ワーク固定起因の外力から解放)。
3)回転モーメントを最小にするワーク位置決め方法検討。
4)実回転周波数での振動減衰方法の検討。
これらの阻害要因への対策として、一般的には試料チャンバの外面に光学的なハイトセンサを装着する。即ち、加工面高さを計測しその情報をフォーカスレンズやピエゾ素子を配したZステージに反映する方式が知られている。しかし、1m/s超える高速度露光条件では、計測性能が充分でも応答性が追従できない状況にある。必要な応答性の目安としては基本回転数(rpm)〜3次波まで考慮しなければならない。例えば線速3m/sでは半径20mmで3600rpm(60Hz)となる。180Hzでストローク30μmを満足するピエゾ素子(通常70Hz程度)はない。電磁レンズあるいは静電レンズから成るフォーカスレンズ系では100Hz程度が限界であった。
以上説明したように、サブミクロンオーダの焦点深度しかない電子線を前提にすると、従来の方式では対応できない。
従来例の一つとして特許文献1には、電子線照射部と原盤表面との間の距離を計測し、その距離が一定になるように原盤を原盤表面に垂直な方向に駆動しつつ、電子線を回転する原盤の半径方向及び回転方向に偏向して原盤が1回転する間に複数のトラックのパターンを描画する光ディスク原盤作成方法が提案されている。また、特許文献2には、ガラス基板に高精度で電子線描画を行うためにガラス基板の平坦度を維持した状態でホルダへ固定し、ガラス基板の下面にOリングを配置して押圧力を発生させる方法が提案されている。更には、特許文献3によれば、電子線を原盤の所定の位置に正確に照射し、原盤カッティング時に原盤が1回転する間に複数のトラックを形成できるようにし、また原盤と電子銃の対物レンズとの間の距離が一定になるよう制御機構を設け、駆動手段は回転テーブルと原盤固定冶具との間に配置されたピエゾ素子を組み込んでいる。
102;固定ケース、103;勘合穴、104;突起部材、
105;回転軸、106;円盤部、107;ボール、
108;外周リング、109;ピン、110;静電場形成部材、
200;ワーク。
Claims (4)
- 回転する露光原盤に電子線で所望のパターンを描画する時に原盤の面振れ量を任意の値に制御する電子線描画装置であって、露光開始の前段階で原盤の重心位置を決定した後に、原盤をテーブル面に載置する機構部材と、回転中の面振れ量を非接触状態で制御すべく設けられた応力場発生部材と、面振れ量を検知して前記応力場発生部材による応力場の増減を制御する制御部材とを有する電子線描画装置において、
前記応力場発生部材は原盤の表裏近傍に対向して設置され、かつ電位勾配を有するグラーディエント静電場を発生させる部材であることを特徴とする電子線描画装置。 - 前記応力場発生部材は、制御部材による面振れ量の調整を真空環境で、かつ原盤の実露光回転周波数を整数で除した任意の周波数で行うことを特徴とする請求項1記載の電子線描画装置。
- 前記機構部材は、回転体に設置された球面座を介して載物台が連結されており、前記回転体に設置されたテーパ形状の駆動用突起部材と前記載物台に設けた勘合穴により回転方向の駆動力を伝達することを特徴とする請求項1又は2に記載の電子線描画装置。
- 前記応力場発生部材を1箇所のみに設置する場合は、前記応力場発生部材をワーク中心と電子線の照射点を結ぶ直線上の任意の位置に設置することを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の電子線描画装置。
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