JP4785669B2 - 汚染ガス浄化装置および汚染ガス浄化方法 - Google Patents
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Description
また本発明の汚染ガス浄化装置においては、汚染ガス浄化装置内における、(a)前記放電電極と前記対向電極との間の空間であるプラズマ放電空間と、(b)前記電磁波発生装置との間の空間を電磁波遮蔽壁で覆うことが好ましい。
図1は、本発明の汚染ガス浄化装置の第1の好ましい実施形態を示す概略図である。図1に示すように、本実施形態に係る汚染ガス浄化装置は、臭気成分および/または有害成分を含む汚染ガスを導入する吸い込み口1、集塵フィルタ2、汚染ガスを移送するための送風機3、電源装置4、放電電極6、ハニカム構造体7、対向電極9、電磁波発生装置11、吐き出し口12を有している。このような構成を有することにより、吸い込み口1から導入された汚染ガスは、送風機3によって集塵フィルタ2を介して移送され、放電電極6と対向電極9に挟まれた空間であるプラズマ放電空間を通過した後に吐き出し口12から排出される。ここで、ハニカム構造体7は、プラズマ放電空間、すなわち放電電極6と対向電極9との間に配置されている。以下、プラズマ放電用の放電電極6、対向電極9およびハニカム構造体7から構成されるユニットを「触媒ユニット」という。
本実施形態においては、触媒反応部としてハニカム構造体7を用いる。通常のハニカム構造体の材料には、鉄製の金属材料や、アルミニウムやシリコンなどを一緒に焼き固めたセラミック材料などが用いられる。しかし、本発明のハニカム構造体の材料には、電磁波の透過性が高いものが使用される。そのようなものとしては、たとえば、電磁波の透過性が高い石英やシリカガラスなどの誘電体、マイクロ波の透過性が高いセラミック材料であるジルコニアやアルミナなどの誘電体を挙げることができるが、電磁波の透過性が高い材料である限り、これらに限定されるものではない。
次に、図1を参照してプラズマ放電方式について説明する。本発明においては、大気圧プラズマの発生に高周波放電方式あるいはパルス放電方式を採用する。高周波放電方式の場合、ハニカム構造体7の開口穴8内部で発生するプラズマを含む、発生した大気圧プラズマは、高周波電圧と同じ周波数でプラズマ振動していると考えられる。放電電極6への印加電圧は、汚染ガス浄化装置の最大駆動電力の範囲内であり、かつ汚染ガス浄化装置にダメージを与えない範囲であるなら、数V程度の低電圧から数1000V程度の高電圧まで印加することが可能である。たとえば、印加電圧を100V、出力を500Wとすることができるが、これに限定されるものではない。また、プラズマの振動数も特に制限されるものではなく、たとえば4GHzとすることができる。ただし、高周波放電は高い印加電圧を絶えず維持しなければならず消費電力を大きく損なう。また、電磁波の照射も絶えず維持しなければならない。なお、上述したように、本実施形態においては、電源装置4の主電源をONにすることで自動的に制御装置5が起動して、送風機3が駆動するように制御するとともに、汚染ガスの臭気成分および/または有害成分を分解するのに最適な放電条件が選択されるようにしてもよい。また、電圧の印加は一定時間電圧が加えられた後、一定時間電圧供給がなくなるというような周期的に変化させることも可能である。制御装置5の制御回路にはあらかじめこのようなシーケンスが組まれていてもよく、または手動で放電の実行時間や停止時間をシーケンスとして入力できるようにしてもよい。
次に、電磁波発生装置11について説明する。電磁波発生装置11としては、従来公知のものを使用することができる。電磁波には、ガンマ線、X線、紫外線、可視光線、赤外線、マイクロ波、ミリ波などが含まれるが、本発明の場合、マイクロ波が好ましい。ここで、マイクロ波とは周波数領域が300MHz〜3THzの電磁波を意味する。前述のように、表面波励起プラズマを発生させるにはプラズマの振動数より電磁波の周波数の方がより低いことが好ましく、マイクロ波が最も有効である。特にマイクロ波の周波数は、1〜4GHzであることが好ましい。これは、電子レンジなどで使用されている汎用性のあるマイクロ波の周波数帯域であり、臭気ガスや有害ガスの浄化に寄与する空気中の水分子を発熱させるのに有効な周波数でもあるからである。マイクロ波源としては、たとえば電子レンジ用のマグネトロンなどが使用できる。ハニカム構造体の開口穴内部に形成された非平衡プラズマの振動数(例えば、4GHz)より小さい周波数であれば、ある周波数帯域を有する電磁波(マイクロ波)を照射するのが好ましい。マグネトロンの発するマイクロ波の周波数は通常2.45GHzである。
図2は、本発明の汚染ガス浄化装置の第2の好ましい実施形態を示す概略図である。ここでは、本実施形態において特徴的な部分についてのみ説明する。本実施形態において特徴的な部分とは、汚染ガス浄化装置内における、(a)放電電極6と対向電極9との間の空間であるプラズマ放電空間と、(b)電磁波発生装置11との間の空間を電磁波遮蔽壁13で覆うことである。
図3は、本発明の汚染ガス浄化装置の第3の好ましい実施形態を示す概略図である。ここでは、本実施形態において特徴的な部分についてのみ説明する。本実施形態において特徴的な部分とは、さらにハニカム構造体7(図示せず)の周縁を電磁波遮蔽壁13で覆うことである。図3は、図2に示される本発明の第2の実施形態に係る汚染ガス浄化装置に、さらにハニカム構造体7の周縁を電磁波遮蔽壁13で覆ったものであるが、これに限られるものではなく、本発明の第1の実施形態に係る汚染ガス浄化装置において、ハニカム構造体7の周縁を電磁波遮蔽壁13で覆ってもよい。また、電磁波遮蔽壁13で覆う部分はハニカム構造体7の周縁に限られるものではなく、触媒ユニット全体あるいは汚染ガス浄化装置全体を覆うようにしてもよい。
本発明の第1の実施形態に基づく汚染ガス浄化装置の浄化性能試験を行なった。
図1に示される本発明の第1の実施形態に係る汚染ガス浄化装置を1m3のチャンバー内に設置し密閉した。このチャンバー内に、ホルムアルデヒド、トルエン、キシレンからなる汚染ガスを導入し、ホルムアルデヒド、トルエン、キシレンの各々の濃度が10ppmになるようにした。汚染ガス浄化装置を10分間運転させた後、チャンバー内のガスを採取し、ホルムアルデヒドの濃度を液体クロマトグラフィー(島津製作所製LC−10AD)で測定し、トルエン、キシレンの各々の濃度をガスクロマトグラフィー(アジレント・テクノロジー社製GC−6890)で測定した。なお、当該汚染ガス浄化装置の詳細および運転条件は次のとおりである。ハニカム構造体7には、縦10cm、横10cm、厚さ1cmの石英からなるハニカム構造体を使用した。このハニカム構造体7は、平均開口径が1mmの開口穴8を多数有し、その開口壁には酸化触媒として白金微粒子をハニカム構造体1L当たり2gの濃度で担持している。対向電極9と電磁波発生装置11との距離は、10cmとした。また、大気圧プラズマは、高周波放電方式に則って、印加電圧100V、出力500W、振動数4GHzで発生させた。電磁波発生装置11には、電子レンジなどで使用されるマグネトロン(東芝ホクト電子株式会社製の電子レンジ用マグネトロン)を使用し、この電磁波発生装置11から周波数2.45GHz、出力500Wのマイクロ波を発生させた。また、本汚染ガス浄化装置に導入される汚染ガスの流量は、吸い込み口1において1m3/分とした。
本発明の第1の実施形態に係る汚染ガス浄化装置を10分間運転した場合のホルムアルデヒド、トルエン、キシレンの各々の濃度は、0.1ppmであり、除去率が99%であることがわかった。一方、電磁波発生装置11を有しない装置においては、各々の濃度は5ppmであり、除去率が50%であることがわかった。
本発明の第2の実施形態に基づく汚染ガスの浄化性能試験を行なった。
図2に示される本発明の第2の実施形態に係る汚染ガス浄化装置を用い、実施例1と同様の試験を行なった。電磁波遮蔽壁13には、鉄鋼製で、目開き1mmの網目状のものを使用した。対向電極9と電磁波発生装置11の距離は、20cmとした。その他の条件については、実施例1と同じである。また、実施例1と同様に電磁波発生装置11を有しない装置についても同じ試験を行ない、比較した。
本発明の第2の実施形態に係る汚染ガス浄化装置を10分間運転した場合のホルムアルデヒド、トルエン、キシレンの各々の濃度は、0.1ppmであり、除去率が99%であることがわかった。一方、電磁波発生装置11を有しない装置においては、5ppmであり除去率は50%であることがわかった。また、本発明の第2の実施形態に係る汚染ガス浄化装置を10分間運転した場合の炭酸ガスの濃度は、50ppmである一方、電磁波発生装置11を有しない装置においては、20ppm程度であることがわかった。
本発明の第3の実施形態に基づく汚染ガス浄化装置の浄化性能試験を行なった。
図3に示される本発明の第3の実施形態に係る汚染ガス浄化装置を用い、実施例1と同様の試験を行なった。電磁波遮蔽壁13には、鉄鋼製で、目開き1mmの網目状のものを使用した。対向電極9と電磁波発生装置11の距離は、20cmとした。また、本試験においては、電磁波の出力を500Wではなく、300Wとした。その他の条件については、実施例1と同じである。また、実施例1と同様に電磁波発生装置11を有しない装置についても同じ試験を行ない、比較した。
本発明の第3の実施形態に係る汚染ガス浄化装置を10分間運転した場合のホルムアルデヒド、トルエン、キシレンの各々の濃度は、0.1ppmであり、除去率が99%であることがわかった。一方、電磁波発生装置11を有しない装置においては、5ppmであり除去率は50%であることがわかった。また、本発明の第3の実施形態に係る汚染ガス浄化装置を10分間運転した場合の炭酸ガスの濃度は、50ppmである一方、電磁波発生装置11を有しない装置においては、20ppm程度であることがわかった。
Claims (8)
- プラズマ発生用の放電電極と対向電極とを有し、該プラズマを利用して汚染ガス中の臭気成分および/または有害成分を分解および/または酸化する汚染ガス浄化装置であって、該放電電極と該対向電極との間に電磁波の透過が可能な材質から成るハニカム構造体を有し、該ハニカム構造体に、前記プラズマの振動数より小さい周波数を有する電磁波を入射するよう配置された電磁波発生装置を敷設したことを特徴とする汚染ガス浄化装置。
- 請求項1に記載の汚染ガス浄化装置において、前記放電電極と前記対向電極との間にマイクロ波の透過が可能な材質から成るハニカム構造体を有し、該ハニカム構造体にマイクロ波を入射するよう配置されたマイクロ波発生装置を敷設したことを特徴とする汚染ガス浄化装置。
- 前記ハニカム構造体が電磁波の導波路を有することを特徴とする請求項1または2に記載の汚染ガス浄化装置。
- 汚染ガス浄化装置内における、下記(a)と(b)
(a)前記放電電極と前記対向電極との間の空間であるプラズマ放電空間
(b)前記電磁波発生装置
との間の空間を電磁波遮蔽壁で覆うことを特徴とする請求項2または3に記載の汚染ガス浄化装置。 - さらに前記ハニカム構造体の周縁を電磁波遮蔽壁で覆うことを特徴とする請求項2〜4のいずれかに記載の汚染ガス浄化装置。
- 放電電極と対向電極との間とのプラズマ放電空間に形成されるプラズマまたはプラズマによって発生する酸素ラジカルもしくはオゾンによって汚染ガス中の臭気成分および/または有害成分を分解および/または酸化する工程を有する汚染ガス浄化方法において、該放電電極と該対向電極との間に配置される、電磁波の透過が可能な材質から成るハニカム構造体に、前記プラズマの振動数より小さい周波数を有する電磁波を入射することにより、分解および/または酸化を促進することを特徴とする汚染ガス浄化方法。
- 前記電磁波は、マイクロ波である請求項6に記載の汚染ガス浄化方法。
- 前記マイクロ波の周波数は、1G〜4GHzである請求項7に記載の汚染ガス浄化方法。
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