JP2764931B2 - 安息香酸類の製法 - Google Patents
安息香酸類の製法Info
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、除草剤の中間体として有用な安息香酸類の
製法に関するものである。
製法に関するものである。
4−ベンゾイル−5−ヒドロキシピラゾール誘導体の
特定の化合物は除草活性を有することが知られている。
特定の化合物は除草活性を有することが知られている。
例えば、ピラゾレート(一般名)、ピラゾキシフェン
(一般名)及びベンゾフェナップ(一般名)が水田用除
草剤として実用化されている。
(一般名)及びベンゾフェナップ(一般名)が水田用除
草剤として実用化されている。
更に、特願昭63−061349号公報には、イネ以外にもト
ウモロコシ、コムギ、オオムギ、ソルガムを初め、ワ
タ、ビート、ダイズ、ナタネ等の有用作用に選択性を有
する4−ベンゾイル−5−ヒドロキシピラゾール誘導体
が報告されている。
ウモロコシ、コムギ、オオムギ、ソルガムを初め、ワ
タ、ビート、ダイズ、ナタネ等の有用作用に選択性を有
する4−ベンゾイル−5−ヒドロキシピラゾール誘導体
が報告されている。
これ等は何れも4−ベンゾイル−5−ヒドロキシピラ
ゾール類それ自体もしくはその誘導体である。
ゾール類それ自体もしくはその誘導体である。
従来、4−ベンゾイルピラゾール−5−ヒドロキシピ
ラゾール類は安息香酸類と5−ヒドロキシピラゾール類
より合成されており(特開昭52−265号、特開昭52−266
号公報参照)安価で優れた安息香酸類の製法が望まれて
いる。
ラゾール類は安息香酸類と5−ヒドロキシピラゾール類
より合成されており(特開昭52−265号、特開昭52−266
号公報参照)安価で優れた安息香酸類の製法が望まれて
いる。
本発明者らは工業的に有利に安息香酸類を得ることを
目的に研究を進める中で新規製法を見出し、本発明を完
成するに至った。即ち、本発明は、 一般式〔I〕 〔式中、Xは臭素原子、ヨウ素原子又はジアゾニウムテ
トラフルオロ硼素塩基を表し、R1は炭素原子数1〜4の
アルキル基、炭素原子数1〜4のアルコキシ基、、トリ
フルオロメチル基、ニトロ基、シアノ基又はハロゲン原
子(但し、Xが臭素原子のときR1は弗素原子又は塩素原
子を示し、Xがヨウ素原子のときR1は弗素原子、塩素原
子又は臭素原子を示す。)を表し、R2は水素原子、炭素
原子数1〜4のアルキル基、炭素原子数1〜4のアルコ
キシ基、ヒドロキシル基、炭素原子数3〜6のアルコキ
シアルコキシ基、炭素原子数2〜5のアルコキシアルキ
ル基、炭素原子数2〜5のアルコキシカルボニル基、カ
ルボキシル基、ニトロ基、シアノ基又はハロゲン原子
(但し、Xが臭素原子のときR2は弗素原子又は塩素原子
を示し、Xがヨウ素原子のときR2は弗素原子、塩素原子
又は臭素原子を示す。)を表し、R3は炭素原子数1〜2
のアルキルチオ基、炭素原子数1〜2のアルキルスルフ
ィニル基、炭素原子数1〜2のアルカンスルホニル基、
トリフルオロメチル基、ニトロ基、シアノ基又はハロゲ
ン原子(但し、Xが臭素原子のときR3は弗素原子又は塩
素原子を示し、Xがヨウ素原子のときR3は弗素原子、塩
素原子又は臭素原子を示す。)を表す。〕で表される置
換ベンゼンに 一般式〔II〕 R4−OH 〔II〕 〔式中、R4は水素原子、炭素原子数1〜6のアルキル
基、炭素原子数3〜6のアルケニル基、炭素原子数2〜
6のアルキニル基、炭素原子数2〜8のアルコキシアル
キル基、炭素原子数5〜10のアルコキシアルコキシアル
キル基、R5基または−L−R5基を表す[但し、R5は炭素
原子数1〜4のアルキル基、炭素原子数1〜4のアルコ
キシ基、ニトロ基もしくはハロゲン原子で置換されてい
てもよいフェニル基を表し、Lは炭素原子数1〜3のア
ルキル基によって置換されていてもよい炭素原子数1〜
4のアルキレン基を表す。]〕。
目的に研究を進める中で新規製法を見出し、本発明を完
成するに至った。即ち、本発明は、 一般式〔I〕 〔式中、Xは臭素原子、ヨウ素原子又はジアゾニウムテ
トラフルオロ硼素塩基を表し、R1は炭素原子数1〜4の
アルキル基、炭素原子数1〜4のアルコキシ基、、トリ
フルオロメチル基、ニトロ基、シアノ基又はハロゲン原
子(但し、Xが臭素原子のときR1は弗素原子又は塩素原
子を示し、Xがヨウ素原子のときR1は弗素原子、塩素原
子又は臭素原子を示す。)を表し、R2は水素原子、炭素
原子数1〜4のアルキル基、炭素原子数1〜4のアルコ
キシ基、ヒドロキシル基、炭素原子数3〜6のアルコキ
シアルコキシ基、炭素原子数2〜5のアルコキシアルキ
ル基、炭素原子数2〜5のアルコキシカルボニル基、カ
ルボキシル基、ニトロ基、シアノ基又はハロゲン原子
(但し、Xが臭素原子のときR2は弗素原子又は塩素原子
を示し、Xがヨウ素原子のときR2は弗素原子、塩素原子
又は臭素原子を示す。)を表し、R3は炭素原子数1〜2
のアルキルチオ基、炭素原子数1〜2のアルキルスルフ
ィニル基、炭素原子数1〜2のアルカンスルホニル基、
トリフルオロメチル基、ニトロ基、シアノ基又はハロゲ
ン原子(但し、Xが臭素原子のときR3は弗素原子又は塩
素原子を示し、Xがヨウ素原子のときR3は弗素原子、塩
素原子又は臭素原子を示す。)を表す。〕で表される置
換ベンゼンに 一般式〔II〕 R4−OH 〔II〕 〔式中、R4は水素原子、炭素原子数1〜6のアルキル
基、炭素原子数3〜6のアルケニル基、炭素原子数2〜
6のアルキニル基、炭素原子数2〜8のアルコキシアル
キル基、炭素原子数5〜10のアルコキシアルコキシアル
キル基、R5基または−L−R5基を表す[但し、R5は炭素
原子数1〜4のアルキル基、炭素原子数1〜4のアルコ
キシ基、ニトロ基もしくはハロゲン原子で置換されてい
てもよいフェニル基を表し、Lは炭素原子数1〜3のア
ルキル基によって置換されていてもよい炭素原子数1〜
4のアルキレン基を表す。]〕。
で表される水もしくはアルコール類と一酸化炭素を、塩
基と周期律表第VIII族触媒の共存下、反応させることを
特徴とする。
基と周期律表第VIII族触媒の共存下、反応させることを
特徴とする。
一般式〔III〕 で表される安息香酸類の製法に関するものである。
本発明の一般式〔III〕で表される安息香酸類の製法
に使用される一般式〔I〕で表される置換ベンゼンの置
換基X,R1,R2,及びR3としては例えば以下の置換基等が挙
げられる。
に使用される一般式〔I〕で表される置換ベンゼンの置
換基X,R1,R2,及びR3としては例えば以下の置換基等が挙
げられる。
X :Br,I,N2 +・BF4 - R1:Br(但しX=I又はN2 +・BF4 -), I(但し、X=N2 +・BF4 -),NO2,CN,F,Cl,Me,Et,n−P
r,i−Pr,OMe,OEt,OPr−n,OPr−i,CF3 R2:Br(但しX=I又はN2 +・BF4 -), I(但し、X=N2 +・BF4 -),NO2,CN,F,Cl,H,Me,Et,n
−Pr,i−Pr,OMe,OEt,OPr−n,OPr−i OBu−n,OBu−s,OBu−i,OBu−t,OH,OCH2CH2OMe,OCH2CH
2OEt,OCH2CH2OPr−n,OCH2CH2OPr−i,CH2OMe,CH2OEt,CH2
OPtr−n,CH2OPr−i,CH2OBu−n,CH2OBu−s,CH2OBu−i,CH
2OBu−t,CO2Me,CO2Et,CO2Pr−n,CO2Pr−i,CO2Bu−n,CO2
Bu−s,CO2Bu−i,CO2Bu−t,CO2H, R3:Br(但しX=I又はN2 +・BF4 -), I(但し、X=N2 +・BF4 -),NO2,CN,F,Cl,SMe,SEt,SO
2Me,SO2Et,CF3, 一般式〔II〕で表される水もしくはアルコール類の置
換基R4としては例えば以下の置換基等が挙げられる。
r,i−Pr,OMe,OEt,OPr−n,OPr−i,CF3 R2:Br(但しX=I又はN2 +・BF4 -), I(但し、X=N2 +・BF4 -),NO2,CN,F,Cl,H,Me,Et,n
−Pr,i−Pr,OMe,OEt,OPr−n,OPr−i OBu−n,OBu−s,OBu−i,OBu−t,OH,OCH2CH2OMe,OCH2CH
2OEt,OCH2CH2OPr−n,OCH2CH2OPr−i,CH2OMe,CH2OEt,CH2
OPtr−n,CH2OPr−i,CH2OBu−n,CH2OBu−s,CH2OBu−i,CH
2OBu−t,CO2Me,CO2Et,CO2Pr−n,CO2Pr−i,CO2Bu−n,CO2
Bu−s,CO2Bu−i,CO2Bu−t,CO2H, R3:Br(但しX=I又はN2 +・BF4 -), I(但し、X=N2 +・BF4 -),NO2,CN,F,Cl,SMe,SEt,SO
2Me,SO2Et,CF3, 一般式〔II〕で表される水もしくはアルコール類の置
換基R4としては例えば以下の置換基等が挙げられる。
R4:H,Me,n−Pr,n−Bu,i−Bu,s−Bu,n−Am,i−Am,n−He
X,CH2CH=CH2,CH2CH=CHCH3,CH2C≡CH,CH2OMe,CH2CH2OM
e,CH2CH2OEt,CH2CH2OPr−i,CH2CH2OCH2CH2OMe,Ph,2−Me
−Ph,4−OMe−Ph,4−NO2−Ph,3−Cl−Ph,3,4−Cl2−Ph,
CH2Ph,CH2Ph−4−Me,CH2Ph−4−OMe,CH2Ph−2−Cl, が挙げられる。
X,CH2CH=CH2,CH2CH=CHCH3,CH2C≡CH,CH2OMe,CH2CH2OM
e,CH2CH2OEt,CH2CH2OPr−i,CH2CH2OCH2CH2OMe,Ph,2−Me
−Ph,4−OMe−Ph,4−NO2−Ph,3−Cl−Ph,3,4−Cl2−Ph,
CH2Ph,CH2Ph−4−Me,CH2Ph−4−OMe,CH2Ph−2−Cl, が挙げられる。
次に、一般式〔III〕で表される安息香酸ピラゾール
エステル類の製法について詳細に説明する。
エステル類の製法について詳細に説明する。
一般式〔II〕で表される水もしくはアルコールの使用
量は、一般式〔I〕で表される置換ベンゼン1モルに対
して通常1.0〜3倍モル以上であればよく、溶媒として
用いてもよい。
量は、一般式〔I〕で表される置換ベンゼン1モルに対
して通常1.0〜3倍モル以上であればよく、溶媒として
用いてもよい。
一酸化炭素は、純粋なガスであってもよいが、必らず
しも高純度である必要はなく、窒素ガス、炭酸ガスのよ
うな不活性ガスで希釈された混合ガスも使用することが
できる。
しも高純度である必要はなく、窒素ガス、炭酸ガスのよ
うな不活性ガスで希釈された混合ガスも使用することが
できる。
一酸化炭素の使用量は、一般式〔I〕で表される置換
ベンゼン1モルに対して1倍モル以上あればよい。
ベンゼン1モルに対して1倍モル以上あればよい。
一酸化炭素の圧力は通常、常圧〜150kg/cm2が適当で
あり、好ましくは常圧〜50kg/cm2がよい。
あり、好ましくは常圧〜50kg/cm2がよい。
本発明の製法に使用する周期律表第VIII族触媒とし
て、コバルト、パラジウム、白金、ロジウム、ルテニウ
ムう、イリジウム及びオスミウム等の金属単体が挙げら
れ、それ自体単独でも使用できるが、グラファイト、シ
リカゲル、アルミナ、シリカアルミナ、モレキュラーシ
ーブ等の担体に担持して用いることもできる。
て、コバルト、パラジウム、白金、ロジウム、ルテニウ
ムう、イリジウム及びオスミウム等の金属単体が挙げら
れ、それ自体単独でも使用できるが、グラファイト、シ
リカゲル、アルミナ、シリカアルミナ、モレキュラーシ
ーブ等の担体に担持して用いることもできる。
又、これらの金属塩として酢酸塩、炭酸塩、硝酸塩、
塩化物、臭化物等も挙げられる。
塩化物、臭化物等も挙げられる。
例えば、酢酸コバルト、酢酸パラジウム、炭酸コバル
ト、塩化パラジウム、塩化コバルト、臭化ルテニウム等
が挙げられる。
ト、塩化パラジウム、塩化コバルト、臭化ルテニウム等
が挙げられる。
更に、これらの金属錯体が挙げられる。
金属錯体の配位子としては、例えばトリフェニルホス
フィン、トリ−o−トリルホスフィン、トリ−m−トリ
ルホスフィン、トリ−p−トリルホスフィン、1,2−ビ
ス(ジフェニルホスフィノ)ブタン、トリn−ブチルホ
スフィン、トリエチルホスフィン、ベンゾニトリル、一
酸化炭素等が挙げられる。
フィン、トリ−o−トリルホスフィン、トリ−m−トリ
ルホスフィン、トリ−p−トリルホスフィン、1,2−ビ
ス(ジフェニルホスフィノ)ブタン、トリn−ブチルホ
スフィン、トリエチルホスフィン、ベンゾニトリル、一
酸化炭素等が挙げられる。
金属錯体の具体例としては、例えば PdCl2[P(o−Me−Ph)3]2,PdCl2[P(m−Me−
Ph)3]2,PdCl2[P(p−Me−Ph)3]2,PdCl2(PM
e3)2,HCo(CO)4,Co2(CO)8,PdCl2(PPh3)2,PdBr
2(PPh3)2,Pd(PPh3)4,PdCl2〔P(Ph)2CH2CH2P(P
h)2〕,PdCl2(PhCN)2,Pd(CO)(PPh3)3,RhCl(PPh
3)3,RhCl(CO)(PPh3)2,Pt(CO)2(PPh3)2,H4Ru
(CO)12,Ru3(CO)12 等が挙げられる。
Ph)3]2,PdCl2[P(p−Me−Ph)3]2,PdCl2(PM
e3)2,HCo(CO)4,Co2(CO)8,PdCl2(PPh3)2,PdBr
2(PPh3)2,Pd(PPh3)4,PdCl2〔P(Ph)2CH2CH2P(P
h)2〕,PdCl2(PhCN)2,Pd(CO)(PPh3)3,RhCl(PPh
3)3,RhCl(CO)(PPh3)2,Pt(CO)2(PPh3)2,H4Ru
(CO)12,Ru3(CO)12 等が挙げられる。
尚、場合により反応系に配位子を金属錯体を形成する
以上の過剰量を加えてもよい。
以上の過剰量を加えてもよい。
周期律表第VIII族触媒の使用量は、一般式〔I〕で表
される置換ベンゼン1モルに対して通常金属として0.00
1〜1.0g原子、好ましくは0.01〜0.1g原子がよい。
される置換ベンゼン1モルに対して通常金属として0.00
1〜1.0g原子、好ましくは0.01〜0.1g原子がよい。
触媒とともに用いられる塩基として、トリエチルアミ
ン、トリ−n−ブチルアミン、ピリジン、ジメチルアニ
リン、テトラメチル尿素等のアミン類、酢酸ナトリウ
ム、プロピオン酸カリウム等の有機カルボン酸塩、炭酸
ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、酸化
カルシウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸
化カルシウム等の無機塩基等が挙げられる。また、一般
式〔II〕で表されるアルコール類をアルコラートとして
から用いてもよい。
ン、トリ−n−ブチルアミン、ピリジン、ジメチルアニ
リン、テトラメチル尿素等のアミン類、酢酸ナトリウ
ム、プロピオン酸カリウム等の有機カルボン酸塩、炭酸
ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、酸化
カルシウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸
化カルシウム等の無機塩基等が挙げられる。また、一般
式〔II〕で表されるアルコール類をアルコラートとして
から用いてもよい。
塩基の使用量は、一般式〔I〕で表される置換ベンゼ
ン1モルに対して通常0.1〜10倍モル、好ましく1.0〜3
倍モルがよい。
ン1モルに対して通常0.1〜10倍モル、好ましく1.0〜3
倍モルがよい。
本発明は不活性な溶媒中又は無溶媒で行うことができ
る。
る。
溶媒としては、例えば水、ジエチルエーテル、ジエチ
レングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン等のエーテル類、ベンゼン、トルエン、
キシレン、ニトロベンゼン、クロロベンゼン等の芳香族
炭化水素、アセトニトリル、ベンゾニトリル等のニトリ
ル類、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホル
ムアミド、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシ
ド、ヘキサメチルホスホアミド等が挙げられ、このうち
1種または2種以上を用いる。
レングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン等のエーテル類、ベンゼン、トルエン、
キシレン、ニトロベンゼン、クロロベンゼン等の芳香族
炭化水素、アセトニトリル、ベンゾニトリル等のニトリ
ル類、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホル
ムアミド、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシ
ド、ヘキサメチルホスホアミド等が挙げられ、このうち
1種または2種以上を用いる。
また、4級アンモニウム塩やクラウンエーテルのよう
な相間移動触媒を加えることによって反応が促進される
ことがある。
な相間移動触媒を加えることによって反応が促進される
ことがある。
反応温度は、通常、室温〜200℃、好ましくは室温〜1
50℃である。
50℃である。
反応時間は、通常0.1〜30時間、好ましくは0.5〜10時
間がよい。
間がよい。
次に、本発明が製法について実施例を挙げて詳細に説
明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
実施例1 3−メトキシメチル−2−メチル−4−メチ
ルチオ安息香酸メチルエステルの合成 3−メトキシメチル−2−メチル−4−メチルチオヨ
ードベンゼン3.08g、ジクロロビス(トリフェニルホス
フィン)パラジウム0.35g、トリエチルアミン12.5ml、
乾燥メタノール50mlを回転攪拌式100mlのハステロイ製
オートクレーブ中に仕込み、容器内を一酸化炭素で充分
に置換した後に、一酸化炭素を10kg/cm2に圧入した。そ
の後、攪拌しながら100℃まで昇温し、30分間反応させ
た。
ルチオ安息香酸メチルエステルの合成 3−メトキシメチル−2−メチル−4−メチルチオヨ
ードベンゼン3.08g、ジクロロビス(トリフェニルホス
フィン)パラジウム0.35g、トリエチルアミン12.5ml、
乾燥メタノール50mlを回転攪拌式100mlのハステロイ製
オートクレーブ中に仕込み、容器内を一酸化炭素で充分
に置換した後に、一酸化炭素を10kg/cm2に圧入した。そ
の後、攪拌しながら100℃まで昇温し、30分間反応させ
た。
反応後、室温に冷却し、オートクレーブ内の一酸化炭
素をパージして反応液を取り出した。メタノールを留去
し、水、クロロホルムを加えて有機層を分取し、水、飽
和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄後、無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥し、溶媒を減圧にて留去した。
素をパージして反応液を取り出した。メタノールを留去
し、水、クロロホルムを加えて有機層を分取し、水、飽
和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄後、無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥し、溶媒を減圧にて留去した。
得られた粗物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
(溶出液;ベンゼン)で精製し、目的物2.0gを得た。
(溶出液;ベンゼン)で精製し、目的物2.0gを得た。
(参考)このようにして得られたメチルエステル2.0gを
50%エタノールの1M−水酸化ナトリウム溶液と共に30℃
で1時間反応させて3−メトキシメチル−2−メチル−
4−メチルチオ安息香酸1.85gを得た。
50%エタノールの1M−水酸化ナトリウム溶液と共に30℃
で1時間反応させて3−メトキシメチル−2−メチル−
4−メチルチオ安息香酸1.85gを得た。
実施例2 2−クロロ−4−メタンスルホニル−3−メ
トキシカルボニル安息香酸メチルエステルの合成 2−クロロ−4−メタンスルホニル−3−メトキシカ
ルボニルブロムベンゼン0.98g、ジクロロビス(トリフ
ェニルホスフィン)パラジウム0.11g、トリエチルアミ
ン3.8ml、乾燥メタノール50mlを回転攪拌式100mlのハス
テロイ製オートクレーブ中に仕込み、容器内を一酸化炭
素で充分に置換した後に、一酸化炭素を20kg/cm2に圧入
し、100℃で5時間反応させた。
トキシカルボニル安息香酸メチルエステルの合成 2−クロロ−4−メタンスルホニル−3−メトキシカ
ルボニルブロムベンゼン0.98g、ジクロロビス(トリフ
ェニルホスフィン)パラジウム0.11g、トリエチルアミ
ン3.8ml、乾燥メタノール50mlを回転攪拌式100mlのハス
テロイ製オートクレーブ中に仕込み、容器内を一酸化炭
素で充分に置換した後に、一酸化炭素を20kg/cm2に圧入
し、100℃で5時間反応させた。
以下、前記実施例1と同様の処理を行い、目的物0.80
gを得た。
gを得た。
(参考)このようにして得られたメチルエステル0.80g
を20%水酸化ナトリウム溶液2ml,、メタノール10mlの混
合液とともに室温で5分間攪拌する ことにより、2−クロロ−4−メタンスルホニル−3−
メトキシカルボニル安息香酸0.70gを得た。
を20%水酸化ナトリウム溶液2ml,、メタノール10mlの混
合液とともに室温で5分間攪拌する ことにより、2−クロロ−4−メタンスルホニル−3−
メトキシカルボニル安息香酸0.70gを得た。
実施例3 2,4−ジクロロ−3−メチル安息香酸メチル
エステルの合成 2,4−ジクロロ−3−メチルブロムベンゼン1.20g、ジ
クロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム0.17
5g、トリエチルアミン10ml、乾燥メタノール50mlを回転
攪拌式100mlのハステロイ製オートクレーブ中に仕込
み、容器内を一酸化炭素で充分に置換した後に、一酸化
炭素を20kg/cm2に圧入し、100℃で15時間反応させた。
エステルの合成 2,4−ジクロロ−3−メチルブロムベンゼン1.20g、ジ
クロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム0.17
5g、トリエチルアミン10ml、乾燥メタノール50mlを回転
攪拌式100mlのハステロイ製オートクレーブ中に仕込
み、容器内を一酸化炭素で充分に置換した後に、一酸化
炭素を20kg/cm2に圧入し、100℃で15時間反応させた。
以下、前記実施例1と同様の処理を行い、目的物0.98
gを得た。
gを得た。
(参考)このようにして得られたメチルエステル0.98g
を実施例1と同様に加水分解することにより、2,4−ジ
クロロ−3−メチル安息香酸0.90gを得た。
