JP2020163529A - 基板を保持するための研磨ヘッドおよび基板処理装置 - Google Patents
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Abstract
Description
れるようになっている。また、図1に示されるように、研磨テーブル350およびテーブルシャフト351には、研磨液を供給するための通路353が設けられている。通路353は、研磨テーブル350の表面の開口部355に連通している。研磨テーブル350の開口部355に対応する位置において研磨パッド352は貫通孔357が形成されており、通路353を通る研磨液は、研磨テーブル350の開口部355および研磨パッド352の貫通孔357から研磨パッド352の表面に供給される。なお、研磨テーブル350の開口部355および研磨パッド352の貫通孔357は、1つであっても複数でもよい。また、研磨テーブル350の開口部355および研磨パッド352の貫通孔357の位置は任意であるが、一実施形態においては研磨テーブル350の中心付近に配置される。
サ50はエアシリンダなどにより研磨面352aに押圧され、これと同時に図示しない純水供給ノズルから純水が研磨面352aに供給される。この状態で、ドレッサ50がドレッサシャフト51周りに回転し、ドレッシング部材50aの下面(ダイヤモンド粒子)を研磨面352aに摺接させる。このようにして、ドレッサ50により研磨パッド352が削り取られ、研磨面352aがドレッシングされる。
を研磨パッド352に押圧する押圧力を基板WFの領域毎に調整でき、かつリテーナ部材3が研磨パッド352を押圧する押圧力を調整できる。なお、弾性膜4には、基板WFを研磨ヘッド302に真空吸着させるための複数の真空吸着孔が設けられていてもよい。
ることで、基板WFが研磨ヘッド302から飛び出すことを防止できる。しかし、リテーナ部材3の押しつけ圧力は、研磨レートに影響を与えるので、基板WFが研磨ヘッド302から飛び出すことを防止するという観点だけからリテーナ部材3の押しつけ圧力を大きくすることはできない。たとえば、リテーナ部材3の押しつけ圧力を大きくすると、リテーナ部材3付近の研磨レートが下がり、基板WFを均一に研磨できなくなる可能性がある。
部材3の長手方向の寸法と同程度、あるいはそれ以上の曲率半径を備える円弧の一部としてもよい。
4が複数の圧力室を形成しているが、他の実施形態として1つの圧力室だけを備えるようにし、圧力室の高さを小さくしてもよい。このとき、1つの圧力室の最も外側の領域だけ高さを小さくしてもよい。さらに、図11に示される実施形態においては、圧力室の高さ21は、研磨ヘッド302の本体2の下面と弾性膜4の上面との間により画定されているが、研磨ヘッド302の本体2に取り付けられる他の剛体部材と弾性膜4の上面との間により画定されてもよい。他の剛体部材は、たとえば弾性膜4を本体2に取り付けるためのホルダであってもよい。
[形態1]形態1によれば、研磨装置の研磨対象である角形の基板を保持するためのヘッドが提供され、かかるヘッドは、基板を保持するための基板保持面と、前記基板保持面の外側に位置するリテーナと、を有し、前記リテーナは端部領域を有し、前記端部領域は、前記ヘッドに保持される基板の角部に隣接するように配置され、且つ、前記端部領域の前記基板保持面側の端面は、前記リテーナの長手方向の端部に向かうにしたがって前記基板保持面から離れるように構成される。
3…リテーナ部材
3a…溝
3b…中央領域
3c…端部領域
3d…位置決め特徴
4…弾性膜
4a…隔壁
5…センター室
6…リプル室
7…中間室
8…アウター室
9…エッジ室
10…リテーナ部材加圧室
18…シャフト
300…研磨装置
302…研磨ヘッド
350…研磨テーブル
352…研磨パッド
352a…研磨面
WF…基板
Claims (11)
- 研磨装置の研磨対象である角形の基板を保持するためのヘッドであって、
基板を保持するための基板保持面と、
前記基板保持面の外側に位置するリテーナと、を有し、
前記リテーナは端部領域を有し、前記端部領域は、前記ヘッドに保持される基板の角部に隣接するように配置され、且つ、前記端部領域の前記基板保持面側の端面は、前記リテーナの長手方向の端部に向かうにしたがって前記基板保持面から離れるように構成される、
ヘッド。 - 請求項1に記載のヘッドであって、
前記ヘッド内における前記リテーナの位置を決めるための位置決め部材を有し、
前記位置決め部材は、基板の辺から垂直に前記リテーナの方を見た場合に前記リテーナの前記端部領域に位置する、
ヘッド。 - 請求項1または2に記載のヘッドであって、
前記リテーナの端部領域は曲線部分を有し、前記リテーナの曲線部分は、前記ヘッドに保持される基板の角部に隣接するように配置されている、
ヘッド。 - 請求項1から3のいずれか一項に記載のヘッドであって、
前記リテーナは中央領域を有し、前記リテーナの前記端部領域は前記中央領域から延在している、
ヘッド。 - 請求項1から4のいずれか一項に記載のヘッドであって、
複数の前記リテーナを有し、
前記複数のリテーナの各々は、前記ヘッドに保持される基板の各辺に沿って配置されている、
ヘッド。 - 角形の基板を研磨するための研磨装置であって、
研磨パッドを保持するテーブルと、
請求項1から5のいずれか一項に記載のヘッドと、有し、
前記ヘッドに保持された基板を、前記研磨パッドに押し当てて、基板と前記研磨パッドとを相対的に運動させて、基板を研磨するように構成されている、
ヘッド。 - 研磨装置の研磨対象である角形の基板を保持するためのヘッドに使用されるリテーナであって、
前記リテーナは端部領域を有し、前記端部領域は、前記ヘッドに保持される基板の角部に隣接するように配置され、且つ、前記端部領域の基板側の端面は、前記リテーナの長手方向の端部に向かうにしたがって基板から離れるように構成される、
リテーナ。 - 請求項7に記載のリテーナであって、
ヘッド内における前記リテーナの位置を決めるための位置決め部材を取り付けるための位置決め特徴を有し、前記位置決め特徴は、前記リテーナの端部領域に位置する、
リテーナ。 - 請求項7または8に記載のリテーナであって、
前記リテーナの端部領域は曲線部分を有し、前記リテーナの曲線部分は、前記ヘッドに保持される基板の角部に隣接するように配置されている、
リテーナ。 - 請求項7から9のいずれか一項に記載のリテーナであって、
前記リテーナは中央領域を有し、前記リテーナの前記端部領域は前記中央領域から延在している、
リテーナ。 - 請求項10に記載のリテーナであって、
前記リテーナの中央領域は直線部分を有し、前記リテーナの前記直線部分は、前記ヘッドに保持される基板の辺に沿うように配置されている、
リテーナ。
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