JP2020088351A - Substrate processing apparatus - Google Patents

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Abstract

To provide a substrate processing apparatus capable of facilitating maintenance thereof.SOLUTION: A substrate processing apparatus 1 includes a first frame 46, a movable member 51a1, a heat treatment part 37a1 and a transfer mechanism 34a1. The movable member 51a1 is supported by the first frame 46. The movable member 51a1 is movable for the first frame 46. The heat treatment part 37a1 is supported by the movable member 51a1. The transfer mechanism 34a1 is supported by the movable member 51a1. When the movable member 51a1 moves for the first frame 46, the heat treatment part 37a1 moves for the first frame 46. By movement of the movable member 51a1 for the first frame 46, the heat treatment part 37a1 moves integrally with the transfer mechanism 34a1.SELECTED DRAWING: Figure 10

Description

この発明は、基板に処理を行う基板処理装置に関する。基板は、例えば、半導体ウエハ、液晶ディスプレイ用基板、有機ＥＬ(Electroluminescence)用基板、ＦＰＤ(Flat Panel Display)用基板、光ディスプレイ用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板、フォトマスク用基板、太陽電池用基板である。 The present invention relates to a substrate processing apparatus that processes a substrate. The substrate is, for example, a semiconductor wafer, a liquid crystal display substrate, an organic EL (Electroluminescence) substrate, an FPD (Flat Panel Display) substrate, an optical display substrate, a magnetic disk substrate, a magneto-optical disk substrate, a photomask substrate. , A substrate for solar cells.

特許文献１は、基板処理装置を開示する。以下では、特許文献１に記載される符号を、括弧書きで表記する。基板処理装置（１）は、熱処理ブロック（ＢＡ）を備える。熱処理ブロック（ＢＡ）は、搬送スペース（ＡＡ）と主搬送機構（ＴＡＲ）と主搬送機構（ＴＡＬ）を備える。主搬送機構（ＴＡＲ）と主搬送機構（ＴＡＬ）は、搬送スペース（ＡＡ）に設けられる。主搬送機構（ＴＡＲ）と主搬送機構（ＴＡＬ）はそれぞれ、基板を搬送する。熱処理ブロック（ＢＡ）は、２つの熱処理ユニット（ＨＡＲ）と２つの熱処理ユニット（ＨＡＬ）を備える。熱処理ユニット（ＨＡＲ）は、搬送スペース（ＡＡ）の右方に配置される。熱処理ユニット（ＨＡＬ）は、搬送スペース（ＡＡ）の左方に配置される。２つの熱処理ユニット（ＨＡＲ）は、上下方向に並ぶように配置される。２つの熱処理ユニット（ＨＡＬ）は、上下方向に並ぶように配置される。主搬送機構（ＴＡＲ）は、熱処理ユニット（ＨＡＲ）にアクセスする。主搬送機構（ＴＡＬ）は、熱処理ユニット（ＨＡＬ）にアクセスする。 Patent Document 1 discloses a substrate processing apparatus. Below, the code|symbol described in patent document 1 is described in parentheses. The substrate processing apparatus (1) includes a heat treatment block (BA). The heat treatment block (BA) includes a transfer space (AA), a main transfer mechanism (TAR), and a main transfer mechanism (TAL). The main transport mechanism (TAR) and the main transport mechanism (TAL) are provided in the transport space (AA). The main transfer mechanism (TAR) and the main transfer mechanism (TAL) respectively transfer the substrate. The heat treatment block (BA) includes two heat treatment units (HAR) and two heat treatment units (HAL). The heat treatment unit (HAR) is arranged on the right side of the transfer space (AA). The heat treatment unit (HAL) is arranged on the left side of the transportation space (AA). The two heat treatment units (HARS) are arranged side by side in the vertical direction. The two heat treatment units (HAL) are arranged side by side in the vertical direction. The main transport mechanism (TAR) accesses the thermal processing unit (HAR). The main transport mechanism (TAL) accesses the heat treatment unit (HAL).

熱処理ブロック（ＢＡ）は、さらに、フレーム（ＦＡ）を備える。フレーム（ＦＡ）は、主搬送機構（ＴＡＲ）と主搬送機構（ＴＡＬ）と熱処理ユニット（ＨＡＲ）と熱処理ユニット（ＨＡＬ）を支持する。 The heat treatment block (BA) further includes a frame (FA). The frame (FA) supports the main transport mechanism (TAR), the main transport mechanism (TAL), the heat treatment unit (HAR), and the heat treatment unit (HAL).

特開２０１７−４１５８８号公報JP, 2017-41588, A

基板処理装置のメンテナンスを容易に行うことができることが求められている。ここで、メンテナンスは、例えば、基板処理装置の点検、保守、調整、修理、修繕などを含む意味である。 There is a demand for easy maintenance of the substrate processing apparatus. Here, maintenance means, for example, inspection, maintenance, adjustment, repair, repair, etc. of the substrate processing apparatus.

他方、基板処理装置のスループットを向上させるために、基板処理装置に設けられる要素（例えば、熱処理ユニットや搬送機構）の数を増加することがある。基板処理装置に設けられる要素の数が多くなるほど、基板処理装置のメンテナンス性は一層重要になる。あるいは、基板処理装置のスループットを向上させるために、基板処理装置に設けられる要素の密度を高くすることがある。基板処理装置に設けられる要素の密度が高くなるほど、基板処理装置のメンテナンス性は一層重要になる。 On the other hand, in order to improve the throughput of the substrate processing apparatus, the number of elements (for example, a heat treatment unit or a transfer mechanism) provided in the substrate processing apparatus may be increased. As the number of elements provided in the substrate processing apparatus increases, the maintainability of the substrate processing apparatus becomes more important. Alternatively, the density of elements provided in the substrate processing apparatus may be increased in order to improve the throughput of the substrate processing apparatus. The higher the density of elements provided in the substrate processing apparatus, the more important the maintainability of the substrate processing apparatus becomes.

本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、基板処理装置のメンテナンスを容易に行うことができる基板処理装置を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of such circumstances, and an object of the present invention is to provide a substrate processing apparatus capable of easily performing maintenance of the substrate processing apparatus.

本発明は、このような目的を達成するために、次のような構成をとる。すなわち、本発明は、基板処理装置であって、第１フレームと、前記第１フレームに支持され、前記第１フレームに対して移動可能な第１可動部材と、前記第１可動部材に支持され、基板に熱処理を行う第１熱処理部と、前記第１可動部材に支持され、前記第１熱処理部に基板を搬送する第１搬送機構と、を備え、前記第１可動部材が前記第１フレームに対して移動することによって、前記第１熱処理部は、前記第１搬送機構と一体に、前記第１フレームに対して移動する基板処理装置である。 The present invention has the following configuration in order to achieve such an object. That is, the present invention is a substrate processing apparatus, including a first frame, a first movable member supported by the first frame and movable with respect to the first frame, and supported by the first movable member. A first heat treatment unit that heat treats the substrate, and a first transport mechanism that is supported by the first movable member and that transports the substrate to the first heat treatment unit, wherein the first movable member is the first frame. The first heat treatment section is a substrate processing apparatus that moves with respect to the first frame integrally with the first transfer mechanism by moving with respect to the first frame.

第１可動部材は、第１フレームに支持される。第１熱処理部は、第１可動部材に支持される。第１可動部材は、第１フレームに対して移動可能である。第１可動部材が第１フレームに対して移動することによって、第１熱処理部は第１フレームに対して移動する。このため、第１熱処理部のメンテナンスを容易に行うことができる。ここで、メンテナンスは、例えば、第１熱処理部の点検、保守、調整、修理、修繕などを含む意味である。 The first movable member is supported by the first frame. The first heat treatment section is supported by the first movable member. The first movable member is movable with respect to the first frame. When the first movable member moves with respect to the first frame, the first heat treatment unit moves with respect to the first frame. Therefore, the maintenance of the first heat treatment section can be easily performed. Here, the maintenance is meant to include, for example, inspection, maintenance, adjustment, repair, and repair of the first heat treatment section.

第１搬送機構は、第１可動部材に支持される。第１可動部材が第１フレームに対して移動することによって、第１熱処理部は、第１搬送機構と一体に移動する。このため、第１可動部材が第１フレームに対して移動するとき、第１熱処理部と第１搬送機構との相対的な位置を一定に保つことができる。よって、第１熱処理部と第１搬送機構との相対的な位置を一定に保った状態で、第１熱処理部のメンテナンスを行うことができる。したがって、第１熱処理部のメンテナンスを行う度に、第１熱処理部と第１搬送機構との相対的な位置を調整しなくてもよい。すなわち、第１熱処理部のメンテナンスを一層容易に行うことができる。 The first transport mechanism is supported by the first movable member. When the first movable member moves with respect to the first frame, the first heat treatment section moves together with the first transport mechanism. Therefore, when the first movable member moves with respect to the first frame, the relative position between the first heat treatment section and the first transport mechanism can be kept constant. Therefore, it is possible to perform maintenance on the first heat treatment unit while keeping the relative position between the first heat treatment unit and the first transport mechanism constant. Therefore, it is not necessary to adjust the relative positions of the first heat treatment unit and the first transport mechanism every time the first heat treatment unit is maintained. That is, the maintenance of the first heat treatment section can be performed more easily.

以上のとおり、本基板処理装置によれば、基板処理装置のメンテナンスを容易に行うことができる。 As described above, according to the present substrate processing apparatus, maintenance of the substrate processing apparatus can be easily performed.

上述した基板処理装置において、前記第１可動部材が前記第１フレームに対して移動することによって、前記第１熱処理部は、前記第１フレームに対して水平方向に移動する
ことが好ましい。第１熱処理部は、他の部材と干渉することなく、第１フレームに対して移動できる。 In the substrate processing apparatus described above, it is preferable that the first movable member moves in the horizontal direction with respect to the first frame by moving the first movable member with respect to the first frame. The first heat treatment unit can move with respect to the first frame without interfering with other members.

上述した基板処理装置において、前記第１可動部材が前記第１フレームに対して移動することによって、前記第１熱処理部は、前記第１熱処理部の少なくとも一部が前記第１フレームの外部に位置する第１メンテナンス位置に移動可能であることが好ましい。第１可動部材が第１フレームに対して移動することによって、第１熱処理部は、第１メンテナンス位置に移動可能である。よって、第１熱処理部を容易に第１メンテナンス位置に移動させることができる。第１熱処理部が第１メンテナンス位置にあるとき、第１熱処理部の少なくとも一部は第１フレームの外部に位置する。よって、第１熱処理部が第１メンテナンス位置にあるとき、第１熱処理部のメンテナンスを容易に行うことができる。 In the substrate processing apparatus described above, the first movable member moves with respect to the first frame, so that at least a part of the first heat treatment unit is located outside the first frame. It is preferably movable to the first maintenance position. By moving the first movable member with respect to the first frame, the first heat treatment section can be moved to the first maintenance position. Therefore, the first heat treatment section can be easily moved to the first maintenance position. When the first heat treatment unit is in the first maintenance position, at least a part of the first heat treatment unit is located outside the first frame. Therefore, when the first heat treatment unit is at the first maintenance position, maintenance of the first heat treatment unit can be easily performed.

上述した基板処理装置において、前記第１熱処理部が前記第１メンテナンス位置にあるとき、前記第１可動部材は前記第１フレームに支持されていることが好ましい。第１熱処理部が第１メンテナンス位置にあるとき、第１熱処理部は、第１可動部材を介して、第１フレームに支持されている。したがって、第１熱処理部のメンテナンスを一層容易に行うことができる。 In the substrate processing apparatus described above, it is preferable that the first movable member is supported by the first frame when the first thermal processing section is at the first maintenance position. When the first heat treatment unit is in the first maintenance position, the first heat treatment unit is supported by the first frame via the first movable member. Therefore, the maintenance of the first heat treatment section can be performed more easily.

上述した基板処理装置において、前記第１可動部材が前記第１フレームに対して移動することによって、前記第１熱処理部は、前記第１熱処理部が基板に熱処理を行うための第１処理位置に移動可能であることが好ましい。これによれば、第１熱処理部を第１処理位置に容易に移動させることができる。したがって、第１メンテナンス位置と第１処理位置との間で、第１熱処理部を容易に移動させることができる。上述のとおり、第１可動部材が第１フレームに対して移動することによって、第１熱処理部は第１搬送機構と一体に移動する。このため、第１可動部材が第１処理位置に移動するときも、第１熱処理部と第１搬送機構との相対的な位置を一定に保つことができる。まとめると、第１熱処理部と第１搬送機構との相対的な位置を一定に保った状態で、第１メンテナンス位置と第１処理位置との間で、第１熱処理部を容易に移動させることができる。 In the substrate processing apparatus described above, the first movable member is moved to the first frame to move the first heat treatment unit to a first treatment position for the first heat treatment unit to perform heat treatment on the substrate. It is preferably movable. According to this, the first heat treatment section can be easily moved to the first treatment position. Therefore, the first heat treatment section can be easily moved between the first maintenance position and the first processing position. As described above, when the first movable member moves with respect to the first frame, the first heat treatment section moves together with the first transport mechanism. Therefore, even when the first movable member moves to the first processing position, the relative position between the first heat treatment section and the first transport mechanism can be kept constant. In summary, it is possible to easily move the first heat treatment unit between the first maintenance position and the first treatment position while keeping the relative position between the first heat treatment unit and the first transport mechanism constant. You can

上述した基板処理装置において、前記第１熱処理部が前記第１メンテナンス位置にあるときに前記第１フレームの外部に位置する前記第１熱処理部の部分は、前記第１熱処理部が前記第１処理位置にあるときに前記第１フレームの外部に位置する前記第１熱処理部の部分よりも大きいことが好ましい。第１熱処理部が第１メンテナンス位置にあるとき、第１熱処理部のメンテナンスを容易に行うことができる。第１熱処理部が第１処理位置にあるとき、第１熱処理部は基板に熱処理を適切に行うことができる。 In the substrate processing apparatus described above, the portion of the first heat treatment unit located outside the first frame when the first heat treatment unit is in the first maintenance position is the first treatment unit that performs the first treatment. It is preferably larger than the portion of the first heat treatment portion located outside the first frame when in the position. When the first heat treatment unit is in the first maintenance position, maintenance of the first heat treatment unit can be easily performed. When the first thermal processing unit is in the first processing position, the first thermal processing unit may properly perform thermal processing on the substrate.

上述した基板処理装置において、前記第１熱処理部が前記第１処理位置にあるとき、前記第１熱処理部の全部は、前記第１フレームの内部に位置することが好ましい。第１熱処理部が第１処理位置にあるとき、第１熱処理部は基板に熱処理を一層適切に行うことができる。 In the substrate processing apparatus described above, when the first thermal processing section is at the first processing position, it is preferable that all of the first thermal processing section be located inside the first frame. When the first thermal processing unit is in the first processing position, the first thermal processing unit may perform thermal processing on the substrate more appropriately.

上述した基板処理装置において、前記第１熱処理部が前記第１処理位置にあるとき、前記第１可動部材は前記第１フレームに支持されていることが好ましい。第１熱処理部は第１処理位置にあるとき、第１熱処理部は、第１可動部材を介して、第１フレームに支持されている。したがって、第１熱処理部は基板に熱処理を一層適切に行うことができる。 In the substrate processing apparatus described above, it is preferable that the first movable member is supported by the first frame when the first thermal processing section is at the first processing position. When the first heat treatment unit is in the first treatment position, the first heat treatment unit is supported by the first frame via the first movable member. Therefore, the first heat treatment unit can more appropriately perform the heat treatment on the substrate.

上述した基板処理装置において、前記第１搬送機構は、前記第１可動部材に固定され、水平方向に延びる第１レール部と、前記第１レール部に支持され、前記第１レール部に対して水平方向に移動可能な第１水平移動部と、前記第１水平移動部に支持され、前記第１水平移動部に対して第１軸線回りに回転可能な第１アーム部と、前記第１アーム部に固定され、基板を保持する第１保持部と、を備え、前記第１軸線は上下方向と平行であり、平面視において、前記第１水平移動部に対する前記第１軸線の相対的な位置は、一定であり、平面視において、前記第１保持部と前記第１軸線との距離は、一定であることが好ましい。 In the substrate processing apparatus described above, the first transfer mechanism is fixed to the first movable member, is supported by the first rail portion that extends in the horizontal direction, and the first rail portion. A first horizontal moving part movable in a horizontal direction; a first arm part supported by the first horizontal moving part and rotatable about a first axis with respect to the first horizontal moving part; and the first arm. A first holding portion that is fixed to the portion and holds the substrate; the first axis is parallel to the vertical direction, and the relative position of the first axis with respect to the first horizontal moving portion in plan view. Is constant, and it is preferable that the distance between the first holding portion and the first axis is constant in a plan view.

第１搬送機構は、第１レール部と第１水平移動部と第１アーム部と第１保持部を備える。第１レール部は、第１可動部材に固定される。第１水平移動部は、第１レール部に支持される。第１アーム部は、第１水平移動部に支持される。第１保持部は、第１アーム部に固定される。このように、第１レール部、第１水平移動部、第１アーム部および第１保持部は、直接的に、または、間接的に、第１可動部材に支持される。よって、第１可動部材は、第１搬送機構を好適に支持できる。 The first transport mechanism includes a first rail portion, a first horizontal moving portion, a first arm portion, and a first holding portion. The first rail portion is fixed to the first movable member. The first horizontal moving unit is supported by the first rail unit. The first arm unit is supported by the first horizontal moving unit. The first holding unit is fixed to the first arm unit. In this way, the first rail portion, the first horizontal moving portion, the first arm portion, and the first holding portion are directly or indirectly supported by the first movable member. Therefore, the first movable member can favorably support the first transport mechanism.

第１水平移動部は第１レール部に対して水平方向に移動可能である。このため、第１保持部は、第１レール部に対して水平方向に移動可能である。第１アーム部は第１水平移動部に対して第１軸線回りに回転可能である。このため、第１保持部は、第１水平移動部に対して第１軸線回りに回転可能である。よって、第１保持部は、第１熱処理部に好適にアクセスできる。 The first horizontal moving unit is movable in the horizontal direction with respect to the first rail unit. Therefore, the first holding unit can move in the horizontal direction with respect to the first rail unit. The first arm portion is rotatable about the first axis with respect to the first horizontal moving portion. Therefore, the first holding unit is rotatable about the first axis with respect to the first horizontal moving unit. Therefore, the first holding unit can suitably access the first heat treatment unit.

平面視において、第１水平移動部に対する第１軸線の相対的な位置は、一定である。このため、第１アーム部が第１水平移動部に支持される構造は、簡素である。第１保持部は第１アーム部に固定される。さらに、平面視において、第１保持部と第１軸線との距離は、一定である。このため、第１保持部が第１アーム部に支持される構造は、簡素である。このように、第１搬送機構の構造は簡素である。よって、平面視における第１搬送機構の設置スペースを効果的に低減できる。 In a plan view, the relative position of the first axis with respect to the first horizontal moving unit is constant. Therefore, the structure in which the first arm portion is supported by the first horizontal moving portion is simple. The first holding part is fixed to the first arm part. Further, in plan view, the distance between the first holding portion and the first axis is constant. Therefore, the structure in which the first holding portion is supported by the first arm portion is simple. In this way, the structure of the first transport mechanism is simple. Therefore, the installation space of the first transport mechanism in plan view can be effectively reduced.

上述した基板処理装置において、前記第１搬送機構は、前記第１水平移動部に支持され、前記第１水平移動部に対して上下方向に移動可能な第１垂直移動部と、を備え、前記第１アーム部は、前記第１垂直移動部を介して、前記第１水平移動部に支持されることが好ましい。第１垂直移動部が第１水平移動部に対して上下方向に移動することによって、第１アーム部および第１保持部は、第１水平移動部に対して上下方向に移動する。よって、第１保持部は、第１熱処理部に一層好適にアクセスできる。 In the above-described substrate processing apparatus, the first transport mechanism includes a first vertical moving unit that is supported by the first horizontal moving unit and is vertically movable with respect to the first horizontal moving unit. The first arm portion is preferably supported by the first horizontal movement portion via the first vertical movement portion. As the first vertical moving unit moves in the vertical direction with respect to the first horizontal moving unit, the first arm unit and the first holding unit move in the vertical direction with respect to the first horizontal moving unit. Therefore, the first holding unit can more suitably access the first heat treatment unit.

上述した基板処理装置において、前記基板処理装置は、前記第１フレームに連結される第２フレームと、前記第２フレームに支持され、前記第２フレームに対して移動可能な第２可動部材と、前記第２可動部材に支持され、基板に熱処理を行う第２熱処理部と、前記第２可動部材に支持され、前記第２熱処理部に基板を搬送する第２搬送機構と、を備え、前記第２可動部材が前記第２フレームに対して移動することによって、前記第２熱処理部は、前記第２搬送機構と一体に、前記第２フレームに対して移動することが好ましい。 In the substrate processing apparatus described above, the substrate processing apparatus includes a second frame connected to the first frame, a second movable member supported by the second frame and movable with respect to the second frame, A second heat treatment unit that is supported by the second movable member and heat-treats the substrate; and a second transport mechanism that is supported by the second movable member and transports the substrate to the second heat treatment unit. It is preferable that the second movable member moves with respect to the second frame integrally with the second transport mechanism by moving the two movable members with respect to the second frame.

第２可動部材は、第２フレームに支持される。第２熱処理部は、第２可動部材に支持される。第２可動部材は、第２フレームに対して移動可能である。第２可動部材が第２フレームに対して移動することによって、第２熱処理部は第２フレームに対して移動する。このため、第２熱処理部のメンテナンスを容易に行うことができる。 The second movable member is supported by the second frame. The second heat treatment section is supported by the second movable member. The second movable member is movable with respect to the second frame. When the second movable member moves with respect to the second frame, the second heat treatment unit moves with respect to the second frame. Therefore, the maintenance of the second heat treatment section can be easily performed.

第２搬送機構は、第２可動部材に支持される。第２可動部材が第２フレームに対して移動することによって、第２熱処理部は、第２搬送機構と一体に移動する。このため、第２可動部材が第２フレームに対して移動するとき、第２熱処理部と第２搬送機構との相対的な位置を一定に保つことができる。よって、第２熱処理部と第２搬送機構との相対的な位置を一定に保った状態で、第２熱処理部のメンテナンスを行うことができる。したがって、第２熱処理部のメンテナンスを行う度に、第２熱処理部と第２搬送機構との相対的な位置を調整しなくてもよい。すなわち、第２熱処理部のメンテナンスを一層容易に行うことができる。 The second transport mechanism is supported by the second movable member. When the second movable member moves with respect to the second frame, the second heat treatment section moves together with the second transport mechanism. Therefore, when the second movable member moves with respect to the second frame, the relative position between the second heat treatment section and the second transport mechanism can be kept constant. Therefore, it is possible to perform maintenance on the second heat treatment section while keeping the relative position between the second heat treatment section and the second transport mechanism constant. Therefore, it is not necessary to adjust the relative positions of the second heat treatment unit and the second transport mechanism every time the second heat treatment unit is maintained. That is, the maintenance of the second heat treatment section can be performed more easily.

以上のとおり、本基板処理装置によれば、基板処理装置のメンテナンスを一層容易に行うことができる。 As described above, according to the present substrate processing apparatus, maintenance of the substrate processing apparatus can be performed more easily.

さらに、基板処理装置は、第１熱処理部に加えて、第２熱処理部を備える。このため、基板処理装置のスループットを好適に向上できる。 Further, the substrate processing apparatus includes a second heat treatment section in addition to the first heat treatment section. Therefore, it is possible to preferably improve the throughput of the substrate processing apparatus.

上述した基板処理装置において、前記第２フレームは、前記第１フレームと同じ高さ位置に配置され、前記第１搬送機構は、前記第１熱処理部と前記第２フレームの間に配置され、前記第２搬送機構は、前記第２熱処理部と前記第１フレームの間に配置されることが好ましい。言い換えれば、第１フレームと第２フレームは、水平方向に並ぶように配置される。第１熱処理部と第１搬送機構と第２搬送機構と第２熱処理部は、この順番で、並ぶように配置される。これにより、第１、第２熱処理部と第１、第２搬送機構とを、効率良く設置できる。 In the substrate processing apparatus described above, the second frame is disposed at the same height position as the first frame, the first transport mechanism is disposed between the first heat treatment section and the second frame, and The second transport mechanism is preferably arranged between the second heat treatment section and the first frame. In other words, the first frame and the second frame are arranged side by side in the horizontal direction. The first heat treatment unit, the first transport mechanism, the second transport mechanism, and the second heat treatment unit are arranged side by side in this order. As a result, the first and second heat treatment sections and the first and second transfer mechanisms can be installed efficiently.

上述した基板処理装置において、前記第２フレームから前記第１フレームに向かう方向を第１方向とし、前記第１方向とは反対の方向を第２方向とし、前記第１可動部材が前記第１フレームに対して移動することによって、前記第１熱処理部は、前記第１フレームに対して前記第１方向に移動可能であり、前記第２可動部材が前記第２フレームに対して移動することによって、前記第２熱処理部は、前記第２フレームに対して前記第２方向に移動可能であることが好ましい。第１熱処理部が第１フレームに対して第１方向に移動するとき、第１熱処理部は第２フレームから遠ざかる。このため、第１熱処理部は、第２フレームと干渉することなく、移動できる。第２熱処理部が第２フレームに対して第２方向に移動するとき、第２熱処理部は第１フレームから遠ざかる。このため、第２熱処理部は、第１フレームと干渉することなく、移動できる。 In the substrate processing apparatus described above, a direction from the second frame to the first frame is a first direction, a direction opposite to the first direction is a second direction, and the first movable member is the first frame. By moving with respect to the first frame, the first heat treatment unit is movable in the first direction, and the second movable member moves with respect to the second frame, The second heat treatment unit is preferably movable in the second direction with respect to the second frame. When the first heat treatment unit moves in the first direction with respect to the first frame, the first heat treatment unit moves away from the second frame. Therefore, the first heat treatment unit can move without interfering with the second frame. When the second heat treatment unit moves in the second direction with respect to the second frame, the second heat treatment unit moves away from the first frame. Therefore, the second heat treatment unit can move without interfering with the first frame.

上述した基板処理装置において、前記第１可動部材が前記第１フレームに対して移動することによって、前記第１可動部材は、前記第１熱処理部の少なくとも一部を前記第１フレームから前記第１方向に引き出し可能であり、前記第２可動部材が前記第２フレームに対して移動することによって、前記第２可動部材は、前記第２熱処理部の少なくとも一部を前記第２フレームから前記第２方向に引き出し可能であることが好ましい。第１可動部材が第１フレームに対して移動することによって、第１熱処理部の少なくとも一部を第１フレームから第１方向に引き出すことができる。このため、第１熱処理部のメンテナンスを容易に行うことができる。同様に、第２可動部材が第２フレームに対して移動することによって、第２熱処理部の少なくとも一部を第２フレームから第２方向に引き出すことができる。このため、第２熱処理部のメンテナンスを容易に行うことができる。 In the substrate processing apparatus described above, the first movable member moves at least a part of the first heat treatment section from the first frame to the first frame by moving the first movable member with respect to the first frame. And the second movable member moves at least a part of the second heat treatment section from the second frame to the second frame by moving the second movable member with respect to the second frame. It is preferable that it can be pulled out in any direction. By moving the first movable member with respect to the first frame, at least a part of the first heat treatment section can be pulled out from the first frame in the first direction. Therefore, the maintenance of the first heat treatment section can be easily performed. Similarly, by moving the second movable member with respect to the second frame, at least a part of the second heat treatment section can be pulled out from the second frame in the second direction. Therefore, the maintenance of the second heat treatment section can be easily performed.

上述した基板処理装置において、前記第２フレームは、前記第１フレームと同じ形状を有することが好ましい。第１フレームと第２フレームを容易に製造できる。このため、基板処理装置を容易に製造できる。 In the substrate processing apparatus described above, the second frame preferably has the same shape as the first frame. The first frame and the second frame can be easily manufactured. Therefore, the substrate processing apparatus can be easily manufactured.

上述した基板処理装置において、前記第２フレームは、前記第１フレームから分離可能であることが好ましい。これによれば、基板処理装置を容易に製造できる。 In the substrate processing apparatus described above, the second frame is preferably separable from the first frame. According to this, the substrate processing apparatus can be easily manufactured.

例えば、基板処理装置の製造を、以下の第１、第２、第３作業に分けることができる。
・第１フレームに第１可動部材と第１熱処理部と第１搬送機構を取り付ける第１作業
・第２フレームに第２可動部材と第２熱処理部と第２搬送機構を取り付ける第２作業
・第１フレームと第２フレームを連結する第３作業
ここで、第１作業と第２作業と第３作業をそれぞれ、異なる場所および異なる時刻に行うことができる。よって、基板処理装置を容易に製造できる。 For example, the manufacture of the substrate processing apparatus can be divided into the following first, second, and third operations.
First work to attach the first movable member, first heat treatment section and first transport mechanism to the first frame Second task to attach second movable member, second heat treatment section and second transport mechanism to the second frame Third work connecting the 1st frame and the 2nd frame Here, the 1st work, the 2nd work, and the 3rd work can be performed at different places and different times, respectively. Therefore, the substrate processing apparatus can be easily manufactured.

上述した基板処理装置において、前記第２搬送機構は、前記第１搬送機構と左右対象な位置に配置され、前記第２熱処理部は、前記第１熱処理部と左右対象な位置に配置されることが好ましい。第１搬送機構および第１熱処理部の配置は、第２搬送機構および第２熱処理部の配置と左右対象である。よって、基板処理装置の設計および製造を一層容易に行うことができる。 In the above-described substrate processing apparatus, the second transfer mechanism is arranged at a position symmetrical with the first transfer mechanism, and the second heat treatment unit is arranged at a position symmetrical with the first heat treatment unit. Is preferred. The layout of the first transport mechanism and the first heat treatment section is symmetrical with the layout of the second transport mechanism and the second heat treatment section. Therefore, it is possible to more easily design and manufacture the substrate processing apparatus.

上述した基板処理装置において、前記基板処理装置は、前記第１フレームに支持され、前記第１フレームに対して移動可能な第３可動部材と、前記第３可動部材に支持され、基板に熱処理を行う第３熱処理部と、前記第３可動部材に支持され、前記第３熱処理部に基板を搬送する第３搬送機構と、を備え、前記第３可動部材は、前記第１可動部材とは独立して、前記第１フレームに対して移動可能であり、前記第３可動部材が前記第１フレームに対して移動することによって、前記第３熱処理部は、前記第３搬送機構と一体に、前記第１フレームに対して移動することが好ましい。 In the substrate processing apparatus described above, the substrate processing apparatus is supported by the first frame, is movable with respect to the first frame, and is supported by the third movable member. And a third transfer mechanism that is supported by the third movable member and that transfers the substrate to the third heat processing unit. The third movable member is independent of the first movable member. Then, the third movable member is movable with respect to the first frame, and the third movable member moves with respect to the first frame, whereby the third heat treatment unit is integrated with the third transport mechanism, It is preferable to move with respect to the first frame.

第３可動部材は、第１フレームに支持される。第３熱処理部は、第３可動部材に支持される。第３可動部材は、第１フレームに対して移動可能である。第３可動部材が第１フレームに対して移動することによって、第３熱処理部は第１フレームに対して移動する。このため、第３熱処理部のメンテナンスを容易に行うことができる。 The third movable member is supported by the first frame. The third heat treatment section is supported by the third movable member. The third movable member is movable with respect to the first frame. The movement of the third movable member with respect to the first frame causes the third heat treatment unit to move with respect to the first frame. Therefore, maintenance of the third heat treatment section can be easily performed.

第３搬送機構は、第３可動部材に支持される。第３可動部材が第１フレームに対して移動することによって、第３熱処理部は、第３搬送機構と一体に移動する。このため、第３可動部材が第１フレームに対して移動するとき、第３熱処理部と第３搬送機構との相対的な位置を一定に保つことができる。よって、第３熱処理部と第３搬送機構との相対的な位置を一定に保った状態で、第３熱処理部のメンテナンスを行うことができる。したがって、第３熱処理部のメンテナンスを行う度に、第３熱処理部と第３搬送機構との相対的な位置を調整しなくてもよい。すなわち、第３熱処理部のメンテナンスを一層容易に行うことができる。 The third transport mechanism is supported by the third movable member. The movement of the third movable member with respect to the first frame causes the third heat treatment section to move integrally with the third transport mechanism. Therefore, when the third movable member moves with respect to the first frame, the relative position between the third heat treatment section and the third transport mechanism can be kept constant. Therefore, maintenance of the third heat treatment unit can be performed in a state where the relative position between the third heat treatment unit and the third transport mechanism is kept constant. Therefore, it is not necessary to adjust the relative positions of the third heat treatment unit and the third transport mechanism every time the third heat treatment unit is maintained. That is, the maintenance of the third heat treatment section can be performed more easily.

以上のとおり、本基板処理装置によれば、基板処理装置のメンテナンスを容易に行うことができる。 As described above, according to the present substrate processing apparatus, maintenance of the substrate processing apparatus can be easily performed.

さらに、第３可動部材は、第１可動部材とは独立して、第１フレームに対して移動可能である。このため、第１熱処理部と第３熱処理部を個別に移動させることができる。よって、例えば、第１熱処理部および第３熱処理部の一方のみのメンテナンスを容易に行うことができる。あるいは、第１熱処理部および第３熱処理部の両方のメンテナンスを容易に行うことができる。 Further, the third movable member is movable with respect to the first frame independently of the first movable member. Therefore, the first heat treatment section and the third heat treatment section can be moved individually. Therefore, for example, maintenance of only one of the first heat treatment section and the third heat treatment section can be easily performed. Alternatively, maintenance of both the first heat treatment section and the third heat treatment section can be easily performed.

さらに、基板処理装置は、第１熱処理部に加えて、第３熱処理部を備える。このため、基板処理装置のスループットを好適に向上できる。 Further, the substrate processing apparatus includes a third heat treatment section in addition to the first heat treatment section. Therefore, it is possible to preferably improve the throughput of the substrate processing apparatus.

上述した基板処理装置において、前記第３熱処理部は、前記第１熱処理部の上方に配置され、前記第３搬送機構は、前記第１搬送機構の上方に配置されることが好ましい。平面視における第１熱処理部と第３熱処理部の設置スペースを低減できる。平面視における第１搬送機構と第３搬送機構の設置スペースを低減できる。よって、基板処理装置のフットプリントを低減できる。 In the substrate processing apparatus described above, it is preferable that the third heat treatment section is arranged above the first heat treatment section, and the third transfer mechanism is arranged above the first transfer mechanism. The installation space for the first heat treatment section and the third heat treatment section in a plan view can be reduced. The installation space for the first transport mechanism and the third transport mechanism in a plan view can be reduced. Therefore, the footprint of the substrate processing apparatus can be reduced.

上述した基板処理装置において、前記基板処理装置は、前記第１フレームに固定されるガイド部と、前記第１可動部材に固定され、前記ガイド部に案内される摺動部と、を備えることが好ましい。基板処理装置はガイド部と摺動部を備えるので、第１可動部材は第１フレームに対して好適に移動できる。 In the substrate processing apparatus described above, the substrate processing apparatus may include a guide portion fixed to the first frame, and a sliding portion fixed to the first movable member and guided by the guide portion. preferable. Since the substrate processing apparatus includes the guide portion and the sliding portion, the first movable member can move appropriately with respect to the first frame.

本発明によれば、基板処理装置のメンテナンスを容易に行うことができる。 According to the present invention, maintenance of the substrate processing apparatus can be easily performed.

実施形態の基板処理装置の平面図である。It is a top view of the substrate processing apparatus of an embodiment. 基板処理装置の右部の構成を示す右側面図である。It is a right side view which shows the structure of the right part of a substrate processing apparatus. 幅方向における基板処理装置の中央部の構成を示す右側面図である。It is a right side view which shows the structure of the central part of the substrate processing apparatus in the width direction. 基板処理装置の左部の構成を示す左側面図である。It is a left side view showing composition of a left part of a substrate processing device. インデクサ部の正面図である。It is a front view of an indexer part. インデクサ部の内部の構成を示す正面図である。It is a front view which shows the internal structure of an indexer part. 熱処理ブロックの正面図である。It is a front view of a heat treatment block. 熱処理ブロックの拡大平面図である。It is an enlarged plan view of a heat treatment block. 熱処理部のメンテナンス位置を例示する平面図である。It is a top view which illustrates the maintenance position of a heat processing part. 熱処理部のメンテナンス位置を例示する正面図である。It is a front view which illustrates the maintenance position of a heat processing part. 図１１（ａ）は第１フレームと第２フレームの平面図であり、図１１（ｂ）は第１フレームと第２フレームの正面図であり、図１１（ｃ）は第１フレームの右側面図である。11A is a plan view of the first frame and the second frame, FIG. 11B is a front view of the first frame and the second frame, and FIG. 11C is a right side surface of the first frame. It is a figure. 図１２（ａ）は可動部材の平面図であり、図１２（ｂ）は可動部材の正面図であり、図１２（ｃ）は可動部材の右側面図である。12A is a plan view of the movable member, FIG. 12B is a front view of the movable member, and FIG. 12C is a right side view of the movable member. 基板が通過する基板処理装置の要素を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically the element of the substrate processing apparatus which a board|substrate passes. 図１４Ａ−１４Ｒは、搬送機構の動作例を示す平面図である。14A-14R are plan views showing an operation example of the transport mechanism.

以下、図面を参照して本発明の基板処理装置を説明する。 The substrate processing apparatus of the present invention will be described below with reference to the drawings.

＜基板処理装置の概要＞
図１は、実施形態の基板処理装置の平面図である。基板処理装置１は、基板（例えば、半導体ウエハ）Ｗに処理を行う。 <Outline of substrate processing equipment>
FIG. 1 is a plan view of the substrate processing apparatus of the embodiment. The substrate processing apparatus 1 processes a substrate (for example, a semiconductor wafer) W.

基板Ｗは、例えば、半導体ウエハ、液晶ディスプレイ用基板、有機ＥＬ(Electroluminescence)用基板、ＦＰＤ(Flat Panel Display)用基板、光ディスプレイ用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板、フォトマスク用基板、太陽電池用基板である。基板Ｗは、薄い平板形状を有する。基板Ｗは、平面視で略円形状を有する。 The substrate W is, for example, a semiconductor wafer, a liquid crystal display substrate, an organic EL (Electroluminescence) substrate, an FPD (Flat Panel Display) substrate, an optical display substrate, a magnetic disk substrate, a magneto-optical disk substrate, or a photomask. Substrates and solar cell substrates. The substrate W has a thin flat plate shape. The substrate W has a substantially circular shape in a plan view.

基板処理装置１は、ストッカ部１１とインデクサ部２１と熱処理ブロック３１と液処理ブロック６１とを備える。ストッカ部１１は、複数のキャリアＣを保管する。キャリアＣは、複数枚の基板Ｗを収容する。キャリアＣは、例えば、ＦＯＵＰ（front opening unified pod）である。インデクサ部２１は、キャリアＣから基板Ｗを搬出し、かつ、キャリアＣに基板Ｗを搬入する。熱処理ブロック３１は、基板Ｗに熱処理を行う。液処理ブロック６１は、基板Ｗに液処理を行う。 The substrate processing apparatus 1 includes a stocker unit 11, an indexer unit 21, a heat treatment block 31, and a liquid treatment block 61. The stocker unit 11 stores a plurality of carriers C. The carrier C accommodates a plurality of substrates W. The carrier C is, for example, a FOUP (front opening unified pod). The indexer unit 21 carries out the substrate W from the carrier C and carries the substrate W into the carrier C. The heat treatment block 31 heat-treats the substrate W. The liquid processing block 61 performs liquid processing on the substrate W.

ストッカ部１１はインデクサ部２１に接続される。キャリアＣはストッカ部１１とインデクサ部２１との間で搬送される。インデクサ部２１は、熱処理ブロック３１に接続される。基板Ｗは、インデクサ部２１と熱処理ブロック３１の間で、搬送される。熱処理ブロック３１は、液処理ブロック６１に接続される。基板Ｗは、熱処理ブロック３１と液処理ブロック６１の間で搬送される。 The stocker unit 11 is connected to the indexer unit 21. The carrier C is transported between the stocker unit 11 and the indexer unit 21. The indexer portion 21 is connected to the heat treatment block 31. The substrate W is transported between the indexer unit 21 and the heat treatment block 31. The heat treatment block 31 is connected to the liquid treatment block 61. The substrate W is transported between the heat treatment block 31 and the liquid treatment block 61.

ストッカ部１１とインデクサ部２１と熱処理ブロック３１と液処理ブロック６１は、この順番で１列に並ぶように配置される。ストッカ部１１とインデクサ部２１と熱処理ブロック３１と液処理ブロック６１が並ぶ方向を、「前後方向Ｘ」と呼ぶ。前後方向Ｘは水平である。前後方向Ｘのうち、液処理ブロック６１からストッカ部１１に向かう方向を「前方」と呼ぶ。前方と反対の方向を「後方」と呼ぶ。前後方向Ｘと直交する水平な方向を、「幅方向Ｙ」または「側方」と呼ぶ。「幅方向Ｙ」の一方向を適宜に「右方」と呼ぶ。右方とは反対の方向を「左方」と呼ぶ。垂直な方向を「上下方向Ｚ」と呼ぶ。上下方向Ｚは、前後方向Ｘと直交し、かつ、幅方向Ｙと直交する。各図では、参考として、前、後、右、左、上、下を適宜に示す。 The stocker unit 11, the indexer unit 21, the heat treatment block 31, and the liquid treatment block 61 are arranged in this order in a line. The direction in which the stocker unit 11, the indexer unit 21, the heat treatment block 31, and the liquid treatment block 61 are arranged is referred to as a “front-rear direction X”. The front-back direction X is horizontal. Of the front-rear direction X, the direction from the liquid processing block 61 to the stocker unit 11 is called “front”. The direction opposite to the front is called "back". The horizontal direction orthogonal to the front-rear direction X is referred to as the "width direction Y" or "side direction". One direction of the "width direction Y" is appropriately referred to as "right side". The direction opposite to the right is called "left". The vertical direction is referred to as the "vertical direction Z". The up-down direction Z is orthogonal to the front-rear direction X and is orthogonal to the width direction Y. In each figure, for reference, front, rear, right, left, top, and bottom are appropriately shown.

基板処理装置１は、さらに、前載置部８１と後載置部８３を備える。前載置部８１は、インデクサ部２１と熱処理ブロック３１の間に配置される。前載置部８１には、基板Ｗが載置される。基板Ｗは、前載置部８１を介して、インデクサ部２１と熱処理ブロック３１の間で搬送される。後載置部８３は、熱処理ブロック３１と液処理ブロック６１の間に配置される。後載置部８３には、基板Ｗが載置される。基板Ｗは、後載置部８３を介して、熱処理ブロック３１と液処理部６１の間で搬送される。 The substrate processing apparatus 1 further includes a front mounting part 81 and a rear mounting part 83. The front mounting portion 81 is arranged between the indexer portion 21 and the heat treatment block 31. The substrate W is placed on the front placing portion 81. The substrate W is transported between the indexer section 21 and the heat treatment block 31 via the front mounting section 81. The rear mounting portion 83 is arranged between the heat treatment block 31 and the liquid treatment block 61. The substrate W is placed on the rear placing portion 83. The substrate W is transported between the heat treatment block 31 and the liquid processing section 61 via the rear mounting section 83.

ストッカ部１１とインデクサ部２１と熱処理ブロック３１と液処理ブロック６１と前載置部８１と後載置部８３を、以下に説明する。 The stocker unit 11, the indexer unit 21, the heat treatment block 31, the liquid treatment block 61, the front placement unit 81, and the rear placement unit 83 will be described below.

＜ストッカ部１１＞
図１−４を参照する。図２は、基板処理装置１の右部の構成を示す右側面図である。図３は、幅方向Ｙにおける基板処理装置１の中央部の構成を示す右側面図である。図４は、基板処理装置１の左部の構成を示す左側面図である。 <Stocker 11>
Referring to FIGS. FIG. 2 is a right side view showing the configuration of the right part of the substrate processing apparatus 1. FIG. 3 is a right side view showing the configuration of the central portion of the substrate processing apparatus 1 in the width direction Y. FIG. 4 is a left side view showing the configuration of the left part of the substrate processing apparatus 1.

ストッカ部１１は、複数の棚１３を備える。各棚１３には、複数のキャリアＣが載置される。棚１３は、略水平な板形状を有する。複数の棚１３は、上下方向Ｚに並ぶように配置される。 The stocker unit 11 includes a plurality of shelves 13. A plurality of carriers C are placed on each shelf 13. The shelf 13 has a substantially horizontal plate shape. The plurality of shelves 13 are arranged side by side in the vertical direction Z.

キャリアＣの状況に応じて、キャリアＣをいくつかの種別に分類できる。例えば、キャリアＣは、ストッカ部１１と不図示の外部搬送機構との間で受け渡されるキャリアＣ（「前者のキャリアＣ」と呼ぶ）と、それ以外のキャリアＣ（「後者のキャリアＣ」と呼ぶ）に分類される。ここで、外部搬送機構は、基板処理装置１の外部機器である。外部搬送機構は、キャリアＣを搬送する。外部搬送機構は、例えば、ストッカ部１１の上方に設けられる。外部搬送機構は、例えば、ＯＨＴ（Overhead Hoist Transfer）である。前者のキャリアＣは、さらに、ストッカ部１１が外部搬送機構から受けるキャリアＣと、ストッカ部１１が外部搬送機構に渡すキャリアＣに分類される。後者のキャリアＣは、さらに、未処理の基板Ｗを収容するキャリアＣと、基板Ｗを収容していないキャリアＣと、処理済みの基板Ｗを収容するキャリアＣとに分類される。 The carrier C can be classified into several types according to the situation of the carrier C. For example, the carrier C includes a carrier C (referred to as “former carrier C”) transferred between the stocker unit 11 and an external transport mechanism (not shown), and other carriers C (referred to as “the latter carrier C”). Call). Here, the external transport mechanism is an external device of the substrate processing apparatus 1. The external transport mechanism transports the carrier C. The external transport mechanism is provided above the stocker unit 11, for example. The external transfer mechanism is, for example, an OHT (Overhead Hoist Transfer). The former carrier C is further classified into a carrier C that the stocker unit 11 receives from the external transport mechanism and a carrier C that the stocker unit 11 transfers to the external transport mechanism. The latter carrier C is further classified into a carrier C that contains an unprocessed substrate W, a carrier C that does not contain a substrate W, and a carrier C that contains a processed substrate W.

上述したキャリアＣの種別ごとに、棚１３に載置されるキャリアＣの位置を変えてもよい。 The position of the carrier C placed on the shelf 13 may be changed for each type of the carrier C described above.

ストッカ部１１は、キャリアＣを搬送するキャリア搬送機構１５を備える。キャリア搬送機構１５は、棚１３とインデクサ部２１との間に配置される。キャリア搬送機構１５は、棚１３にキャリアＣを載置することができ、棚１３上のキャリアＣを取ることができる。さらに、キャリア搬送機構１５は、棚１３とインデクサ部２１との間でキャリアＣを搬送可能である。 The stocker unit 11 includes a carrier transfer mechanism 15 that transfers the carrier C. The carrier transport mechanism 15 is arranged between the shelf 13 and the indexer section 21. The carrier transfer mechanism 15 can place the carrier C on the shelf 13 and can pick up the carrier C on the shelf 13. Further, the carrier transfer mechanism 15 can transfer the carrier C between the shelf 13 and the indexer section 21.

キャリア搬送機構１５は、レール部１６ａと、水平移動部１６ｂと、垂直移動部１６ｃと、第１アーム部１６ｄと、第２アーム部１６ｅと、保持部１６ｆとを備える。レール部１６ａは、固定的に設けられる。レール部１６ａは、略幅方向Ｙに延びる。水平移動部１６ｂは、レール部１６ａに支持される。水平移動部１６ｂは、レール部１６ａに対して略幅方向Ｙに移動可能である。水平移動部１６ｂは、略上下方向Ｚに延びる。垂直移動部１６ｃは、水平移動部１６ｂに支持される。垂直移動部１６ｃは、水平移動部１６ｂに対して略上下方向Ｚに移動可能である。第１アーム部１６ｄは、垂直移動部１６ｃに支持される。第１アーム部１６ｄは、垂直移動部１６ｃに対して第１軸線Ａ１６ｄ回りに回転可能である。第１軸線Ａ１６ｄは、略上下方向Ｚと平行な仮想線である。第２アーム部１６ｅは、第１アーム部１６ｄに支持される。第２アーム部１６ｅは、第１アーム部１６ｄに対して第２軸線Ａ１６ｅ回りに回転可能である。第２軸線Ａ１６ｅは、略上下方向Ｚと平行な仮想線である。保持部１６ｆは、第２アーム部１６ｅに支持される。保持部１６ｆは、１つのキャリアＣを保持する。具体的には、保持部１６ｆは、キャリアＣの上部を把持する。 The carrier transfer mechanism 15 includes a rail portion 16a, a horizontal moving portion 16b, a vertical moving portion 16c, a first arm portion 16d, a second arm portion 16e, and a holding portion 16f. The rail portion 16a is fixedly provided. The rail portion 16a extends substantially in the width direction Y. The horizontal moving part 16b is supported by the rail part 16a. The horizontal moving portion 16b can move in the substantially width direction Y with respect to the rail portion 16a. The horizontal moving portion 16b extends substantially in the vertical direction Z. The vertical moving unit 16c is supported by the horizontal moving unit 16b. The vertical moving unit 16c can move in the substantially vertical direction Z with respect to the horizontal moving unit 16b. The first arm portion 16d is supported by the vertical movement portion 16c. The first arm portion 16d is rotatable about the first axis A16d with respect to the vertical moving portion 16c. The first axis A16d is a virtual line that is substantially parallel to the vertical direction Z. The second arm portion 16e is supported by the first arm portion 16d. The second arm portion 16e is rotatable about the second axis A16e with respect to the first arm portion 16d. The second axis A16e is an imaginary line that is substantially parallel to the vertical direction Z. The holding portion 16f is supported by the second arm portion 16e. The holding unit 16f holds one carrier C. Specifically, the holding portion 16f holds the upper portion of the carrier C.

図２−４を参照する。キャリア搬送機構１５は、さらに、垂直移動部１６ｇと第１アーム部１６ｈと第２アーム部１６ｉと保持部１６ｊを備える。垂直移動部１６ｇと第１アーム部１６ｈと第２アーム部１６ｉと保持部１６ｊはそれぞれ、垂直移動部１６ｃと第１アーム部１６ｄと第２アーム部１６ｅと保持部１６ｆと略同じ形状および構造を有する。垂直移動部１６ｇは、水平移動部１６ｂに支持される。垂直移動部１６ｇは、垂直移動部１６ｃとは独立して動作可能である。第１アーム部１６ｈは、垂直移動部１６ｇに支持される。第２アーム部１６ｉは、第１アーム部１６ｈに支持される。保持部１６ｊは、第２アーム部１６ｉに支持される。 Reference is made to FIGS. The carrier transfer mechanism 15 further includes a vertical moving unit 16g, a first arm unit 16h, a second arm unit 16i, and a holding unit 16j. The vertical moving portion 16g, the first arm portion 16h, the second arm portion 16i, and the holding portion 16j have substantially the same shape and structure as the vertical moving portion 16c, the first arm portion 16d, the second arm portion 16e, and the holding portion 16f, respectively. Have. The vertical moving unit 16g is supported by the horizontal moving unit 16b. The vertical moving unit 16g can operate independently of the vertical moving unit 16c. The first arm portion 16h is supported by the vertical movement portion 16g. The second arm portion 16i is supported by the first arm portion 16h. The holding portion 16j is supported by the second arm portion 16i.

＜インデクサ部２１＞
図１−５を参照する。図５は、インデクサ部２１の正面図である。インデクサ部２１は、キャリア載置部２２ａ１、２２ａ２、２２ｂ１、２２ｂ２を備える。キャリア載置部２２ａ１、２２ａ２、２２ｂ１、２２ｂ２にはそれぞれ、１つのキャリアＣが載置される。 <Indexer 21>
Please refer to FIG. FIG. 5 is a front view of the indexer unit 21. The indexer portion 21 includes carrier mounting portions 22a1, 22a2, 22b1 and 22b2. One carrier C is mounted on each of the carrier mounting portions 22a1, 22a2, 22b1 and 22b2.

キャリア載置部２２ａ１、２２ａ２は、上下方向Ｚに並ぶように配置される。キャリア載置部２２ａ２は、キャリア載置部２２ａ１の上方に配置される。キャリア載置部２２ｂ１、２２ｂ２は、上下方向Ｚに並ぶように配置される。キャリア載置部２２ｂ２は、キャリア載置部２２ｂ１の上方に配置される。キャリア載置部２２ａ１は、キャリア載置部２２ｂ１と略同じ高さ位置に配置される。キャリア載置部２２ａ１、２２ｂ１は、幅方向Ｙに並ぶように配置される。キャリア載置部２２ａ１は、キャリア載置部２２ｂ１の右方に配置される。キャリア載置部２２ａ２は、キャリア載置部２２ｂ２と略同じ高さ位置に配置される。キャリア載置部２２ａ２、２２ｂ２は、幅方向Ｙに並ぶように配置される。キャリア載置部２２ａ２は、キャリア載置部２２ｂ２の右方に配置される。 The carrier placement parts 22a1 and 22a2 are arranged side by side in the vertical direction Z. The carrier mounting portion 22a2 is arranged above the carrier mounting portion 22a1. The carrier placement parts 22b1 and 22b2 are arranged in the vertical direction Z. The carrier mounting portion 22b2 is arranged above the carrier mounting portion 22b1. The carrier placing portion 22a1 is arranged at substantially the same height as the carrier placing portion 22b1. The carrier placement parts 22a1 and 22b1 are arranged side by side in the width direction Y. The carrier mounting portion 22a1 is arranged to the right of the carrier mounting portion 22b1. The carrier placing portion 22a2 is arranged at substantially the same height as the carrier placing portion 22b2. The carrier placement parts 22a2 and 22b2 are arranged side by side in the width direction Y. The carrier mounting portion 22a2 is arranged to the right of the carrier mounting portion 22b2.

キャリア載置部２２ａ１、２２ａ２を区別しない場合には、「キャリア載置部２２ａ」と記載する。キャリア載置部２２ｂ１、２２ｂ２を区別しない場合には、「キャリア載置部２２ｂ」と記載する。 When the carrier placement parts 22a1 and 22a2 are not distinguished from each other, they are described as "carrier placement part 22a". When the carrier placement parts 22b1 and 22b2 are not distinguished, they are described as "carrier placement part 22b".

キャリア載置部２２ａ、２２ｂは、キャリア搬送機構１５の後方に配置される。キャリア搬送機構１５は、キャリア載置部２２ａ、２２ｂにキャリアＣを載置することができる。キャリア搬送機構１５は、キャリア載置部２２ａ、２２ｂ上のキャリアＣを取ることができる。 The carrier placement parts 22 a and 22 b are arranged behind the carrier transfer mechanism 15. The carrier transport mechanism 15 can mount the carrier C on the carrier mounting portions 22a and 22b. The carrier transport mechanism 15 can take the carrier C on the carrier placement parts 22a and 22b.

図１−４、６を参照する。図６は、インデクサ部２１の内部の構成を示す正面図である。インデクサ部２１は、搬送スペース２３を備える。搬送スペース２３は、キャリア載置部２２ａ、２２ｂの後方に配置される。搬送スペース２３は、略箱形状を有する。搬送スペース２３は、平面視、側面視および正面視において、略矩形である。 Referring to FIGS. 1-4 and 6. FIG. 6 is a front view showing the internal structure of the indexer section 21. The indexer unit 21 includes a transport space 23. The transport space 23 is arranged behind the carrier placement parts 22a and 22b. The transport space 23 has a substantially box shape. The transport space 23 is substantially rectangular in plan view, side view, and front view.

インデクサ部２１は、フレーム２４を備える。フレーム２４は、搬送スペース２３の骨組み（骨格）として、設けられる。フレーム２４は、搬送スペース２３の形状を画定する。フレーム２４は、例えば、金属製である。 The indexer unit 21 includes a frame 24. The frame 24 is provided as a skeleton (skeleton) of the transport space 23. The frame 24 defines the shape of the transport space 23. The frame 24 is made of metal, for example.

インデクサ部２１は、インデクサ用搬送機構２５を備える。インデクサ用搬送機構２５は、搬送スペース２３に設置される。インデクサ用搬送機構２５は、キャリア載置部２２ａ、２２ｂに載置されるキャリアＣと熱処理ブロック３１の間で、基板Ｗを搬送する。 The indexer unit 21 includes an indexer transport mechanism 25. The indexer transport mechanism 25 is installed in the transport space 23. The indexer transport mechanism 25 transports the substrate W between the carrier C placed on the carrier rests 22 a and 22 b and the heat treatment block 31.

インデクサ用搬送機構２５は、２つの搬送機構２６ａ、２６ｂを備える。搬送機構２６ｂは、搬送機構２６ａと略同じ高さ位置に配置される。搬送機構２６ａ、２６ｂは、幅方向Ｙに並ぶように配置される。搬送機構２６ｂは、搬送機構２６ａの左方に配置される。搬送機構２６ａは、キャリア載置部２２ａの後方に配置される。搬送機構２６ｂは、キャリア載置部２２ｂの後方に配置される。搬送機構２６ａは、キャリア載置部２２ａに載置されるキャリアＣと熱処理ブロック３１の間で、基板Ｗを搬送する。搬送機構２６ｂは、キャリア載置部２２ｂに載置されるキャリアＣと熱処理ブロック３１の間で、基板Ｗを搬送する。搬送機構２６ｂは、搬送機構２６ａとは独立して、基板Ｗを搬送可能である。 The indexer transport mechanism 25 includes two transport mechanisms 26a and 26b. The transport mechanism 26b is arranged at substantially the same height as the transport mechanism 26a. The transport mechanisms 26a and 26b are arranged side by side in the width direction Y. The transport mechanism 26b is arranged to the left of the transport mechanism 26a. The transport mechanism 26a is arranged behind the carrier platform 22a. The transport mechanism 26b is arranged behind the carrier platform 22b. The transport mechanism 26a transports the substrate W between the carrier C placed on the carrier platform 22a and the thermal processing block 31. The transport mechanism 26b transports the substrate W between the carrier C placed on the carrier rest 22b and the thermal processing block 31. The transfer mechanism 26b can transfer the substrate W independently of the transfer mechanism 26a.

搬送機構２６ａは、支柱２７ａと垂直移動部２７ｂと回転部２７ｃと保持部２７ｄ、２７ｅとを備える。支柱２７ａは、フレーム２４に支持される。支柱２７ａは、フレーム２４に固定される。支柱２７ａは、フレーム２４に対して移動不能である。支柱２７ａは、略上下方向Ｚに延びる。垂直移動部２７ｂは、支柱２７ａに支持される。垂直移動部２７ｂは、支柱２７ａに対して略上下方向Ｚに移動可能である。垂直移動部２７ｂは、支柱２７ａに対して略水平方向に移動不能である。回転部２７ｃは、垂直移動部２７ｂに支持される。回転部２７ｃは、垂直移動部２７ｂに対して、回転軸線Ａ２７ｃ回りに回転可能である。回転軸線Ａ２７ｃは、略上下方向Ｚと平行な仮想線である。保持部２７ｄ、２７ｅは、回転部２７ｃに支持される。保持部２７ｄ、２７ｅは、回転部２７ｃに対して進退移動可能である。より具体的には、保持部２７ｄ、２７ｅは、回転部２７ｃの向きによって決まる水平な一方向に往復移動可能である。水平な一方向は、例えば、回転軸線Ａ２７ｃの径方向である。保持部２７ｄ、２７ｅは、互いに独立して、進退移動可能である。保持部２７ｄ、２７ｅはそれぞれ、１枚の基板Ｗを水平姿勢で保持する。 The transport mechanism 26a includes a column 27a, a vertical moving unit 27b, a rotating unit 27c, and holding units 27d and 27e. The column 27 a is supported by the frame 24. The column 27 a is fixed to the frame 24. The column 27 a is immovable with respect to the frame 24. The pillar 27a extends in the substantially vertical direction Z. The vertical moving portion 27b is supported by the column 27a. The vertical moving portion 27b is movable in the substantially vertical direction Z with respect to the column 27a. The vertical moving portion 27b is immovable in a substantially horizontal direction with respect to the column 27a. The rotating unit 27c is supported by the vertical moving unit 27b. The rotating portion 27c is rotatable about the rotation axis A27c with respect to the vertical moving portion 27b. The rotation axis A27c is an imaginary line substantially parallel to the vertical direction Z. The holding portions 27d and 27e are supported by the rotating portion 27c. The holding portions 27d and 27e can move back and forth with respect to the rotating portion 27c. More specifically, the holders 27d and 27e can reciprocate in one horizontal direction determined by the orientation of the rotating portion 27c. One horizontal direction is, for example, the radial direction of the rotation axis A27c. The holding portions 27d and 27e can move back and forth independently of each other. The holders 27d and 27e each hold one substrate W in a horizontal posture.

このように、保持部２７ｄ、２７ｅは、上下方向Ｚに平行移動可能である。保持部２７ｄ、２７ｅは、回転軸線Ａ２７ｃ回りに回転可能である。保持部２７ｄ、２７ｅは、回転部２７ｃに対して進退移動可能である。 In this way, the holding portions 27d and 27e can move in parallel in the vertical direction Z. The holding portions 27d and 27e can rotate around the rotation axis A27c. The holding portions 27d and 27e can move back and forth with respect to the rotating portion 27c.

搬送機構２６ｂは、左右対称である点を除き、搬送機構２６ａと略同じ構造および形状を有する。すなわち、搬送機構２６ｂは、支柱２７ａと垂直移動部２７ｂと回転部２７ｃと保持部２７ｄ、２７ｅとを備える。 The transport mechanism 26b has substantially the same structure and shape as the transport mechanism 26a except that the transport mechanism 26b is symmetrical. That is, the transport mechanism 26b includes a column 27a, a vertical moving unit 27b, a rotating unit 27c, and holding units 27d and 27e.

このように、本明細書では、異なる要素が同じ構造を有する場合には、その構造に共通の符号を付すことで詳細な説明を省略する。 As described above, in the present specification, when different elements have the same structure, common reference numerals are given to the structures and detailed description thereof will be omitted.

＜熱処理ブロック３１＞
＜＜熱処理ブロック３１の概要＞＞
図１−４、７を参照する。図７は、熱処理ブロック３１の正面図である。熱処理ブロック３１は、略箱形状を有する。熱処理ブロック３１は、平面視、側面視および正面視において、略矩形である。 <Heat treatment block 31>
<<Outline of heat treatment block 31>>
Referring to FIGS. 1-4 and 7. FIG. 7 is a front view of the heat treatment block 31. The heat treatment block 31 has a substantially box shape. The heat treatment block 31 is substantially rectangular in plan view, side view, and front view.

熱処理ブロック３１は、搬送スペース３２と熱処理用搬送機構３３を備える。熱処理用搬送機構３３は、搬送スペース３２に設けられる。熱処理用搬送機構３３は、基板Ｗを搬送する。 The heat treatment block 31 includes a conveyance space 32 and a heat treatment conveyance mechanism 33. The heat treatment transfer mechanism 33 is provided in the transfer space 32. The heat treatment transfer mechanism 33 transfers the substrate W.

熱処理用搬送機構３３は、複数（例えば８つ）の搬送機構３４ａ１、３４ａ２、３４ａ３、３４ａ４、３４ｂ１、３４ｂ２、３４ｂ３、３４ｂ４を備える。搬送機構３４ａ１−３４ａ４、３４ｂ１−３４ｂ４を区別しない場合には、搬送機構３４ａ１−３４ａ４、３４ｂ１−３４ｂ４を搬送機構３４と総称する。搬送機構３４はそれぞれ、基板Ｗを搬送する。 The heat treatment transfer mechanism 33 includes a plurality (for example, eight) of transfer mechanisms 34a1, 34a2, 34a3, 34a4, 34b1, 34b2, 34b3, 34b4. When the transport mechanisms 34a1-34a4 and 34b1-34b4 are not distinguished, the transport mechanisms 34a1-34a4 and 34b1-34b4 are collectively referred to as the transport mechanism 34. Each of the transport mechanisms 34 transports the substrate W.

熱処理ブロック３１は、複数（例えば８つ）の熱処理部３７ａ１、３７ａ２、３７ａ３、３７ａ４、３７ｂ１、３７ｂ２、３７ｂ３、３７ｂ４を備える。熱処理部３７ａ１−３７ａ４、３７ｂ１−３７ｂ４を区別しない場合には、熱処理部３７ａ１−３７ａ４、３７ｂ１−３７ｂ４を熱処理部３７と総称する。熱処理部３７はそれぞれ、基板Ｗに熱処理を行う。 The heat treatment block 31 includes a plurality (eg, eight) of heat treatment units 37a1, 37a2, 37a3, 37a4, 37b1, 37b2, 37b3, 37b4. When the heat treatment units 37a1-37a4 and 37b1-37b4 are not distinguished, the heat treatment units 37a1-37a4 and 37b1-37b4 are collectively referred to as the heat treatment unit 37. Each of the thermal processing sections 37 performs thermal processing on the substrate W.

熱処理部３７ａ１は、複数（例えば、７つ）の熱処理ユニット３８ａ１を備える。同様に、熱処理部３７ａ２−３７ａ４、３７ｂ１−３７ｂ４はそれぞれ、複数（例えば、７つ）の熱処理ユニット３８ａ２−３８ａ４、３８ｂ１−３８ｂ４を備える。熱処理ユニット３８ａ１−３８ａ４、３８ｂ１−３８ｂ４を区別しない場合には、熱処理ユニット３８ａ１−３８ａ４、３８ｂ１−３８ｂ４を熱処理ユニット３８と総称する。熱処理ユニット３８はそれぞれ、１枚の基板Ｗに熱処理を行う。 The thermal processing section 37a1 includes a plurality (for example, seven) of thermal processing units 38a1. Similarly, each of the thermal processing units 37a2-37a4, 37b1-37b4 includes a plurality (for example, seven) of thermal processing units 38a2-38a4, 38b1-38b4. When the heat treatment units 38a1-38a4 and 38b1-38b4 are not distinguished, the heat treatment units 38a1-38a4 and 38b1-38b4 are collectively referred to as the heat treatment unit 38. Each of the thermal processing units 38 performs thermal processing on one substrate W.

熱処理ブロック３１は、複数（例えば８つ）の検査部４１ａ１、４１ａ２、４１ａ３、４１ａ４、４１ｂ１、４１ｂ２、４１ｂ３、４１ｂ４を備える。検査部４１ａ１−４１ａ４、４１ｂ１−４１ｂ４を区別しない場合には、検査部４１ａ１−４１ａ４、４１ｂ１−４１ｂ４を検査部４１と総称する。検査部４１は、基板Ｗを検査する。 The heat treatment block 31 includes a plurality (for example, eight) of inspection units 41a1, 41a2, 41a3, 41a4, 41b1, 41b2, 41b3, 41b4. When the inspection units 41a1-41a4 and 41b1-41b4 are not distinguished, the inspection units 41a1-41a4 and 41b1-41b4 are collectively referred to as the inspection unit 41. The inspection unit 41 inspects the substrate W.

検査部４１ａ１は、１つの検査ユニット４２ａ１を備える。同様に、検査ユニット４２ａ２−４２ａ４、４２ｂ１−４２ｂ４はそれぞれ、１つの検査ユニット４２ａ２−４２ａ４、４２ｂ１−４２ｂ４を備える。検査ユニット４２ａ１−４２ａ４、４２ｂ１−４２ｂ４を区別しない場合には、検査ユニット４２ａ１−４２ａ４、４２ｂ１−４２ｂ４を検査ユニット４２と総称する。検査ユニット４２は、１枚の基板Ｗを検査する。 The inspection unit 41a1 includes one inspection unit 42a1. Similarly, the inspection units 42a2-42a4 and 42b1-42b4 each include one inspection unit 42a2-42a4, 42b1-42b4. When the inspection units 42a1-42a4 and 42b1-42b4 are not distinguished, the inspection units 42a1-42a4 and 42b1-42b4 are collectively referred to as the inspection unit 42. The inspection unit 42 inspects one substrate W.

搬送機構３４ａ１は、熱処理部３７ａ１に基板Ｗを搬送する。搬送機構３４ａ１は、熱処理部３７ａ１以外の熱処理部３７に基板Ｗを搬送しない。熱処理部３７ａ１には、専ら搬送機構３４ａ１が基板Ｗを搬送する。具体的には、搬送機構３４ａ１は、熱処理ユニット３８ａに基板Ｗを搬送する。同様に、搬送機構３４ａ２−３４ａ４、３４ｂ１−３４ｂ４はそれぞれ、熱処理部３７ａ２−３７ａ４、３７ｂ１−３４ｂ４に基板Ｗを搬送する。具体的には、搬送機構３４ａ２−３４ａ４、３４ｂ１−３４ｂ４はそれぞれ、熱処理ユニット３８ａ２−３８ａ４、３８ｂ１−３８ｂ４に基板Ｗを搬送する。 The transport mechanism 34a1 transports the substrate W to the thermal processing section 37a1. The transport mechanism 34a1 does not transport the substrate W to the thermal processing sections 37 other than the thermal processing section 37a1. The transport mechanism 34a1 exclusively transports the substrate W to the thermal processing section 37a1. Specifically, the transport mechanism 34a1 transports the substrate W to the heat treatment unit 38a. Similarly, the transport mechanisms 34a2-34a4 and 34b1-34b4 transport the substrate W to the thermal processing sections 37a2-37a4 and 37b1-34b4, respectively. Specifically, the transport mechanisms 34a2-34a4, 34b1-34b4 transport the substrate W to the thermal processing units 38a2-38a4, 38b1-38b4, respectively.

搬送機構３４ａ１は、検査部４１ａ１に基板Ｗを搬送する。搬送機構３４ａ１は、検査部４１ａ１以外の検査部４１に基板Ｗを搬送しない。検査部４１ａ１には、専ら搬送機構３４ａ１が基板Ｗを搬送する。具体的には、搬送機構３４ａは、検査ユニット４２ａ１に基板Ｗを搬送する。同様に、搬送機構３４ａ２−３４ａ４、３４ｂ１−３４ｂ４はそれぞれ、検査部４１ａ２−４１ａ４、４１ｂ１−４１ｂ４に基板Ｗを搬送する。具体的には、搬送機構３４ａ２−３４ａ４、３４ｂ１−３４ｂ４はそれぞれ、検査ユニット４２ａ２−４２ａ４、４２ｂ１−４２ｂ４に基板Ｗを搬送する。 The transport mechanism 34a1 transports the substrate W to the inspection unit 41a1. The transport mechanism 34a1 does not transport the substrate W to the inspection units 41 other than the inspection unit 41a1. The transport mechanism 34a1 exclusively transports the substrate W to the inspection unit 41a1. Specifically, the transport mechanism 34a transports the substrate W to the inspection unit 42a1. Similarly, the transport mechanisms 34a2-34a4 and 34b1-34b4 transport the substrate W to the inspection units 41a2-41a4 and 41b1-41b4, respectively. Specifically, the transport mechanisms 34a2-34a4 and 34b1-34b4 transport the substrate W to the inspection units 42a2-42a4 and 42b1-42b4, respectively.

＜＜熱処理ブロック３１の各要素の配置＞＞
搬送スペース３２と熱処理用搬送機構３３と熱処理部３７と検査部４１の配置を説明する。 <<Arrangement of Each Element of Heat Treatment Block 31>>
The arrangement of the transfer space 32, the heat treatment transfer mechanism 33, the heat treatment section 37, and the inspection section 41 will be described.

図１を参照する。搬送スペース３２は、平面視において、幅方向Ｙにおける熱処理ブロック３１の中央部に配置される。搬送スペース３２は、平面視において、略矩形形状を有する。搬送スペース３２は、略前後方向Ｘに延びる。搬送スペース３２は、インデクサ部２１の搬送スペース２３に接する。搬送スペース３２は、搬送機構２６ａの左方かつ後方に配置される。搬送スペース３２は、搬送機構２７ｂの右方かつ後方に配置される。 Please refer to FIG. The transport space 32 is arranged in the central portion of the heat treatment block 31 in the width direction Y in a plan view. The transport space 32 has a substantially rectangular shape in a plan view. The transport space 32 extends substantially in the front-rear direction X. The transport space 32 contacts the transport space 23 of the indexer unit 21. The transport space 32 is arranged to the left and rear of the transport mechanism 26a. The transport space 32 is arranged to the right and rear of the transport mechanism 27b.

図８は、熱処理ブロック３１の拡大平面図である。幅方向Ｙにおける搬送スペース３２の長さＬ１は、例えば、基板Ｗの半径ｒの５倍以下である。長さＬ１は、基板Ｗの半径ｒの４倍以上である。長さＬ１は、前後方向Ｘにおける搬送スペース３２の長さＬ２よりも短い。このように、長さＬ１は、比較的に小さい。 FIG. 8 is an enlarged plan view of the heat treatment block 31. The length L1 of the transfer space 32 in the width direction Y is, for example, 5 times or less the radius r of the substrate W. The length L1 is four times or more the radius r of the substrate W. The length L1 is shorter than the length L2 of the transport space 32 in the front-rear direction X. Thus, the length L1 is relatively small.

図７、８を参照する。搬送スペース３２は、搬送スペース３２の中心に位置する仮想的な中心点Ｊを有する。図７は、中心点Ｊを通り、幅方向Ｙと直交する仮想面Ｋを示す。搬送機構３４ａ１−３４ａ４は、仮想面Ｋの右方に配置される。搬送機構３４ｂ１−３４ｂ４は、仮想面Ｋの左方に配置される。 Please refer to FIG. The transport space 32 has a virtual center point J located at the center of the transport space 32. FIG. 7 shows an imaginary plane K that passes through the center point J and is orthogonal to the width direction Y. The transport mechanisms 34a1-34a4 are arranged on the right side of the virtual plane K. The transport mechanisms 34b1-34b4 are arranged on the left side of the virtual plane K.

搬送機構３４ｂ１は、搬送機構３４ａ１と略同じ高さ位置に配置される。搬送機構３４ａ１、３４ｂ１は、幅方向Ｙに並ぶように配置される。搬送機構３４ｂ１は、搬送機構３４ａ１の左方に配置される。搬送機構３４ｂ１は、搬送機構３４ａ１と左右対称な位置に配置される。具体的には、搬送機構３４ｂ１は、仮想面Ｋに対して搬送機構３４ａ１と左右対称な位置に配置される。 The transport mechanism 34b1 is arranged at substantially the same height as the transport mechanism 34a1. The transport mechanisms 34a1 and 34b1 are arranged side by side in the width direction Y. The transport mechanism 34b1 is arranged to the left of the transport mechanism 34a1. The transport mechanism 34b1 is arranged at a position symmetrical to the transport mechanism 34a1. Specifically, the transport mechanism 34b1 is arranged at a position symmetrical to the transport mechanism 34a1 with respect to the virtual plane K.

搬送機構３４ａ２、３４ｂ２の相対的な位置関係は、搬送機構３４ａ１、３４ｂ１の相対的な位置関係と同じである。搬送機構３４ａ３、３４ｂ３の相対的な位置関係は、搬送機構３４ａ１、３４ｂ１の相対的な位置関係と同じである。搬送機構３４ａ４、３４ｂ４の相対的な位置関係は、搬送機構３４ａ１、３４ｂ１の相対的な位置関係と同じである。 The relative positional relationship between the transport mechanisms 34a2 and 34b2 is the same as the relative positional relationship between the transport mechanisms 34a1 and 34b1. The relative positional relationship between the transport mechanisms 34a3 and 34b3 is the same as the relative positional relationship between the transport mechanisms 34a1 and 34b1. The relative positional relationship between the transport mechanisms 34a4 and 34b4 is the same as the relative positional relationship between the transport mechanisms 34a1 and 34b1.

図７を参照する。搬送機構３４ａ２、３４ｂ２は、搬送機構３４ａ１、３４ｂ１の上方に配置される。搬送機構３４ａ３、３４ｂ３は、搬送機構３４ａ２、３４ｂ２の上方に配置される。搬送機構３４ａ４、３４ｂ４は、搬送機構３４ａ３、３４ｂ３の上方に配置される。 Please refer to FIG. The transport mechanisms 34a2 and 34b2 are arranged above the transport mechanisms 34a1 and 34b1. The transport mechanisms 34a3 and 34b3 are arranged above the transport mechanisms 34a2 and 34b2. The transport mechanisms 34a4 and 34b4 are arranged above the transport mechanisms 34a3 and 34b3.

搬送機構３４ａ１−３４ａ４は、上下方向Ｚに並ぶように配置される。搬送機構３４ａ２は、平面視において、搬送機構３４ａ１と重なる。搬送機構３４ａ３は、平面視において、搬送機構３４ａ１と重なる。搬送機構３４ａ４は、平面視において、搬送機構３４ａ１と重なる。 The transport mechanisms 34a1-34a4 are arranged side by side in the vertical direction Z. The transport mechanism 34a2 overlaps the transport mechanism 34a1 in a plan view. The transport mechanism 34a3 overlaps the transport mechanism 34a1 in a plan view. The transport mechanism 34a4 overlaps the transport mechanism 34a1 in a plan view.

搬送機構３４ｂ１−３４ｂ４は、上下方向Ｚに並ぶように配置される。搬送機構３４ｂ２は、平面視において、搬送機構３４ｂ１と重なる。搬送機構３４ｂ３は、平面視において、搬送機構３４ｂ１と重なる。搬送機構３４ｂ４は、平面視において、搬送機構３４ｂ１と重なる。 The transport mechanisms 34b1-34b4 are arranged side by side in the vertical direction Z. The transport mechanism 34b2 overlaps the transport mechanism 34b1 in a plan view. The transport mechanism 34b3 overlaps the transport mechanism 34b1 in a plan view. The transport mechanism 34b4 overlaps the transport mechanism 34b1 in a plan view.

図１、２、４、７、８を参照する。熱処理部３７ａ１と搬送スペース３２と熱処理部３７ｂ１は、略幅方向Ｙにこの順番で並ぶように配置される。換言すれば、搬送スペース３２は、略幅方向Ｙにおいて、熱処理部３７ａ１と熱処理部３７ｂ１の間に配置される。同様に、熱処理部３７ａ２と搬送スペース３２と熱処理部３７ｂ２は、略幅方向Ｙにこの順番で並ぶように配置される。熱処理部３７ａ３と搬送スペース３２と熱処理部３７ｂ３は、略幅方向Ｙにこの順番で並ぶように配置される。熱処理部３７ａ４と搬送スペース３２と熱処理部３７ｂ４は、略幅方向Ｙにこの順番で並ぶように配置される。 Please refer to FIGS. 1, 2, 4, 7, and 8. The heat treatment section 37a1, the transfer space 32, and the heat treatment section 37b1 are arranged in this order in the substantially width direction Y. In other words, the transport space 32 is arranged between the heat treatment section 37a1 and the heat treatment section 37b1 in the substantially width direction Y. Similarly, the heat treatment section 37a2, the transport space 32, and the heat treatment section 37b2 are arranged in this order in the width direction Y. The heat treatment section 37a3, the transport space 32, and the heat treatment section 37b3 are arranged in this order in the substantially width direction Y. The heat treatment section 37a4, the transport space 32, and the heat treatment section 37b4 are arranged in this order in the substantially width direction Y.

具体的には、熱処理部３７ａ１−３７ａ４は、搬送スペース３２の右方の位置に配置される。熱処理部３７ｂ１−３７ｂ４は、搬送スペース３２の左方の位置に配置される。 Specifically, the heat treatment parts 37a1-37a4 are arranged at the right side of the transport space 32. The heat treatment parts 37b1-37b4 are arranged at positions on the left side of the transport space 32.

図７を参照する。熱処理部３７ａ１は、搬送機構３４ａ１と略同じ高さ位置に配置される。熱処理部３７ａ１は、搬送機構３４ａ１と略幅方向Ｙに並ぶように配置される。熱処理部３７ａ１は、搬送機構３４ａ１の右方の位置に配置される。同様に、熱処理部３７ａ２−３７ａ４はそれぞれ、搬送機構３４ａ２−３４ａ４と略同じ高さ位置に配置される。熱処理部３７ａ２−３７ａ４はそれぞれ、搬送機構３４ａ２−３４ａ４と略幅方向Ｙに並ぶように配置される。熱処理部３７ａ２−３７ａ４はそれぞれ、搬送機構３４ａ２−３４ａ４の右方の位置に配置される。 Please refer to FIG. The heat treatment section 37a1 is arranged at substantially the same height as the transport mechanism 34a1. The heat treatment section 37a1 is arranged so as to be aligned with the transport mechanism 34a1 in the substantially width direction Y. The heat treatment section 37a1 is arranged at the right side of the transport mechanism 34a1. Similarly, the thermal processing units 37a2-37a4 are arranged at substantially the same height positions as the transport mechanisms 34a2-34a4. The thermal processing units 37a2-37a4 are arranged so as to be aligned with the transport mechanisms 34a2-34a4 in the substantially width direction Y, respectively. The thermal processing sections 37a2-37a4 are arranged at the right positions of the transport mechanisms 34a2-34a4, respectively.

熱処理部３７ｂ１は、搬送機構３４ｂ１と略同じ高さ位置に配置される。熱処理部３７ｂ１は、搬送機構３４ｂ１と略幅方向Ｙに並ぶように配置される。熱処理部３７ｂ１は、搬送機構３４ｂ１の左方の位置に配置される。同様に、熱処理部３７ｂ２−３７ｂ４はそれぞれ、搬送機構３４ｂ２−３４ｂ４と略同じ高さ位置に配置される。熱処理部３７ｂ２−３７ｂ４はそれぞれ、搬送機構３４ｂ２−３４ｂ４と略幅方向Ｙに並ぶように配置される。熱処理部３７ｂ２−３７ｂ４はそれぞれ、搬送機構３４ｂ２−３４ｂ４の左方の位置に配置される。 The heat treatment section 37b1 is arranged at substantially the same height as the transport mechanism 34b1. The heat treatment section 37b1 is arranged so as to be aligned with the transport mechanism 34b1 in the substantially width direction Y. The heat treatment section 37b1 is arranged at a position on the left side of the transport mechanism 34b1. Similarly, the thermal processing units 37b2-37b4 are arranged at substantially the same height positions as the transport mechanisms 34b2-34b4. The heat treatment sections 37b2-37b4 are arranged so as to be aligned with the transport mechanisms 34b2-34b4 in the substantially width direction Y, respectively. The thermal processing units 37b2-37b4 are arranged at the left positions of the transport mechanisms 34b2-34b4, respectively.

熱処理部３７ａ１と搬送機構３４ａ１と搬送機構３４ｂ１と熱処理部３７ｂ１は、略幅方向Ｙにこの順番で並ぶように配置される。同様に、熱処理部３７ａ２と搬送機構３４ａ２と搬送機構３４ｂ２と熱処理部３７ｂ２は、略幅方向Ｙにこの順番で並ぶように配置される。熱処理部３７ａ３と搬送機構３４ａ３と搬送機構３４ｂ３と熱処理部３７ｂ３は、略幅方向Ｙにこの順番で並ぶように配置される。熱処理部３７ａ４と搬送機構３４ａ４と搬送機構３４ｂ４と熱処理部３７ｂ４は、略幅方向Ｙにこの順番で並ぶように配置される。 The heat treatment section 37a1, the transport mechanism 34a1, the transport mechanism 34b1, and the heat treatment section 37b1 are arranged in this order in the width direction Y. Similarly, the heat treatment unit 37a2, the transport mechanism 34a2, the transport mechanism 34b2, and the heat treatment unit 37b2 are arranged in this order in the substantial width direction Y. The heat treatment section 37a3, the transport mechanism 34a3, the transport mechanism 34b3, and the heat treatment section 37b3 are arranged in this order in the width direction Y. The heat treatment section 37a4, the conveyance mechanism 34a4, the conveyance mechanism 34b4, and the heat treatment section 37b4 are arranged in this order in the substantial width direction Y.

図２、７を参照する。熱処理部３７ａ１−３７ａ４は、上下方向Ｚに並ぶように配置される。熱処理部３７ａ２は、熱処理部３７ａ１の上方に配置される。熱処理部３７ａ３は、熱処理部３７ａ２の上方に配置される。熱処理部３７ａ４は、熱処理部３７ａ３の上方に配置される。熱処理部３７ａ２は、平面視において、熱処理部３７ａ１と重なる。熱処理部３７ａ３は、平面視において、熱処理部３７ａ１と重なる。熱処理部３７ａ４は、平面視において、熱処理部３７ａ１と重なる。 Please refer to FIG. The thermal processing sections 37a1-37a4 are arranged in the vertical direction Z. The heat treatment section 37a2 is arranged above the heat treatment section 37a1. The heat treatment section 37a3 is arranged above the heat treatment section 37a2. The heat treatment section 37a4 is arranged above the heat treatment section 37a3. The heat treatment section 37a2 overlaps the heat treatment section 37a1 in a plan view. The heat treatment section 37a3 overlaps the heat treatment section 37a1 in a plan view. The heat treatment section 37a4 overlaps the heat treatment section 37a1 in a plan view.

図４、７を参照する。熱処理部３７ｂ１−３７ｂ４は、上下方向Ｚに並ぶように配置される。熱処理部３７ｂ２は、熱処理部３７ｂ１の上方に配置される。熱処理部３７ｂ３は、熱処理部３７ｂ２の上方に配置される。熱処理部３７ｂ４は、熱処理部３７ｂ３の上方に配置される。熱処理部３７ｂ２は、平面視において、熱処理部３７ｂ１と重なる。熱処理部３７ｂ３は、平面視において、熱処理部３７ｂ１と重なる。熱処理部３７ｂ４は、平面視において、熱処理部３７ｂ１と重なる。 Please refer to FIG. The thermal processing sections 37b1-37b4 are arranged in the vertical direction Z. The heat treatment section 37b2 is arranged above the heat treatment section 37b1. The heat treatment section 37b3 is arranged above the heat treatment section 37b2. The heat treatment section 37b4 is arranged above the heat treatment section 37b3. The heat treatment section 37b2 overlaps the heat treatment section 37b1 in a plan view. The heat treatment section 37b3 overlaps the heat treatment section 37b1 in a plan view. The heat treatment section 37b4 overlaps the heat treatment section 37b1 in a plan view.

図７を参照する。熱処理部３７ｂ１は、熱処理部３７ａ１と略同じ高さ位置に配置される。熱処理部３７ｂ１は、搬送スペース３２を挟んで、熱処理部３７ａ１と向かい合う。熱処理部３７ｂ１は、熱処理部３７ａ１と左右対称な位置に配置される。具体的には、熱処理部３７ｂ１は、仮想面Ｋに対して熱処理部３７ａ１と左右対称な位置に配置される。 Please refer to FIG. The heat treatment section 37b1 is arranged at substantially the same height as the heat treatment section 37a1. The heat treatment section 37b1 faces the heat treatment section 37a1 with the transport space 32 interposed therebetween. The heat treatment section 37b1 is arranged at a position symmetrical to the heat treatment section 37a1. Specifically, the heat treatment section 37b1 is arranged at a position symmetrical to the heat treatment section 37a1 with respect to the virtual plane K.

熱処理部３７ａ２、３７ｂ２の相対的な位置関係は、熱処理部３７ａ１、３７ｂ１の相対的な位置関係と同じである。熱処理部３７ａ３、３７ｂ３の相対的な位置関係は、熱処理部３７ａ１、３７ｂ１の相対的な位置関係と同じである。熱処理部３７ａ４、３７ｂ４の相対的な位置関係は、熱処理部３７ａ１、３７ｂ１の相対的な位置関係と同じである。 The relative positional relationship between the thermal processing sections 37a2 and 37b2 is the same as the relative positional relationship between the thermal processing sections 37a1 and 37b1. The relative positional relationship between the thermal processing sections 37a3 and 37b3 is the same as the relative positional relationship between the thermal processing sections 37a1 and 37b1. The relative positional relationship between the thermal processing sections 37a4 and 37b4 is the same as the relative positional relationship between the thermal processing sections 37a1 and 37b1.

図１、２、４を参照する。検査部４１ａ１−４１ａ４は、搬送スペース３２の右方の位置に配置される。検査部４１ｂ１−４１ｂ４は、搬送スペース３２の左方の位置に配置される。 Please refer to FIGS. The inspection units 41a1-41a4 are arranged at the right side of the transport space 32. The inspection units 41b1-41b4 are arranged at positions on the left side of the transport space 32.

図示を省略するが、検査部４１ａ１−４１ａ８はそれぞれ、搬送機構３４ａ１−３４ａ４、３４ｂ１−３４ｂ４と略同じ高さ位置に配置される。検査部４１ａ１−４１ａ４はそれぞれ、搬送機構３４ａ１−３４ａ４の右方に配置される。検査部４１ｂ１−４１ｂ４はそれぞれ、搬送機構３４ｂ１−３４ｂ４の左方に配置される。 Although not shown, the inspection units 41a1-41a8 are arranged at substantially the same height positions as the transport mechanisms 34a1-34a4 and 34b1-34b4. The inspection units 41a1-41a4 are arranged to the right of the transport mechanisms 34a1-34a4, respectively. The inspection units 41b1-41b4 are arranged to the left of the transport mechanisms 34b1-34b4, respectively.

検査部４１ａ１−４１ａ４は、上下方向Ｚに並ぶように配置される。検査部４１ｂ１−４１ｂ４は、上下方向Ｚに並ぶように配置される。 The inspection units 41a1-41a4 are arranged side by side in the vertical direction Z. The inspection units 41b1-41b4 are arranged side by side in the vertical direction Z.

検査部４１ｂ１は、検査部４１ａ１と略同じ高さ位置に配置される。検査部４１ｂ１は、搬送スペース３２を挟んで、検査部４１ａ１と向かい合う。検査部４１ｂ１は、検査部４１ａ１と左右対称な位置に配置される。具体的には、検査部４１ｂ１は、仮想面Ｋに対して検査部４１ａ１と左右対称な位置に配置される。 The inspection unit 41b1 is arranged at substantially the same height as the inspection unit 41a1. The inspection unit 41b1 faces the inspection unit 41a1 with the transport space 32 interposed therebetween. The inspection unit 41b1 is arranged at a position symmetrical with the inspection unit 41a1. Specifically, the inspection unit 41b1 is arranged at a position symmetrical to the inspection unit 41a1 with respect to the virtual plane K.

検査部４１ａ２、４１ｂ２の相対的な位置関係は、検査部４１ａ１、４１ｂ１の相対的な位置関係と同じである。検査部４１ａ３、４１ｂ３の相対的な位置関係は、検査部４１ａ１、４１ｂ１の相対的な位置関係と同じである。検査部４１ａ４、４１ｂ４の相対的な位置関係は、検査部４１ａ１、４１ｂ１の相対的な位置関係と同じである。 The relative positional relationship between the inspection units 41a2 and 41b2 is the same as the relative positional relationship between the inspection units 41a1 and 41b1. The relative positional relationship between the inspection units 41a3 and 41b3 is the same as the relative positional relationship between the inspection units 41a1 and 41b1. The relative positional relationship between the inspection units 41a4 and 41b4 is the same as the relative positional relationship between the inspection units 41a1 and 41b1.

図８を参照する。複数（例えば２つまたは３つ）の熱処理ユニット３８ａ１は、略前後方向Ｘに並ぶように配置される。複数（例えば２つまたは３つ）の熱処理ユニット３８ｂ１は、略前後方向Ｘに並ぶように配置される。 Please refer to FIG. A plurality of (for example, two or three) heat treatment units 38a1 are arranged so as to be aligned in the substantially front-rear direction X. A plurality (for example, two or three) of the heat treatment units 38b1 are arranged so as to be aligned in the front-rear direction X.

前後方向Ｘにおける１つの熱処理ユニット３８ａ１の長さＬａは、基板Ｗの半径ｒの３倍以下である。長さＬａは、基板Ｗの半径ｒの２倍よりも大きい。 The length La of one heat treatment unit 38a1 in the front-rear direction X is 3 times or less the radius r of the substrate W. The length La is larger than twice the radius r of the substrate W.

熱処理ユニット３８ａ１はそれぞれ、熱処理ユニット３８ａ１の中心に位置する仮想的な第１中心点Ｇａ１を有する。略前後方向Ｘに隣り合う２つの第１中心点Ｇａ１の間の距離Ｄａは、基板Ｗの半径ｒの３倍以下である。距離Ｄａは、基板Ｗの半径ｒの２倍よりも大きい。 Each heat treatment unit 38a1 has an imaginary first center point Ga1 located at the center of the heat treatment unit 38a1. A distance Da between two first center points Ga1 adjacent to each other in the front-rear direction X is three times or less the radius r of the substrate W. The distance Da is larger than twice the radius r of the substrate W.

前後方向Ｘにおける１つの熱処理ユニット３８ｂ１の長さＬｂは、基板Ｗの半径ｒの３倍以下である。長さＬｂは、基板Ｗの半径ｒの２倍よりも大きい。長さＬｂは、長さＬａと略等しい。 The length Lb of one heat treatment unit 38b1 in the front-rear direction X is 3 times or less the radius r of the substrate W. The length Lb is larger than twice the radius r of the substrate W. The length Lb is substantially equal to the length La.

熱処理ユニット３８ｂ１はそれぞれ、熱処理ユニット３８ｂ１の中心に位置する仮想的な第２中心点Ｇｂ１を有する。略前後方向Ｘに隣り合う２つの第２中心点Ｇｂ１の間の距離Ｄｂは、基板Ｗの半径ｒの３倍以下である。距離Ｄｂは、基板Ｗの半径ｒの２倍よりも大きい。距離Ｄｂは、距離Ｄａと略等しい。 Each heat treatment unit 38b1 has a virtual second center point Gb1 located at the center of the heat treatment unit 38b1. A distance Db between two second center points Gb1 adjacent to each other in the front-rear direction X is three times or less the radius r of the substrate W. The distance Db is larger than twice the radius r of the substrate W. The distance Db is substantially equal to the distance Da.

図２を参照する。複数（例えば２つまたは３つ）の熱処理ユニット３８ａ１は、略上下方向Ｚに並ぶように配置される。 Please refer to FIG. The plurality (for example, two or three) of the heat treatment units 38a1 are arranged so as to be aligned in the substantially vertical direction Z.

複数の熱処理ユニット３８ａ１と１つの検査ユニット４２ａ１は、側面視において、行列状に配置される。例えば、複数の熱処理ユニット３８ａ１と１つの検査ユニット４２ａ１は、前後方向Ｘに３列、および、上下方向Ｚに３段で、配置される。検査ユニット４２ａは、平面視において、少なくとも１つ以上の熱処理ユニット３８ａ１と重なる。 The plurality of heat treatment units 38a1 and one inspection unit 42a1 are arranged in a matrix in a side view. For example, the plurality of heat treatment units 38a1 and one inspection unit 42a1 are arranged in three rows in the front-rear direction X and three rows in the vertical direction Z. The inspection unit 42a overlaps with at least one heat treatment unit 38a1 in a plan view.

図４を参照する。複数（例えば２つまたは３つ）の熱処理ユニット３８ｂ１は、略上下方向Ｚに並ぶように配置される。 Please refer to FIG. A plurality (for example, two or three) of the heat treatment units 38b1 are arranged so as to be aligned in the substantially vertical direction Z.

複数の熱処理ユニット３８ｂ１と１つの検査ユニット４２ｂ１は、側面視において、行列状に配置される。例えば、複数の熱処理ユニット３８ｂ１と１つの検査ユニット４２ｂ１は、前後方向Ｘに３列、および、上下方向Ｚに３段で、配置される。検査ユニット４２ｂ１は、平面視において、少なくとも１つ以上の熱処理ユニット３８ｂ１と重なる。 The plurality of heat treatment units 38b1 and one inspection unit 42b1 are arranged in a matrix in a side view. For example, the plurality of heat treatment units 38b1 and one inspection unit 42b1 are arranged in three rows in the front-rear direction X and three rows in the vertical direction Z. The inspection unit 42b1 overlaps with at least one heat treatment unit 38b1 in a plan view.

熱処理ユニット３８ａ２、３８ａ３、３８ａ４はそれぞれ、熱処理ユニット３８ａ１と同様に配置される。熱処理ユニット３８ｂ２、３８ｂ３、３８ｂ４はそれぞれ、熱処理ユニット３８ｂ１と同様に配置される。検査ユニット４２ａ２、４２ａ２、３４ａ４はそれぞれ、検査ユニット４２ａ１と同様に配置される。検査ユニット４２ｂ２、４２ｂ２、３４ｂ４はそれぞれ、検査ユニット４２ｂ１と同様に配置される。 The heat treatment units 38a2, 38a3, 38a4 are arranged similarly to the heat treatment unit 38a1. The heat treatment units 38b2, 38b3, 38b4 are arranged in the same manner as the heat treatment unit 38b1. The inspection units 42a2, 42a2, 34a4 are arranged similarly to the inspection unit 42a1. The inspection units 42b2, 42b2, 34b4 are arranged in the same manner as the inspection unit 42b1.

＜＜熱処理ブロック３１の搬送機構３４の構造＞＞
図３、８を参照して、搬送機構３４ａ１の構造を説明する。搬送機構３４ａ１は、レール部３５ａと、水平移動部３５ｂと、垂直移動部３５ｃと、アーム部３５ｄと、保持部３５ｅとを備える。レール部３５ａは、固定的に設けられる。レール部３５ａは略水平方向に延びる。具体的には、レール部３５ａは略前後方向Ｘに延びる。レール部３５ａは、第１中心点Ｇａ１のいずれよりも前方の位置から、第１中心点Ｇａ１のいずれよりも後方の位置まで、延びる。水平移動部３５ｂは、レール部３５ａに支持される。水平移動部３５ｂは、レール部３５ａに対して略水平方向に移動可能である。具体的には、水平移動部３５ｂは、レール部３５ａに対して略前後方向Ｘに移動可能である。水平移動部３５ｂは、略上下方向Ｚに延びる。上下方向Ｚにおける水平移動部３５ｂの長さは、前後方向Ｘにおけるレール部３５ａの長さよりも短い。垂直移動部３５ｃは、水平移動部３５ｂに支持される。垂直移動部３５ｃは、水平移動部３５ｂに対して略上下方向Ｚに移動可能である。垂直移動部３５ｃは、水平移動部３５ｂから右方に突出する。アーム部３５ｄは、垂直移動部３５ｃに支持される。アーム部３５ｄは、垂直移動部３５ｃに対して回転軸線Ａ３５ｄ回りに回転可能である。回転軸線Ａ３５ｄは、略上下方向Ｚと平行な仮想線である。回転軸線Ａ３５ｄは、例えば、アーム部３５ｄを通る。回転軸線Ａ３５ｄは、例えば、水平移動部３５ｂの右方に位置する。アーム部３５ｄは、垂直移動部３５ｃから水平方向に延びる。保持部３５ｅは、アーム部３５ｄに支持される。保持部３５ｅは、アーム部３５ｄに固定される。回転軸線Ａ３５ｄは、保持部３５ｅを通らない。保持部３５ｅは、回転軸線Ａ３５ｄから外れた位置に配置される。保持部３５ｅは、１枚の基板Ｗを水平姿勢で保持する。 <<Structure of Transport Mechanism 34 of Heat Treatment Block 31>>
The structure of the transport mechanism 34a1 will be described with reference to FIGS. The transport mechanism 34a1 includes a rail portion 35a, a horizontal moving portion 35b, a vertical moving portion 35c, an arm portion 35d, and a holding portion 35e. The rail portion 35a is fixedly provided. The rail portion 35a extends in a substantially horizontal direction. Specifically, the rail portion 35a extends substantially in the front-rear direction X. The rail portion 35a extends from a position in front of any of the first center points Ga1 to a position in back of any of the first center points Ga1. The horizontal moving part 35b is supported by the rail part 35a. The horizontal moving portion 35b is movable in a substantially horizontal direction with respect to the rail portion 35a. Specifically, the horizontal moving portion 35b is movable in the substantially front-back direction X with respect to the rail portion 35a. The horizontal moving portion 35b extends in the substantially vertical direction Z. The length of the horizontal moving portion 35b in the vertical direction Z is shorter than the length of the rail portion 35a in the front-rear direction X. The vertical moving unit 35c is supported by the horizontal moving unit 35b. The vertical moving portion 35c is movable in the substantially vertical direction Z with respect to the horizontal moving portion 35b. The vertical moving portion 35c projects rightward from the horizontal moving portion 35b. The arm portion 35d is supported by the vertical movement portion 35c. The arm portion 35d is rotatable about the rotation axis A35d with respect to the vertical moving portion 35c. The rotation axis A35d is a virtual line that is substantially parallel to the vertical direction Z. The rotation axis A35d passes through the arm portion 35d, for example. The rotation axis A35d is located, for example, to the right of the horizontal moving unit 35b. The arm portion 35d extends horizontally from the vertical movement portion 35c. The holding portion 35e is supported by the arm portion 35d. The holding portion 35e is fixed to the arm portion 35d. The rotation axis A35d does not pass through the holding portion 35e. The holding portion 35e is arranged at a position deviated from the rotation axis A35d. The holder 35e holds one substrate W in a horizontal posture.