を実施例1と同様に加水分解することにより、2,4−ジ
クロロ−3−メチル安息香酸0.90gを得た。
次に、実施例に準じた製造例を前記実施例とともに第
1表に示す。
1表に示す。
次に、実施例に準じて製造される安息香酸の例を第2
表に示す。
表に示す。
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI C07C 205/59 C07C 205/59 317/24 317/24 (72)発明者 馬場 正紀 千葉県船橋市坪井町722番地1 日産化 学工業株式会社中央研究所内 審査官 唐木 以知良 (56)参考文献 特開 昭58−113145(JP,A) 特開 昭51−13701(JP,A) 特開 昭63−66145(JP,A) 米国特許3988358(US,A)
Claims (2)
- 【請求項1】一般式〔I〕 〔式中、Xは臭素原子又はヨウ素原子を表し、R1は炭素
原子数1〜4のアルキル基、炭素原子数1〜4のアルコ
キシ基、トリフルオロメチル基、ニトロ基、シアノ基又
はハロゲン原子(但し、Xが臭素原子のときR1は弗素原
子又は塩素原子を示し、Xがヨウ素原子のときR1は弗素
原子、塩素原子又は臭素原子を示す。)を表し、R2は水
素原子、炭素原子数1〜4のアルキル基、炭素原子数1
〜4のアルコキシ基、ヒドロキシル基、炭素原子数3〜
6のアルコキシアルコキシ基、炭素原子数2〜5のアル
コキシアルキル基、炭素原子数2〜5のアルコキシカル
ボニル基、カルボキシル基、ニトロ基、シアノ基又はハ
ロゲン原子(但し、Xが臭素原子のときR2は弗素原子又
は塩素原子を示し、Xがヨウ素原子のときR2は弗素原
子、塩素原子又は臭素原子を示す。)を表し、R3は炭素
原子数1〜2のアルキルチオ基、炭素原子数1〜2のア
ルキルスルフィニル基、炭素原子数1〜2のアルカンス
ルホニル基、トリフルオロメチル基、ニトロ基、シアノ
基又はハロゲン原子(但し、Xが臭素原子のときR3は弗
素原子又は塩素原子を示し、Xがヨウ素原子のときR3は
弗素原子、塩素原子又は臭素原子を示す。)を表す。〕 で表される置換ベンゼンに 一般式〔II〕 R4−OH 〔II〕 〔式中、R4は炭素原子数1〜6のアルキル基、炭素原子
数3〜6のアルケニル基、炭素原子数2〜6のアルキニ
ル基、炭素原子数2〜8のアルコキシアルキル基、炭素
原子数5〜10のアルコキシアルコキシアルキル基、R5基
または−L−R5基を表す[但し、R5は炭素原子数1〜4
のアルキル基、炭素原子数1〜4のアルコキシ基、ニト
ロ基もしくはハロゲン原子で置換されていてもよいフェ
ニル基を表し、Lは炭素原子数1〜3のアルキル基によ
って置換されていてもよい炭素原子数1〜4のアルキレ
ン基を表す。]〕。 で表されるアルコール類と一酸化炭素を、塩基と周期律
表第VIII族触媒の共存下、反応させることを特徴とする 一般式〔III〕 で表される安息香酸類の製法。 - 【請求項2】R2がヒドロキシル基、炭素原子数3〜6の
アルコキシアルコキシ基、炭素原子数2〜5のアルコキ
シアルキル基、炭素原子数2〜5のアルコキシカルボニ
ル基、カルボキシル基、ニトロ基又はシアノ基を表し、
R3が炭素原子数1〜2のアルキルチオ基、炭素原子数1
〜2のアルキルスルフィニル基、炭素原子数1〜2のア
ルカンスルホニル基、トリフルオロメチル基、ニトロ基
又はシアノ基を表す、特許請求の範囲第1項記載の製
法。
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- 1988-08-05 JP JP63195676A patent/JP2764931B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
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