JP4388893B2 - ビスフェノールaの製造方法 - Google Patents
ビスフェノールaの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4388893B2 JP4388893B2 JP2004532684A JP2004532684A JP4388893B2 JP 4388893 B2 JP4388893 B2 JP 4388893B2 JP 2004532684 A JP2004532684 A JP 2004532684A JP 2004532684 A JP2004532684 A JP 2004532684A JP 4388893 B2 JP4388893 B2 JP 4388893B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- phenol
- bisphenol
- adduct
- filter
- crystallization
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C37/00—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
- C07C37/68—Purification; separation; Use of additives, e.g. for stabilisation
- C07C37/70—Purification; separation; Use of additives, e.g. for stabilisation by physical treatment
- C07C37/84—Purification; separation; Use of additives, e.g. for stabilisation by physical treatment by crystallisation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C37/00—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
- C07C37/11—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring by reactions increasing the number of carbon atoms
- C07C37/20—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring by reactions increasing the number of carbon atoms using aldehydes or ketones
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C37/00—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
- C07C37/68—Purification; separation; Use of additives, e.g. for stabilisation
- C07C37/70—Purification; separation; Use of additives, e.g. for stabilisation by physical treatment
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C37/00—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
- C07C37/68—Purification; separation; Use of additives, e.g. for stabilisation
- C07C37/70—Purification; separation; Use of additives, e.g. for stabilisation by physical treatment
- C07C37/74—Purification; separation; Use of additives, e.g. for stabilisation by physical treatment by distillation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C37/00—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
- C07C37/68—Purification; separation; Use of additives, e.g. for stabilisation
- C07C37/70—Purification; separation; Use of additives, e.g. for stabilisation by physical treatment
- C07C37/82—Purification; separation; Use of additives, e.g. for stabilisation by physical treatment by solid-liquid treatment; by chemisorption
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C39/00—Compounds having at least one hydroxy or O-metal group bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
- C07C39/12—Compounds having at least one hydroxy or O-metal group bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring polycyclic with no unsaturation outside the aromatic rings
- C07C39/15—Compounds having at least one hydroxy or O-metal group bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring polycyclic with no unsaturation outside the aromatic rings with all hydroxy groups on non-condensed rings, e.g. phenylphenol
- C07C39/16—Bis-(hydroxyphenyl) alkanes; Tris-(hydroxyphenyl)alkanes
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
このビスフェノールAは、酸性触媒及び場合により用いられる硫黄化合物などの助触媒の存在下に、過剰のフェノールとアセトンとを縮合させることにより製造される。
前者の反応混合物から直接に粗結晶状で分離する方法ではビスフェノールAが微結晶質で何回も洗浄する必要があり、ロスが多い等の欠点がある。
このため現状では、後者のビスフェノールAとフェノールとの付加物を析出させ分離する方法が主流となっている。この場合、ビスフェノールAとフェノールとの付加物を晶析させ、濾過や遠心分離機を用いる公知の固液分離法により、母液からの結晶の分離が行なわれている(特開昭57−77637号公報、特開平5−331088号公報、特開昭63−275539号公報、特開平6−107578号公報、特開平6−306002号公報等)。
発明者らは、上記課題を有するビスフェノールAの製造方法について鋭意検討した結果、ビスフェノールAのフェノールスラリー溶液をフィルター上に注ぎ、特定の条件で、結晶状態のビスフェノールAとフェノールとの付加物層を形成させることにより、高純度のビスフェノールAとフェノールとの付加物を効率的に得ることができることを見出し、本発明を完成したものである。
1.酸触媒の存在下にフェノールとアセトンを反応させて得られるビスフェノールAのフェノール溶液からビスフェノールAとフェノールとの付加物を晶析させ、生成したスラリーを固液分離後、固体成分からフェノールを除去するビスフェノールAの製造方法において、ビスフェノールAの濃縮残液に水を3〜20質量%添加し、温度40〜70℃、圧力4〜16kPaで晶析させて得た、平均粒径が0.1〜0.9mmのビスフェノールAとフェノールとの付加物を結晶状態で含有するビスフェノールAのフェノールスラリー溶液をフィルター上に注ぎ、酸素含量が3,000容量ppm以下の窒素気流中30〜80℃の雰囲気下で、40〜90kPaの減圧下で濾過することにより、結晶状態のビスフェノールAとフェノールとの付加物層を形成させることを特徴とするビスフェノールAの製造方法。
2.フィルターが吸引式無端ベルトフィルターである請求項1に記載のビスフェノールAの製造方法。
次に、ビスフェノールAの製造方法における各工程について説明する。
この反応工程においては、酸性触媒の存在下、過剰のフェノールとアセトンを縮合させて、ビスフェノールAを生成させる。上記酸性触媒としては、酸型イオン交換樹脂を用いることができる。この酸型イオン交換樹脂としては、特に制限はなく、従来ビスフェノールAの触媒として慣用されているものを用いることができるが、特に触媒活性などの点から、スルホン酸型陽イオン交換樹脂が好適である。
該スルホン酸型陽イオン交換樹脂については、スルホン酸基を有する強酸性陽イオン交換樹脂であればよく特に制限されず、例えばスルホン化スチレン−ジビニルベンゼンコポリマー、スルホン化架橋スチレンポリマー、フェノールホルムアルデヒド−スルホン酸樹脂、ベンゼンホルムアルデヒド−スルホン酸樹脂などが挙げられる。これらはそれぞれ単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
前記メルカプタン類の使用量は、一般に原料のアセトンに対して、0.1〜20モル%、好ましくは、1〜10モル%の範囲で選定される。
また、フェノールとアセトンとの使用割合については特に制限はないが、生成するビスフェノールAの精製の容易さや経済性などの点から、未反応のアセトンの量はできるだけ少ないことが望ましく、したがって、フェノールを化学量論的量よりも過剰に用いるのが有利である。通常、アセトン1モル当たり、3〜30モル、好ましくは5〜15モルのフェノールが用いられる。また、このビスフェノールAの製造においては、反応溶媒は、反応液の粘度が高すぎたり、凝固して運転が困難になるような低温で反応させる以外は、一般に必要ではない。
まず、アセトン/フェノールのモル比は、通常1/30〜1/3、好ましくは1/15〜1/5の範囲で選ばれる。このモル比が1/30より小さい場合、反応速度が遅くなりすぎるおそれがあり、1/3より大きいと不純物の生成が多くなり、ビスフェノールAの選択率が低下する傾向がある。一方、メルカプタン類が酸型イオン交換樹脂に固定化されない場合、メルカプタン類/アセトンのモル比は、通常0.1/100〜20/100、好ましくは1/100〜10/100の範囲で選ばれる。このモル比が0.1/100より小さい場合、反応速度やビスフェノールAの選択率の向上効果が十分に発揮されないおそれがあり、20/100より大きいとその量の割りには効果の向上はあまり認められない。
低沸点物質除去工程においては、前記の(A)工程の反応工程で得られたビスフェノールAを含む反応混合液を、実質上酸型イオン交換樹脂が含まれない状態、すなわち回分反応方式の場合は該触媒を濾過などにより除去し、固定床連続反応方式の場合は、そのままの状態で低沸点物質除去処理が施される。
この減圧蒸留は、一般に圧力6.5〜80kPa、温度70〜180℃の条件で実施される。この際、未反応フェノールが共沸し、その一部が上記低沸点物質と共に、蒸留塔の塔頂より系外へ除かれる。この蒸留においては、ビスフェノールAの熱分解を防止するために、使用する加熱源の温度は190℃以下とすることが望ましい。また、機器の材料としては、一般にSUS304、SUS316及びSUS316Lが用いられる。
反応混合物から低沸点物質を除いた塔底液には、ビスフェノールA及びフェノールなどが含まれており、減圧蒸留によりフェノールを留去させ、ビスフェノールAを濃縮する。この濃縮条件については特に制限はないが、通常温度100〜170℃程度及び圧力5〜70kPaの条件で行なわれる。この温度が100℃より低いと高真空が必要となり、170℃より高いと次の晶析工程で余分の除熱が必要となり、好ましくない。また、濃縮残液中のビスフェノールAの濃度は、好ましくは20〜50質量%、より好ましくは20〜40質量%の範囲である。この濃度が20質量%未満ではビスフェノールAの回収率が低く、50質量%を超えると晶析後のスラリー移送が困難となるおそれがある。
