JP3879141B2 - 環状エステル化合物及びその製造方法 - Google Patents
環状エステル化合物及びその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP3879141B2 JP3879141B2 JP12349496A JP12349496A JP3879141B2 JP 3879141 B2 JP3879141 B2 JP 3879141B2 JP 12349496 A JP12349496 A JP 12349496A JP 12349496 A JP12349496 A JP 12349496A JP 3879141 B2 JP3879141 B2 JP 3879141B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- ester compound
- formula
- ethyl
- cyclic ester
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 0 CC1C*CC1 Chemical compound CC1C*CC1 0.000 description 2
- SIAGGBZUCIEXPX-UHFFFAOYSA-N CC1C(C)(CN)C1 Chemical compound CC1C(C)(CN)C1 SIAGGBZUCIEXPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、医・農薬等生理活性物質の中間体として有用な新規なシリルエチルスルホキシ基を有する環状エステル化合物及びその製造方法、該環状エステル化合物からのシリルビニル基を有する環状エステル化合物及びビニル環状エステル化合物の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
環状化合物、特に光学活性な環状化合物は生理活性物質の骨格化合物として重要である。
３員環化合物である光学活性シクロプロパン化合物は、ピレスロイド系殺虫剤やβ−ラクタム系抗生物質の合成中間体としてよく知られている。
【０００３】
一般に、環状化合物の製造法としては、例えば３員環化合物はオレフィンのシクロプロパン化反応による製造法、６員環化合物はディールスアルダー反応による製造法が知られている。
中でも、光学活性な環状化合物の製造法として、Synlett 638 (1993)、J. Am.Chem. Soc., 113, 1423 (1991)及び J. Am.Chem. Soc., 116, 2223 (1994)には、金属錯体触媒を用いた不斉シクロプロパン化反応による３員環形成反応が記載されている。
【０００４】
又、Bull. Chem. Soc. Jpn.,65, 3501 (1992)、J. Am. Chem. Soc., 111, 5340 (1989)及び J. Am. Chem. Soc., 110, 6254 (1989)には、光学活性なルイス酸触媒を用いた不斉ディールスアルダー反応による６員環形成反応が記載されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
上記の方法は、いずれも優れた方法ではあるが、高価な不斉源を使用する必要があったり、得られる光学活性体の光学純度が満足のいくものではなかったりと現在も更に精力的に開発研究が行なわれているのが現状である。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明者は、環状化合物の製造方法について鋭意検討を重ねた結果、新規なシリルエチルスルホキシ基を有する環状エステル化合物及びその製造方法、該環状エステル化合物からのシリルビニル基を有する環状エステル化合物及びビニル環状エステル化合物の製造方法を開発し、これらの化合物が生理活性物質の中間体として有用な環状化合物の前駆物質となることを見出し本発明を完成するに至った。
【０００７】
即ち、本発明は、式（１）
【０００８】
【化９】
【０００９】
〔式中、Ａｒは置換されていてもよいアリール基（該置換基としては、Ｃ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシ基、フェニル基、ハロゲン原子を意味する。） を意味し、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3はそれぞれ独立にＣ1〜Ｃ4アルキル基又はフェニ ル基を意味し、Ｗ1、Ｗ2、Ｗ3、Ｚ1及びＺ2はそれぞれ独立に置換されていて もよいＣ1〜Ｃ6アルキル基（該置換基としては、Ｃ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ1〜 Ｃ6アルコキシ基、フェニル基、ハロゲン原子を意味する。）又は置換されて いてもよいアリール基（該置換基としては、Ｃ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ1〜Ｃ6ア ルコキシ基、フェニル基、ハロゲン原子を意味する。）を意味し、ｎは１〜６ の整数を意味する。〕
で表わされるシリルエチルスルホキシ基を有する環状エステル化合物、
式（２）
【００１０】
【化１０】
【００１１】
〔式中、Ａｒ、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は前記に同じ。〕
で表わされるβ−シリルエチルスルホキシド化合物を、
式（３）
【００１２】
【化１１】
【００１３】
〔式中、Ｘはハロゲン原子を意味し、Ｗ1、Ｗ2、Ｗ3、Ｚ1、Ｚ2及びｎは前記に同じ。〕
で表わされるα，β−不飽和エステル化合物と、塩基の存在下反応させることを特徴とする、
式（１）
【００１４】
【化１２】
【００１５】
〔式中、Ａｒ、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｗ1、Ｗ2、Ｗ3、Ｚ1、Ｚ2及びｎは前記に同じ。〕
で表わされるシリルエチルスルホキシ基を有する環状エステル化合物の製造方法、
式（１）
【００１６】
【化１３】
【００１７】
〔式中、Ａｒ、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｗ1、Ｗ2、Ｗ3、Ｚ1、Ｚ2及びｎは前記に同じ。〕で表わされるシリルエチルスルホキシ基を有する環状エステル化合物を加熱することを特徴とする
式（４）
【００１８】
【化１４】
【００１９】
〔式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｗ1、Ｗ2、Ｗ3、Ｚ1、Ｚ2及びｎは前記に同じ。〕
で表わされるシリルビニル基を有する環状エステル化合物の製造方法及び
式（１）
【００２０】
【化１５】
【００２１】
〔式中、Ａｒ、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｗ1、Ｗ2、Ｗ3、Ｚ1、Ｚ2及びｎは前記に同じ。〕で表わされるシリルエチルスルホキシ基を有する環状エステル化合物を、フッ素イオン及び／又は塩基と反応させることを特徴とする
式（５）
【００２２】
【化１６】
【００２３】
〔式中、Ｗ1、Ｗ2、Ｗ3、Ｚ1、Ｚ2及びｎは前記に同じ。〕
で表わされるビニル環状エステル化合物の製造方法に関するものである。
【００２４】
【発明の実施の形態】
以下、詳細に本発明を説明する。
先ず、置換基Ａｒ、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｗ1、Ｗ2、Ｗ3、Ｚ1及びＺ2について説明する。
アリール基としては、フェニル基、ｏ−トリル基、ｍ−トリル基、ｐ−トリル基、３，５−ジメチルフェニル基、２，４，６−トリメチルフェニル基、２，４，６−トリ−ｉ−プロピルフェニル基、４−ｉプロピルフェニル基、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、４−メトキシフェニル基、３，５−ジメトキシフェニル基、２−フルオロフェニル基、３−フルオロフェニル基、４−フルオロフェニル基、２−クロルフェニル基、３−クロルフェニル基、４−クロルフェニル基、２−ブロムフェニル基、３−ブロムフェニル基、４−ブロムフェニル基、２，４−ジクロルフェニル基、４−フェニルフェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチルル基、１−アントラセルニル基、２−アントラセニル基、５−アントラセルニル基、２−ピリジル基、３−ピリジル基、４−ピリジル基等が挙げられる。
