JP3325483B2 - Method of manufacturing glaze substrate for thermal head - Google Patents
Method of manufacturing glaze substrate for thermal headInfo
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Description
【0001】[0001]
【発明が属する技術分野】本発明は、サーマルヘッドを
多数個取りの手法で作製するために用いるグレーズ基板
とその製造方法に関する。[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to a glaze substrate used for producing a thermal head by a multi-cavity method and a method of manufacturing the same.
【0002】[0002]
【従来の技術】サーマルプリンターに用いるサーマルヘ
ッドは、セラミック板上の全面又は部分的に備えたグレ
ーズ層に発熱素子等の導電パターンや保護層等を備えて
構成される。2. Description of the Related Art A thermal head used in a thermal printer includes a glaze layer provided on the entire surface or a part of a ceramic plate and a conductive pattern such as a heating element and a protective layer.
【0003】このサーマルヘッドを作製する場合、図1
に示すように、セラミック基板10の表面に部分的にグ
レーズ層20を備え、縦横の分割溝11、12を形成し
たグレーズ基板1を用いて、多数個取りの手法により作
製される。即ち、このグレーズ基板1上の分割溝11、
12で囲まれる各領域に、それぞれ所定の導電パターン
等を形成した後、分割溝11、12で分割することによ
って、図2に示すようなセラミック体13上にグレーズ
層20を備えた単体2とし、これをサーマルヘッドとす
ることができる。When manufacturing this thermal head, FIG.
As shown in FIG. 1, a ceramic substrate 10 is provided with a glaze layer 20 partially on the surface thereof, and is formed by a multi-cavity method using a glaze substrate 1 in which vertical and horizontal division grooves 11 and 12 are formed. That is, the dividing groove 11 on the glaze substrate 1
After a predetermined conductive pattern or the like is formed in each region surrounded by 12 and divided by dividing grooves 11 and 12, a single body 2 having a glaze layer 20 on a ceramic body 13 as shown in FIG. This can be used as a thermal head.
【0004】また、このサーマルヘッドは使用時に横方
向に移動し、エッジ部がインクリボンや印画紙と摺動す
るため、これらに傷をつけないようにサーマルヘッドを
成すセラミック体13のグレーズ層20と同じ表面の外
周部に面取り13aを施している。Further, the thermal head moves laterally during use, and the edge portion slides on the ink ribbon or the photographic paper. Therefore, the glaze layer 20 of the ceramic body 13 forming the thermal head does not damage them. A chamfer 13a is formed on the outer peripheral portion of the same surface as that of FIG.
【0005】上記サーマルヘッド用のグレーズ基板1に
おいて、分割溝11、12を形成する方法としては、以
下の3通りがある。In the glaze substrate 1 for a thermal head, there are the following three methods for forming the dividing grooves 11 and 12.
【0006】まず、図5(a)に示すように、セラミッ
クス基板10のグレーズ層20と反対側の裏面にレーザ
ー加工で分割溝11を形成することにより、開き角度が
小さく深い分割溝11を高い精度で形成できる。また、
図6(a)に示すように、セラミックス基板10の表面
に研削等の機械加工で分割溝11を形成することによ
り、開き角度が大きく浅い分割溝11を形成することも
できる。あるいは、図示していないが、セラミックス基
板10の焼成前のグリーンシートの状態で、刃を備えた
金型を押し当てて分割溝11を形成することもできる。First, as shown in FIG. 5A, by forming a dividing groove 11 on the back surface of the ceramic substrate 10 opposite to the glaze layer 20 by laser processing, the opening angle is small and the deep dividing groove 11 is high. Can be formed with precision. Also,
As shown in FIG. 6A, by forming the dividing grooves 11 on the surface of the ceramic substrate 10 by mechanical processing such as grinding, it is possible to form the shallow dividing grooves 11 with a large opening angle. Alternatively, although not shown, the divided grooves 11 can be formed by pressing a mold having a blade in a state of the green sheet before firing the ceramic substrate 10.
【0007】[0007]
【発明が解決しようとする課題】図5(a)に示すよう
なレーザー加工で形成した分割溝11は、開き角度が小
さく深い溝となるため、分割性は優れているが、分割時
にバリが生じやすいという問題があった。即ち、図5
(b)に示すように分割後の単体2のセラミック体13
におけるグレーズ層20と同じ表面の外周部には、バリ
が発生したりシャープなエッジが形成される。したがっ
て、前述したようにサーマルヘッドとして用いるために
は、分割後のセラミック体13の外周部を加工して、図
5(c)に示すように面取り13aを施さなければなら
ず、個々の単体2に対してこのような加工を施すことは
非常に手間のかかるものであった。The division groove 11 formed by laser processing as shown in FIG. 5A has a small opening angle and is a deep groove, and therefore has excellent division performance. There was a problem that it easily occurred. That is, FIG.
As shown in (b), the single ceramic body 13 after the division
In the outer peripheral portion of the same surface as that of the glaze layer 20, burrs are generated or sharp edges are formed. Therefore, in order to use as a thermal head as described above, the outer peripheral portion of the divided ceramic body 13 must be processed and chamfered 13a as shown in FIG. However, such a process is very time-consuming.
【0008】また、図6(a)に示すような機械加工に
より形成した分割溝11は、開き角度が大きく浅い溝と
なるため、分割後の端面をそのまま面取り形状とできる
が、その反面、分割溝11の底部が曲面状となることを
避けられなかった。そのため分割時の直線性が悪く、図
6(b)に示すように、分割後のセラミック体13の端
面が所定の形状とならず、寸法精度が悪くなってしまう
という不都合があった。Further, since the dividing groove 11 formed by machining as shown in FIG. 6A is a groove having a large opening angle and a shallow groove, the end face after division can be directly formed into a chamfered shape. It was inevitable that the bottom of the groove 11 would be curved. For this reason, the linearity at the time of division is poor, and as shown in FIG. 6B, the end face of the ceramic body 13 after division does not have a predetermined shape, and the dimensional accuracy is disadvantageously deteriorated.
【0009】さらに、グリーンシートに金型を押し当て
て分割溝を形成する方法では、4インチ角程度の大きさ
が限界であり、これ以上大きくするとサーマルヘッドに
求められる寸法精度を満たすことが困難であるという問
題があった。Further, in the method of forming a dividing groove by pressing a mold against a green sheet, a size of about 4 inches square is a limit, and if it is larger than this, it is difficult to satisfy dimensional accuracy required for a thermal head. There was a problem that is.
【0010】[0010]
【課題を解決するための手段】そこで本発明は、セラミ
ック基板上にグレーズ層を有するとともに、複数に分割
するための分割溝を備えてなるサーマルヘッド用グレー
ズ基板において、上記分割溝の横断面形状における内壁
面を多段斜面状又は曲面状としたことを特徴とする。SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, the present invention is directed to a thermal head glaze substrate having a glaze layer on a ceramic substrate and having a plurality of division grooves for dividing the ceramic substrate into a plurality of division grooves. Is characterized in that the inner wall surface is formed as a multi-step slope or curved surface.
【0011】即ち、サーマルヘッド用グレーズ基板の分
割溝として、中央部は開き角度が小さく深い溝として分
割性を高め、一方、端部はこれよりも開き角度が大きく
なるような多段斜面状又は曲面状とすることにより、端
部の斜面が分割後にそのまま面取り形状となるようにし
たのである。That is, as a dividing groove of the glaze substrate for a thermal head, the central portion has a small opening angle and a deep groove to enhance the dividing property, while the end portion has a multi-step slope or curved surface having a larger opening angle. With such a shape, the inclined surface at the end is formed into a chamfered shape as it is after the division.
【0012】また、本発明は、セラミック基板上の同一
部位に、レーザー照射による溝加工と、機械加工による
開き角度の大きい溝加工を施して分割溝を形成した後、
所要個所にグレーズ層を形成する工程からなるサーマル
ヘッド用グレース基板の製造方法を特徴とする。Further, according to the present invention, after forming a divided groove by performing groove processing by laser irradiation and groove processing with a large opening angle by machining on the same portion on the ceramic substrate,
A method of manufacturing a grace substrate for a thermal head, which comprises a step of forming a glaze layer at a required position.
【0013】即ち、レーザー照射による加工で開き角度
が小さく深い中央部の溝を形成し、一方機械加工で開き
角度の大きい溝加工を施すことによって端部の斜面を形
成し、上記した多段斜面状又は曲面状の分割溝を容易に
形成することができる。That is, a deep central groove having a small opening angle is formed by processing by laser irradiation, while a groove having a large opening angle is formed by machining to form a slope at an end, and the above-described multi-step slope is formed. Alternatively, a curved dividing groove can be easily formed.
【0014】[0014]
【発明の実施の形態】以下本発明の実施形態を図によっ
て説明する。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
【0015】本発明のサーマルヘッド用グレーズ基板
は、図1に示すようにセラミック基板10上に部分的に
グレーズ層20を備え、グレーズ層20と同じ表面に分
割溝11を、裏面に分割溝12をそれぞれ形成したもの
である。なお、最外周の領域にはグレーズ層20を形成
せず、ダミー部としてある。The glaze substrate for a thermal head according to the present invention is provided with a glaze layer 20 partially on a ceramic substrate 10 as shown in FIG. 1, a division groove 11 on the same surface as the glaze layer 20, and a division groove 12 on the back surface. Are formed respectively. It should be noted that the glaze layer 20 is not formed in the outermost peripheral region, but serves as a dummy portion.
【0016】そして、上記グレーズ層20上に発熱素子
等の導電パターンや保護膜等(いずれも不図示)を形成
した後、分割溝11、12で分割することによって、図
2に示すようなセラミック体13上にグレーズ層20を
備えた単体2とし、これをサーマルヘッドとすることが
できる。After a conductive pattern such as a heating element, a protective film and the like (both not shown) are formed on the glaze layer 20 and divided by dividing grooves 11 and 12, a ceramic as shown in FIG. The single body 2 having the glaze layer 20 on the body 13 can be used as a thermal head.
【0017】また、上記セラミック基板10のグレーズ
層20と同じ表面に形成した分割溝11の横断面図を図
3に示すように、この分割溝11は、中央部に開き角度
θ0が小さく深い溝11aを有し、両端部はこれよりも
大きい開き角度θ1 の斜面11bを備え、全体として内
壁面が多段斜面状となっている。Further, a cross-sectional view of the dividing groove 11 formed on the same surface as the glaze layer 20 of the ceramic substrate 10 as shown in FIG. 3, the dividing groove 11, a deep small angle theta 0 opened in the central portion has a groove 11a, both end portions is provided with a large opening angle theta 1 of the inclined surface 11b than this, the inner wall surface has a multi-stage slope shape as a whole.
【0018】そのため、このグレーズ基板1を分割溝1
1で分割する場合、中央部の深い溝11aで分割性を良
好にできる。また、図2(b)に示すように、分割後の
単体2において、分割溝11の斜面11bが、そのまま
端部の面取り13aとなるため、分割後の単体2に対し
て面取り加工を行う必要がなく、製造工程を大幅に簡略
化できる。For this reason, the glaze substrate 1 is
In the case of division by 1, the division property can be improved by the deep groove 11a at the center. Further, as shown in FIG. 2B, in the single body 2 after the division, the slope 11b of the division groove 11 becomes the chamfer 13a at the end as it is, so that the single body 2 after the division needs to be chamfered. And the manufacturing process can be greatly simplified.
【0019】次に、このグレーズ基板1の製造方法を説
明する。Next, a method of manufacturing the glaze substrate 1 will be described.
【0020】まず、所定のセラミック原料を用いて公知
の方法で成形、焼成して得られたセラミック基板10上
の所定部位に、図4(a)に示すようにレーザー照射に
よる加工で溝11aを形成する。その後、図4(b)に
示すように、同じ溝11a上を、研削等の機械加工で、
これよりも角度が大きく浅い溝加工を施すことによっ
て、先に形成した溝11aのエッジ部を削り取って、斜
面11bを形成する。その結果、形成された分割溝11
は、上述したような多段の斜面状とすることができる。
その後、セラミックス基板上の所要個所に、スクリーン
印刷等によってグレーズ層を形成すれば、本発明のグレ
ーズ基板を得ることができる。First, as shown in FIG. 4A, a groove 11a is formed on a predetermined portion of a ceramic substrate 10 obtained by molding and firing using a predetermined ceramic raw material by a known method, by laser irradiation. Form. After that, as shown in FIG. 4B, the same groove 11a is machined by grinding or the like.
By performing shallow groove processing with a larger angle than this, the edge of the previously formed groove 11a is scraped off to form the slope 11b. As a result, the formed dividing groove 11 is formed.
May have a multi-stage slope as described above.
Thereafter, a glaze layer of the present invention can be obtained by forming a glaze layer on a required portion of the ceramic substrate by screen printing or the like.
【0021】このとき、レーザー加工で形成する中央部
の溝11aの開き角度θ0 は、良好な分割性を維持する
ために25〜50°の範囲が好ましく、一方機械加工で
形成する斜面11bの開き角度θ1 は、分割後の面取り
形状となることから、30〜120°の範囲とすること
が好ましい。At this time, the opening angle θ 0 of the central groove 11a formed by laser processing is preferably in the range of 25 to 50 ° in order to maintain good division, while the slope 11b formed by mechanical processing is preferred. opening angle theta 1, since as a post-decomposition of chamfered shape, preferably in the range of 30 to 120 °.
【0022】また、分割溝11を上記のような多段の斜
面形状とするためには、図4(a)に示すレーザー加工
時の溝11aの幅W0 と深さD0 に対し、図4(b)に
示す機械加工時の溝の幅W1 と深さD1 が、W0 <W1
かつ D0 >D1となるようにすれば良い。そのた
め、図3に示すように、最終的な分割溝11の幅は、機
械加工時の幅W1 となり、深さはレーザー加工時の深さ
D0 となる。Further, in order to form the divided groove 11 into a multi-step slope as described above, the width W 0 and the depth D 0 of the groove 11a at the time of laser processing shown in FIG. width W 1 and depth D 1 of the groove during machining shown in (b) is, W 0 <W 1
In addition, D 0 > D 1 may be satisfied. Therefore, as shown in FIG. 3, the width of the final split grooves 11, next to the width W 1 at the time of machining, the a depth D 0 at the time of laser processing depth.
【0023】ここで、分割溝11の深さD0 は、分割性
の点からセラミック基板10の厚みに対して、1/3〜
1/2の範囲内とすることが好ましい。Here, the depth D 0 of the dividing groove 11 is 1 / to 厚 み of the thickness of the ceramic substrate 10 in view of the dividing property.
It is preferable to set it in the range of 1/2.
【0024】なお、上記の製造方法では、レーザー加工
後に機械加工を施したが、逆の順序であっても良く、ま
たこれらの工程を何度も繰り返して、3段以上の斜面形
状とすることもできる。さらに、分割溝11を成す中央
部の溝11aと端部の斜面11bの間が滑らかに連続し
た曲面状の内壁面であっても良い。In the above-described manufacturing method, machining is performed after laser processing. However, the order may be reversed, and these steps may be repeated many times to form three or more steps of slopes. Can also. Further, a curved inner wall surface may be smoothly continuous between the groove 11a at the center and the slope 11b at the end of the divided groove 11.
【0025】また、本発明のグレーズ基板1では、グレ
ーズ層20と同じ表面に備えた分割溝11を多段斜面状
又は曲面状とすることが必要であるが、セラミック基板
10の裏面の分割溝12も上述したような多段の斜面形
状とすれば好適である。なお、これらの分割溝11、1
2をいずれもグレーズ層20と同じ表面に形成する場合
は、両方の分割溝11、12を多段斜面状又は曲面状と
する。Further, in the glaze substrate 1 of the present invention, the division grooves 11 provided on the same surface as the glaze layer 20 need to be formed in a multi-step slope or curved surface. Also, it is preferable that the multi-level slope is formed as described above. Note that these dividing grooves 11, 1
When both 2 are formed on the same surface as the glaze layer 20, both of the divided grooves 11, 12 have a multi-step slope or curved surface.
【0026】本発明のグレーズ基板1において、セラミ
ック基板10を成すセラミックスとしては、93〜9
9.6%のAl2 O3 を主成分とし、SiO2 、Mg
O、CaO等を焼結助剤として含有するアルミナセラミ
ックスを用いるが、その他にジルコニアやムライト等の
セラミックスを用いることもできる。また、グレーズ層
20を成すガラスとしては、SiO2 、BaO、Ca
O、SrO、B2 O3 、Al2 O3 等の成分を含有する
ものを用いる。In the glaze substrate 1 of the present invention, the ceramic constituting the ceramic substrate 10 is 93 to 9
9.6% of Al 2 O 3 as main component, SiO 2 , Mg
Alumina ceramics containing O, CaO or the like as a sintering aid is used, but ceramics such as zirconia or mullite can also be used. Further, as the glass forming the glaze layer 20, SiO 2 , BaO, Ca
A material containing components such as O, SrO, B 2 O 3 , and Al 2 O 3 is used.
【0027】[0027]
【実施例】本発明実施例として、図1に示すサーマルヘ
ッド用グレーズ基板1を作製した。セラミック基板10
は、96%のAl2 O3 を主成分とするセラミックスを
用い、270×60×0.635mmの寸法で、一つの
領域が5×10mmとなるように縦横の分割溝11、1
2を形成した。分割溝11の中央の溝11aをレーザー
加工で形成して開き角度θ0 を40°とし、斜面11b
は砥石を用いた研削加工で形成して開き角度θ1 を90
°とし、最終的な分割溝11の幅W1 を0.2mm、深
さD0 を0.22mmとした。このセラミック基板10
上にSiO2、BaO、CaO、Al2 O3 からなるグ
レーズ層20をスクリーン印刷で形成した。EXAMPLE As an example of the present invention, a glaze substrate 1 for a thermal head shown in FIG. 1 was manufactured. Ceramic substrate 10
Is made of ceramics containing 96% of Al 2 O 3 as a main component, has dimensions of 270 × 60 × 0.635 mm, and has vertical and horizontal dividing grooves 11 and 1 so that one area is 5 × 10 mm.
2 was formed. The central groove 11a of the divided groove 11 is formed by laser processing, the opening angle θ 0 is set to 40 °, and the slope 11b
Is formed by grinding using a grindstone and the opening angle θ 1 is 90
° and the width W 1 of the final split groove 11 0.2 mm, the depth D 0 was 0.22 mm. This ceramic substrate 10
A glaze layer 20 composed of SiO 2 , BaO, CaO, and Al 2 O 3 was formed thereon by screen printing.
【0028】一方、比較例として、同一材質、寸法のセ
ラミック基板10に、研削加工のみで分割溝11を形成
したもの、グリーンシートに金型を押し当てて分割溝1
1を形成したものを作製した。それぞれのグレーズ基板
1について、分割溝11の寸法精度と実際に分割した時
の分割性を調べ、また分割溝11を形成できる範囲の大
きさを比較した。On the other hand, as a comparative example, a ceramic substrate 10 having the same material and dimensions and having a dividing groove 11 formed only by grinding, and a die pressed against a green sheet to form the dividing groove 1 are used.
1 was produced. For each of the glaze substrates 1, the dimensional accuracy of the division grooves 11 and the division property when actually dividing were examined, and the size of the range in which the division grooves 11 could be formed was compared.
【0029】結果は表1に示す通りである。この結果よ
り、グリーンシートに金型を押し当てて分割溝11を作
製したグレーズ基板1では、分割溝11の寸法精度が悪
く、分割時の直線性も悪く、また4インチ角以上の大き
さに形成することはできなかった。また、研削加工のみ
で分割溝11を形成したグレーズ基板1でも、分割時の
直線性が悪かった。The results are as shown in Table 1. From this result, in the glaze substrate 1 in which the mold was pressed against the green sheet to form the division grooves 11, the dimensional accuracy of the division grooves 11 was poor, the linearity at the time of division was poor, and the size was 4 inches square or more. Could not be formed. Further, even in the glaze substrate 1 in which the division grooves 11 are formed only by grinding, the linearity at the time of division is poor.
【0030】これらに対し、レーザー加工と研削加工に
より多段の斜面形状の分割溝11を形成した本発明実施
例では、分割溝11の寸法精度及び分割時の直線性が優
れており、大きな寸法に形成することも容易であること
がわかる。また、本発明実施例のグレーズ基板1は、分
割後の単体2のグレーズ層20と同じ表面の外周部に既
に面取り13b(斜面11b)が形成されているため、
分割後にさらに加工をする必要がないことも確認され
た。On the other hand, in the embodiment of the present invention in which the multi-step sloped groove 11 is formed by laser processing and grinding, the dimensional accuracy of the divided groove 11 and the linearity at the time of division are excellent, so that a large dimension can be obtained. It can be seen that it is easy to form. Further, in the glaze substrate 1 according to the embodiment of the present invention, the chamfer 13b (slope 11b) is already formed on the outer peripheral portion of the same surface as the glaze layer 20 of the single unit 2 after the division.
It was also confirmed that there was no need for further processing after the division.
【0031】[0031]
【表1】 [Table 1]
【0032】[0032]
【発明の効果】以上のように、本発明によれば、セラミ
ック基板上にグレーズ層を有するとともに、複数に分割
するための分割溝を備えたサーマルヘッド用グレーズ基
板において、分割溝の横断面形状における内壁面を多段
斜面状又は曲面状としたことによって、分割溝を高精度
に形成できるとともに、分割性を高められ、さらに分割
後の単体のエッジが面取り形状となることから、各単体
に加工を施すことなく、サーマルヘッドとして用いるこ
とができる。As described above, according to the present invention, in a glaze substrate for a thermal head having a glaze layer on a ceramic substrate and having a division groove for dividing into a plurality of parts, the cross-sectional shape of the division groove By forming the inner wall surface in a multi-step slope or curved surface, the dividing groove can be formed with high accuracy, the dividing property can be enhanced, and the edge of the divided single unit becomes a chamfered shape, so it is processed into each single unit , And can be used as a thermal head.
【0033】また、本発明によれば、セラミック基板上
に、レーザー照射による溝加工と、機械加工による開き
角度の大きい溝加工を同一部位に施して分割溝を形成し
た後、所要個所にグレーズ層を形成する工程からサーマ
ルヘッド用グレース基板を製造することによって、簡単
な工程で上述した多段斜面状又は曲面状の分割溝を有す
るグレーズ基板を高精度に作製することができる。Further, according to the present invention, after a groove is formed on the ceramic substrate by laser irradiation and a groove having a large opening angle by machining is formed on the same portion to form a divided groove, a glaze layer is formed at a required position. By manufacturing a grace substrate for a thermal head from the step of forming a glazing substrate, a glazing substrate having the above-mentioned multi-step inclined surface or curved dividing groove can be manufactured with high accuracy by a simple process.
【図1】本発明のサーマルヘッド用グレーズ基板を示す
平面図である。FIG. 1 is a plan view showing a glaze substrate for a thermal head of the present invention.
【図2】(a)は図1のグレーズ基板を分割した後の単
体を示す平面図、(b)は(a)中のX−X線断面図で
ある。2A is a plan view showing a single unit after dividing the glaze substrate of FIG. 1, and FIG. 2B is a cross-sectional view taken along line XX in FIG. 2A.
【図3】本発明のサーマルヘッド用グレーズ基板の分割
溝の拡大横断面図である。FIG. 3 is an enlarged transverse sectional view of a dividing groove of the glaze substrate for a thermal head of the present invention.
【図4】(a)(b)は本発明のサーマルヘッド用グレ
ーズ基板の製造方法を説明するための断面図である。FIGS. 4A and 4B are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a glaze substrate for a thermal head according to the present invention.
【図5】(a)〜(c)は従来のグレーズ基板及びこれ
を分割した単体を示す断面図である。5A to 5C are cross-sectional views showing a conventional glaze substrate and a single unit obtained by dividing the same.
【図6】(a)(b)は従来のグレーズ基板及びこれを
分割した単体を示す断面図である。6A and 6B are cross-sectional views showing a conventional glaze substrate and a single unit obtained by dividing the same.
1:グレーズ基板 2:単体 10:セラミック基板 11:分割溝 11a:溝 11b:斜面 12:分割溝 13:セラミック体 13a:面取り 20:グレーズ層 1: glaze substrate 2: simple substance 10: ceramic substrate 11: division groove 11a: groove 11b: slope 12: division groove 13: ceramic body 13a: chamfer 20: glaze layer
Claims (1)
溝加工と、機械加工による開き角度の大きい溝加工を同
一部位に施して分割溝を形成した後、所要箇所にグレー
ズ層を形成する工程からなるサーマルヘッド用グレーズ
基板の製造方法。1. A step of forming a groove on a ceramic substrate by laser irradiation and forming a groove having a large opening angle by mechanical processing on the same portion to form a divided groove, and then forming a glaze layer at a required portion. A method for manufacturing a glaze substrate for a thermal head.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4085797A JP3325483B2 (en) | 1997-02-25 | 1997-02-25 | Method of manufacturing glaze substrate for thermal head |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4085797A JP3325483B2 (en) | 1997-02-25 | 1997-02-25 | Method of manufacturing glaze substrate for thermal head |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10235914A JPH10235914A (en) | 1998-09-08 |
JP3325483B2 true JP3325483B2 (en) | 2002-09-17 |
Family
ID=12592235
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4085797A Expired - Fee Related JP3325483B2 (en) | 1997-02-25 | 1997-02-25 | Method of manufacturing glaze substrate for thermal head |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3325483B2 (en) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2008062496A1 (en) | 2006-10-31 | 2008-05-29 | Kyocera Corporation | Ceramic member, method of forming groove in ceramic member, and substrate for electronic part |
JP5399794B2 (en) * | 2009-07-07 | 2014-01-29 | 日本特殊陶業株式会社 | Manufacturing method of ceramic heater |
-
1997
- 1997-02-25 JP JP4085797A patent/JP3325483B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH10235914A (en) | 1998-09-08 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080705 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080705 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090705 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090705 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
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|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100705 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
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|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
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|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120705 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
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FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
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