この晶析・固液分離工程で、固液分離工程の条件が本発明の特徴である。
晶析・固液分離工程は、上記(C)工程の濃縮工程で得られた濃縮残液から、フェノールアダクトを晶析・分離する工程である。
この工程においては、まず、上記濃縮残液を40〜70℃程度に冷却し、フェノールアダクトを晶析させ、スラリーとする。この際の冷却は、外部熱交換器を用いて行ってもよく、また、濃縮残液に水を加え、減圧下での水の蒸発潜熱を利用して冷却する真空冷却晶析法によって行ってもよい。この真空冷却晶析法においては、該濃縮残液に、水を3〜20質量%程度添加し、通常温度40〜70℃、圧力4〜16kPaの条件で晶析処理が行われる。上記水の添加量が3質量%未満では除熱能力が十分ではなく、20質量%を超えるとビスフェノールAの溶解ロスが大きくなり、好ましくない。このような晶析操作において、晶析温度が40℃未満では晶析液の粘度の増大や固化をもたらすおそれがあり、70℃を超えるとビスフェノールAの溶解ロスが大きくなり、好ましくない。
このようにビスフェノールAとフェノールとの付加物が結晶状態で含有するビスフェノールAのフェノールスラリー溶液(1)をフィルターで濾過することにより該フィルター上に結晶状態のビスフェノールAとフェノールとの付加物層を形成させ、次いで該付加物層を洗浄液にて洗浄する。この洗浄液には、前記(C)工程の濃縮工程で得られた回収フェノールや、次の(E)のフェノールアダクトの溶解、晶析・固液分離工程で用いた後の洗浄水を用いることができる。
また、濾過器を含む雰囲気を30〜80℃にする必要がある。好ましくは35〜50℃である。適切な加温状態でなければ、母液や洗浄液の主成分はフェノールなので、母液や洗浄液の凝固や、逆に晶析したフェノールアダクトの溶解が起こる。
(E)フェノールアダクトの溶解、晶析・固液分離工程
(D)工程で晶析・分離されたフェノールアダクトを、フェノール含有溶液を用いて溶解する。この工程において用いられるフェノール含有溶液としては特に制限はなく、例えば前記(C)工程の濃縮工程で得られた回収フェノール、(D)工程の晶析・固液分離工程で生成するフェノールアダクトの洗浄液、本(E)工程以降の工程で生成する、晶析したフェノールアダクトの固液分離における母液や該フェノールアダクトの洗浄液などを挙げることができる。
こうして調製されたビスフェノールAのフェノールスラリー溶液(2)は、比較的低い温度でも粘度が低くて取扱いが比較的容易であり、フィルターでの濾過に適している。このようにして、フェノールアダクトの溶解、晶析・固液分離を複数回繰り返す。
加熱溶融工程は、上記(E)工程で晶析・分離されたフェノールアダクトを加熱溶融する工程である。この工程では、フェノールアダクトを100〜160℃程度に加熱・溶融して液状混合物となる。
脱フェノール工程は減圧蒸留によってフェノールを留去し、溶融状態のビスフェノールAを回収する工程である。上記減圧蒸留は、一般に圧力1.3〜13.3kPa、温度150〜190℃の範囲の条件で実施される。残存フェノールは、さらにスチームストリッピングにより除去することができる。
造粒工程においては、上記(G)工程で得られた溶解状態のビスフェノールAを、スプレードライヤーなどの造粒装置により、液滴にし、冷却固化して製品とする工程である。該液滴は噴霧、散布などにより形成され、窒素や空気などによって冷却される。
実施例
陽イオン交換樹脂が600g充填された反応器に、フェノールを4,600g/hr、アセトンを280g/hr及びエチルメルカプタンを16g/hrの速度で温度を75℃に維持しながら、連続的に供給した。反応混合物は、未反応アセトンを主とした低沸点物質を除去するための低沸点物質成分除去工程に送り、未反応アセトンを主とした低沸点減分が除去された。低沸点減分除去工程から生成したビスフェノールA及び未反応フェノールを主とした反応生成物が4,640g/hrで得られた。この反応生成物は、165℃、53.3kPaの条件でフェノールを一部除去して、ビスフェノールAの濃度が30質量%となるように濃縮調整した。このビスフェノールA濃縮液に5質量%の水を加え、攪拌下45℃の条件で冷却晶析し、フェノールとアダクトを晶析した。このフェノールアダクトの結晶状態の平均粒径は0.1mmであった。
製造例1で得られたビスフェノールAとフェノールとのスラリー液(液温45℃)3,000gを、酸素1,200容量ppmを含む50℃の窒素雰囲気下、63μmのステンレス金網を敷いた約46℃に加温した濾過器に注いで、80kPaで60秒吸引濾過した。フェノールアダクトと母液とに分離され、ステンレス金網上に厚み約84mm、含液率25質量%の湿潤ケーキが得られた。この湿潤ケーキを窒素気流中、室温で減圧下に24時間乾燥させた後、得られたアダクトの平均粒径を測定したところ0.3mmであった。また、アダクトを溶融しハーゲン色数を測定した結果、APHA5であった。
実施例1において、80kPaで吸引する代わりに、常圧のままでスラリー液を濾過器に注いだ。10分間放置したが、沈殿物と上澄み層に分かれたままで濾別できず、ケーキとして分離回収できなかった。
実施例1において、約46℃に加温した濾過器の代わりに室温(約20℃)で濾過器にスラリー液を注いだところ、濾過器の周辺にフェノールの析出が見られた。得られた湿潤ケーキを薄層クロマトグラフィーで分析した結果、ビスフェノールA/フェノールの比は1/2.3であった。これはフェノールアダクト結晶に一部フリーのフェノールを含む混合ケーキであることを示す。
実施例1において、50℃の窒素雰囲気下で約46℃に加温した濾過器の代わりに、95℃の窒素雰囲気下で約105℃に加温した濾過器にスラリー液を注いだところ、フィルター上部にはフェノールアダクトは殆ど残らず、湿潤ケーキは得られなかった。
実施例1において、酸素1,200容量ppmを含む50℃の窒素雰囲気下で濾過する代わりに空気雰囲気下で濾過し、その後、実施例1と同様の方法で処理したフェノールアダクト試料(APHA5.5)を窒素雰囲気下165℃で溶融し、減圧下でフェノールを留去してビスフェノールAを得た。そのビスフェノールAのハーゲン色数は、APHA18であった。
実施例1で得られたフェノールアダクト試料を窒素雰囲気下165℃で溶融し、減圧下でフェノールを留去してビスフェノールAを得た。そのビスフェノールAのハーゲン色数は、APHA10であった。比較例4に比べて、窒素雰囲気で濾過処理した試料の方が、着色が少なく、良好な結果が得られることがわかる。
Claims (2)
- 酸触媒の存在下にフェノールとアセトンを反応させて得られるビスフェノールAのフェノール溶液からビスフェノールAとフェノールとの付加物を晶析させ、生成したスラリーを固液分離後、固体成分からフェノールを除去するビスフェノールAの製造方法において、ビスフェノールAの濃縮残液に水を3〜20質量%添加し、温度40〜70℃、圧力4〜16kPaで晶析させて得た、平均粒径が0.1〜0.9mmのビスフェノールAとフェノールとの付加物を結晶状態で含有するビスフェノールAのフェノールスラリー溶液をフィルター上に注ぎ、酸素含量が3,000容量ppm以下の窒素気流中30〜80℃の雰囲気下で、40〜90kPaの減圧下で濾過することにより、結晶状態のビスフェノールAとフェノールとの付加物層を形成させることを特徴とするビスフェノールAの製造方法。
- フィルターが吸引式無端ベルトフィルターである請求項1に記載のビスフェノールAの製造方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002248141 | 2002-08-28 | ||
JP2002248141 | 2002-08-28 | ||
PCT/JP2003/009604 WO2004020377A1 (ja) | 2002-08-28 | 2003-07-29 | ビスフェノールaの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2004020377A1 JPWO2004020377A1 (ja) | 2005-12-15 |
JP4388893B2 true JP4388893B2 (ja) | 2009-12-24 |
Family
ID=31972504
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004532684A Expired - Fee Related JP4388893B2 (ja) | 2002-08-28 | 2003-07-29 | ビスフェノールaの製造方法 |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7045664B2 (ja) |
EP (1) | EP1541542A4 (ja) |
JP (1) | JP4388893B2 (ja) |
KR (1) | KR100948724B1 (ja) |
CN (1) | CN100389102C (ja) |
AU (1) | AU2003252295A1 (ja) |
MY (1) | MY135883A (ja) |
TW (1) | TW200403217A (ja) |
WO (1) | WO2004020377A1 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4152655B2 (ja) * | 2002-03-29 | 2008-09-17 | 出光興産株式会社 | ビスフェノールaの製造方法 |
JP5184751B2 (ja) * | 2006-03-16 | 2013-04-17 | 出光興産株式会社 | ビスフェノールaの製造方法 |
DE602008002595D1 (de) | 2008-08-07 | 2010-10-28 | Fiat Ricerche | Ergonomische Stützvorrichtung für den Insassenkörper, für Sessel oder Sitze, insbesondere für Kraftfahrzeugsitze |
US8735634B2 (en) * | 2011-05-02 | 2014-05-27 | Sabic Innovative Plastics Ip B.V. | Promoter catalyst system with solvent purification |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
ES2126976T3 (es) | 1991-07-10 | 1999-04-01 | Chiyoda Chem Eng Construct Co | Procedimento para la produccion de aducto cristalino de bisfenol a y fenol y aparato para este. |
JP2796557B2 (ja) * | 1991-10-30 | 1998-09-10 | 千代田化工建設株式会社 | ビスフェノールaの製造方法及びビスフェノールaを含むフェノール溶液の晶析生成物から分離された母液の処理方法 |
JP3348737B2 (ja) | 1993-04-21 | 2002-11-20 | 月島機械株式会社 | ビスフェノールaのフェノール付加物の遠心濾過分離方法 |
JPH1190118A (ja) | 1997-09-20 | 1999-04-06 | Catalysts & Chem Ind Co Ltd | 水平ベルトフィルタ |
JPH11137924A (ja) * | 1997-11-10 | 1999-05-25 | Tsukishima Kikai Co Ltd | 真空濾過装置 |
US6130359A (en) * | 1998-09-16 | 2000-10-10 | General Electric Company | Liquid vacuum pump seal to reduce contamination in bisphenol-A |
DE19961521A1 (de) * | 1999-12-20 | 2001-06-21 | Bayer Ag | Bisphenol-Phenol-Addukte |
JP4658355B2 (ja) * | 2001-03-05 | 2011-03-23 | 出光興産株式会社 | ビスフェノールaの製造方法 |