【００２５】
Ｃ1〜Ｃ4アルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基，ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等が挙げられる。
Ｃ1〜Ｃ6アルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基，ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−アミル基、ｉ−アミル基、ネオペンチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。
【００２６】
Ｃ1〜Ｃ6アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基，ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−アミロキシ基、ｉ−アミロキシ基、ネオペンチルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等が挙げられる。
ハロゲン原子としては、弗素原子、塩素原子、臭素原子、沃素原子が挙げられる。
【００２７】
次に、式（１）のシリルエチルスルホキシ基を有する環状エステル化合物の製造方法について説明する。
式（２）のβ−シリルエチルスルホキシド化合物と、式（３）のα，β−不飽和エステル化合物の当量比は、０．１〜１０の範囲、望ましくは、０．５〜２．０の範囲である。
【００２８】
式（３）のα，β−不飽和エステル化合物の代表例としては、４−ハロゲノクロトン酸エステル、４−ハロゲノ−４−メチル−２−ペンテン酸エステル、６−ハロゲノ−２−ヘキセン酸エステル、７−ハロゲノ−２−ヘプテン酸エステル等が挙げられる。
具体的には、４−クロロクロトン酸メチル、４−クロロクロトン酸エチル、４−ブロモクロトン酸メチル、４−ブロモクロトン酸エチル、４−ヨードクロトン酸メチル、４−ヨードクロトン酸エチル、４−クロロ−４−メチル−２−ペンテン酸メチル、４−クロロ−４−メチル−２−ペンテン酸エチル、４−ブロモ−４−メチル−２−ペンテン酸メチル、４−ブロモ−４−メチル−２−ペンテン酸エチル、４−ヨード−４−メチル−２−ペンテン酸メチル、４−ヨード−４−メチル−２−ペンテン酸エチル、６−クロロ−２−ヘキセン酸メチル、６−クロロ−２−ヘキセン酸エチル、６−ブロモ−２−ヘキセン酸メチル、６−ブロモ−２−ヘキセン酸エチル、６−ヨード−２−ヘキセン酸メチル、６−ヨード−２−ヘキセン酸エチル、７−クロロ−２−ヘプテン酸メチル、７−クロロ−２−ヘプテン酸エチル、７−ブロモ−２−ヘプテン酸メチル、７−ブロモ−２−ヘプテン酸エチル、７−ヨード−２−ヘプテン酸メチル、７−ヨード−２−ヘプテン酸エチル等が挙げられる。
【００２９】
塩基としては、リチウムジイソプロピルアミド、リチウムジシクロヘキシルアミド、リチウム−２，２，６，６−テトラメチルピペリジド、リチウムヘキサメチルジシラシド等が挙げられる。
塩基の使用量は、式（２）のβ−シリルエチルスルホキシド化合物に対して、当量から１０当量の範囲、好ましくは、当量から３当量の範囲が望ましい。
【００３０】
反応温度は、通常−１００℃から使用する溶媒の沸点までの範囲で可能であるが、好ましくは−８０℃から５０℃の範囲で行うのがよい。
反応時間は、通常０．１〜１０００時間である。
反応溶媒としては、反応に関与しないものであれば特に制限はなく、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロルベンゼン、ｏ−ジクロルベンゼン等の芳香族炭化水素類、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン、ｎ−オクタン、ｎ−デカン等の脂肪族炭化水素類、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、ジエチルエーテル、ｔ−ブチルメチルエーテル、ジメトキシエタン等のエーテル類等が挙げられ、好ましくは、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、ジエチルエーテルが挙げられる。
【００３１】
更に、これらの溶媒は、単独又は組み合わせて使用することも出来る。
溶媒の使用量は、式（２）のβ−シリルエチルスルホキシド化合物に対して０．１〜２００重量倍が望ましい。
反応終了後は、水を加えてクエンチして適当な溶媒により目的物の抽出を行い、溶媒を減圧濃縮して粗製物を得ることができる。
【００３２】
更に、シリカゲルカラムクロマトグラフィー等の常法による精製を行なうことで、純粋な式（１）のシリルエチルスルホキシ基を有する環状エステル化合物を得ることができる。
式（４）のシリルビニル基を有する環状エステル化合物の製造方法について説明する。
【００３３】
本反応は、式（１）のシリルエチルスルホキシ基を有する環状エステル化合物を加熱することにより容易に進行する。
反応温度は、通常０℃から使用する溶媒の沸点までの範囲で可能であるが、好ましくは４０℃から使用する溶媒の還流温度が望ましい。
反応溶媒としては、反応に関与しないものであれば特に制限はなく、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロルベンゼン、ｏ−ジクロルベンゼン等の芳香族炭化水素類、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン、ｎ−オクタン、ｎ−デカン等の脂肪族炭化水素類、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、ジエチルエーテル、ｔ−ブチルメチルエーテル、ジメトキシエタン等のエーテル類等が挙げられ、好ましくは、ベンゼン、トルエン、ジクロロメタンが挙げられる。
【００３４】
更に、これらの溶媒は、単独又は組み合わせて使用することも出来る。
溶媒の使用量は、式（１）のシリルエチルスルホキシ基を有する環状エステル化合物に対して０．１〜２００重量倍が望ましい。
反応終了後は、溶媒を減圧濃縮して粗製物を得ることができる。
更に、シリカゲルカラムクロマトグラフィー等の常法による精製を行なうことで、純粋な式（４）のシリルビニル基を有する環状エステル化合物を得ることができる。
【００３５】
式（５）のビニル環状エステル化合物の製造方法について説明する。
本反応は、式（１）のシリルエチルスルホキシ基を有する環状エステル化合物を、フッ素イオン及び／又は塩基と反応させることにより容易に進行する。
フッ素イオン源としては、テトラｎ−ブチルアンモニウムフルオライド等の第４級アンモニウム塩、フッ化カリウム、フッ化水素等が挙げられる。
【００３６】
フッ素イオン源の使用量は、式（１）のシリルエチルスルホキシ基を有する環状エステル化合物に対して０．１〜２０当量の範囲、好ましくは、１．０〜５．０当量の範囲である。
塩基としては、金属水素化物が望ましく、水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム、水素化カルシウム等が挙げられる。
【００３７】
塩基の使用量は、式（１）のシリルエチルスルホキシ基を有する環状エステル化合物に対して０．１〜２０モル倍の範囲、好ましくは、２．０〜５．０モル倍の範囲である。
反応温度は、通常−１００℃から使用する溶媒の沸点まで可能であるが、好ましくは−８０℃から５０℃の範囲で行うのがよい。
【００３８】
反応時間は、通常０．１〜１０００時間である。
本反応は、通常溶媒が使用されるが、溶媒としては反応に関与しないものであれば特に制限はなく、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロルベンゼン、ｏ−ジクロルベンゼン等の芳香族炭化水素類、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン、ｎ−オクタン、ｎ−デカン等の脂肪族炭化水素類、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、ジエチルエーテル、ｔ−ブチルメチルエーテル、ジメトキシエタン等のエーテル類等が挙げられ、好ましくは、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、ジエチルエーテルが挙げられる。
【００３９】
更に、これらの溶媒は、単独又は組み合わせて使用することも出来る。
溶媒の使用量は、式（１）のシリルエチルスルホキシ基を有する環状エステル化合物に対して０．１〜２００重量倍が望ましい。
反応終了後は、水を加えてクエンチして適当な溶媒により目的物を抽出し、溶媒を減圧濃縮して粗製物を得ることができる。
【００４０】
更に、シリカゲルカラムクロマトグラフィー等の常法による精製を行なうことで、式（５）の純粋なビニル環状エステル化合物を得ることができる。
【００４１】
【実施例】
以下、実施例を挙げて更に詳しく本発明を説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
実施例１
２−［１−｛（Ｒ）−ｐ−トリルスルフィニル｝−２−（トリメチルシリル）エチル］シクロヘキサンカルボン酸エチル（３）の合成
【００４２】
【化１７】
【００４３】
アルゴン雰囲気下、テトラヒドロフラン０．３ｍｌ中に、ジイソプロピルアミン０．０４ｍｌ（０．２８５ミリモル）を加え、０℃に冷却し、ｎ−ブチルリチウムのｎ−ヘキサン溶液０．１７ｍｌ（１．６３Ｍ／ｎ−ヘキサン、０．２７７ミリモル）を３分間かけて滴下した。
１０分間攪拌した後、−７８℃に冷却し、（Ｒ）−ｐ−トリル−２−（トリメチルシリル）エチルスルホキシド（１）５３．１ｍｇ（０．２２０ミリモル）のテトラヒドロフラン溶液０．２５ｍｌを１０分間かけて滴下した後、５分間攪拌した。
【００４４】
この反応溶液に、７−ブロモ−２−ヘプテン酸エチル（２）７０．０ｍｇ（０．２９８ミリモル）を一気に加え、１０分間−７８℃で攪拌した後、０℃に昇温し、１５分間攪拌した。
反応終了後、反応溶液に飽和塩化アンモニウム水溶液を加えクエンチした後、塩化メチレンで水層を抽出した。
【００４５】
有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で溶媒を留去した後、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル：１５ｇ、ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝４／１）で精製を行ったところ、目的物（３）の収率は９３％であった。
以下に分析値を示す。
【００４６】
1H-NMR(200 MHz,CDCl3)
0.14(s,9H),0.56(dd,1H,J=2.7,15.0Hz),1.03(dd,1H,J=11.9,15.0Hz),1.32(t, 3H,J=7.1Hz),1.15-2.10(m,9H),2.40(s,3H),2.51(ddd,1H,J=2.4,2.4,11.9Hz), 2.99(ddd,1H,J=3.8,11.3,11.3Hz),4.19(dq,2H,J=7.1,3.2Hz),7.29(d,2H,J=8. 3Hz),7.37(d,2H,J=8.3Hz)
IR(NaCl)
2950,2850,2740,1720,1500,1450,1250,1180,1100,1050,850,820,730cm-1
実施例２
２−［１−｛（Ｒ）−ｐ−トリルスルフィニル｝−２−（トリメチルシリル）エチル］シクロヘキサンカルボン酸エチル（３）の合成
【００４７】
【化１８】
【００４８】
実施例１と同様に、（Ｒ）−ｐ−トリル−２−（トリメチルシリル）エチルスルホキシド（１）５２．１ｍｇ（０．２１７ミリモル）と７−ヨード−２−ヘプテン酸エチル（４）８７．０ｍｇ（０．３０８ミリモル）から合成した。
反応は−７８℃で４５分間攪拌することによって行ない、実施例１と同様の後処理を行なったところ、目的物（３）の収率は７７％で、原料（４）を２２％回収した。
実施例３
２−［１−｛（Ｒ）−ｐ−トリルスルフィニル｝−２−（トリメチルシリル）エチル］シクロペンタンカルボン酸エチル（６）の合成
【００４９】
【化１９】
【００５０】
実施例１と同様に、（Ｒ）−ｐ−トリル−２−（トリメチルシリル）エチルスルホキシド（１）５２．４ｍｇ（０．２１８ミリモル）と６−ブロモ−２−ヘキセン酸エチル（５）６３．６ｍｇ（０．２８８ミリモル）から合成した。
反応は−７８℃で４０分間攪拌することによって行ない、実施例１と同様の後処理を行なった。
【００５１】
但し、精製をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル：２０ｇ、ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝８５／１５）で行ったところ、目的物（６）の収率は７２％であった。
以下に分析値を示す。
1H-NMR(200 MHz,CDCl3)
0.17(s,9H),0.73(dd,1H,J=3.1,15.1Hz),0.87(dd,1H,J=11.0,15.6Hz),1.31(t, 3H,J=7.1Hz),1.62-2.18(m,6H),2.41(s,3H),2.40-2.55(m,1H),2.82(ddd,1H,J= 3.1,3.1,11.0Hz),3.19(ddd,1H,J=8.3,8.3,10.1Hz),4.19(q,2H,J=7.1Hz),7.28 (d,2H,J=8.3Hz),7.35(d,2H,J=8.3Hz)
IR(KBr)
2940,2880,1730,1480,1420,1400,1380,1250,1190,1090,1030,1010,870,860, 800,700cm-1
実施例４
２−［１−｛（Ｒ）−ｐ−トリルスルフィニル｝−２−（トリメチルシリル）エチル］シクロプロパンカルボン酸エチル（８）の合成
【００５２】
【化２０】
【００５３】
実施例１と同様に、（Ｒ）−ｐ−トリル−２−（トリメチルシリル）エチルスルホキシド（１）１０２．７ｍｇ（０．４２７ミリモル）と４−ブロモクロトン酸エチル（７）０．０７０ｍｌ（０．５０８ミリモル）から合成した。
反応は−７８℃で４０分間攪拌することによって行ない、実施例１と同様の後処理を行なった。
【００５４】
但し、精製をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル：２０ｇ、塩化メチレン／ｎ−ヘキサン／エーテル＝４／５／１）で行なったところ、目的物（８）の収率は５４％（収量８１．２ｍｇ）であった。
以下に分析値を示す。
1H-NMR(200 MHz,CDCl3)
0.00(s,9H),0.8-0.9(m,2H),1.1-1.45(m,3H),1.24(t,3H,J=7.1Hz),1.5-1.65(m, 1H),2.19(ddd,1H,J=7.4,7.4,9.1Hz),2.43(s,3H),4.11(q,2H,J=7.1Hz),7.32(d, 2H,J=8.1Hz),7.48(d,2H,J=8.1Hz)
IR(KBr)
2980,2960,2930,1730,1500,1450,1410,1370,1340,1290,1260,1230,1180,1090, 1040,860,840,810cm-1
元素分析：Ｃ18Ｈ28Ｏ3ＳＳｉ
計算値 Ｃ ６１．３２％，Ｈ ８．００％
実測値 Ｃ ６１．４９％，Ｈ ８．１７％
実施例５
２，２−ジメチル−３−［１−｛（Ｒ）−ｐ−トリルスルフィニル｝−２− （トリメチルシリル）エチル］シクロプロパンカルボン酸エチル（１０）の合成
【００５５】
【化２１】
【００５６】
実施例１と同様に、（Ｒ）−ｐ−トリル−２−（トリメチルシリル）エチルスルホキシド（１）５２．８ｍｇ（０．２２０ミリモル）と４−ブロモ−４−メチル−２−ペンテン酸エチル（９）６４．０ｍｇ（０．２９０ミリモル）から合成した。
反応は−７８℃で１５分間攪拌することによって行ない、実施例１と同様の後処理を行なったところ、目的物（１０）の収率は５７％であった。
【００５７】
以下に分析値を示す。
1H-NMR(200 MHz,CDCl3)
0.06(s,9H),0.82(dd,1H,J=4.1,14.9Hz),0.94(dd,1H,J=9.4,14.9Hz),1.21(s, 3H),1.25(t,2H,J=7.2Hz),1.26(s,3H),1.40(d,1H,J=5.4Hz),1.55(dd,1H,J=5.4, 11.0Hz),2.42(s,3H),2.42(m,1H),4.12(dq,2H,J=5.9,7.2Hz),7.30(d,2H,J=7.2 Hz),7.43(d,2H,J=7.2Hz)
IR(KBr)
2950,1730,1460,1430,1380,1270,1200,1170,1120,1040,1020,870,850, 810cm-1
実施例６
（Ｅ）−２−（２−トリメチルシリルエテニル）シクロプロパン−１−カルボン酸エチル（１１）の合成
【００５８】
【化２２】
【００５９】
２−［１−｛（Ｒ）−ｐ−トリルスルフィニル｝−２−（トリメチルシリル）エチル］シクロプロパンカルボン酸エチル（８）２７．１ｍｇ（０．０８３ミリモル）のベンゼン溶液０．８ｍｌを３０分間加熱還流した後、減圧下で溶媒を留去し、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル：３ｇ、ｎ−ヘキサン／塩化メチレン＝７／３）で精製し、目的物（１１）を収率７８％（収量１３．７ｍｇ）で得た。
【００６０】
以下に分析値を示す。
1H-NMR(200 MHz,CDCl3)
0.05(s,9H),1.00(ddd,1H,J=4.3,6.2,8.5Hz),1.27(t,3H,J=7.1Hz),1.39(ddd, 1H,J=4.3,5.1,8.8Hz),1.68(ddd,1H,J=3.7,5.1,8.5Hz),1.95-2.15(m,1H),4.14 (q,2H,J=7.1Hz),5.51(dd,1H,J=8.1,18.5Hz),5.82(d,1H,J=18.5Hz)
IR(neat)
2990,2960,2900,1730,1610,1450,1410,1390,1320,1300,1260,1200,1190,1090, 1040,990,840cm-1
実施例７
（Ｅ）−１，２−トランス−２−ビニルシクロプロパン−１−カルボン酸エチル（１２）の合成
【００６１】
【化２３】
【００６２】
２−［１−｛（Ｒ）−ｐ−トリルスルフィニル｝−２−（トリメチルシリル）エチル］シクロプロパンカルボン酸エチル（８）３２．２ｍｇ（０．０９１ミリモル）のテトラヒドロフラン溶液０．４６ｍｌに、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムフルオライドのテトラヒドロフラン溶液０．１１ｍｌ（１．０Ｍ／テトラヒドロフラン、０．１０９ミリモル）を加え３０分攪拌後、減圧下で溶媒を留去し、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル：３ｇ、ｎ−ヘキサン／塩化メチレン＝４／１）で精製して、目的物（１２）を収率５６％（収量７．２ｍｇ）で得た。
【００６３】
以下に分析値を示す。
1H-NMR(200 MHz,CDCl3)
0.98(ddd,1H,J=4.3,6.2,8.5Hz),1.27(t,3H,J=7.1Hz),1.38(ddd,1H,J=4.3,5.0, 8.8Hz),1.65(ddd,1H,J=4.0,5.0,8.5Hz),2.03(ddd,1H,J=4.0,6.2,8.3,8.7Hz), 4.14(q,2H,J=7.1 Hz),5.00(dd,1H,J=1.7,9.9Hz),5.00(dd,1H,J=1.7,17.1Hz), 5.41(ddd,1H,J=8.3,9.9,17.1Hz)
IR(neat)
3090,2990,2940,1740,1650,1460,1400,1390,1320,1300,1290,1270,1200,1180, 1100,1040,990,910,850cm-1
実施例８
２，２−ジメチル−３−ビニルシクロプロパンカルボン酸エチル（１３）の合成
【００６４】
【化２４】
【００６５】
２，２−ジメチル−３−［１−｛（Ｒ）−ｐ−トリルスルフィニル｝−２−（トリメチルシリル）エチル］シクロプロパンカルボン酸エチル（１０）９３．８ｍｇ（０．２４６ミリモル）のテトラヒドロフラン溶液１．０ｍｌに、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムフルオライドのテトラヒドロフラン溶液０．３０ｍｌ（１．０Ｍ／テトラヒドロフラン、０．３０ミリモル）を加え３０分攪拌後、減圧下で溶媒を留去し、塩化メチレンを加えた後、有機層を飽和食塩水で洗浄した。
【００６６】
有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル：１５ｇ、ｎ−ヘキサン／塩化メチレン＝４／１）で精製し、目的物（１３）を収率７８％（収量３２．４ｍｇ）で得た。
以下に分析値を示す。
1H-NMR(200 MHz,CDCl3)
1.26(s,3H),1.27(t,2H,J=7.1Hz),1.56(d,1H,J=5.4Hz),2.05(dd,1H,J=5.4,8.0 Hz),4.13(dq,2H,J=1.2,7.1Hz),5.06(ddd,1H,J=1.2,1.9,10.1Hz),5.18(dd,1H, J=1.9,17.1Hz),5.58(ddd,1H,J=8.0,10.1,17.3Hz)
IR(NaCl)
3090,2980,2960,2940,2870,1730,1640,1470,1450,1410,1380,1330,1280,1230, 1180,1150,1070,1040,990,910,840,730cm-1
【００６７】
【発明の効果】
本発明に従うと、式（２）のβ−シリルエチルスルホキシド化合物と式（３）のα，β−不飽和エステル化合物から式（１）のシリルエチルスルホキシ基を有する環状エステル化合物、更に式（１）シリルエチルスルホキシ基を有する環状エステル化合物から式（４）のシリルビニル基を有する環状エステル化合物及び式（５）のビニル環状エステル化合物を容易に製造することができる。
【発明の属する技術分野】
本発明は、医・農薬等生理活性物質の中間体として有用な新規なシリルエチルスルホキシ基を有する環状エステル化合物及びその製造方法、該環状エステル化合物からのシリルビニル基を有する環状エステル化合物及びビニル環状エステル化合物の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
環状化合物、特に光学活性な環状化合物は生理活性物質の骨格化合物として重要である。
３員環化合物である光学活性シクロプロパン化合物は、ピレスロイド系殺虫剤やβ−ラクタム系抗生物質の合成中間体としてよく知られている。
【０００３】
一般に、環状化合物の製造法としては、例えば３員環化合物はオレフィンのシクロプロパン化反応による製造法、６員環化合物はディールスアルダー反応による製造法が知られている。
中でも、光学活性な環状化合物の製造法として、Synlett 638 (1993)、J. Am.Chem. Soc., 113, 1423 (1991)及び J. Am.Chem. Soc., 116, 2223 (1994)には、金属錯体触媒を用いた不斉シクロプロパン化反応による３員環形成反応が記載されている。
【０００４】
又、Bull. Chem. Soc. Jpn.,65, 3501 (1992)、J. Am. Chem. Soc., 111, 5340 (1989)及び J. Am. Chem. Soc., 110, 6254 (1989)には、光学活性なルイス酸触媒を用いた不斉ディールスアルダー反応による６員環形成反応が記載されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
上記の方法は、いずれも優れた方法ではあるが、高価な不斉源を使用する必要があったり、得られる光学活性体の光学純度が満足のいくものではなかったりと現在も更に精力的に開発研究が行なわれているのが現状である。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明者は、環状化合物の製造方法について鋭意検討を重ねた結果、新規なシリルエチルスルホキシ基を有する環状エステル化合物及びその製造方法、該環状エステル化合物からのシリルビニル基を有する環状エステル化合物及びビニル環状エステル化合物の製造方法を開発し、これらの化合物が生理活性物質の中間体として有用な環状化合物の前駆物質となることを見出し本発明を完成するに至った。
【０００７】
即ち、本発明は、式（１）
【０００８】
【化９】
〔式中、Ａｒは置換されていてもよいアリール基（該置換基としては、Ｃ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシ基、フェニル基、ハロゲン原子を意味する。） を意味し、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3はそれぞれ独立にＣ1〜Ｃ4アルキル基又はフェニ ル基を意味し、Ｗ1、Ｗ2、Ｗ3、Ｚ1及びＺ2はそれぞれ独立に置換されていて もよいＣ1〜Ｃ6アルキル基（該置換基としては、Ｃ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ1〜 Ｃ6アルコキシ基、フェニル基、ハロゲン原子を意味する。）又は置換されて いてもよいアリール基（該置換基としては、Ｃ1〜Ｃ6アルキル基、Ｃ1〜Ｃ6ア ルコキシ基、フェニル基、ハロゲン原子を意味する。）を意味し、ｎは１〜６ の整数を意味する。〕
で表わされるシリルエチルスルホキシ基を有する環状エステル化合物、
式（２）
【００１０】
【化１０】
〔式中、Ａｒ、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は前記に同じ。〕
で表わされるβ−シリルエチルスルホキシド化合物を、
式（３）
【００１２】
【化１１】
〔式中、Ｘはハロゲン原子を意味し、Ｗ1、Ｗ2、Ｗ3、Ｚ1、Ｚ2及びｎは前記に同じ。〕
で表わされるα，β−不飽和エステル化合物と、塩基の存在下反応させることを特徴とする、
式（１）
【００１４】
【化１２】
〔式中、Ａｒ、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｗ1、Ｗ2、Ｗ3、Ｚ1、Ｚ2及びｎは前記に同じ。〕
で表わされるシリルエチルスルホキシ基を有する環状エステル化合物の製造方法、
式（１）
【００１６】
【化１３】
〔式中、Ａｒ、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｗ1、Ｗ2、Ｗ3、Ｚ1、Ｚ2及びｎは前記に同じ。〕で表わされるシリルエチルスルホキシ基を有する環状エステル化合物を加熱することを特徴とする
式（４）
【００１８】
【化１４】
〔式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｗ1、Ｗ2、Ｗ3、Ｚ1、Ｚ2及びｎは前記に同じ。〕
で表わされるシリルビニル基を有する環状エステル化合物の製造方法及び
式（１）
【００２０】
【化１５】
〔式中、Ａｒ、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｗ1、Ｗ2、Ｗ3、Ｚ1、Ｚ2及びｎは前記に同じ。〕で表わされるシリルエチルスルホキシ基を有する環状エステル化合物を、フッ素イオン及び／又は塩基と反応させることを特徴とする
式（５）
【００２２】
【化１６】
〔式中、Ｗ1、Ｗ2、Ｗ3、Ｚ1、Ｚ2及びｎは前記に同じ。〕
で表わされるビニル環状エステル化合物の製造方法に関するものである。
【００２４】
【発明の実施の形態】
以下、詳細に本発明を説明する。
先ず、置換基Ａｒ、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｗ1、Ｗ2、Ｗ3、Ｚ1及びＺ2について説明する。
アリール基としては、フェニル基、ｏ−トリル基、ｍ−トリル基、ｐ−トリル基、３，５−ジメチルフェニル基、２，４，６−トリメチルフェニル基、２，４，６−トリ−ｉ−プロピルフェニル基、４−ｉプロピルフェニル基、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、４−メトキシフェニル基、３，５−ジメトキシフェニル基、２−フルオロフェニル基、３−フルオロフェニル基、４−フルオロフェニル基、２−クロルフェニル基、３−クロルフェニル基、４−クロルフェニル基、２−ブロムフェニル基、３−ブロムフェニル基、４−ブロムフェニル基、２，４−ジクロルフェニル基、４−フェニルフェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチルル基、１−アントラセルニル基、２−アントラセニル基、５−アントラセルニル基、２−ピリジル基、３−ピリジル基、４−ピリジル基等が挙げられる。
【００２５】
Ｃ1〜Ｃ4アルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基，ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等が挙げられる。
Ｃ1〜Ｃ6アルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基，ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−アミル基、ｉ−アミル基、ネオペンチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。
【００２６】
Ｃ1〜Ｃ6アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基，ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−アミロキシ基、ｉ−アミロキシ基、ネオペンチルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等が挙げられる。
ハロゲン原子としては、弗素原子、塩素原子、臭素原子、沃素原子が挙げられる。
【００２７】
次に、式（１）のシリルエチルスルホキシ基を有する環状エステル化合物の製造方法について説明する。
式（２）のβ−シリルエチルスルホキシド化合物と、式（３）のα，β−不飽和エステル化合物の当量比は、０．１〜１０の範囲、望ましくは、０．５〜２．０の範囲である。
【００２８】
式（３）のα，β−不飽和エステル化合物の代表例としては、４−ハロゲノクロトン酸エステル、４−ハロゲノ−４−メチル−２−ペンテン酸エステル、６−ハロゲノ−２−ヘキセン酸エステル、７−ハロゲノ−２−ヘプテン酸エステル等が挙げられる。
具体的には、４−クロロクロトン酸メチル、４−クロロクロトン酸エチル、４−ブロモクロトン酸メチル、４−ブロモクロトン酸エチル、４−ヨードクロトン酸メチル、４−ヨードクロトン酸エチル、４−クロロ−４−メチル−２−ペンテン酸メチル、４−クロロ−４−メチル−２−ペンテン酸エチル、４−ブロモ−４−メチル−２−ペンテン酸メチル、４−ブロモ−４−メチル−２−ペンテン酸エチル、４−ヨード−４−メチル−２−ペンテン酸メチル、４−ヨード−４−メチル−２−ペンテン酸エチル、６−クロロ−２−ヘキセン酸メチル、６−クロロ−２−ヘキセン酸エチル、６−ブロモ−２−ヘキセン酸メチル、６−ブロモ−２−ヘキセン酸エチル、６−ヨード−２−ヘキセン酸メチル、６−ヨード−２−ヘキセン酸エチル、７−クロロ−２−ヘプテン酸メチル、７−クロロ−２−ヘプテン酸エチル、７−ブロモ−２−ヘプテン酸メチル、７−ブロモ−２−ヘプテン酸エチル、７−ヨード−２−ヘプテン酸メチル、７−ヨード−２−ヘプテン酸エチル等が挙げられる。
【００２９】
塩基としては、リチウムジイソプロピルアミド、リチウムジシクロヘキシルアミド、リチウム−２，２，６，６−テトラメチルピペリジド、リチウムヘキサメチルジシラシド等が挙げられる。
塩基の使用量は、式（２）のβ−シリルエチルスルホキシド化合物に対して、当量から１０当量の範囲、好ましくは、当量から３当量の範囲が望ましい。
【００３０】
反応温度は、通常−１００℃から使用する溶媒の沸点までの範囲で可能であるが、好ましくは−８０℃から５０℃の範囲で行うのがよい。
反応時間は、通常０．１〜１０００時間である。
反応溶媒としては、反応に関与しないものであれば特に制限はなく、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロルベンゼン、ｏ−ジクロルベンゼン等の芳香族炭化水素類、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン、ｎ−オクタン、ｎ−デカン等の脂肪族炭化水素類、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、ジエチルエーテル、ｔ−ブチルメチルエーテル、ジメトキシエタン等のエーテル類等が挙げられ、好ましくは、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、ジエチルエーテルが挙げられる。
【００３１】
更に、これらの溶媒は、単独又は組み合わせて使用することも出来る。
溶媒の使用量は、式（２）のβ−シリルエチルスルホキシド化合物に対して０．１〜２００重量倍が望ましい。
反応終了後は、水を加えてクエンチして適当な溶媒により目的物の抽出を行い、溶媒を減圧濃縮して粗製物を得ることができる。
【００３２】
更に、シリカゲルカラムクロマトグラフィー等の常法による精製を行なうことで、純粋な式（１）のシリルエチルスルホキシ基を有する環状エステル化合物を得ることができる。
式（４）のシリルビニル基を有する環状エステル化合物の製造方法について説明する。
【００３３】
本反応は、式（１）のシリルエチルスルホキシ基を有する環状エステル化合物を加熱することにより容易に進行する。
反応温度は、通常０℃から使用する溶媒の沸点までの範囲で可能であるが、好ましくは４０℃から使用する溶媒の還流温度が望ましい。
反応溶媒としては、反応に関与しないものであれば特に制限はなく、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロルベンゼン、ｏ−ジクロルベンゼン等の芳香族炭化水素類、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン、ｎ−オクタン、ｎ−デカン等の脂肪族炭化水素類、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、ジエチルエーテル、ｔ−ブチルメチルエーテル、ジメトキシエタン等のエーテル類等が挙げられ、好ましくは、ベンゼン、トルエン、ジクロロメタンが挙げられる。
【００３４】
更に、これらの溶媒は、単独又は組み合わせて使用することも出来る。
溶媒の使用量は、式（１）のシリルエチルスルホキシ基を有する環状エステル化合物に対して０．１〜２００重量倍が望ましい。
反応終了後は、溶媒を減圧濃縮して粗製物を得ることができる。
更に、シリカゲルカラムクロマトグラフィー等の常法による精製を行なうことで、純粋な式（４）のシリルビニル基を有する環状エステル化合物を得ることができる。
【００３５】
式（５）のビニル環状エステル化合物の製造方法について説明する。
本反応は、式（１）のシリルエチルスルホキシ基を有する環状エステル化合物を、フッ素イオン及び／又は塩基と反応させることにより容易に進行する。
フッ素イオン源としては、テトラｎ−ブチルアンモニウムフルオライド等の第４級アンモニウム塩、フッ化カリウム、フッ化水素等が挙げられる。
【００３６】
フッ素イオン源の使用量は、式（１）のシリルエチルスルホキシ基を有する環状エステル化合物に対して０．１〜２０当量の範囲、好ましくは、１．０〜５．０当量の範囲である。
塩基としては、金属水素化物が望ましく、水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム、水素化カルシウム等が挙げられる。
【００３７】
塩基の使用量は、式（１）のシリルエチルスルホキシ基を有する環状エステル化合物に対して０．１〜２０モル倍の範囲、好ましくは、２．０〜５．０モル倍の範囲である。
反応温度は、通常−１００℃から使用する溶媒の沸点まで可能であるが、好ましくは−８０℃から５０℃の範囲で行うのがよい。
【００３８】
反応時間は、通常０．１〜１０００時間である。
本反応は、通常溶媒が使用されるが、溶媒としては反応に関与しないものであれば特に制限はなく、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロルベンゼン、ｏ−ジクロルベンゼン等の芳香族炭化水素類、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン、ｎ−オクタン、ｎ−デカン等の脂肪族炭化水素類、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、ジエチルエーテル、ｔ−ブチルメチルエーテル、ジメトキシエタン等のエーテル類等が挙げられ、好ましくは、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、ジエチルエーテルが挙げられる。
【００３９】
更に、これらの溶媒は、単独又は組み合わせて使用することも出来る。
溶媒の使用量は、式（１）のシリルエチルスルホキシ基を有する環状エステル化合物に対して０．１〜２００重量倍が望ましい。
反応終了後は、水を加えてクエンチして適当な溶媒により目的物を抽出し、溶媒を減圧濃縮して粗製物を得ることができる。
【００４０】
更に、シリカゲルカラムクロマトグラフィー等の常法による精製を行なうことで、式（５）の純粋なビニル環状エステル化合物を得ることができる。
【００４１】
【実施例】
以下、実施例を挙げて更に詳しく本発明を説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
実施例１
２−［１−｛（Ｒ）−ｐ−トリルスルフィニル｝−２−（トリメチルシリル）エチル］シクロヘキサンカルボン酸エチル（３）の合成
【００４２】
【化１７】
アルゴン雰囲気下、テトラヒドロフラン０．３ｍｌ中に、ジイソプロピルアミン０．０４ｍｌ（０．２８５ミリモル）を加え、０℃に冷却し、ｎ−ブチルリチウムのｎ−ヘキサン溶液０．１７ｍｌ（１．６３Ｍ／ｎ−ヘキサン、０．２７７ミリモル）を３分間かけて滴下した。
１０分間攪拌した後、−７８℃に冷却し、（Ｒ）−ｐ−トリル−２−（トリメチルシリル）エチルスルホキシド（１）５３．１ｍｇ（０．２２０ミリモル）のテトラヒドロフラン溶液０．２５ｍｌを１０分間かけて滴下した後、５分間攪拌した。
【００４４】
この反応溶液に、７−ブロモ−２−ヘプテン酸エチル（２）７０．０ｍｇ（０．２９８ミリモル）を一気に加え、１０分間−７８℃で攪拌した後、０℃に昇温し、１５分間攪拌した。
反応終了後、反応溶液に飽和塩化アンモニウム水溶液を加えクエンチした後、塩化メチレンで水層を抽出した。
【００４５】
有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で溶媒を留去した後、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル：１５ｇ、ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝４／１）で精製を行ったところ、目的物（３）の収率は９３％であった。
以下に分析値を示す。
【００４６】
1H-NMR(200 MHz,CDCl3)
0.14(s,9H),0.56(dd,1H,J=2.7,15.0Hz),1.03(dd,1H,J=11.9,15.0Hz),1.32(t, 3H,J=7.1Hz),1.15-2.10(m,9H),2.40(s,3H),2.51(ddd,1H,J=2.4,2.4,11.9Hz), 2.99(ddd,1H,J=3.8,11.3,11.3Hz),4.19(dq,2H,J=7.1,3.2Hz),7.29(d,2H,J=8. 3Hz),7.37(d,2H,J=8.3Hz)
IR(NaCl)
2950,2850,2740,1720,1500,1450,1250,1180,1100,1050,850,820,730cm-1
実施例２
２−［１−｛（Ｒ）−ｐ−トリルスルフィニル｝−２−（トリメチルシリル）エチル］シクロヘキサンカルボン酸エチル（３）の合成
【００４７】
【化１８】
実施例１と同様に、（Ｒ）−ｐ−トリル−２−（トリメチルシリル）エチルスルホキシド（１）５２．１ｍｇ（０．２１７ミリモル）と７−ヨード−２−ヘプテン酸エチル（４）８７．０ｍｇ（０．３０８ミリモル）から合成した。
反応は−７８℃で４５分間攪拌することによって行ない、実施例１と同様の後処理を行なったところ、目的物（３）の収率は７７％で、原料（４）を２２％回収した。
実施例３
２−［１−｛（Ｒ）−ｐ−トリルスルフィニル｝−２−（トリメチルシリル）エチル］シクロペンタンカルボン酸エチル（６）の合成
【００４９】
【化１９】
実施例１と同様に、（Ｒ）−ｐ−トリル−２−（トリメチルシリル）エチルスルホキシド（１）５２．４ｍｇ（０．２１８ミリモル）と６−ブロモ−２−ヘキセン酸エチル（５）６３．６ｍｇ（０．２８８ミリモル）から合成した。
反応は−７８℃で４０分間攪拌することによって行ない、実施例１と同様の後処理を行なった。
【００５１】
但し、精製をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル：２０ｇ、ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝８５／１５）で行ったところ、目的物（６）の収率は７２％であった。
以下に分析値を示す。
1H-NMR(200 MHz,CDCl3)
0.17(s,9H),0.73(dd,1H,J=3.1,15.1Hz),0.87(dd,1H,J=11.0,15.6Hz),1.31(t, 3H,J=7.1Hz),1.62-2.18(m,6H),2.41(s,3H),2.40-2.55(m,1H),2.82(ddd,1H,J= 3.1,3.1,11.0Hz),3.19(ddd,1H,J=8.3,8.3,10.1Hz),4.19(q,2H,J=7.1Hz),7.28 (d,2H,J=8.3Hz),7.35(d,2H,J=8.3Hz)
IR(KBr)
2940,2880,1730,1480,1420,1400,1380,1250,1190,1090,1030,1010,870,860, 800,700cm-1
実施例４
２−［１−｛（Ｒ）−ｐ−トリルスルフィニル｝−２−（トリメチルシリル）エチル］シクロプロパンカルボン酸エチル（８）の合成
【００５２】
【化２０】
実施例１と同様に、（Ｒ）−ｐ−トリル−２−（トリメチルシリル）エチルスルホキシド（１）１０２．７ｍｇ（０．４２７ミリモル）と４−ブロモクロトン酸エチル（７）０．０７０ｍｌ（０．５０８ミリモル）から合成した。
反応は−７８℃で４０分間攪拌することによって行ない、実施例１と同様の後処理を行なった。
【００５４】
但し、精製をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル：２０ｇ、塩化メチレン／ｎ−ヘキサン／エーテル＝４／５／１）で行なったところ、目的物（８）の収率は５４％（収量８１．２ｍｇ）であった。
以下に分析値を示す。
1H-NMR(200 MHz,CDCl3)
0.00(s,9H),0.8-0.9(m,2H),1.1-1.45(m,3H),1.24(t,3H,J=7.1Hz),1.5-1.65(m, 1H),2.19(ddd,1H,J=7.4,7.4,9.1Hz),2.43(s,3H),4.11(q,2H,J=7.1Hz),7.32(d, 2H,J=8.1Hz),7.48(d,2H,J=8.1Hz)
IR(KBr)
2980,2960,2930,1730,1500,1450,1410,1370,1340,1290,1260,1230,1180,1090, 1040,860,840,810cm-1
元素分析：Ｃ18Ｈ28Ｏ3ＳＳｉ
計算値 Ｃ ６１．３２％，Ｈ ８．００％
実測値 Ｃ ６１．４９％，Ｈ ８．１７％
実施例５
２，２−ジメチル−３−［１−｛（Ｒ）−ｐ−トリルスルフィニル｝−２− （トリメチルシリル）エチル］シクロプロパンカルボン酸エチル（１０）の合成
【００５５】
【化２１】
実施例１と同様に、（Ｒ）−ｐ−トリル−２−（トリメチルシリル）エチルスルホキシド（１）５２．８ｍｇ（０．２２０ミリモル）と４−ブロモ−４−メチル−２−ペンテン酸エチル（９）６４．０ｍｇ（０．２９０ミリモル）から合成した。
反応は−７８℃で１５分間攪拌することによって行ない、実施例１と同様の後処理を行なったところ、目的物（１０）の収率は５７％であった。
【００５７】
以下に分析値を示す。
1H-NMR(200 MHz,CDCl3)
0.06(s,9H),0.82(dd,1H,J=4.1,14.9Hz),0.94(dd,1H,J=9.4,14.9Hz),1.21(s, 3H),1.25(t,2H,J=7.2Hz),1.26(s,3H),1.40(d,1H,J=5.4Hz),1.55(dd,1H,J=5.4, 11.0Hz),2.42(s,3H),2.42(m,1H),4.12(dq,2H,J=5.9,7.2Hz),7.30(d,2H,J=7.2 Hz),7.43(d,2H,J=7.2Hz)
IR(KBr)
2950,1730,1460,1430,1380,1270,1200,1170,1120,1040,1020,870,850, 810cm-1
実施例６
（Ｅ）−２−（２−トリメチルシリルエテニル）シクロプロパン−１−カルボン酸エチル（１１）の合成
【００５８】
【化２２】
２−［１−｛（Ｒ）−ｐ−トリルスルフィニル｝−２−（トリメチルシリル）エチル］シクロプロパンカルボン酸エチル（８）２７．１ｍｇ（０．０８３ミリモル）のベンゼン溶液０．８ｍｌを３０分間加熱還流した後、減圧下で溶媒を留去し、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル：３ｇ、ｎ−ヘキサン／塩化メチレン＝７／３）で精製し、目的物（１１）を収率７８％（収量１３．７ｍｇ）で得た。
【００６０】
以下に分析値を示す。
1H-NMR(200 MHz,CDCl3)
0.05(s,9H),1.00(ddd,1H,J=4.3,6.2,8.5Hz),1.27(t,3H,J=7.1Hz),1.39(ddd, 1H,J=4.3,5.1,8.8Hz),1.68(ddd,1H,J=3.7,5.1,8.5Hz),1.95-2.15(m,1H),4.14 (q,2H,J=7.1Hz),5.51(dd,1H,J=8.1,18.5Hz),5.82(d,1H,J=18.5Hz)
IR(neat)
2990,2960,2900,1730,1610,1450,1410,1390,1320,1300,1260,1200,1190,1090, 1040,990,840cm-1
実施例７
（Ｅ）−１，２−トランス−２−ビニルシクロプロパン−１−カルボン酸エチル（１２）の合成
【００６１】
【化２３】
２−［１−｛（Ｒ）−ｐ−トリルスルフィニル｝−２−（トリメチルシリル）エチル］シクロプロパンカルボン酸エチル（８）３２．２ｍｇ（０．０９１ミリモル）のテトラヒドロフラン溶液０．４６ｍｌに、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムフルオライドのテトラヒドロフラン溶液０．１１ｍｌ（１．０Ｍ／テトラヒドロフラン、０．１０９ミリモル）を加え３０分攪拌後、減圧下で溶媒を留去し、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル：３ｇ、ｎ−ヘキサン／塩化メチレン＝４／１）で精製して、目的物（１２）を収率５６％（収量７．２ｍｇ）で得た。
【００６３】
以下に分析値を示す。
1H-NMR(200 MHz,CDCl3)
0.98(ddd,1H,J=4.3,6.2,8.5Hz),1.27(t,3H,J=7.1Hz),1.38(ddd,1H,J=4.3,5.0, 8.8Hz),1.65(ddd,1H,J=4.0,5.0,8.5Hz),2.03(ddd,1H,J=4.0,6.2,8.3,8.7Hz), 4.14(q,2H,J=7.1 Hz),5.00(dd,1H,J=1.7,9.9Hz),5.00(dd,1H,J=1.7,17.1Hz), 5.41(ddd,1H,J=8.3,9.9,17.1Hz)
IR(neat)
3090,2990,2940,1740,1650,1460,1400,1390,1320,1300,1290,1270,1200,1180, 1100,1040,990,910,850cm-1
実施例８
２，２−ジメチル−３−ビニルシクロプロパンカルボン酸エチル（１３）の合成
【００６４】
【化２４】
２，２−ジメチル−３−［１−｛（Ｒ）−ｐ−トリルスルフィニル｝−２−（トリメチルシリル）エチル］シクロプロパンカルボン酸エチル（１０）９３．８ｍｇ（０．２４６ミリモル）のテトラヒドロフラン溶液１．０ｍｌに、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムフルオライドのテトラヒドロフラン溶液０．３０ｍｌ（１．０Ｍ／テトラヒドロフラン、０．３０ミリモル）を加え３０分攪拌後、減圧下で溶媒を留去し、塩化メチレンを加えた後、有機層を飽和食塩水で洗浄した。
【００６６】
有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル：１５ｇ、ｎ−ヘキサン／塩化メチレン＝４／１）で精製し、目的物（１３）を収率７８％（収量３２．４ｍｇ）で得た。
以下に分析値を示す。
1H-NMR(200 MHz,CDCl3)
1.26(s,3H),1.27(t,2H,J=7.1Hz),1.56(d,1H,J=5.4Hz),2.05(dd,1H,J=5.4,8.0 Hz),4.13(dq,2H,J=1.2,7.1Hz),5.06(ddd,1H,J=1.2,1.9,10.1Hz),5.18(dd,1H, J=1.9,17.1Hz),5.58(ddd,1H,J=8.0,10.1,17.3Hz)
IR(NaCl)
3090,2980,2960,2940,2870,1730,1640,1470,1450,1410,1380,1330,1280,1230, 1180,1150,1070,1040,990,910,840,730cm-1
【００６７】
【発明の効果】
本発明に従うと、式（２）のβ−シリルエチルスルホキシド化合物と式（３）のα，β−不飽和エステル化合物から式（１）のシリルエチルスルホキシ基を有する環状エステル化合物、更に式（１）シリルエチルスルホキシ基を有する環状エステル化合物から式（４）のシリルビニル基を有する環状エステル化合物及び式（５）のビニル環状エステル化合物を容易に製造することができる。
Claims (4)
- 式（２）
- β−シリルエチルスルホキシド化合物が光学活性体である請求項１記載の製造方法。
- α，β−不飽和エステル化合物が４−ブロモクロトン酸エチルである請求項１記載の製造方法。
- α，β−不飽和エステル化合物が４−ブロモ−４−メチル−２−ペンテン酸エチルである請求項１記載の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12349496A JP3879141B2 (ja) | 1996-05-17 | 1996-05-17 | 環状エステル化合物及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12349496A JP3879141B2 (ja) | 1996-05-17 | 1996-05-17 | 環状エステル化合物及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09301983A JPH09301983A (ja) | 1997-11-25 |
| JP3879141B2 true JP3879141B2 (ja) | 2007-02-07 |
Family
ID=14862026
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12349496A Expired - Fee Related JP3879141B2 (ja) | 1996-05-17 | 1996-05-17 | 環状エステル化合物及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3879141B2 (ja) |
-
1996
- 1996-05-17 JP JP12349496A patent/JP3879141B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH09301983A (ja) | 1997-11-25 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4659309B2 (ja) | ５−ヒドロキシ−３−オキソペンタン酸誘導体の製造法 | |
| JP4422183B2 (ja) | ジイソプロピル（（１−（ヒドロキシメチル）−シクロプロピル）オキシ）メチルホスホネートの製造方法 | |
| JP3879141B2 (ja) | 環状エステル化合物及びその製造方法 | |
| US20090247772A1 (en) | Method for the Preparation of Escitalopram | |
| JPH0717627B2 (ja) | Ｐａｆ拮抗剤として有用な２，５−ジアリールテトラヒドロフラン類及びその類縁体の製造方法 | |
| JP5094392B2 (ja) | 光学活性２−ヒドロキシ酪酸エステルの製造法 | |
| JP3276707B2 (ja) | 光学活性β−ヒドロキシケトンの製造法 | |
| JP2917552B2 (ja) | α−メチレンシクロペンタノン誘導体の製造法 | |
| JP2867847B2 (ja) | ５−メチレン−１，３−ジオキソラン−４−オン類の製造方法 | |
| JP2769058B2 (ja) | シクロプロパン誘導体の製法 | |
| CA2075776A1 (en) | Diastereomerically pure intermediates and their use in the preparation of (r)- or (s)-ketoprofen | |
| JP3845884B2 (ja) | Ｎ−〔１−（２，４−ジクロロフェニル）エチル〕−２−シアノ−３，３−ジメチルブタンアミドの製造法 | |
| JPS6230186B2 (ja) | ||
| CN105541695B (zh) | 一种2‑芳基氟代哌啶衍生物及其制备方法 | |
| JP3272340B2 (ja) | １−［（シクロペント−３−エン−１−イル）メチル］−５−エチル−６−（３，５−ジメチルベンゾイル）−２，４−ピリミジンジオンの製造方法 | |
| JP4811547B2 (ja) | 光学活性シクロヘキセン化合物の製造法及びこの製造に用いる光学活性シクロヘキセン誘導体 | |
| JP3758707B2 (ja) | （−）−トランス−クマウシンの製法および新規中間体 | |
| WO1998021179A1 (fr) | Procede de preparation de prostaglandines | |
| HU202179B (en) | Process for producing halogenated 3,3-dimethyl-5-hexen-2-one derivatives | |
| KR100363824B1 (ko) | 에틸 （ｒ）-2-브로모-4-페닐부티레이트의 제조방법 및 그중간 체 | |
| JP5796762B2 (ja) | 光学活性なシクロヘキセン誘導体の製造方法 | |
| JP2771678B2 (ja) | 含フッ素化合物およびその製造法 | |
| JP2893890B2 (ja) | β―位にブロモジフルオロメチル基を有するカルボニル化合物の製造方法 | |
| JPH05255353A (ja) | 光学活性アリル（フルオロ）シランおよびその製造方法 | |
| JPH0782195A (ja) | β−スルホキシ−γ−シリルアルコール及びその製造法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060725 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060921 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20061017 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20061030 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101117 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101117 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111117 Year of fee payment: 5 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |