JP2866691B2 - 処理装置及び熱処理装置 - Google Patents
処理装置及び熱処理装置Info
- Publication number
- JP2866691B2 JP2866691B2 JP2013295A JP1329590A JP2866691B2 JP 2866691 B2 JP2866691 B2 JP 2866691B2 JP 2013295 A JP2013295 A JP 2013295A JP 1329590 A JP1329590 A JP 1329590A JP 2866691 B2 JP2866691 B2 JP 2866691B2
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- Japan
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- pipe
- exhaust pipe
- pressure
- exhaust
- atmosphere
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Description
【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 （産業上の利用分野） 本発明は、処理装置及び熱処理装置に関する。
（従来の技術） 排気管内の圧力や流速を検出して、制御装置を介し
て、排気管に設けた流量調節弁を調節して装置内を均一
排気するものとして、特開昭62−63421号、特開昭63−2
38281号、特開昭63−304620号公報がある。
て、排気管に設けた流量調節弁を調節して装置内を均一
排気するものとして、特開昭62−63421号、特開昭63−2
38281号、特開昭63−304620号公報がある。
さらに装置からの排気ガス圧力を液柱の高さの圧力に
一定化させるものとして特開昭58−124226号公報に開示
されたものがある。
一定化させるものとして特開昭58−124226号公報に開示
されたものがある。
（発明が解決しようとする課題） 前者の文献の技術は、装置の構成が複雑であり、高価
であり、排気系に生成物が付着するような装置において
は装置の保守を頻繁に行なわなければならない等の改善
点を有する。
であり、排気系に生成物が付着するような装置において
は装置の保守を頻繁に行なわなければならない等の改善
点を有する。
後者の技術は、装置内が陽圧にならなければ排気系に
設けた液柱を介して排気ガスが排出されず、装置内のガ
スの流れが均一にならない改善点が有る。
設けた液柱を介して排気ガスが排出されず、装置内のガ
スの流れが均一にならない改善点が有る。
（発明の目的） この発明は、上記点に鑑みなされたもので簡単な構成
でありながら均一排気が可能となり、もって装置内のガ
ス流に乱れがない処理装置及び熱処理装置を提供するこ
とにある。
でありながら均一排気が可能となり、もって装置内のガ
ス流に乱れがない処理装置及び熱処理装置を提供するこ
とにある。
（発明の概要） 本発明は、排気管を介して排気する機構を有する処理
装置において、上記排気管の途中に支流管を設け、この
支流管に大気との圧力差により開閉して排気管内を予め
定めた圧力に保つように大気を流入させるための可動弁
を設けたことを特徴とする。
装置において、上記排気管の途中に支流管を設け、この
支流管に大気との圧力差により開閉して排気管内を予め
定めた圧力に保つように大気を流入させるための可動弁
を設けたことを特徴とする。
この場合、上記支流管の端部は下方に向いて大気に開
放され、該端部に設けられた膨大状の凹部内に上記可動
弁が自重で閉じ、大気との圧力差で開くように設けられ
ていることが好ましい。
放され、該端部に設けられた膨大状の凹部内に上記可動
弁が自重で閉じ、大気との圧力差で開くように設けられ
ていることが好ましい。
また、本発明は、排気管を介して排気する機構を有す
る熱処理装置において、上記排気管の途中に支流管を設
け、この支流管に大気との圧力差により開閉して排気管
内を予め定めた圧力に保つように大気を流入させるため
の可動弁を設けたことを特徴とする。
る熱処理装置において、上記排気管の途中に支流管を設
け、この支流管に大気との圧力差により開閉して排気管
内を予め定めた圧力に保つように大気を流入させるため
の可動弁を設けたことを特徴とする。
（作用） 本発明によれば、排気管の途中に支流管を設け、この
支流管に大気との圧力差により開閉して排気管内を予め
定めた圧力に保つように大気を流入させるための可動弁
を設けているため、簡単な構成で均一排気が可能とな
り、均一な処理が可能となる。
支流管に大気との圧力差により開閉して排気管内を予め
定めた圧力に保つように大気を流入させるための可動弁
を設けているため、簡単な構成で均一排気が可能とな
り、均一な処理が可能となる。
（実施例） 以下本発明を縦型熱処理装置に適用した一実施例につ
いて図面を参照して具体的に説明する。
いて図面を参照して具体的に説明する。
縦型のプロセスチューブ10は耐熱性材料例えば石英チ
ューブからなり、その一端にプロセスガス導入管12を連
結し、他端側に排気管22を連結する。
ューブからなり、その一端にプロセスガス導入管12を連
結し、他端側に排気管22を連結する。
上記プロセスチューブ10の周囲には筒状ヒータ16、例
えば抵抗加熱型ヒータが設けられ、プロセスチューブ10
を所定の熱処理温度、例えば800〜1200℃の範囲で適宜
設定可能としている。
えば抵抗加熱型ヒータが設けられ、プロセスチューブ10
を所定の熱処理温度、例えば800〜1200℃の範囲で適宜
設定可能としている。
そしてこのプロセスチューブ10には被処理体として多
数枚のウェハ18を搬入し、これらウェハは耐熱性の例え
ば石英製ウェハボート17に収納し、このボート17を載置
台19に設置して、上記プロセスチューブ10内の予め定め
られた位置に収納する。
数枚のウェハ18を搬入し、これらウェハは耐熱性の例え
ば石英製ウェハボート17に収納し、このボート17を載置
台19に設置して、上記プロセスチューブ10内の予め定め
られた位置に収納する。
上記載置台19は蓋体14上に設置し、蓋体14は図示しな
い昇降機構により上下移動することができウェハ18の搬
入搬出を行うように構成している。
い昇降機構により上下移動することができウェハ18の搬
入搬出を行うように構成している。
前記導入管12にはマスフローコントローラ30を介して
処理ガスを供給する。
処理ガスを供給する。
この実施例では複数のプロセスチューブ10の排気駆動
を共通排気管23に配設した排気能力の大きな１つの排気
ファン20によって行っている。この排気ファン20として
は真空ポンプでも良い。
を共通排気管23に配設した排気能力の大きな１つの排気
ファン20によって行っている。この排気ファン20として
は真空ポンプでも良い。
この実施例の特徴的構成としは、複数のプロセスチュ
ーブ10に対応する各排気管22の途中に支流管40を配設し
たことである。この支流管40の詳細については、第２図
を参照して説明する。
ーブ10に対応する各排気管22の途中に支流管40を配設し
たことである。この支流管40の詳細については、第２図
を参照して説明する。
すなわち、支流管40は、排気管22の途中から例えば下
方に曲げられて端部が下方に向いて大気に開放された配
管48からなり、この配管48の端部内に膨大状の凹部46が
設けられ、この凹部46内に可動弁42が自重で閉じ、大気
との圧力差で開くように設けられている。
方に曲げられて端部が下方に向いて大気に開放された配
管48からなり、この配管48の端部内に膨大状の凹部46が
設けられ、この凹部46内に可動弁42が自重で閉じ、大気
との圧力差で開くように設けられている。
凹部46内の下縁には、可動弁42が自重で押し付けられ
ることにより、支流管内と大気との間を気密にシールす
るためのＯリング44が設けられている。
ることにより、支流管内と大気との間を気密にシールす
るためのＯリング44が設けられている。
次に前記実施例装置の作用について説明する。
複数のプロセスチューブ10の内、１つのプロセスチュ
ーブ10に処理ガスが流されており、他のプロセスチュー
ブ10には処理ガスが流れず蓋体14が閉じられている状態
では、排気ファン20の排気能力に対して流れる処理ガス
の流量が少ないため、排気管22の中の圧力は大きく負圧
状態となる。
ーブ10に処理ガスが流されており、他のプロセスチュー
ブ10には処理ガスが流れず蓋体14が閉じられている状態
では、排気ファン20の排気能力に対して流れる処理ガス
の流量が少ないため、排気管22の中の圧力は大きく負圧
状態となる。
その結果可動弁42の重さより可動弁42に加わる差圧の
力が大きくなり、可動弁42は大きく浮き上り凹部46を介
して大気が排気管22へ流入し、排気管22内の圧力は予め
定められた圧力に常に保たれる。
力が大きくなり、可動弁42は大きく浮き上り凹部46を介
して大気が排気管22へ流入し、排気管22内の圧力は予め
定められた圧力に常に保たれる。
所望の圧力は可動弁42の単位面積当りの重さを変える
ことにより得られ、例えば大気との差圧−10mmH2Oを所
望の圧力とすれば１気圧＝10000mmH2O＝1kg/cm2の関係
により可動弁42の重さを1g/cm2とすれば良い。可動弁42
の重さの調節は可動弁42の材質や厚さを変えれば良い。
ウェハの酸化や拡散処理を行った場合、ウェハの処理均
一性が良好な排気管22内の大気との差圧は−１〜−20mm
H2Oの範囲であった。従って均一排気を行うために望ま
しい排気管22内の圧力は前記圧力範囲である。
ことにより得られ、例えば大気との差圧−10mmH2Oを所
望の圧力とすれば１気圧＝10000mmH2O＝1kg/cm2の関係
により可動弁42の重さを1g/cm2とすれば良い。可動弁42
の重さの調節は可動弁42の材質や厚さを変えれば良い。
ウェハの酸化や拡散処理を行った場合、ウェハの処理均
一性が良好な排気管22内の大気との差圧は−１〜−20mm
H2Oの範囲であった。従って均一排気を行うために望ま
しい排気管22内の圧力は前記圧力範囲である。
次に他のプロセスチューブ10にウェハを搬入するため
蓋体14を開けた状態では、プロセスチューブ10から多量
の大気が排気管22に流れ込み排気管22内の圧力は上昇す
る。この時、今まで大きく開いていた支流管40の可動弁
42の開度が狭くなり所望の圧力が得られる状態で安定す
る。このように支流管40の可動弁42の開度が配排気管22
内の圧力に応じて変化し、常に所望の圧力が保たれるよ
うに作動する。プロセス状態を変えるためプロセスチュ
ーブ10に流すガスの流量を変化させた場合も、上記と同
様に支流管40の可動弁42が作動し常に所望の圧力に保た
れる。
蓋体14を開けた状態では、プロセスチューブ10から多量
の大気が排気管22に流れ込み排気管22内の圧力は上昇す
る。この時、今まで大きく開いていた支流管40の可動弁
42の開度が狭くなり所望の圧力が得られる状態で安定す
る。このように支流管40の可動弁42の開度が配排気管22
内の圧力に応じて変化し、常に所望の圧力が保たれるよ
うに作動する。プロセス状態を変えるためプロセスチュ
ーブ10に流すガスの流量を変化させた場合も、上記と同
様に支流管40の可動弁42が作動し常に所望の圧力に保た
れる。
従ってプロセスチューブ10の内を流れるプロセスガス
の均一排気が可能となり、もって装置内のガス流に乱れ
が生じなくなり、処理ウェハの面内面間均一性を良好に
処理することができる。
の均一排気が可能となり、もって装置内のガス流に乱れ
が生じなくなり、処理ウェハの面内面間均一性を良好に
処理することができる。
尚、本発明は前記実施例に限定されるものではなく、
本発明の要旨の範囲内で種々の変形実施が可能である。
本発明の要旨の範囲内で種々の変形実施が可能である。
本発明は、必ずしも複数のプロセスチューブ10に対し
て排気駆動源を共通化したものに適用するものに限ら
ず、排気管22が単一のプロセスチューブ10専用に設けら
れている場合においても、プロセス状態を変えるため処
理ガスの流量を変えたり、電源電圧変動等により排気フ
ァン20の性能が変わったりすることがあり、均一排気を
行うためにこの発明は有用である。
て排気駆動源を共通化したものに適用するものに限ら
ず、排気管22が単一のプロセスチューブ10専用に設けら
れている場合においても、プロセス状態を変えるため処
理ガスの流量を変えたり、電源電圧変動等により排気フ
ァン20の性能が変わったりすることがあり、均一排気を
行うためにこの発明は有用である。
先の文献に示した自動制御の排気装置は、一般的に広
い圧力範囲の調整が困難であるという改善点を有してい
るが、本発明と組み合わせて用いることにより大幅な改
善を行うことができる。
い圧力範囲の調整が困難であるという改善点を有してい
るが、本発明と組み合わせて用いることにより大幅な改
善を行うことができる。
所望の圧力で支流管40の可動弁42が開閉するように可
動弁42の重さを調整できるようにするか、可動弁42をス
プリングで押すか又は引張ることも本発明を実施する上
で有用である。
動弁42の重さを調整できるようにするか、可動弁42をス
プリングで押すか又は引張ることも本発明を実施する上
で有用である。
本発明を酸化炉、拡散炉等の高温でHCl等の腐食性ガ
スが流れる装置に使用する場合には、排気管22や支流管
40の処理ガスと接触する部分をふっ素樹脂等の非金属で
構成することも本発明を実施する上で有用である。
スが流れる装置に使用する場合には、排気管22や支流管
40の処理ガスと接触する部分をふっ素樹脂等の非金属で
構成することも本発明を実施する上で有用である。
また、所望の圧力に微調するためにバルブを支流管40
とプロセスチューブ10の間の排気管22、あるいは支流管
40と共通排気管23の間の排気管22に付けることも有用で
ある。
とプロセスチューブ10の間の排気管22、あるいは支流管
40と共通排気管23の間の排気管22に付けることも有用で
ある。
また、本発明は酸化炉や拡散炉等の熱処理炉に限ら
ず、常圧CVD装置やスピンクォータ装置やその他常圧処
理装置に応用しても良いことは当然である。
ず、常圧CVD装置やスピンクォータ装置やその他常圧処
理装置に応用しても良いことは当然である。
また縦型装置に限らず横型熱処理炉等の横型装置に適
用できるのは当然のことである。
用できるのは当然のことである。
以上説明したように、本発明によれば、排気管の途中
に支流管を設け、この支流管に大気との圧力差により開
閉して排気管内を予め定めた圧力に保つように大気を流
入させるための可動弁を設けているため、簡単な構成で
均一排気が可能となり、均一な処理が可能となる。
に支流管を設け、この支流管に大気との圧力差により開
閉して排気管内を予め定めた圧力に保つように大気を流
入させるための可動弁を設けているため、簡単な構成で
均一排気が可能となり、均一な処理が可能となる。
第１図は本発明を縦型熱処理装置に適用した一実施例の
説明図、第２図は第１図の排気管途中に設けられた支流
管のを拡大して示す概略説明図である。 10……プロセスチューブ 12……ガス導入管 14……蓋体 16……ヒータ 17……ボート 18……ウェハ 19……載置台 20……排気ファン 22……排気管 23……共通排気管 30……マスフロー・コントローラ 40……支流管 42……可動弁 44……Ｏリング 46……凹部 48……配管
説明図、第２図は第１図の排気管途中に設けられた支流
管のを拡大して示す概略説明図である。 10……プロセスチューブ 12……ガス導入管 14……蓋体 16……ヒータ 17……ボート 18……ウェハ 19……載置台 20……排気ファン 22……排気管 23……共通排気管 30……マスフロー・コントローラ 40……支流管 42……可動弁 44……Ｏリング 46……凹部 48……配管
Claims (3)
- 【請求項１】排気管を介して排気する機構を有する処理
装置において、上記排気管の途中に支流管を設け、この
支流管に大気との圧力差により開閉して排気管内を予め
定められた圧力に保つように大気を流入させるための可
動弁を設けたことを特徴とする処理装置。 - 【請求項２】上記支流管の端部は下方に向いて大気に開
放され、該端部に設けられた膨大状の凹部内に上記可動
弁が自重で閉じ、大気との圧力差で開くように設けられ
ていることを特徴とする請求項１記載の処理装置。 - 【請求項３】排気管を介して排気する機構を有する熱処
理装置において、上記排気管の途中に支流管を設け、こ
の支流管に大気との圧力差により開閉して排気管内を予
め定められた圧力に保つように大気を流入させるための
可動弁を設けたことを特徴とする熱処理装置。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2013295A JP2866691B2 (ja) | 1990-01-23 | 1990-01-23 | 処理装置及び熱処理装置 |
| US07/644,565 US5088922A (en) | 1990-01-23 | 1991-01-23 | Heat-treatment apparatus having exhaust system |
| KR1019910001136A KR0147044B1 (ko) | 1990-01-23 | 1991-01-23 | 배기 시스템을 가지는 열처리장치 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2013295A JP2866691B2 (ja) | 1990-01-23 | 1990-01-23 | 処理装置及び熱処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03219200A JPH03219200A (ja) | 1991-09-26 |
| JP2866691B2 true JP2866691B2 (ja) | 1999-03-08 |
Family
ID=11829201
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2013295A Expired - Lifetime JP2866691B2 (ja) | 1990-01-23 | 1990-01-23 | 処理装置及び熱処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2866691B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5445521A (en) * | 1993-05-31 | 1995-08-29 | Tokyo Electron Kabushiki Kaisha | Heat treating method and device |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0318674A (ja) * | 1989-06-14 | 1991-01-28 | Hitachi Ltd | ガス圧力制御方法及び真空装置 |
-
1990
- 1990-01-23 JP JP2013295A patent/JP2866691B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03219200A (ja) | 1991-09-26 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
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Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101218 Year of fee payment: 12 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
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