JP2004137197A (ja) * | 2002-10-17 | 2004-05-13 | Idemitsu Petrochem Co Ltd | ビスフェノールaの製造方法 |
-
2003
- 2003-07-29 EP EP03791186A patent/EP1541542A4/en not_active Withdrawn
- 2003-07-29 JP JP2004532684A patent/JP4388893B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2003-07-29 CN CNB038202468A patent/CN100389102C/zh not_active Expired - Lifetime
- 2003-07-29 AU AU2003252295A patent/AU2003252295A1/en not_active Abandoned
- 2003-07-29 KR KR1020057003266A patent/KR100948724B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2003-07-29 WO PCT/JP2003/009604 patent/WO2004020377A1/ja not_active Application Discontinuation
- 2003-07-29 US US10/525,528 patent/US7045664B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2003-08-04 TW TW092121299A patent/TW200403217A/zh not_active IP Right Cessation
- 2003-08-26 MY MYPI20033226A patent/MY135883A/en unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2004020377A1 (ja) | 2004-03-11 |
TWI308565B (ja) | 2009-04-11 |
EP1541542A1 (en) | 2005-06-15 |
KR100948724B1 (ko) | 2010-03-22 |
JPWO2004020377A1 (ja) | 2005-12-15 |
TW200403217A (en) | 2004-03-01 |
EP1541542A4 (en) | 2006-08-09 |
CN1678554A (zh) | 2005-10-05 |
CN100389102C (zh) | 2008-05-21 |
US7045664B2 (en) | 2006-05-16 |
KR20050074440A (ko) | 2005-07-18 |
AU2003252295A1 (en) | 2004-03-19 |
MY135883A (en) | 2008-07-31 |
US20060011541A1 (en) | 2006-01-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5265094B2 (ja) | 高純度ビスフェノールaの製造方法 | |
KR100221806B1 (ko) | 고순도및초고순도비스페놀a의새로운제조방법 | |
US20050215833A1 (en) | Production of bisphenol-A with reduced sulfur content | |
JP2001199919A (ja) | ビスフェノールaの製造方法 | |
JP4152655B2 (ja) | ビスフェノールaの製造方法 | |
JP4658355B2 (ja) | ビスフェノールaの製造方法 | |
KR101361957B1 (ko) | 비스페놀 a의 제조 방법 | |
JP4388893B2 (ja) | ビスフェノールaの製造方法 | |
KR101011878B1 (ko) | 비스페놀 a의 제조 방법 | |
JPWO2014010510A1 (ja) | ビスフェノールaの製造方法 | |
WO2004108643A1 (ja) | ビスフェノールaの製造方法 | |
JP3981334B2 (ja) | ビスフェノールaの製造方法 | |
JPH0558611B2 (ja) | ||
JP4615831B2 (ja) | ビスフェノールaの製造におけるフェノールの回収方法 | |
JP4590188B2 (ja) | ビスフェノールaのプリルの製造方法 | |
JP2003160524A (ja) | ビスフェノールaの製造方法及びその装置 | |
WO2007046434A1 (ja) | 色相の良好なビスフェノールaの製造方法 | |
WO2003043964A1 (fr) | Procede de production de bisphenol a et appareil correspondant | |
JP2003160523A (ja) | ビスフェノールaの製造方法及びその装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060314 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090317 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090515 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090924 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20091005 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121009 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121009 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131009 Year of fee payment: 4 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |