JP2807599B2 - 半導体チップ外観検査装置 - Google Patents

半導体チップ外観検査装置

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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ウェハーを半導体チッ
プにダイシングした後の外観を自動で検査する半導体チ
ップの外観検査装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来の半導体チップ外観検査装置の1つ
に、同一ウェハーから形成された良品の基準半導体チッ
プの濃淡情報を記憶しておき、被検査半導体チップの濃
淡情報と比較し、この2つの濃淡情報の差分から不一致
箇所(外観不良)であるか否かを検査するものがある。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】上記の従来の装置は、
1つの基準濃淡情報と被検査半導体チップの濃淡情報と
を比較し、局所的な表面反射率の差異を欠陥とみなして
いる。しかし、1枚のウェハーをダイシングすることに
よって得られた半導体チップは、プロセスの状況の変動
等によりチップ間の膜厚に差異が生じ、このことによ
り、チップ間で表面反射率が異なる。このため、上述の
膜厚の差異による表面反射率の差異により欠陥と誤認識
(以下「疑似欠陥」という)することがあり、認識率の
低下の原因となる。
【0004】また、同一ウェハー上に形成される半導体
チップは、互いに近い位置にあるチップと比較的形成プ
ロセス条件が似ており、結果として膜厚の差異による局
所的な反射率の差異も小さくなるという理論に基づい
て、被検査半導体チップを良品と判断したときに、該被
検査半導体チップの濃淡情報と基準濃淡情報とを演算
し、平均化を行い、この濃淡情報を新たな基準濃淡情報
とするものがある。
【0005】しかし、上記検査装置を用いても数チップ
において欠陥が連続して検出されたとき、又は、断続的
に検査を行うとき、つぎに取まれるチップが良品であっ
ても、チップの局所的な反射率の差異を緩和できず、疑
似欠陥の発生を減少させることはできない。
【0006】また、基準画像に平均化を繰り返し行うこ
とにより、局所的な反射率の差異の部分が加えられてい
く為、良品の基準画像が変化し、正常な検査画像を取り
込んで比較検査をするとき、疑似欠陥となる可能性があ
り、正確な検査判定が下せない。
【0007】以上のように、上記2つの従来の装置を用
いても、被検査チップの疑似欠陥をとりきれない。
【0008】本発明は、半導体チップの外観検査におけ
る疑似欠陥を除去し、欠陥の認識率を向上させる半導体
チップの外観検査装置を提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明の半導体チップ外
観検査装置は、1枚のウェハーをダイシングすることに
よって得られる半導体チップ表面の濃淡情報により、該
半導体チップの外観を検査する半導体チップ外観検査装
置において、前記被検査半導体チップの濃淡情報を記憶
する第1画像メモリと、予め良品と判断された、前記被
検査半導体チップと同一ウェハーから形成された複数個
の基準半導体チップの濃淡情報を記憶する第2画像メモ
リと、前記第1画像メモリに記憶された濃淡情報と最も
類似した前記第2画像メモリに記憶された濃淡情報を選
択する画像選択部と、前記第1画像メモリに記憶されて
いる濃淡情報と前記画像選択部によって選択された基準
濃淡情報とを比較し、良品か否かを判断する画像比較部
とを有することを特徴とするものである。
【0010】
【作用】上記本発明の半導体チップ外観検査装置を用い
て、同一ウェハーから複数の良品半導体チップの濃淡情
報を基準濃淡情報として記憶しておき、被検査半導体チ
ップの表面状態に最も近い基準半導体チップを選択し、
該基準半導体チップの濃淡情報と被検査半導体チップの
濃淡情報との差分を求め外観の良否を検査することによ
り、膜厚の差異による疑似欠陥を抑制することができ
る。
【0011】
【実施例】以下、本発明を一実施例に基づいて詳細に説
明する。
【0012】図1は本発明の一実施例の半導体チップ外
観検査装置の構成図を示す。図1において、本発明の一
実施例で検査される半導体チップは、1枚のウェハーを
ダイシングし、ステージ制御部2によって水平移動が自
由にできるステージ3上に全てが搭載されたものであ
る。
【0013】また、図1に示す装置の光学系は、半導体
チップ4の被検査面を照明するために設けられている光
源制御部6で制御された光源7である照明ランプが白色
光を発し、この白色光がハーフミラー8に照射され、ハ
ーフミラー8で反射された白色光は対物レンズ5に入射
し、対物レンズ5はこの白色光を結像して、半導体チッ
プ4の全表面に照射するという構成になっている。
【0014】更に、ハーフミラー8の直進光路上には、
CCDカメラ9等の撮像装置が配置され、CCDカメラ
9は半導体チップ4の4端を除く半導体チップ4内表面
のほぼ全面の濃淡情報を取り込めるようになっている。
【0015】なお、図1において、1はマイクロプロセ
ッサ、10は第1画像メモリ、11は第2画像メモリ、
12は画像選択部、13は画像比較部、14はインター
フェイス、15はモニターを示す。
【0016】次に、本発明の一実施例の半導体チップの
外観検査装置を用いた検査工程を図1を用いて説明す
る。
【0017】まず、第2画像メモリ11に複数の良品半
導体チップ4の濃淡情報を記憶させる。該良品半導体チ
ップ4は、検査される半導体チップ4と同一ウェハーか
ら顕微鏡等目視によりウェハーの膜厚の違いによる反射
率の差異から表面の色合いの異なる半導体チップ4を複
数選ぶのが望ましいが、例えば、ウェハーの中心部及び
ウェハーの中心を通るような十字線上のウェハー端部の
半導体チップ4から色合の異なるものを選択する方法
も、選択作業を簡略化する上で適用可能である。また、
検査時間の長時間化を防ぐため、基準となる良品半導体
チップ4は5〜8枚程度が適当であるが、高精度の検査
等のため、基準画像の所持枚数が第2画像メモリ11の
容量を越える場合には、外部メモリを使用する必要があ
る。
【0018】次に、マイクロプロセッサ1はCCDカメ
ラ9からの256階調の濃淡情報を第1画像メモリ10
に記憶させる。その後、第1画像メモリ10及び第2画
像メモリ11の濃淡情報は、画像選択部12に入力さ
れ、第1画像メモリ10からの濃淡情報に最も近い第2
画像メモリ11からの濃淡情報を選択する。この画像選
択部12の選択方法としては、例えば、第1及び第2画
像メモリ10及び11に記憶されている半導体チップ4
表面の一部の濃淡情報から、ヒストグラム,輝度分布又
は輝度の投影値を求め、比較することによって最も類似
した第2画像メモリ11の濃淡情報を選択する方法が用
いられる。
【0019】次に、第1画像メモリ10からの濃淡情報
と上述の選択処理によって選択された第2画像メモリ1
1からの濃淡情報を共に画像比較部13に入力し、被検
査半導体チップ4と基準となる良品半導体チップ4との
全面の濃淡情報からヒストグラム,輝度分布又は輝度の
投影値を求め、その差分が所定の範囲内にあるか否かに
よって、良品であるか否かの判定を行い、マイクロプロ
セッサ1に検査結果信号を入力し、マイクロプロセッサ
1は、入力された信号から被検査半導体チップ4が良品
であるかを記憶する。
【0020】また、半導体チップ4の検査結果は、メッ
セージにして、インターフェイス14を介してモニター
15に表示する。
【0021】
【発明の効果】以上、詳細に説明したように、本発明を
用いて、膜厚の異なる複数の良品半導体チップと比較す
ることによって、疑似欠陥の発生を低減し、半導体チッ
プの外観検査における欠陥の認識率の向上を図ることが
できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例の半導体チップ外観検査装置
の構成図である。
【符号の説明】
1 マイクロプロセッサ 2 ステージ制御部 3 ステージ 4 半導体チップ 5 対物レンズ 6 光源制御部 7 光源 8 ハーフミラー 9 CCDカメラ 10 第1画像メモリ 11 第2画像メモリ 12 画像選択部 13 画像比較部 14 インターフェイス 15 モニター
フロントページの続き (56)参考文献 特開 平3−225939(JP,A) 特開 平2−22542(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) G01N 21/88 H01L 21/66

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 1枚のウェハーをダイシングすることに
    よって得られる半導体チップ表面の濃淡情報より、該半
    導体チップの外観を検査する半導体チップ外観検査装置
    において、 前記被検査半導体チップの濃淡情報を記憶する第1画像
    メモリと、 予め良品と判断された、前記被検査半導体チップと同一
    ウェハーから形成された、異なる複数個の基準半導体チ
    ップの濃淡情報を記憶する第2画像メモリと、 前記第1画像メモリに記憶された濃淡情報と最も類似し
    た前記第2画像メモリに記憶された濃淡情報を選択する
    画像選択部と、 前記第1画像メモリに記憶されている濃淡情報と前記画
    像選択部によって選択された基準濃淡情報とを比較し、
    良品か否かを判断する画像比較部とを有することを特徴
    とする半導体チップ外観検査装置。
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KR100420241B1 (ko) * 2001-06-20 2004-03-02 (주)시아이센서 이미지 센서용 반도체 칩 테스트 방법 및 그 장치
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