搬送機構３４ａ１は、さらに、アーム部３５ｆと保持部３５ｇを備える。アーム部３５ｆと保持部３５ｇはそれぞれ、アーム部３５ｄと保持部３５ｅと略同じ形状および構造を有する。アーム部３５ｆは、アーム部３５ｄの下方に配置される。アーム部３５ｆは、垂直移動部３５ｃに支持される。アーム部３５ｆは、垂直移動部３５ｃに対して回転軸線Ａ３５ｆ回りに回転可能である。回転軸線Ａ３５ｆは、略上下方向Ｚと平行な仮想線である。回転軸線Ａ３５ｆは、回転軸線Ａ３５ｄと同軸線上に位置する。アーム部３５ｆは、アーム部３５ｄとは独立して回転可能である。保持部３５ｇはアーム部３５ｆに固定される。 The transport mechanism 34a1 further includes an arm portion 35f and a holding portion 35g. The arm portion 35f and the holding portion 35g have substantially the same shape and structure as the arm portion 35d and the holding portion 35e, respectively. The arm portion 35f is arranged below the arm portion 35d. The arm portion 35f is supported by the vertical movement portion 35c. The arm portion 35f is rotatable about the rotation axis A35f with respect to the vertical moving portion 35c. The rotation axis A35f is a virtual line that is substantially parallel to the vertical direction Z. The rotation axis A35f is located coaxially with the rotation axis A35d. The arm portion 35f can rotate independently of the arm portion 35d. The holding portion 35g is fixed to the arm portion 35f.

このように、保持部３５ｅ、３５ｇはそれぞれ、前後方向Ｘおよび上下方向Ｚに平行移動可能である。さらに、保持部３５ｅ、３５ｇはそれぞれ、回転軸線Ａ３５ｄ回りに回転可能である。但し、保持部３５ｅ、３５ｇはそれぞれ、幅方向Ｙに平行移動できない。 In this way, the holding portions 35e and 35g can be moved in parallel in the front-rear direction X and the vertical direction Z, respectively. Furthermore, each of the holding portions 35e and 35g is rotatable around the rotation axis A35d. However, the holding portions 35e and 35g cannot be moved in parallel in the width direction Y, respectively.

図８は、平面視において、回転軸線Ａ３５ｄを通り、略前後方向Ｘと平行な仮想線Ｅを示す。仮想線Ｅは、回転軸線Ａ３５ｆを通る。平面視において、回転軸線Ａ３５ｄ、Ａ３５ｆは、仮想線Ｅ上を移動する。平面視において、回転軸線Ａ３５ｄ、Ａ３５ｆは、仮想線Ｅから外れた位置に移動できない。 FIG. 8 shows a virtual line E that passes through the rotation axis A35d and is substantially parallel to the front-rear direction X in a plan view. The virtual line E passes through the rotation axis A35f. The rotation axes A35d and A35f move on the imaginary line E in a plan view. In plan view, the rotation axes A35d and A35f cannot move to positions outside the imaginary line E.

平面視において、水平移動部３５ｂに対する回転軸線Ａ３５ｄの相対的な位置は、一定であり、かつ、平面視において、保持部３５ｅと回転軸線Ａ３５ｄとの距離は、一定である。このため、搬送機構３４ａ１の構造は、簡素である。以下、具体的に説明する。 The relative position of the rotation axis A35d with respect to the horizontal moving portion 35b is constant in a plan view, and the distance between the holding portion 35e and the rotation axis A35d is constant in a plan view. Therefore, the structure of the transport mechanism 34a1 is simple. The details will be described below.

平面視において、水平移動部３５ｂに対する回転軸線Ａ３５ｄの相対的な位置は、一定である。例えば、水平移動部３５ｂに対してアーム部３５ｄが回転軸線Ａ３５ｄ回りに回転しても、回転軸線Ａ３５ｄは、平面視において、水平移動部３５ｂの右方の位置に保たれる。このため、水平移動部３５ｂがアーム部３５ｄを支持する構造は、比較的に簡素である。平面視において、保持部３５ｅと回転軸線Ａ３５ｄとの距離は、一定である。例えば、水平移動部３５ｂおよび垂直移動部３５ｃに対してアーム部３５ｄが回転軸線Ａ３５ｄ回りに回転しても、保持部３５ｅと回転軸線Ａ３５ｄとの距離は、一定に保たれる。このため、アーム部３５ｄが保持部３５ｅを支持する構造は、比較的に簡素である。 In a plan view, the relative position of the rotation axis A35d with respect to the horizontal moving portion 35b is constant. For example, even if the arm portion 35d rotates around the rotation axis A35d with respect to the horizontal movement portion 35b, the rotation axis A35d is maintained at the right side position of the horizontal movement portion 35b in plan view. Therefore, the structure in which the horizontal moving portion 35b supports the arm portion 35d is relatively simple. In plan view, the distance between the holding portion 35e and the rotation axis A35d is constant. For example, even if the arm portion 35d rotates about the rotation axis A35d with respect to the horizontal movement portion 35b and the vertical movement portion 35c, the distance between the holding portion 35e and the rotation axis A35d is kept constant. Therefore, the structure in which the arm portion 35d supports the holding portion 35e is relatively simple.

同様に、平面視において、水平移動部３５ｂに対する回転軸線Ａ３５ｆの相対的な位置は、一定であり、かつ、平面視において、保持部３５ｇと回転軸線Ａ３５ｆとの距離は、一定である。このため、保持部３５ｇに注目しても、搬送機構３４ａ１の構造は、簡素である。具体的には、水平移動部３５ｂがアーム部３５ｆを支持する構造は、比較的に簡素であり、かつ、アーム部３５ｆが保持部３５ｇを支持する構造は、比較的に簡素である。 Similarly, in a plan view, the relative position of the rotation axis A35f with respect to the horizontal moving portion 35b is constant, and in a plan view, the distance between the holding portion 35g and the rotation axis A35f is constant. Therefore, the structure of the transport mechanism 34a1 is simple, even if the holder 35g is focused. Specifically, the structure in which the horizontal moving portion 35b supports the arm portion 35f is relatively simple, and the structure in which the arm portion 35f supports the holding portion 35g is relatively simple.

搬送機構３４ａ２−３４ａ４はそれぞれ、搬送機構３４ａ１と略同じ構造を有する。搬送機構３４ｂ１−３４ｂ４はそれぞれ、左右対称である点を除き、搬送機構３４ａ１と略同じ構造および形状を有する。 Each of the transport mechanisms 34a2-34a4 has substantially the same structure as the transport mechanism 34a1. Each of the transport mechanisms 34b1-34b4 has substantially the same structure and shape as the transport mechanism 34a1 except that they are bilaterally symmetric.

搬送機構３４ａ１は、熱処理ユニット３８ａ１に対して略前後方向Ｘに移動可能である。より具体的には、搬送機構３４ａ１の水平移動部３５ｂと垂直移動部３５ｃとアーム部３５ｄと保持部３５ｅとアーム部３５ｆと保持部３５ｇは、熱処理ユニット３８ａ１に対して略前後方向Ｘに移動可能である。同様に、搬送機構３４ａ２−３４ａ４、３４ｂ１−３４ｂ４はそれぞれ、熱処理ユニット３８ａ２−３８ａ４、３８ｂ１−３８ｂ４に対して略前後方向Ｘに移動可能である。 The transport mechanism 34a1 is movable in the front-rear direction X with respect to the heat treatment unit 38a1. More specifically, the horizontal moving portion 35b, the vertical moving portion 35c, the arm portion 35d, the holding portion 35e, the arm portion 35f, and the holding portion 35g of the transport mechanism 34a1 are movable in the substantially front-back direction X with respect to the heat treatment unit 38a1. Is. Similarly, the transport mechanisms 34a2-34a4 and 34b1-34b4 are movable in the front-rear direction X with respect to the heat treatment units 38a2-38a4 and 38b1-38b4, respectively.

搬送機構３４ａ１は、検査ユニット４２ａ１に対して略前後方向Ｘに移動可能である。同様に、搬送機構３４ａ２−３４ａ４、３４ｂ１−３４ｂ４はそれぞれ、検査ユニット４２ａ２−４２ａ４、４２ｂ１−４２ｂ４に対して略前後方向Ｘに移動可能である。 The transport mechanism 34a1 is movable in the front-rear direction X with respect to the inspection unit 42a1. Similarly, the transport mechanisms 34a2-34a4 and 34b1-34b4 are movable in the front-rear direction X with respect to the inspection units 42a2-42a4 and 42b1-42b4, respectively.

各搬送機構３４はそれぞれ、互いに独立して、略前後方向Ｘに移動可能である。例えば、搬送機構３４ａ１は、搬送機構３４ａ１以外の搬送機構３４とは独立して、略前後方向Ｘに移動可能である。 Each of the transport mechanisms 34 is movable in the front-rear direction X independently of each other. For example, the transport mechanism 34a1 is movable in the front-rear direction X independently of the transport mechanisms 34 other than the transport mechanism 34a1.

図８は、搬送機構３４ａ１が基板Ｗを搬送可能な領域Ｂａを模式的に示す。図８は、搬送機構３４ｂ１が基板Ｗを搬送可能な領域Ｂｂを模式的に示す。領域Ｂａ、Ｂｂはそれぞれ、前後方向Ｘに長い長円形状を有する。例えば、前後方向Ｘにおける領域Ｂａの長さは、幅方向Ｙにおける領域Ｂａの長さよりも大きい。 FIG. 8 schematically shows a region Ba in which the transport mechanism 34a1 can transport the substrate W. FIG. 8 schematically shows a region Bb in which the transport mechanism 34b1 can transport the substrate W. The regions Ba and Bb each have an elliptical shape that is long in the front-rear direction X. For example, the length of the region Ba in the front-rear direction X is larger than the length of the region Ba in the width direction Y.

搬送機構３４ａ２、３４ａ３、３４ａ４が基板Ｗを搬送可能な領域は、平面視において、領域Ｂａと略同じである。搬送機構３４ｂ２、３４ｂ３、３４ｂ４が基板Ｗを搬送可能な領域は、平面視において、領域Ｂｂと略同じである。 The area in which the transfer mechanisms 34a2, 34a3, 34a4 can transfer the substrate W is substantially the same as the area Ba in plan view. The area in which the transfer mechanisms 34b2, 34b3, 34b4 can transfer the substrate W is substantially the same as the area Bb in plan view.

搬送機構３４ａ１は、本発明における第１搬送機構の例である。搬送機構３４ｂ１は、本発明における第２搬送機構の例である。搬送機構３４ａ２は、本発明における第３搬送機構の例である。搬送機構３４ｂ２は、本発明における第４搬送機構の例である。 The transport mechanism 34a1 is an example of the first transport mechanism in the present invention. The transport mechanism 34b1 is an example of the second transport mechanism in the present invention. The transport mechanism 34a2 is an example of the third transport mechanism in the present invention. The transport mechanism 34b2 is an example of the fourth transport mechanism in the present invention.

搬送機構３４ａ１のレール部３５ａは、本発明における第１レール部の例である。搬送機構３４ａ１の水平移動部３５ｂは、本発明における第１水平移動部の例である。搬送機構３４ａ１の垂直移動部３５ｃは、本発明における第１垂直移動部の例である。搬送機構３４ａ１のアーム部３５ｄ、３５ｆは、本発明における第１アーム部の例である。搬送機構３４ａ１の回転軸線Ａ３５ｄ、Ａ３５ｆは、本発明における第１軸線の例である。搬送機構３４ａ１の保持部３５ｅ、３５ｇは、本発明における第１保持部の例である。 The rail portion 35a of the transport mechanism 34a1 is an example of the first rail portion in the present invention. The horizontal moving unit 35b of the transport mechanism 34a1 is an example of the first horizontal moving unit in the present invention. The vertical moving unit 35c of the transport mechanism 34a1 is an example of the first vertical moving unit in the present invention. The arm portions 35d and 35f of the transport mechanism 34a1 are examples of the first arm portion in the present invention. The rotation axes A35d and A35f of the transport mechanism 34a1 are examples of the first axis in the present invention. The holding portions 35e and 35g of the transport mechanism 34a1 are examples of the first holding portion in the present invention.

搬送機構３４ｂ１のレール部３５ａは、本発明における第２レール部の例である。搬送機構３４ｂ１の水平移動部３５ｂは、本発明における第２水平移動部の例である。搬送機構３４ｂ１の垂直移動部３５ｃは、本発明における第２垂直移動部の例である。搬送機構３４ｂ１のアーム部３５ｄ、３５ｆは、本発明における第２アーム部の例である。搬送機構３４ｂ１の回転軸線Ａ３５ｄ、Ａ３５ｆは、本発明における第２軸線の例である。搬送機構３４ｂ１の保持部３５ｅ、３５ｇは、本発明における第２保持部の例である。 The rail portion 35a of the transport mechanism 34b1 is an example of the second rail portion in the present invention. The horizontal moving unit 35b of the transport mechanism 34b1 is an example of the second horizontal moving unit in the present invention. The vertical moving unit 35c of the transport mechanism 34b1 is an example of the second vertical moving unit in the present invention. The arm portions 35d and 35f of the transport mechanism 34b1 are examples of the second arm portion in the present invention. The rotation axes A35d and A35f of the transport mechanism 34b1 are examples of the second axis in the present invention. The holding portions 35e and 35g of the transport mechanism 34b1 are examples of the second holding portion in the present invention.

＜＜熱処理ブロック３１の熱処理ユニット３８の構造＞＞
図１を参照して、熱処理ユニット３８の構造を説明する。なお、熱処理ユニット３８ａ１−３８ａ４、３８ｂ１−３８ｂ４の構造は、基本的に、略同じである。 <<Structure of the heat treatment unit 38 of the heat treatment block 31>>
The structure of the heat treatment unit 38 will be described with reference to FIG. 1. The structures of the heat treatment units 38a1-38a4 and 38b1-38b4 are basically the same.

熱処理ユニット３８は、第１プレート３９ａを備える。第１プレート３９ａは、略円盤形状を有する。１枚の基板Ｗが、第１プレート３９ａに載置される。例えば、搬送機構３４ａ１は、熱処理ユニット３８ａ１の第１プレート３９ａに基板Ｗを載置することができる。搬送機構３４ａ１は、熱処理ユニット３８ａ１の第１プレート３９ａ上の基板Ｗを取ることができる。 The heat treatment unit 38 includes a first plate 39a. The first plate 39a has a substantially disc shape. One substrate W is placed on the first plate 39a. For example, the transport mechanism 34a1 can place the substrate W on the first plate 39a of the thermal processing unit 38a1. The transport mechanism 34a1 can take the substrate W on the first plate 39a of the thermal processing unit 38a1.

熱処理ユニット３８は、第２プレート３９ｂを備える。第２プレート３９ｂは、第１プレート３９ａと略同じ高さ位置に設けられる。第１プレート３９ａと第２プレート３９ｂは、略幅方向Ｙに並ぶように配置される。第２プレート３９ｂは、略円盤形状を有する。１枚の基板Ｗが、第２プレート３９ｂに載置される。 The heat treatment unit 38 includes a second plate 39b. The second plate 39b is provided at substantially the same height position as the first plate 39a. The first plate 39a and the second plate 39b are arranged so as to be aligned in the substantially width direction Y. The second plate 39b has a substantially disc shape. One substrate W is placed on the second plate 39b.

熱処理ユニット３８は、不図示のローカル搬送機構を備える。ローカル搬送機構は、第１プレート３９ａと第２プレート３９ｂとの間で、基板Ｗを搬送する。 The heat treatment unit 38 includes a local transport mechanism (not shown). The local transport mechanism transports the substrate W between the first plate 39a and the second plate 39b.

熱処理ユニット３８は、不図示の第１温調部を備える。第１温調部は、第１プレート３９ａおよびローカル搬送機構の少なくともいずれかに取り付けられる。第１温調部が第１プレート３９ａに取り付けられている場合、第１温調部は、第１プレート３９ａ上の基板Ｗの温度を調整する。第１温調部がローカル搬送機構に取り付けられている場合、第１温調部は、ローカル搬送機構に保持された基板Ｗの温度を調整する。第１温調部は、基板Ｗを第１温度に調整する。第１温調部は、例えば、基板Ｗを冷却する。第１温調部は、例えば、熱交換器である。熱交換器は、例えば、熱媒体（冷却水）が流れる流路を有する。 The heat treatment unit 38 includes a first temperature control unit (not shown). The first temperature control unit is attached to at least one of the first plate 39a and the local transport mechanism. When the first temperature adjusting unit is attached to the first plate 39a, the first temperature adjusting unit adjusts the temperature of the substrate W on the first plate 39a. When the first temperature adjustment unit is attached to the local transfer mechanism, the first temperature adjustment unit adjusts the temperature of the substrate W held by the local transfer mechanism. The first temperature adjustment unit adjusts the substrate W to the first temperature. The first temperature adjustment unit cools the substrate W, for example. The first temperature control unit is, for example, a heat exchanger. The heat exchanger has, for example, a flow path through which a heat medium (cooling water) flows.

熱処理ユニット３８は、不図示の第２温調部を備える。第２温調部は、第２プレート３９ｂに取り付けられる。第２温調部は、第２プレート３９ｂ上の基板Ｗの温度に調整する。第２温調部は、基板Ｗを、第１温度よりも高い第２温度に調整する。第２温調部は、例えば、基板Ｗを加熱する。第２温調部は、例えば、ヒータである。 The heat treatment unit 38 includes a second temperature control unit (not shown). The second temperature control unit is attached to the second plate 39b. The second temperature adjustment unit adjusts the temperature of the substrate W on the second plate 39b. The second temperature adjustment unit adjusts the substrate W to a second temperature higher than the first temperature. The second temperature control unit heats the substrate W, for example. The second temperature control unit is, for example, a heater.

上述のとおり、熱処理部３７はそれぞれ、基板Ｗに熱処理を行う。より詳しくは、熱処理部３７ａ１が基板Ｗに行う熱処理は、疎水化処理と加熱処理と冷却処理を含む。疎水化処理は、ヘキサメチルジシラザン（ＨＭＤＳ：Ｈｅｘａｍｅｔｈｙｌｄｉｓｉｌａｚａｎｅ）を含む処理ガスを基板Ｗに供給しつつ、基板Ｗを所定の温度に調整する処理である。疎水化処理は、基板Ｗと塗膜との密着性を高めるために行われる。加熱処理は、基板Ｗを加熱する。冷却処理は、基板Ｗを冷却する。 As described above, each of the heat treatment units 37 heats the substrate W. More specifically, the heat treatment performed on the substrate W by the heat treatment unit 37a1 includes a hydrophobizing treatment, a heating treatment, and a cooling treatment. The hydrophobizing process is a process of adjusting the temperature of the substrate W to a predetermined temperature while supplying a process gas containing hexamethyldisilazane (HMDS: Hexamethyldisilazane) to the substrate W. The hydrophobic treatment is performed to enhance the adhesion between the substrate W and the coating film. The heat treatment heats the substrate W. The cooling process cools the substrate W.

熱処理部３７ｂ１が基板Ｗに行う熱処理は、疎水化処理と加熱処理と冷却処理を含む。このように、熱処理部３７ａ１が基板Ｗに行う熱処理は、熱処理部３７ｂ１が基板Ｗに行う熱処理と同じである。 The heat treatment performed by the heat treatment unit 37b1 on the substrate W includes a hydrophobic treatment, a heating treatment, and a cooling treatment. As described above, the heat treatment performed by the heat treatment unit 37a1 on the substrate W is the same as the heat treatment performed by the heat treatment unit 37b1 on the substrate W.

熱処理部３７ａ２−３７ａ４、３７ｂ２−３７ｂ４が基板Ｗに行う熱処理は、疎水化処理と加熱処理と冷却処理を含む。このように、熱処理部３７ａ２−３７ａ４、３７ｂ２−３７ｂ４が基板Ｗに行う熱処理は、熱処理部３７ａ１が基板Ｗに行う熱処理と同じである。 The heat treatment performed on the substrate W by the heat treatment units 37a2-37a4 and 37b2-37b4 includes a hydrophobic treatment, a heat treatment, and a cooling treatment. Thus, the heat treatment performed on the substrate W by the heat treatment units 37a2-37a4 and 37b2-37b4 is the same as the heat treatment performed on the substrate W by the heat treatment unit 37a1.

図２を参照する。上述のとおり、熱処理部３７ａ１は、複数（例えば、７つ）の熱処理ユニット３８ａ１を備える。ここで、１つ以上の熱処理ユニット３８ａ１は、疎水化処理を行う疎水化処理ユニットＡＨＰに相当する。他の１つ以上の熱処理ユニット３８ａ１は、加熱処理を行う加熱ユニットＨＰに相当する。残りの１つ以上の熱処理ユニット３８ａ１は、冷却処理を行う冷却ユニットＣＰに相当する。例えば、熱処理部３７ａ１は、２つの疎水化処理ユニットＡＨＰと４つの加熱ユニットＨＰと１つの冷却ユニットＣＰを備える。 Please refer to FIG. As described above, the thermal processing section 37a1 includes a plurality (for example, seven) of thermal processing units 38a1. Here, the one or more heat treatment units 38a1 correspond to the hydrophobic treatment unit AHP that performs the hydrophobic treatment. The other one or more heat treatment units 38a1 correspond to the heating unit HP that performs the heat treatment. The remaining one or more heat treatment units 38a1 correspond to the cooling unit CP that performs the cooling process. For example, the heat treatment section 37a1 includes two hydrophobization processing units AHP, four heating units HP, and one cooling unit CP.

図２、４を参照する。同様に、熱処理部３７ａ２−３７ａ４、３７ｂ１−３７ｂ４はそれぞれ、２つの疎水化処理ユニットＡＨＰと、４つの加熱ユニットＨＰと、１つの冷却ユニットＣＰを、熱処理ユニット３８として、備える。 Please refer to FIGS. Similarly, the heat treatment units 37a2-37a4 and 37b1-37b4 each include two hydrophobic treatment units AHP, four heating units HP, and one cooling unit CP as the heat treatment unit 38.

熱処理ユニット３８の構造は、疎水化処理ユニットＡＨＰと加熱ユニットＨＰと冷却ユニットＣＰとの間で、異なってもよい。例えば、疎水化処理ユニットＡＨＰは、さらに、処理ガスを第２プレート３９ｂ上の基板Ｗに処理ガスを供給するガス供給部を備えてもよい。例えば、冷却ユニットＣＰは、第２プレート３９ｂとローカル搬送機構と第２温調部を備えなくてもよい。 The structure of the heat treatment unit 38 may be different between the hydrophobic treatment unit AHP, the heating unit HP, and the cooling unit CP. For example, the hydrophobic processing unit AHP may further include a gas supply unit that supplies the processing gas to the substrate W on the second plate 39b. For example, the cooling unit CP does not have to include the second plate 39b, the local transport mechanism, and the second temperature control unit.

ここで、熱処理を、前処理と後処理に分類できる。前処理は、液処理が行われる前の基板Ｗに行う熱処理である。後処理は、液処理が行われた後の基板Ｗに行う熱処理である。液処理は、液処理ブロック６１において基板Ｗに行われる処理である。熱処理ブロック３１ａ１が基板Ｗに行う熱処理は、前処理と後処理を含んでもよい。前処理は、上述した疎水化処理を含んでもよい。後処理は、上述した熱処理と冷却処理を含んでもよい。同様に、熱処理ブロック３１ａ２−３１ａ４、３１ｂ１−３１ｂ４が基板Ｗに行う熱処理はそれぞれ、前処理と後処理を含んでもよい。 Here, the heat treatment can be classified into pretreatment and posttreatment. The pretreatment is a heat treatment performed on the substrate W before the liquid treatment is performed. The post-treatment is a heat treatment performed on the substrate W after the liquid treatment. The liquid processing is processing performed on the substrate W in the liquid processing block 61. The heat treatment performed on the substrate W by the heat treatment block 31a1 may include pretreatment and posttreatment. The pretreatment may include the hydrophobizing treatment described above. The post-treatment may include the above-mentioned heat treatment and cooling treatment. Similarly, the heat treatments performed on the substrate W by the heat treatment blocks 31a2-31a4 and 31b1-31b4 may include pretreatment and posttreatment, respectively.

熱処理部３７ａ１は、本発明における第１熱処理部の例である。熱処理部３７ｂ１は、本発明における第２熱処理部の例である。熱処理部３７ａ２は、本発明における第３熱処理部の例である。熱処理部３７ｂ２は、本発明における第４熱処理部の例である。 The heat treatment section 37a1 is an example of the first heat treatment section in the present invention. The heat treatment section 37b1 is an example of the second heat treatment section in the present invention. The heat treatment section 37a2 is an example of the third heat treatment section in the present invention. The heat treatment section 37b2 is an example of the fourth heat treatment section in the present invention.

熱処理ユニット３８ａ１は、本発明における第１熱処理ユニットの例である。熱処理ユニット３８ｂ１は、本発明における第２熱処理ユニットの例である。熱処理ユニット３８ａ２は、本発明における第３熱処理ユニットの例である。熱処理ユニット３８ｂ２は、本発明における第４熱処理ユニットの例である。 The heat treatment unit 38a1 is an example of the first heat treatment unit in the present invention. The heat treatment unit 38b1 is an example of the second heat treatment unit in the present invention. The heat treatment unit 38a2 is an example of the third heat treatment unit in the present invention. The heat treatment unit 38b2 is an example of the fourth heat treatment unit in the present invention.

＜＜熱処理ブロック３１の検査ユニット４２の構造＞＞
図１を参照して、検査ユニット４２の構造を説明する。なお、検査ユニット４２ａ１−４２ａ４、４２ｂ１−４２ｂ４の構造は、略同じである。 <<Structure of Inspection Unit 42 of Heat Treatment Block 31>>
The structure of the inspection unit 42 will be described with reference to FIG. The structures of the inspection units 42a1-42a4 and 42b1-42b4 are substantially the same.

検査ユニット４２は、プレート４３ａを備える。プレート４３ａは、略円盤形状を有する。１枚の基板Ｗが、プレート４３ａに載置される。例えば、搬送機構３４ａ１は、検査ユニット４２ａ１のプレート４３ａに基板Ｗを載置することができる。搬送機構３４ａ１は、検査ユニット４２ａ１のプレート４３ａ上の基板Ｗを取ることができる。 The inspection unit 42 includes a plate 43a. The plate 43a has a substantially disc shape. One substrate W is placed on the plate 43a. For example, the transport mechanism 34a1 can place the substrate W on the plate 43a of the inspection unit 42a1. The transport mechanism 34a1 can take the substrate W on the plate 43a of the inspection unit 42a1.

検査ユニット４２は、撮像部４３ｂを備える。撮像部４３ｂは、例えば、プレート４３ａの上方に配置される。撮像部４３ｂは、プレート４３ａ上の基板Ｗの上面を撮影する。 The inspection unit 42 includes an imaging unit 43b. The imaging unit 43b is arranged, for example, above the plate 43a. The imaging unit 43b photographs the upper surface of the substrate W on the plate 43a.

検査ユニット４２は、不図示の駆動部を備えてもよい。駆動部は、プレート４３ａと撮像部４３ｂの少なくともいずれかを移動させて、プレート４３ａと撮像部４３ｂの相対的な位置を変える。駆動部がプレート４３ａと撮像部４３ｂの相対的な位置を変えることによって、撮像部４３ｂによって撮影される基板Ｗの上面の範囲を変えることができる。 The inspection unit 42 may include a drive unit (not shown). The drive unit moves at least one of the plate 43a and the imaging unit 43b to change the relative positions of the plate 43a and the imaging unit 43b. By changing the relative positions of the plate 43a and the imaging unit 43b by the driving unit, the range of the upper surface of the substrate W captured by the imaging unit 43b can be changed.

検査ユニット４２は、撮像部４３ｂによって撮影された画像に基づいて、基板Ｗの上面を検査する。検査ユニット４２による検査の内容を、以下に例示する。
・基板Ｗの上面の形状の測定
・基板Ｗの上面の状態の特定
・基板Ｗの上面における欠陥の検出
ここで、基板Ｗの上面は、基板Ｗの上面自体、基板Ｗの上面に形成された塗膜、および、基板Ｗの上面に形成されたパターンの少なくともいずれかを含む意味である。上記した「基板Ｗの上面の形状の測定」は、例えば、基板Ｗの上面に形成された塗膜の膜厚を測定・検査するや、基板Ｗのエッジカット幅を測定・検査することを含む。 The inspection unit 42 inspects the upper surface of the substrate W based on the image captured by the imaging unit 43b. The contents of the inspection by the inspection unit 42 are exemplified below.
-Measurement of the shape of the upper surface of the substrate W-Specification of the state of the upper surface of the substrate W-Detection of defects on the upper surface of the substrate W Here, the upper surface of the substrate W is formed on the upper surface of the substrate W itself or the upper surface of the substrate W It is meant to include at least one of the coating film and the pattern formed on the upper surface of the substrate W. The “measurement of the shape of the upper surface of the substrate W” includes, for example, measuring and inspecting the film thickness of the coating film formed on the upper surface of the substrate W, and measuring and inspecting the edge cut width of the substrate W. ..

＜＜熱処理ブロック３１の各要素の支持構造＞＞
図１、７を参照する。図１，７は、処理位置にある熱処理部３７を示す。処理位置は、基板Ｗに熱処理を行うための熱処理部３７の位置である。 <<Supporting Structure of Each Element of Heat Treatment Block 31>>
Please refer to FIG. 1 and 7 show the thermal processing section 37 in the processing position. The processing position is the position of the thermal processing section 37 for performing thermal processing on the substrate W.

熱処理部３７ａ１の処理位置を、適宜に、処理位置Ｐａ１と呼ぶ。同様に、熱処理部３７ａ２−３７ａ４、３７ｂ１−３７ｂ４の処理位置をそれぞれ、適宜に、処理位置Ｐａ２−Ｐａ４、Ｐｂ１−Ｐｂ４と呼ぶ。 The processing position of the heat treatment unit 37a1 is appropriately referred to as a processing position Pa1. Similarly, the processing positions of the heat treatment units 37a2-37a4 and 37b1-37b4 are referred to as processing positions Pa2-Pa4 and Pb1-Pb4, respectively.

図９は、熱処理部３７のメンテナンス位置を例示する平面図である。図１０は、熱処理部３７のメンテナンス位置を例示する正面図である。メンテナンス位置は、熱処理部３７のメンテナンスを行うための熱処理部３７の位置である。メンテナンスは、例えば、熱処理部３７の点検、保守、調整、修理、修繕などを含む意味である。各熱処理部３７は、処理位置とメンテナンス位置に移動可能に設けられる。 FIG. 9 is a plan view illustrating the maintenance position of the heat treatment section 37. FIG. 10 is a front view illustrating the maintenance position of the heat treatment section 37. The maintenance position is a position of the heat treatment section 37 for performing maintenance of the heat treatment section 37. The maintenance means, for example, inspection, maintenance, adjustment, repair, and repair of the heat treatment section 37. Each heat treatment section 37 is provided so as to be movable between a processing position and a maintenance position.

熱処理部３７ａ１のメンテナンス位置を、適宜に、メンテナンス位置Ｑａ１と呼ぶ。同様に、熱処理部３７ａ２−３７ａ４、３７ｂ１−３７ｂ４のメンテナンス位置をそれぞれ、適宜に、メンテナンス位置Ｑａ２−Ｑａ４、Ｑｂ１−Ｑｂ４と呼ぶ。 The maintenance position of the heat treatment section 37a1 is appropriately referred to as a maintenance position Qa1. Similarly, the maintenance positions of the heat treatment parts 37a2-37a4, 37b1-37b4 are referred to as maintenance positions Qa2-Qa4, Qb1-Qb4, respectively.

処理位置Ｐａ１は、本発明における第１処理位置の例である。処理位置Ｐｂ１、Ｐａ２、Ｐｂ２はそれぞれ、本発明における第２、第３、第４処理位置の例である。メンテナンス位置Ｑａ１は、本発明における第１メンテナンス位置の例である。メンテナンス位置Ｑｂ１、Ｑａ２、Ｑｂ２はそれぞれ、本発明における第２、第３、第４メンテナンス位置の例である。 The processing position Pa1 is an example of the first processing position in the present invention. The processing positions Pb1, Pa2, Pb2 are examples of the second, third, and fourth processing positions in the present invention, respectively. The maintenance position Qa1 is an example of the first maintenance position in the present invention. The maintenance positions Qb1, Qa2, Qb2 are examples of the second, third, and fourth maintenance positions in the present invention, respectively.

以下では、熱処理部３７と搬送機構３４と検査部４１の支持構造を説明する。 Below, the support structure of the heat processing part 37, the conveyance mechanism 34, and the inspection part 41 is demonstrated.

図１−４、７、８を参照する。熱処理ブロック３１は、フレーム４５を備える。フレーム４５は、熱処理ブロック３１の骨組み（骨格）として、設けられる。フレーム４５は、熱処理ブロック３１の形状を画定する。フレーム４５は、例えば、金属製である。 Please refer to FIGS. 1-4, 7, and 8. The heat treatment block 31 includes a frame 45. The frame 45 is provided as a skeleton (skeleton) of the heat treatment block 31. The frame 45 defines the shape of the heat treatment block 31. The frame 45 is made of metal, for example.

フレーム４５は、第１フレーム４６と第２フレーム４７を備える。第２フレーム４７は、第１フレーム４６と略同じ高さ位置に配置される。第１フレーム４６と第２フレーム４７は、水平方向に並ぶように配置される。具体的には、第１フレーム４６と第２フレーム４７は、幅方向Ｙに並ぶように配置される。第２フレーム４７は、第１フレーム４６の左方に配置される。第１フレーム４６は、熱処理ブロック３１の右部の形状を画定する。第２フレーム４７は、熱処理ブロック３１の左部の形状を画定する。 The frame 45 includes a first frame 46 and a second frame 47. The second frame 47 is arranged at substantially the same height position as the first frame 46. The first frame 46 and the second frame 47 are arranged side by side in the horizontal direction. Specifically, the first frame 46 and the second frame 47 are arranged side by side in the width direction Y. The second frame 47 is arranged to the left of the first frame 46. The first frame 46 defines the shape of the right part of the heat treatment block 31. The second frame 47 defines the shape of the left part of the heat treatment block 31.

第１フレーム４６は、搬送機構３４ａ１−３４ａ４と熱処理部３７ａ１−３７ａ４と検査部４１ａ１−４１ａ４を支持する。第２フレーム４７は、搬送機構３４ｂ１−３４ｂ４と熱処理部３７ｂ１−３７ｂ４と検査部４１ｂ１−４１ｂ４を支持する。 The first frame 46 supports the transport mechanisms 34a1-34a4, the heat treatment sections 37a1-37a4, and the inspection sections 41a1-41a4. The second frame 47 supports the transport mechanisms 34b1-34b4, the heat treatment sections 37b1-37b4, and the inspection sections 41b1-41b4.

図７を参照する。第１フレーム４６と第２フレーム４７は、正面視において、左右対称の形状を有する。 Please refer to FIG. The first frame 46 and the second frame 47 have a symmetrical shape when viewed from the front.

図１１（ａ）は、第１フレームと第２フレームの平面図である。図１１（ｂ）は、第１フレームと第２フレームの正面図である。図１１（ｃ）は、第１フレームの右側面図である。第１フレーム４６と第２フレーム４７はそれぞれ、平面視において、略矩形形状を有する。 FIG. 11A is a plan view of the first frame and the second frame. FIG. 11B is a front view of the first frame and the second frame. FIG. 11C is a right side view of the first frame. Each of the first frame 46 and the second frame 47 has a substantially rectangular shape in a plan view.

第１フレーム４６は、ベース部４８ａを備える。ベース部４８ａは、略水平な板形状、または、箱形状を有する。ベース部４８ａは、平面視において略矩形形状を有する。 The first frame 46 includes a base portion 48a. The base portion 48a has a substantially horizontal plate shape or a box shape. The base portion 48a has a substantially rectangular shape in a plan view.

第１フレーム４６は、複数（例えば、４つ）の支柱４８ｂを有する。支柱４８ｂはそれぞれ、ベース部４８ａに接続される。支柱４８ｂはそれぞれ、ベース部４８ａから上方に延びる。 The first frame 46 has a plurality of (for example, four) columns 48b. Each of the columns 48b is connected to the base portion 48a. Each of the columns 48b extends upward from the base portion 48a.

第１フレーム４６は、バー４８ｃを備える。バー４８ｃは、ベース部４８ａよりも高い位置に配置される。バー４８ｃは、支柱４８ｂ同士を連結する。バー４８ｃは、略水平方向に延びる。 The first frame 46 includes a bar 48c. The bar 48c is arranged at a position higher than the base portion 48a. The bar 48c connects the columns 48b to each other. The bar 48c extends in a substantially horizontal direction.

第１フレーム４６は、空間４８ｄを備える。空間４８ｄは、ベース部４８ａと支柱４８ｂとバー４８ｃによって区画される。空間４８ｄは、略直方体形状を有する。 The first frame 46 has a space 48d. The space 48d is partitioned by the base portion 48a, the support column 48b, and the bar 48c. The space 48d has a substantially rectangular parallelepiped shape.

第２フレーム４７は、第１フレーム４６と同じ構造を有する。第２フレーム４７は、第１フレーム４６と同じ形状を有する。第２フレーム４７は、第１フレーム４６を上下方向Ｚと平行な軸芯回りに１８０度回転したものに相当する。第２フレーム４７は、ベース部４８ａと支柱４８ｂとバー４８ｃと空間４８ｄを備える。 The second frame 47 has the same structure as the first frame 46. The second frame 47 has the same shape as the first frame 46. The second frame 47 corresponds to the first frame 46 rotated by 180 degrees around an axis parallel to the vertical direction Z. The second frame 47 includes a base portion 48a, a support 48b, a bar 48c, and a space 48d.

第１フレーム４６の空間４８ｄは、本発明における「第１フレーム４６の内部」の例である。第１フレーム４６の空間４８ｄの外部は、本発明における「第１フレーム４６の外部」の例である。第２フレーム４７の空間４８ｄは、本発明における「第２フレーム４７の内部」の例である。第２フレーム４７の空間４８ｄの外部は、本発明における「第２フレーム４７の外部」の例である。 The space 48d of the first frame 46 is an example of "inside the first frame 46" in the present invention. The outside of the space 48d of the first frame 46 is an example of the "outside of the first frame 46" in the present invention. The space 48d of the second frame 47 is an example of "inside the second frame 47" in the present invention. The outside of the space 48d of the second frame 47 is an example of the "outside of the second frame 47" in the present invention.

第２フレーム４７は、第１フレーム４６に連結される。具体的には、第２フレーム４７のベース部４８ａは、第１フレームのベース部４８ａに連結される。 The second frame 47 is connected to the first frame 46. Specifically, the base portion 48a of the second frame 47 is connected to the base portion 48a of the first frame.

より具体的には、第１フレーム４６のベース部４８ａは、第１フレーム４６の支柱４８ｂよりも左方に位置する左部を有する。第２フレーム４７のベース部４８ａは、第２フレーム４７の支柱４８ｂよりも右方に位置する右部を有する。第２フレーム４７のベース部４８ａの右部が、第１フレーム４６のベース部４８ａの左部に連結される。第２フレーム４７の支柱４８ｂは、第１フレーム４６の支柱４８ｂと接触しない。第２フレーム４７の支柱４８ｂは、第１フレーム４６の支柱４８ｂの左方に配置される。 More specifically, the base portion 48a of the first frame 46 has a left portion located to the left of the support column 48b of the first frame 46. The base portion 48a of the second frame 47 has a right portion located to the right of the support column 48b of the second frame 47. The right portion of the base portion 48a of the second frame 47 is connected to the left portion of the base portion 48a of the first frame 46. The support 48b of the second frame 47 does not contact the support 48b of the first frame 46. The support 48b of the second frame 47 is arranged to the left of the support 48b of the first frame 46.

第２フレーム４７は、第１フレーム４６から分離可能である。 The second frame 47 can be separated from the first frame 46.

搬送スペース３２は、第１フレーム４６と第２フレーム４７の間に形成される。具体的には、搬送スペース３２は、第１フレーム４６の左方、かつ、第２フレーム４７の右方に形成される。より詳しくは、搬送スペース３２は、第１フレーム４６の支柱４８ｂの左方、かつ、第２フレーム４７の支柱４８ｂよりも右方に形成される。 The transport space 32 is formed between the first frame 46 and the second frame 47. Specifically, the transport space 32 is formed on the left side of the first frame 46 and on the right side of the second frame 47. More specifically, the transport space 32 is formed to the left of the column 48b of the first frame 46 and to the right of the column 48b of the second frame 47.

図２−４、７、９、１０を参照する。熱処理ブロック３１は、複数（例えば、８つ）の可動部材５１ａ１、５１ａ２、５１ａ３、５１ａ３、５１ｂ１、５１ｂ２、５１ｂ３、５１ｂ４を備える。可動部材５１ａ１−５１ａ４、５１ｂ１−５１ｂ４を区別しない場合には、可動部材５１ａ１−５１ａ４、５１ｂ１−５１ｂ４を可動部材５１と総称する。 Please refer to FIGS. 2-4, 7, 9, and 10. The heat treatment block 31 includes a plurality (for example, eight) of movable members 51a1, 51a2, 51a3, 51a3, 51b1, 51b2, 51b3, 51b4. When the movable members 51a1-51a4 and 51b1-51b4 are not distinguished, the movable members 51a1-51a4 and 51b1-51b4 are collectively referred to as the movable member 51.

可動部材５１ａ１−５１ａ４は、第１フレーム４６に支持される。可動部材５１ａ１−５１ａ４は、第１フレーム４６に対して移動可能である。可動部材５１ｂ１−５１ｂ４は、第２フレーム４７に支持される。可動部材５１ｂ１−５１ｂ４は、第２フレーム４７に対して移動可能である。 The movable members 51a1-51a4 are supported by the first frame 46. The movable members 51a1-51a4 are movable with respect to the first frame 46. The movable members 51b1-51b4 are supported by the second frame 47. The movable members 51b1-51b4 are movable with respect to the second frame 47.

熱処理ブロック３１は、複数のガイド部５５と複数の摺動部５６を備える。ガイド部５５は、第１、第２フレーム４６、４７に固定される。ガイド部５５は、例えば、第１、第２フレーム４６、４７のバー４８ｃに固定される。摺動部５６は、可動部材５１ａ１−５１ａ４、５１ｂ１−５１ｂ４に個別に固定される。各摺動部５６は、可動部材５１ａ１−５１ａ４、５１ｂ１−５１ｂ４のいずれか１つに固定される。各摺動部５６は、ガイド部５５に支持される。ガイド部５５と摺動部５６を介して、各可動部材５１は、第１フレーム４６および第２フレーム４７のいずれかに支持される。 The heat treatment block 31 includes a plurality of guide portions 55 and a plurality of sliding portions 56. The guide portion 55 is fixed to the first and second frames 46 and 47. The guide portion 55 is fixed to the bar 48c of the first and second frames 46 and 47, for example. The sliding portion 56 is individually fixed to the movable members 51a1-51a4 and 51b1-51b4. Each sliding portion 56 is fixed to any one of the movable members 51a1-51a4 and 51b1-51b4. Each sliding portion 56 is supported by the guide portion 55. Each movable member 51 is supported by either the first frame 46 or the second frame 47 via the guide portion 55 and the sliding portion 56.

各摺動部５６は、ガイド部５５に対して移動可能である。具体的には、摺動部５６は、ガイド部５５に対して摺動可能である。摺動部５６は、例えば、ガイド部５５に対して略幅方向Ｙに移動可能である。摺動部５６がガイド部５５に対して移動することによって、各可動部材５１は、第１フレーム４６および第２フレーム４７の少なくともいずれかに対して移動する。例えば、可動部材５１ａ１に固定された摺動部５６がガイド部５５に対して移動することによって、可動部材５１ａ１は第１フレーム４６に対して移動する。 Each sliding portion 56 is movable with respect to the guide portion 55. Specifically, the sliding portion 56 is slidable with respect to the guide portion 55. The sliding portion 56 is movable in the substantially width direction Y with respect to the guide portion 55, for example. As the sliding part 56 moves with respect to the guide part 55, each movable member 51 moves with respect to at least one of the first frame 46 and the second frame 47. For example, when the sliding portion 56 fixed to the movable member 51a1 moves with respect to the guide portion 55, the movable member 51a1 moves with respect to the first frame 46.

各摺動部５６は、互いに独立して、ガイド部５５に対して移動可能である。このため、各可動部材５１は、互いに独立して、第１フレーム４６および第２フレーム４７の少なくともいずれかに対して移動可能である。 Each sliding portion 56 is movable with respect to the guide portion 55 independently of each other. Therefore, each movable member 51 is movable independently of each other with respect to at least one of the first frame 46 and the second frame 47.

図１２（ａ）は、可動部材５１ａ１の平面図である。図１２（ｂ）は、可動部材５１ａ１の正面図である。図１２（ｃ）は、可動部材５１ａ１の右側面図である。以下、可動部材５１ａ１の構造を説明する。 FIG. 12A is a plan view of the movable member 51a1. FIG. 12B is a front view of the movable member 51a1. FIG. 12C is a right side view of the movable member 51a1. Hereinafter, the structure of the movable member 51a1 will be described.

可動部材５１ａ１は、底板５２ａを備える。底板５２ａは、略水平な板形状を有する。底板５２ａは、平面視において略矩形形状を有する。上述した摺動部５６は、例えば、底板５２ａに固定される。 The movable member 51a1 includes a bottom plate 52a. The bottom plate 52a has a substantially horizontal plate shape. The bottom plate 52a has a substantially rectangular shape in a plan view. The sliding portion 56 described above is fixed to, for example, the bottom plate 52a.

可動部材５１は、複数（例えば４つ）の支柱５２ｂを備える。支柱５２ｂはそれぞれ、底板５２ａに接続される。支柱５２ｂはそれぞれ、底板５２ａから上方に延びる。 The movable member 51 includes a plurality of (for example, four) columns 52b. Each of the columns 52b is connected to the bottom plate 52a. Each of the columns 52b extends upward from the bottom plate 52a.

可動部材５１は、複数（例えば２つ）の棚板５２ｃを備える。各棚板５２ｃは、底板５２ａの上方に配置される。各棚板５２ｃは、支柱５２ｂに支持される。各棚板５２ｃは、略水平な板形状を有する。各棚板５２ｃは、平面視において底板５２ａよりも小さい。 The movable member 51 includes a plurality of (for example, two) shelf plates 52c. Each shelf plate 52c is arranged above the bottom plate 52a. Each shelf board 52c is supported by the support column 52b. Each shelf plate 52c has a substantially horizontal plate shape. Each shelf plate 52c is smaller than the bottom plate 52a in plan view.

可動部材５１は、複数の壁部５２ｄを備える。壁部５２ｄは、棚板５２ｃに接続される。壁部５２ｄは、略垂直な板形状を有する。具体的には、壁部５２ｄは、前後方向Ｘに略垂直な板形状を有する。棚板５２ｃと壁部５２ｄは、底板５２ａの上方の空間を、複数（例えば９つ）の小空間（スロット）５２ｅに分ける。複数のスロット５２ｅは、側面視において、行列状に配置される。 The movable member 51 includes a plurality of walls 52d. The wall portion 52d is connected to the shelf plate 52c. The wall portion 52d has a substantially vertical plate shape. Specifically, the wall portion 52d has a plate shape that is substantially perpendicular to the front-rear direction X. The shelf 52c and the wall 52d divide the space above the bottom plate 52a into a plurality (for example, nine) of small spaces (slots) 52e. The plurality of slots 52e are arranged in a matrix in a side view.

可動部材５１は、１つの天板５２ｆを備える。天板５２ｆは、棚板５２ｃの上方に配置される。天板５２ｆは、スロット５２ｅの上方に配置される。天板５２ｆは、支柱５２ｂに支持される。天板５２ｆは、略水平な板形状を有する。天板５２ｆは、平面視において底板５２ａよりも小さい。天板５２ｆは、平面視において棚板５２ｃと略同じ広さを有する。 The movable member 51 includes one top plate 52f. The top plate 52f is arranged above the shelf plate 52c. The top plate 52f is arranged above the slot 52e. The top plate 52f is supported by the support column 52b. The top plate 52f has a substantially horizontal plate shape. The top plate 52f is smaller than the bottom plate 52a in plan view. The top plate 52f has substantially the same size as the shelf plate 52c in a plan view.

可動部材５１ａ２−５１ａ４、５１ｂ１−５１ｂ４は、可動部材５１ａ１と略同じ構造を備える。 The movable members 51a2-51a4 and 51b1-51b4 have substantially the same structure as the movable member 51a1.

図２、７、９、１０を参照する。可動部材５１ａ１は、熱処理部３７ａ１を支持する。具体的には、熱処理ユニット３８ａ１は、可動部材５１ａ１の底板５２ａ上、および、棚板５２ｃ上に設置される。各熱処理ユニット３８ａ１は、１つのスロット５２ｅに配置される。各熱処理ユニット３８ａ１は、平面視において、棚板５２ｃおよび天板５２ｅと重なる。 Please refer to FIGS. The movable member 51a1 supports the heat treatment section 37a1. Specifically, the heat treatment unit 38a1 is installed on the bottom plate 52a of the movable member 51a1 and the shelf plate 52c. Each heat treatment unit 38a1 is arranged in one slot 52e. Each heat treatment unit 38a1 overlaps with the shelf plate 52c and the top plate 52e in a plan view.

図３、７、９、１０を参照する。可動部材５１ａ１は、搬送機構３４ａ１を支持する。具体的には、搬送機構３４ａ１は、可動部材５１ａ１の底板５２ａ上に設置される。搬送機構３４ａ１は、平面視において、棚板５２ｃおよび天板５２ｅと重ならない。より詳しくは、搬送機構３４ａ１のレール部３５ａは、可動部材５１ａ１の底板５２ａ上に設置される。搬送機構３４ａ１のレール部３５ａは、平面視において、棚板５２ｃおよび天板５２ｅと重ならない。搬送機構３４ａ１のレール部３５ａは、第１可動部材５１ａ１（具体的には、底板５２ａ）に固定される。 Please refer to FIGS. The movable member 51a1 supports the transport mechanism 34a1. Specifically, the transport mechanism 34a1 is installed on the bottom plate 52a of the movable member 51a1. The transport mechanism 34a1 does not overlap the shelf plate 52c and the top plate 52e in plan view. More specifically, the rail portion 35a of the transport mechanism 34a1 is installed on the bottom plate 52a of the movable member 51a1. The rail portion 35a of the transport mechanism 34a1 does not overlap the shelf plate 52c and the top plate 52e in plan view. The rail portion 35a of the transport mechanism 34a1 is fixed to the first movable member 51a1 (specifically, the bottom plate 52a).

図２を参照する。可動部材５１ａ１は、検査部４１ａ１を支持する。例えば、１つの検査ユニット４２ａ１は、可動部材５１ａ１の棚板５２ｃ上に載置される。検査ユニット４２ａ１は、１つのスロット５２ｅに配置される。検査ユニット４２ａ１は、平面視において、棚板５２ｃおよび天板５２ｅと重なる。 Please refer to FIG. The movable member 51a1 supports the inspection unit 41a1. For example, one inspection unit 42a1 is placed on the shelf plate 52c of the movable member 51a1. The inspection unit 42a1 is arranged in one slot 52e. The inspection unit 42a1 overlaps the shelf plate 52c and the top plate 52e in a plan view.

熱処理ブロック３１は、電装部５７ａ１を備える。可動部材５１ａ１は、電装部５７ａ１を支持する。例えば、電装部５７ａ１は、可動部材５１ａ１の棚板５２ｃ上に載置される。電装部５７ａ１は、可動部材５１ａ１の１つのスロット５２ｅに配置される。電装部５７ａ１は、平面視において、棚板５２ｃおよび天板５２ｅと重なる。 The heat treatment block 31 includes an electrical component section 57a1. The movable member 51a1 supports the electrical component part 57a1. For example, the electrical component part 57a1 is placed on the shelf plate 52c of the movable member 51a1. The electrical component part 57a1 is arranged in one slot 52e of the movable member 51a1. The electrical component part 57a1 overlaps the shelf plate 52c and the top plate 52e in a plan view.

ここで、電装部５７ａ１は、搬送機構３４ａ１、熱処理部３７ａ１および検査部４１ａ１の少なくともいずれかに関連する電気的な部品である。電装部５７ａ１は、例えば、搬送機構３４ａ１、熱処理部３７ａ１および検査部４１ａ１の少なくともいずれかを電気的に制御する。電装部５７ａ１は、例えば、搬送機構３４ａ１、熱処理部３７ａ１および検査部４１ａ１の少なくともいずれかに電力を供給する。 Here, the electrical equipment section 57a1 is an electrical component related to at least one of the transport mechanism 34a1, the heat treatment section 37a1, and the inspection section 41a1. The electrical component section 57a1 electrically controls, for example, at least one of the transport mechanism 34a1, the heat treatment section 37a1, and the inspection section 41a1. The electrical component section 57a1 supplies power to at least one of the transport mechanism 34a1, the heat treatment section 37a1, and the inspection section 41a1, for example.

図２、４、７、９、１０を参照する。同様に、可動部材５１ａ２−５１ａ４、５１ｂ１−５１ｂ４はそれぞれ、熱処理部３７ａ２−３７ａ４、３７ｂ１−３７ｂ４と、搬送機構３４ａ２−３４ａ４、３４ｂ１−３４ｂ４と、第２−第８検査部４１ａ２−４１ａ４、４１ｂ１−４１ｂ４を支持する。 Please refer to FIGS. 2, 4, 7, 9, and 10. Similarly, the movable members 51a2-51a4, 51b1-51b4 respectively include the heat treatment units 37a2-37a4, 37b1-37b4, the transport mechanisms 34a2-34a4, 34b1-34b4, and the second to eighth inspection units 41a2-41a4, 41b1-. 41b4 is supported.

熱処理ブロック３１は、電装部５７ａ２−５７ａ４、５７ｂ１−５７ｂ４を備える。可動部材５１ａ２−５１ａ４、５１ｂ１−５１ｂ４はそれぞれ、電装部５７ａ２−５７ａ４、５７ｂ１−５７ｂ４を支持する。電装部５７ａ１−５７ａ４、５７ｂ１−５７ｂ４を区別しない場合には、電装部５７ａ１−５７ａ４、５７ｂ１−５７ｂ４を電装部５７と総称する。 The heat treatment block 31 includes electric components 57a2-57a4 and 57b1-57b4. The movable members 51a2-51a4, 51b1-51b4 respectively support the electrical component parts 57a2-57a4, 57b1-57b4. When the electrical components 57a1-57a4 and 57b1-57b4 are not distinguished, the electrical components 57a1-57a4 and 57b1-57b4 are collectively referred to as the electrical component 57.

以上のとおり、第１フレーム４６は、可動部材５１ａ１を介して、搬送機構３４ａ１と熱処理部３７ａ１と検査部４１ａ１と電装部５７ａ１を支持する。同様に、第１フレーム４６は、可動部材５１ａ２−５１ａ４を介して、搬送機構３４ａ２−３４ａ４と熱処理部３７ａ２−３７ａ４と検査部４１ａ２−４１ａ４と電装部５７ａ２−５７ａ４を支持する。第２フレーム４７は、可動部材５１ｂ１−５１ｂ４を介して、搬送機構３４ｂ１−３４ｂ４と熱処理部３７ｂ１−３７ｂ４と検査部４１ｂ１−４１ｂ４と電装部５７ｂ１−５７ｂ４を支持する。 As described above, the first frame 46 supports the transport mechanism 34a1, the heat treatment section 37a1, the inspection section 41a1, and the electrical component section 57a1 via the movable member 51a1. Similarly, the first frame 46 supports the transport mechanisms 34a2-34a4, the heat treatment sections 37a2-37a4, the inspection sections 41a2-41a4, and the electrical equipment sections 57a2-57a4 via the movable members 51a2-51a4. The second frame 47 supports the transport mechanisms 34b1-34b4, the heat treatment parts 37b1-37b4, the inspection parts 41b1-41b4, and the electrical equipment parts 57b1-57b4 via the movable members 51b1-51b4.

熱処理部３７ａ１は、搬送機構３４ａ１よりも第２フレーム４７から遠い位置に配置される。搬送機構３４ａ１は、熱処理部３７ａ１と第２フレーム４７の間に配置される。具体的には、搬送機構３４ａ１は、幅方向Ｙにおいて、熱処理部３７ａ１と第２フレーム４７の間に配置される。同様に、熱処理部３７ａ２−３７ａ４は、搬送機構３４ａ２−３４ａ４よりも第２フレーム４７から遠い位置に配置される。搬送機構３４ａ２−３４ａ４は、熱処理部３７ａ２−３７ａ４と第２フレーム４７の間に配置される。 The thermal processing section 37a1 is arranged farther from the second frame 47 than the transport mechanism 34a1. The transport mechanism 34a1 is arranged between the heat treatment section 37a1 and the second frame 47. Specifically, the transport mechanism 34a1 is arranged between the heat treatment section 37a1 and the second frame 47 in the width direction Y. Similarly, the thermal processing units 37a2-37a4 are arranged at positions farther from the second frame 47 than the transport mechanisms 34a2-34a4. The transport mechanisms 34a2-34a4 are arranged between the heat treatment sections 37a2-37a4 and the second frame 47.

熱処理部３７ｂ１は、搬送機構３４ｂ１よりも第１フレーム４６から遠い位置に配置される。搬送機構３４ｂ１は、熱処理部３７ｂ１と第１フレーム４６の間に配置される。具体的には、搬送機構３４ｂ１は、幅方向Ｙにおいて、熱処理部３７ｂ１と第１フレーム４６の間に配置される。同様に、熱処理部３７ｂ２−３７ｂ４は、搬送機構３４ｂ２−３４ｂ４よりも第１フレーム４６から遠い位置に配置される。搬送機構３４ｂ２−３４ｂ４は、熱処理部３７ｂ２−３７ｂ４と第１フレーム４６の間に配置される。 The thermal processing section 37b1 is arranged at a position farther from the first frame 46 than the transport mechanism 34b1. The transport mechanism 34b1 is arranged between the thermal processing section 37b1 and the first frame 46. Specifically, the transport mechanism 34b1 is arranged between the heat treatment section 37b1 and the first frame 46 in the width direction Y. Similarly, the thermal processing sections 37b2-37b4 are arranged at positions farther from the first frame 46 than the transport mechanisms 34b2-34b4. The transport mechanisms 34b2-34b4 are arranged between the thermal processing sections 37b2-37b4 and the first frame 46.

図１、７、９、１０を参照する。可動部材５１ａ１が第１フレーム４６に対して移動することによって、熱処理部３７ａ１は、第１フレーム４６に対して移動する。具体的には、可動部材５１ａ１が第１フレーム４６に対して移動することによって、熱処理部３７ａ１は、第１フレーム４６に対して略水平方向に移動する。より具体的には、可動部材５１ａ１が第１フレーム４６に対して移動することによって、熱処理部３７ａ１は、第１フレーム４６に対して略幅方向Ｙに移動する。 Please refer to FIGS. 1, 7, 9, and 10. When the movable member 51a1 moves with respect to the first frame 46, the heat treatment section 37a1 moves with respect to the first frame 46. Specifically, when the movable member 51a1 moves with respect to the first frame 46, the heat treatment section 37a1 moves substantially horizontally with respect to the first frame 46. More specifically, when the movable member 51a1 moves with respect to the first frame 46, the heat treatment section 37a1 moves with respect to the first frame 46 in the substantially width direction Y.

可動部材５１ａ１が第１フレーム４６に対して移動することによって、熱処理部３７ａ１は、搬送機構３４ａ１と検査部４１ａ１と電装部５７ａ１と一体に移動する。 When the movable member 51a1 moves with respect to the first frame 46, the heat treatment section 37a1 moves integrally with the transport mechanism 34a1, the inspection section 41a1, and the electrical component section 57a1.

可動部材５１ａ１が第１フレーム４６に対して移動することによって、熱処理部３７ａ１は、処理位置Ｐａ１とメンテナンス位置Ｑａ１に移動可能である。なお、熱処理部３７ａ１が処理位置Ｐａ１およびメンテナンス位置Ｑａ１に移動するとき、可動部材５１ａ１は、第１フレーム４６から離脱することなく、第１フレーム４６に支持された状態に保たれる。このため、第１フレーム４６は、可動部材５１ａ１を介して、熱処理部３７ａ１を処理位置Ｐａ１で支持できる。さらに、第１フレーム４６は、可動部材５１ａ１を介して、熱処理部３７ａ１をメンテナンス位置Ｑａ１で支持できる。 By moving the movable member 51a1 with respect to the first frame 46, the heat treatment section 37a1 can move to the processing position Pa1 and the maintenance position Qa1. When the heat treatment section 37a1 moves to the processing position Pa1 and the maintenance position Qa1, the movable member 51a1 is kept supported by the first frame 46 without being separated from the first frame 46. Therefore, the first frame 46 can support the thermal processing section 37a1 at the processing position Pa1 via the movable member 51a1. Further, the first frame 46 can support the heat treatment section 37a1 at the maintenance position Qa1 via the movable member 51a1.

メンテナンス位置Ｑａ１は、処理位置Ｐａ１と略同じ高さ位置である。メンテナンス位置Ｑａ１は、処理位置Ｐａ１の右方である。熱処理部３７ａ１が右方に移動することによって、熱処理部３７ａ１は、処理位置Ｐａ１からメンテナンス位置Ｑａ１に移動可能である。熱処理部３７ａ１が左方に移動することによって、熱処理部３７ａ１は、メンテナンス位置Ｑａ１から処理位置Ｐａ１に移動可能である。 The maintenance position Qa1 is located at substantially the same height as the processing position Pa1. The maintenance position Qa1 is to the right of the processing position Pa1. By moving the heat treatment section 37a1 to the right, the heat treatment section 37a1 can move from the processing position Pa1 to the maintenance position Qa1. By moving the heat treatment unit 37a1 to the left, the heat treatment unit 37a1 can move from the maintenance position Qa1 to the treatment position Pa1.

熱処理部３７ａ１が処理位置Ｐａ１にあるとき、熱処理部３７ａ１の全部は、第１フレーム４６の内部に位置する。 When the thermal processing section 37a1 is in the processing position Pa1, the entire thermal processing section 37a1 is located inside the first frame 46.

熱処理部３７ａ１がメンテナンス位置Ｑａ１にあるとき、熱処理部３７ａ１の少なくとも一部は、第１フレーム４６の外部に位置する。熱処理部３７ａ１がメンテナンス位置Ｑａ１にあるとき、熱処理部３７ａ１の少なくとも一部は、第１フレーム４６の右方に位置する。熱処理部３７ａ１がメンテナンス位置Ｑａ１にあるとき、熱処理部３７ａ１の半分以上が、第１フレーム４６の外部に位置することが好ましい。このように、熱処理部３７ａ１がメンテナンス位置Ｑａ１にあるときに第１フレーム４６の外部に位置する熱処理部３７ａ１の部分は、熱処理部３７ａ１が処理位置Ｐａ１にあるときに第１フレーム４６の外部に位置する熱処理部３７ａ１の部分よりも大きい。 When the heat treatment section 37a1 is at the maintenance position Qa1, at least a part of the heat treatment section 37a1 is located outside the first frame 46. When the heat treatment section 37a1 is at the maintenance position Qa1, at least a part of the heat treatment section 37a1 is located on the right side of the first frame 46. When the heat treatment section 37a1 is at the maintenance position Qa1, it is preferable that half or more of the heat treatment section 37a1 be located outside the first frame 46. Thus, the portion of the heat treatment part 37a1 located outside the first frame 46 when the heat treatment part 37a1 is in the maintenance position Qa1 is located outside the first frame 46 when the heat treatment part 37a1 is in the treatment position Pa1. It is larger than the portion of the heat treatment part 37a1.

なお、熱処理部３７ａ１がメンテナンス位置Ｑａ１にあるとき、熱処理部３７ａ１の全部は、第２フレーム４７の外部に位置する。熱処理部３７ａ１が処理位置Ｐａ１にあるときも、熱処理部３７ａ１の全部は、第２フレーム４７の外部に位置する。 When the heat treatment section 37a1 is at the maintenance position Qa1, the entire heat treatment section 37a1 is located outside the second frame 47. Even when the thermal processing section 37a1 is at the processing position Pa1, the entire thermal processing section 37a1 is located outside the second frame 47.

可動部材５１ａ１と熱処理部３７ａ１について、改めて説明する。第２フレーム４７から第１フレーム４６に向かう方向を第１方向とすると呼ぶ。本実施形態では、第１方向は、右方である。可動部材５１ａ１が第１フレーム４６に対して移動することによって、熱処理部３７ａ１は第１フレーム４６に対して第１方向に移動可能である。可動部材５１ａ１が第１フレーム４６に対して移動することによって、可動部材５１ａ１は、熱処理部３７ａ１の少なくとも一部を第１フレーム４６から第１方向に引き出し可能である。 The movable member 51a1 and the heat treatment section 37a1 will be described again. The direction from the second frame 47 to the first frame 46 is called the first direction. In this embodiment, the first direction is the right side. By moving the movable member 51a1 with respect to the first frame 46, the heat treatment section 37a1 can move with respect to the first frame 46 in the first direction. By moving the movable member 51a1 with respect to the first frame 46, the movable member 51a1 can pull out at least a part of the heat treatment section 37a1 from the first frame 46 in the first direction.

熱処理部３７ａ１がメンテナンス位置Ｑａ１にあるとき、検査部４１ａ１の少なくとも一部は、第１フレーム４６の外部に位置する。熱処理部３７ａ１がメンテナンス位置Ｑａ１にあるとき、電装部５７ａ１の少なくとも一部は、第１フレーム４６の外部に位置する。 When the heat treatment section 37a1 is at the maintenance position Qa1, at least a part of the inspection section 41a1 is located outside the first frame 46. When the thermal processing section 37a1 is at the maintenance position Qa1, at least a part of the electrical equipment section 57a1 is located outside the first frame 46.

可動部材５１ｂ１が第２フレーム４７に対して移動することによって、熱処理部３７ｂ１は、第２フレーム４７に対して移動する。具体的には、可動部材５１ｂ１が第２フレーム４７に対して移動することによって、熱処理部３７ｂ１は、第２フレーム４７に対して略水平方向に移動する。より具体的には、可動部材５１ｂ１が第２フレーム４７に対して移動することによって、熱処理部３７ｂ１は、第２フレーム４７に対して略幅方向Ｙに移動する。 When the movable member 51b1 moves with respect to the second frame 47, the heat treatment section 37b1 moves with respect to the second frame 47. Specifically, when the movable member 51b1 moves with respect to the second frame 47, the heat treatment section 37b1 moves substantially horizontally with respect to the second frame 47. More specifically, when the movable member 51b1 moves with respect to the second frame 47, the heat treatment section 37b1 moves with respect to the second frame 47 in the substantially width direction Y.

可動部材５１ｂ１が第２フレーム４７に対して移動することによって、熱処理部３７ｂ１は、搬送機構３４ｂ１と検出部４１ｂ１と電装部５７ｂ１と一体に移動する。 When the movable member 51b1 moves with respect to the second frame 47, the heat treatment section 37b1 moves integrally with the transport mechanism 34b1, the detection section 41b1, and the electrical component section 57b1.

可動部材５１ｂ１が第２フレーム４７に対して移動することによって、熱処理部３７ｂ１は、処理位置Ｐｂ１とメンテナンス位置Ｑｂ１に移動可能である。なお、熱処理部３７ｂ１が処理位置Ｐｂ１およびメンテナンス位置Ｑｂ１に移動するとき、可動部材５１ｂ１は、第２フレーム４７から離脱することなく、第２フレーム４７に支持された状態に保たれる。このため、第２フレーム４７は、可動部材５１ｂ１を介して、熱処理部３７ｂ１を処理位置Ｐｂ１で支持できる。さらに、第２フレーム４７は、可動部材５１ｂ１を介して、熱処理部３７ｂ１をメンテナンス位置Ｑｂ１で支持できる。 By moving the movable member 51b1 with respect to the second frame 47, the heat treatment section 37b1 can move to the processing position Pb1 and the maintenance position Qb1. When the heat treatment section 37b1 moves to the processing position Pb1 and the maintenance position Qb1, the movable member 51b1 is maintained in a state of being supported by the second frame 47 without being separated from the second frame 47. Therefore, the second frame 47 can support the thermal processing section 37b1 at the processing position Pb1 via the movable member 51b1. Further, the second frame 47 can support the heat treatment section 37b1 at the maintenance position Qb1 via the movable member 51b1.

メンテナンス位置Ｑｂ１は、処理位置Ｐｂ１と略同じ高さ位置である。メンテナンス位置Ｑｂ１は、処理位置Ｐｂ１の左方である。熱処理部３７ｂ１が左方に移動することによって、熱処理部３７ｂ１は、処理位置Ｐｂ１からメンテナンス位置Ｑｂ１に移動可能である。熱処理部３７ｂ１が右方に移動することによって、熱処理部３７ｂ１は、メンテナンス位置Ｑｂ１から処理位置Ｐｂ１に移動可能である。 The maintenance position Qb1 is located at substantially the same height as the processing position Pb1. The maintenance position Qb1 is to the left of the processing position Pb1. By moving the heat treatment unit 37b1 to the left, the heat treatment unit 37b1 can move from the processing position Pb1 to the maintenance position Qb1. By moving the heat treatment unit 37b1 to the right, the heat treatment unit 37b1 can move from the maintenance position Qb1 to the treatment position Pb1.

熱処理部３７ｂ１が処理位置Ｐｂ１にあるとき、熱処理部３７ｂ１の全部は、第２フレーム４７の内部に位置する。 When the thermal processing section 37b1 is in the processing position Pb1, the entire thermal processing section 37b1 is located inside the second frame 47.

熱処理部３７ｂ１がメンテナンス位置Ｑｂ１にあるとき、熱処理部３７ｂ１の少なくとも一部は、第２フレーム４７の外部に位置する。熱処理部３７ｂ１がメンテナンス位置Ｑｂ１にあるとき、熱処理部３７ｂ１の少なくとも一部は、第２フレーム４７の左方に位置する。熱処理部３７ｂ１がメンテナンス位置Ｑｂ１にあるとき、熱処理部３７ｂ１の半分以上が、第２フレーム４７の外部に位置することが好ましい。このように、熱処理部３７ｂ１がメンテナンス位置Ｑａ１にあるときに第２フレーム４７の外部に位置する熱処理部３７ｂ１の部分は、熱処理部３７ｂ１が処理位置Ｐｂ１にあるときに第２フレーム４７の外部に位置する熱処理部３７ｂ１の部分よりも大きい。 When the heat treatment section 37b1 is at the maintenance position Qb1, at least a part of the heat treatment section 37b1 is located outside the second frame 47. When the heat treatment section 37b1 is at the maintenance position Qb1, at least a part of the heat treatment section 37b1 is located on the left side of the second frame 47. When the heat treatment section 37b1 is at the maintenance position Qb1, it is preferable that half or more of the heat treatment section 37b1 be located outside the second frame 47. Thus, the portion of the heat treatment part 37b1 located outside the second frame 47 when the heat treatment part 37b1 is in the maintenance position Qa1 is located outside the second frame 47 when the heat treatment part 37b1 is in the treatment position Pb1. The heat treatment portion 37b1 is larger than the heat treatment portion 37b1.

なお、熱処理部３７ｂ１がメンテナンス位置Ｑｂ１にあるとき、熱処理部３７ｂ１の全部は、第１フレーム４６の外部に位置する。熱処理部３７ｂ１が処理位置Ｐｂ１にあるときも、熱処理部３７ｂ１の全部は、第１フレーム４６の外部に位置する。 When the heat treatment unit 37b1 is at the maintenance position Qb1, the entire heat treatment unit 37b1 is located outside the first frame 46. Even when the thermal processing section 37b1 is at the processing position Pb1, the entire thermal processing section 37b1 is located outside the first frame 46.

可動部材５１ｂ１と熱処理部３７ｂ１について、改めて説明する。第１方向と反対の方向を第２方向と呼ぶ。本実施形態では、第２方向は、左方である。可動部材５１ｂ１が第２フレーム４７に対して移動することによって、熱処理部３７ｂ１は第２フレーム４７に対して第２方向に移動可能である。可動部材５１ｂ１が第２フレーム４７に対して移動することによって、可動部材５１ｂ１は、第２熱処理部３７ｂ１の少なくとも一部を第２フレーム４７から第２方向に引き出し可能である。 The movable member 51b1 and the heat treatment section 37b1 will be described again. The direction opposite to the first direction is called the second direction. In the present embodiment, the second direction is the left side. By moving the movable member 51b1 with respect to the second frame 47, the heat treatment section 37b1 can move with respect to the second frame 47 in the second direction. By moving the movable member 51b1 with respect to the second frame 47, the movable member 51b1 can draw out at least a part of the second heat treatment section 37b1 from the second frame 47 in the second direction.

熱処理部３７ｂ１がメンテナンス位置Ｑｂ１にあるとき、検査部４１ｂ１の少なくとも一部は、第２フレーム４７の外部に位置する。熱処理部３７ｂ１がメンテナンス位置Ｑｂ１にあるとき、電装部５７ｂ１の少なくとも一部は、第２フレーム４７の外部に位置する。 When the heat treatment section 37b1 is at the maintenance position Qb1, at least a part of the inspection section 41b1 is located outside the second frame 47. When the heat treatment section 37b1 is at the maintenance position Qb1, at least a part of the electrical component section 57b1 is located outside the second frame 47.

可動部材５１ａ２−５１ａ４は、可動部材５１ａ１と同様に移動する。可動部材５１ｂ２−５１ｂ４は、可動部材５１ｂ１と同様に移動する。 The movable members 51a2-51a4 move similarly to the movable member 51a1. The movable members 51b2-51b4 move similarly to the movable member 51b1.

熱処理部３７ａ２−３７ａ４は、熱処理部３７ａ１と同様に移動する。メンテナンス位置Ｑａ２は、メンテナンス位置Ｑａ１の上方に位置する。メンテナンス位置Ｑａ３は、メンテナンス位置Ｑａ２の上方に位置する。メンテナンス位置Ｑａ４は、メンテナンス位置Ｑａ３の上方に位置する。 The thermal processing units 37a2-37a4 move in the same manner as the thermal processing unit 37a1. The maintenance position Qa2 is located above the maintenance position Qa1. The maintenance position Qa3 is located above the maintenance position Qa2. The maintenance position Qa4 is located above the maintenance position Qa3.

熱処理部３７ｂ２−３７ｂ４は、熱処理部３７ｂ１と同様に移動する。メンテナンス位置Ｑｂ２は、メンテナンス位置Ｑｂ１の上方に位置する。メンテナンス位置Ｑｂ３は、メンテナンス位置Ｑｂ２の上方に位置する。メンテナンス位置Ｑｂ４は、メンテナンス位置Ｑｂ３の上方に位置する。 The heat treatment units 37b2-37b4 move in the same manner as the heat treatment unit 37b1. The maintenance position Qb2 is located above the maintenance position Qb1. The maintenance position Qb3 is located above the maintenance position Qb2. The maintenance position Qb4 is located above the maintenance position Qb3.

熱処理部３７ａ１−３７ａ４、３７ｂ１−３７ｂ４は、互いに独立して、移動可能である。熱処理部３７ａ１−３７ａ４、３７ｂ１−３７ｂ４は、互いに干渉することなく、メンテナンス位置Ｑａ１−Ｑａ４、Ｑｂ１−Ｑｂ４に移動できる。 The heat treatment parts 37a1-37a4 and 37b1-37b4 are movable independently of each other. The thermal processing sections 37a1-37a4, 37b1-37b4 can move to the maintenance positions Qa1-Qa4, Qb1-Qb4 without interfering with each other.

可動部材５１ａ１は、本発明における第１可動部材の例である。可動部材５１ｂ１は、本発明における第２可動部材の例である。可動部材５１ａ２は、本発明における第３可動部材の例である。可動部材５１ｂ２は、本発明における第４可動部材の例である。 The movable member 51a1 is an example of the first movable member in the present invention. The movable member 51b1 is an example of the second movable member in the present invention. The movable member 51a2 is an example of the third movable member in the present invention. The movable member 51b2 is an example of the fourth movable member in the present invention.

＜液処理ブロック６１＞
図１−４を参照する。液処理ブロック６１は、略箱形状を有する。液処理ブロック６１は、平面視および側面視において、略矩形である。図示を省略するが、液処理ブロック６１は、正面視においても、略矩形である。 <Liquid treatment block 61>
Referring to FIGS. The liquid processing block 61 has a substantially box shape. The liquid processing block 61 is substantially rectangular in plan view and side view. Although illustration is omitted, the liquid processing block 61 is substantially rectangular even in a front view.

液処理ブロック６１は、フレーム６２を有する。フレーム６２は、液処理ブロック６１の骨組み（骨格）として、設けられる。フレーム６２は、液処理ブロック６１の形状を画定する。フレーム６２は、例えば、金属製である。 The liquid processing block 61 has a frame 62. The frame 62 is provided as a skeleton (skeleton) of the liquid processing block 61. The frame 62 defines the shape of the liquid treatment block 61. The frame 62 is made of metal, for example.

液処理ブロック６１は、搬送スペース６３を備える。搬送スペース６３は、平面視において、幅方向Ｙにおける液処理ブロック６１の中央部に配置される。搬送スペース６３は、略前後方向Ｘに延びる。搬送スペース６３は、熱処理ブロック３１の搬送スペース３２に接する。 The liquid processing block 61 includes a transfer space 63. The transport space 63 is arranged at the center of the liquid processing block 61 in the width direction Y in plan view. The transport space 63 extends substantially in the front-rear direction X. The transfer space 63 contacts the transfer space 32 of the heat treatment block 31.

液処理ブロック６１は、液処理用搬送機構６７を備える。液処理用搬送機構６７は、搬送スペース６３に設けられる。すなわち、液処理用搬送機構６７は、熱処理用搬送機構３３の後方に配置される。液処理用搬送機構６７は、基板Ｗを搬送する。 The liquid processing block 61 includes a liquid processing transport mechanism 67. The liquid processing transport mechanism 67 is provided in the transport space 63. That is, the liquid processing transport mechanism 67 is arranged behind the heat treatment transport mechanism 33. The liquid processing transport mechanism 67 transports the substrate W.

図３を参照する。搬送スペース６３は、２つの搬送スペース６４ａ、６４ｂを備える。搬送スペース６４ｂは、搬送スペース６４ａの上方に配置される。 Please refer to FIG. The transport space 63 includes two transport spaces 64a and 64b. The transport space 64b is arranged above the transport space 64a.

液処理ブロック６１は、隔壁６５を備える。隔壁６５は、水平な板形状を有する。隔壁６５は、搬送スペース６４ａと搬送スペース６４ｂの境界に配置される。隔壁６５は、搬送スペース６４ａと搬送スペース６４ｂを隔てる。 The liquid processing block 61 includes a partition wall 65. The partition wall 65 has a horizontal plate shape. The partition wall 65 is arranged at the boundary between the transport space 64a and the transport space 64b. The partition wall 65 separates the transport space 64a and the transport space 64b.

液処理用搬送機構６７は、２つの搬送機構６８ａ、６８ｂを含む。搬送機構６８ａ、６８ｂは、上下方向Ｚに並ぶように配置される。搬送機構６８ｂは、搬送機構６８ａの上方に配置される。搬送機構６８ａは、搬送スペース６４ａに設けられる。搬送機構６８ａは、隔壁６５の下方に配置される。搬送機構６８ｂは、搬送スペース６４ｂに設けられる。搬送機構６８ｂは、隔壁６５の上方に配置される。搬送機構６８ａ、６８ｂはそれぞれ、基板Ｗを搬送する。搬送機構６８ａは、搬送機構６８ｂとは独立して、基板Ｗを搬送可能である。 The liquid processing transport mechanism 67 includes two transport mechanisms 68a and 68b. The transport mechanisms 68a and 68b are arranged side by side in the vertical direction Z. The transport mechanism 68b is arranged above the transport mechanism 68a. The transport mechanism 68a is provided in the transport space 64a. The transport mechanism 68a is arranged below the partition wall 65. The transport mechanism 68b is provided in the transport space 64b. The transport mechanism 68b is arranged above the partition wall 65. The transport mechanisms 68a and 68b transport the substrate W, respectively. The transfer mechanism 68a can transfer the substrate W independently of the transfer mechanism 68b.

図１、３を参照する。搬送機構６８ａは、支柱６９ａ、６９ｂと、垂直移動部６９ｃと、水平移動部６９ｄと、回転部６９ｅと、保持部６９ｆ、６９ｇとを備える。支柱６９ａ、６９ｂは、フレーム６２に支持される。支柱６９ａ、６９ｂは、フレーム６２に固定される。支柱６９ａ、６９ｂは、フレーム６２に対して移動不能である。支柱６９ｂは、支柱６９ａと略同じ高さ位置に配置される。支柱６９ａ、６９ｂは、略前後方向Ｘに並ぶように配置される。支柱６９ａは、搬送スペース６４ａの左前部に配置される。支柱６９ｂは、搬送スペース６４ａの左後部に配置される。支柱６９ａ、６９ｂは、上下方向Ｚに延びる。垂直移動部６９ｃは、支柱６９ａ、６９ｂに支持される。垂直移動部６９ｃは、支柱６９ａ、６９ｂに対して略上下方向Ｚに移動可能である。垂直移動部６９ｃは、略前後方向Ｘに延びる。水平移動部６９ｄは、垂直移動部６９ｃに支持される。水平移動部６９ｄは、垂直移動部６９ｃに対して略前後方向Ｘに移動可能である。回転部６９ｅは、水平移動部６９ｄに支持される。回転部６９ｅは、水平移動部６９ｄに対して、回転軸線Ａ６９ｅ回りに回転可能である。回転軸線Ａ６９ｅは、略上下方向Ｚと平行な仮想線である。回転軸線Ａ６９ｅは、例えば、水平移動部６９ｄの右方に位置する。保持部６９ｆ、６９ｇは、回転部６９ｅに支持される。保持部６９ｆ、６９ｇは、回転部６９ｅに対して進退移動可能である。より具体的には、保持部６９ｆ、６９ｇは、回転部６９ｅの向きによって決まる水平な一方向に往復移動可能である。水平な一方向は、例えば、回転軸線Ａ６９ｅの径方向である。保持部６９ｆ、６９ｇは、互いに独立して、進退移動可能である。保持部６９ｆ、６９ｇはそれぞれ、１枚の基板Ｗを水平姿勢で保持する。 Please refer to FIG. The transport mechanism 68a includes columns 69a and 69b, a vertical moving unit 69c, a horizontal moving unit 69d, a rotating unit 69e, and holding units 69f and 69g. The columns 69 a and 69 b are supported by the frame 62. The columns 69a and 69b are fixed to the frame 62. The columns 69 a and 69 b are immovable with respect to the frame 62. The column 69b is arranged at substantially the same height as the column 69a. The columns 69a and 69b are arranged so as to be aligned in the substantially front-back direction X. The column 69a is arranged in the left front part of the transport space 64a. The pillar 69b is arranged at the left rear part of the transport space 64a. The columns 69a and 69b extend in the vertical direction Z. The vertical moving portion 69c is supported by the columns 69a and 69b. The vertical moving portion 69c is movable in the substantially vertical direction Z with respect to the columns 69a and 69b. The vertical moving portion 69c extends substantially in the front-rear direction X. The horizontal moving unit 69d is supported by the vertical moving unit 69c. The horizontal moving portion 69d is movable in the front-rear direction X with respect to the vertical moving portion 69c. The rotating unit 69e is supported by the horizontal moving unit 69d. The rotating portion 69e is rotatable about the rotation axis A69e with respect to the horizontal moving portion 69d. The rotation axis A69e is an imaginary line that is substantially parallel to the vertical direction Z. The rotation axis A69e is located to the right of the horizontal moving unit 69d, for example. The holding portions 69f and 69g are supported by the rotating portion 69e. The holding portions 69f and 69g can move back and forth with respect to the rotating portion 69e. More specifically, the holding portions 69f and 69g can reciprocate in one horizontal direction determined by the direction of the rotating portion 69e. One horizontal direction is, for example, the radial direction of the rotation axis A69e. The holding portions 69f and 69g can move back and forth independently of each other. The holding portions 69f and 69g each hold one substrate W in a horizontal posture.

このように、保持部６９ｆ、６９ｇは、前後方向Ｘおよび上下方向Ｚに平行移動可能である。保持部６９ｆ、６９ｇは、回転軸線Ａ６９ｅ回りに回転可能である。保持部６９ｆ、６９ｇは、回転部６９ｅに対して進退移動可能である。 In this way, the holding portions 69f and 69g can move in parallel in the front-rear direction X and the vertical direction Z. The holding portions 69f and 69g are rotatable around the rotation axis A69e. The holding portions 69f and 69g can move back and forth with respect to the rotating portion 69e.

搬送機構６８ｂは、搬送機構６８ａと略同じ構造を有する。すなわち、搬送機構６８ｂは、支柱６９ａ、６９ｂと、垂直移動部６９ｃと、水平移動部６９ｄと、回転部６９ｅと、保持部６９ｆ、６９ｇとを備える。 The transport mechanism 68b has substantially the same structure as the transport mechanism 68a. That is, the transport mechanism 68b includes columns 69a and 69b, a vertical moving unit 69c, a horizontal moving unit 69d, a rotating unit 69e, and holding units 69f and 69g.

図１を参照する。液処理ブロック６１は、液処理部７１を備える。液処理部７１は、搬送スペース６３の側方に配置される。液処理部７１は、液処理用搬送機構６７に隣接する位置に配置される。液処理部７１は、液処理用搬送機構６７と略同じ高さ位置に配置される。液処理部７１は、液処理用搬送機構６７と略幅方向Ｙに並ぶ位置に配置される。具体的には、液処理部７１は、液処理用搬送機構６７の右方の位置と、液処理用搬送機構６７の左方の位置に配置される。 Please refer to FIG. The liquid processing block 61 includes a liquid processing unit 71. The liquid processing section 71 is arranged laterally of the transfer space 63. The liquid processing section 71 is arranged at a position adjacent to the liquid processing transport mechanism 67. The liquid processing section 71 is arranged at substantially the same height as the liquid processing transport mechanism 67. The liquid processing section 71 is arranged at a position aligned with the liquid processing transport mechanism 67 in the substantially width direction Y. Specifically, the liquid processing section 71 is arranged at the right side position of the liquid processing transfer mechanism 67 and the left side position of the liquid processing transfer mechanism 67.

図８を参照する。液処理部７１は、熱処理用搬送機構３３が基板Ｗを搬送可能な領域の外部に配置される。液処理部７１は、領域Ｂａの外部に配置される。具体的には、後述する回転保持部７５ａが、領域Ｂａの外部に配置される。液処理部７１は、領域Ｂｂの外部に配置される。具体的には、後述する回転保持部７５ａが、領域Ｂｂの外部に配置される。同様に、液処理部７１は、搬送機構３４ａ２−３４ａ４、３４ｂ２−３４ｂ４が基板Ｗを搬送可能な領域の外部に配置される。 Please refer to FIG. The liquid processing section 71 is arranged outside the region where the heat treatment transfer mechanism 33 can transfer the substrate W. The liquid processing unit 71 is arranged outside the area Ba. Specifically, a rotation holding portion 75a described later is arranged outside the area Ba. The liquid processing unit 71 is arranged outside the area Bb. Specifically, a rotation holding portion 75a described later is arranged outside the area Bb. Similarly, the liquid processing unit 71 is arranged outside the region where the transport mechanisms 34a2-34a4 and 34b2-34b4 can transport the substrate W.

液処理部７１は、基板Ｗに液処理を行う。液処理は、基板Ｗに処理液を供給する処理である。液処理は、例えば、塗布処理である。処理液は、例えば、塗膜材料である。塗布処理は、基板Ｗに塗膜材料を塗布して、基板Ｗに塗膜を形成する処理である。塗膜材料は、例えば、レジスト膜材料である。塗膜は、例えば、レジスト膜である。 The liquid processing section 71 performs liquid processing on the substrate W. The liquid processing is processing for supplying the processing liquid to the substrate W. The liquid treatment is, for example, a coating treatment. The treatment liquid is, for example, a coating material. The coating process is a process of applying a coating material to the substrate W to form a coating film on the substrate W. The coating material is, for example, a resist film material. The coating film is, for example, a resist film.

図１−４を参照する。液処理部７１は、複数（例えば２つ）の液処理部７２、７３を備える。液処理部７２は、搬送機構６８ａと略同じ高さ位置に配置される。液処理部７２は、隔壁６５の下方に配置される。液処理部７３は、搬送機構６８ｂと略同じ高さ位置に配置される。液処理部７３は、隔壁６５の上方に配置される。搬送機構６８ａは、液処理部７２に基板Ｗを搬送する。搬送機構６８ｂは、液処理部７３に基板Ｗを搬送する。 Referring to FIGS. The liquid processing unit 71 includes a plurality (for example, two) of liquid processing units 72 and 73. The liquid processing unit 72 is arranged at a height position substantially the same as that of the transport mechanism 68a. The liquid processing unit 72 is arranged below the partition wall 65. The liquid processing unit 73 is arranged at substantially the same height as the transport mechanism 68b. The liquid processing unit 73 is arranged above the partition wall 65. The transfer mechanism 68a transfers the substrate W to the liquid processing section 72. The transfer mechanism 68b transfers the substrate W to the liquid processing section 73.

液処理部７２は、搬送機構６８ａに隣接する位置に配置される。液処理部７２は、搬送機構６８ａの右方に配置される液処理部７２Ｒと、搬送機構６８ａの左方に配置される液処理部７２Ｌを備える。液処理部７３は、搬送機構６８ｂに隣接する位置に配置される。液処理部７３は、搬送機構６８ｂの右方に配置される液処理部７３Ｒと、搬送機構６８ｂの左方に配置される液処理部７３Ｌを備える。 The liquid processing unit 72 is arranged at a position adjacent to the transport mechanism 68a. The liquid processing unit 72 includes a liquid processing unit 72R arranged on the right side of the transfer mechanism 68a and a liquid processing unit 72L arranged on the left side of the transfer mechanism 68a. The liquid processing unit 73 is arranged at a position adjacent to the transport mechanism 68b. The liquid processing unit 73 includes a liquid processing unit 73R arranged on the right side of the transfer mechanism 68b and a liquid processing unit 73L arranged on the left side of the transfer mechanism 68b.

液処理部７２Ｒ、７３Ｒは、上下方向Ｚに並ぶように配置される。液処理部７３Ｒは、液処理部７２Ｒの上方に配置される。液処理部７２Ｌ、７３Ｌは、上下方向Ｚに並ぶように配置される。液処理部７３Ｌは、液処理部７３Ｌの上方に配置される。 The liquid processing units 72R and 73R are arranged side by side in the vertical direction Z. The liquid processing unit 73R is arranged above the liquid processing unit 72R. The liquid processing units 72L and 73L are arranged side by side in the vertical direction Z. The liquid processing unit 73L is arranged above the liquid processing unit 73L.

液処理部７２Ｒは、複数（例えば４つ）の液処理ユニット７４を備える。液処理部７２Ｒの液処理ユニット７４は、前後方向Ｘおよび上下方向Ｚに行列状に配置される。例えば、２つの液処理ユニット７４が、液処理部７２Ｒの下段に配置される。残りの２つの液処理ユニット７４は、液処理部７２Ｒの上段に配置される。液処理部７２Ｒの下段に配置される２つの液処理ユニット７４は、前後方向Ｘに並ぶように配置される。液処理部７２Ｒの上段に配置される２つの液処理ユニット７４は、前後方向Ｘに並ぶように配置される。液処理部７２Ｒの上段に配置される２つの液処理ユニット７４は、平面視において、液処理部７２Ｒの下段に配置される２つの液処理ユニット７４と重なる。液処理部７２Ｒの下段に配置される２つの液処理ユニット７４は、１つのチャンバ７６に収容される。液処理部７２Ｒの上端に配置される２つの液処理ユニット７４は、他の１つのチャンバ７６に収容される。 The liquid processing unit 72R includes a plurality (for example, four) of liquid processing units 74. The liquid processing units 74 of the liquid processing unit 72R are arranged in a matrix in the front-rear direction X and the vertical direction Z. For example, the two liquid processing units 74 are arranged in the lower stage of the liquid processing unit 72R. The remaining two liquid processing units 74 are arranged on the upper stage of the liquid processing unit 72R. The two liquid processing units 74 arranged in the lower stage of the liquid processing section 72R are arranged side by side in the front-rear direction X. The two liquid processing units 74 arranged on the upper stage of the liquid processing section 72R are arranged side by side in the front-rear direction X. The two liquid processing units 74 arranged in the upper stage of the liquid processing unit 72R overlap the two liquid processing units 74 arranged in the lower stage of the liquid processing unit 72R in a plan view. The two liquid processing units 74 arranged in the lower stage of the liquid processing section 72R are housed in one chamber 76. The two liquid processing units 74 arranged at the upper end of the liquid processing unit 72R are housed in another chamber 76.

液処理部７２Ｌは、複数（例えば、４個）の液処理ユニット７４を備える。液処理部７２Ｌの液処理ユニット７４は、左右対称である点を除き、液処理部７２Ｒの液処理ユニット７４と同じように配置される。 The liquid processing unit 72L includes a plurality (for example, four) of liquid processing units 74. The liquid processing unit 74 of the liquid processing unit 72L is arranged in the same manner as the liquid processing unit 74 of the liquid processing unit 72R except that it is symmetrical.

液処理部７３Ｒは、複数（例えば、４個）の液処理ユニット７４を備える。液処理部７３Ｒの液処理ユニット７４は、液処理部７２Ｒの液処理ユニット７４と同じように配置される。 The liquid processing unit 73R includes a plurality (for example, four) of liquid processing units 74. The liquid processing unit 74 of the liquid processing unit 73R is arranged in the same manner as the liquid processing unit 74 of the liquid processing unit 72R.

液処理部７３Ｌは、複数（例えば、４個）の液処理ユニット７４を備える。液処理部７３Ｌの液処理ユニット７４は、左右対称である点を除き、液処理部７２Ｒの液処理ユニット７４と同じように配置される。 The liquid processing unit 73L includes a plurality (for example, four) of liquid processing units 74. The liquid processing unit 74 of the liquid processing unit 73L is arranged in the same manner as the liquid processing unit 74 of the liquid processing unit 72R, except that it is symmetrical.

液処理ユニット７４は、回転保持部７５ａとノズル７５ｂとカップ７５ｃを備える。回転保持部７５ａは、１枚の基板Ｗを水平姿勢で保持する。例えば、搬送機構６８ａは、液処理部７２の液処理ユニット７４の回転保持部７５ａに基板Ｗを載置することができる。例えば、搬送機構６８ａは、液処理部７２の液処理ユニット７４の回転保持部７５ａ上の基板Ｗを取ることができる。回転保持部７５ａは、保持した基板Ｗを上下方向Ｚと平行な軸線回りに回転可能である。ノズル７５ｂは、処理液を基板Ｗに吐出する。処理液は、例えば、塗布液である。ノズル７５ｂは、処理位置と退避位置に移動可能に設けられる。処理位置は、回転保持部７５ａに保持された基板Ｗの上方の位置である。処理位置は、平面視において、回転保持部７５ａに保持された基板Ｗと重なる位置である。退避位置は、平面視において、回転保持部７５ａに保持された基板Ｗと重ならない位置である。カップ７５ｃは、回転保持部７５ａの周囲に配置される。カップ７５ｃは、処理液を回収する。 The liquid processing unit 74 includes a rotation holder 75a, a nozzle 75b, and a cup 75c. The rotation holding unit 75a holds one substrate W in a horizontal posture. For example, the transport mechanism 68a can place the substrate W on the rotation holding unit 75a of the liquid processing unit 74 of the liquid processing unit 72. For example, the transport mechanism 68a can take the substrate W on the rotation holding unit 75a of the liquid processing unit 74 of the liquid processing unit 72. The rotation holding unit 75a can rotate the held substrate W around an axis parallel to the vertical direction Z. The nozzle 75b discharges the processing liquid onto the substrate W. The treatment liquid is, for example, a coating liquid. The nozzle 75b is provided so as to be movable between the processing position and the retracted position. The processing position is a position above the substrate W held by the rotation holding unit 75a. The processing position is a position overlapping the substrate W held by the rotation holding unit 75a in plan view. The retracted position is a position that does not overlap the substrate W held by the rotation holding unit 75a in plan view. The cup 75c is arranged around the rotation holding portion 75a. The cup 75c collects the treatment liquid.

＜前載置部８１＞
図１、３、６、８を参照する。前載置部８１は、インデクサ部２１と熱処理ブロック３１にわたって配置される。前載置部８１は、インデクサ部２１の搬送スペース２３と熱処理ブロック３１の搬送スペース３２にまたがって配置される。 <Front mounting part 81>
Please refer to FIGS. 1, 3, 6, and 8. The front placement part 81 is arranged across the indexer part 21 and the heat treatment block 31. The front mounting portion 81 is arranged so as to straddle the transport space 23 of the indexer portion 21 and the transport space 32 of the heat treatment block 31.

前載置部８１は、インデクサ用搬送機構２５の後方に配置される。前載置部８１は、搬送機構２６ａの左方かつ後方に配置される。前載置部８１は、搬送機構２６ｂの右方かつ後方に配置される。インデクサ用搬送機構２５は、キャリアＣと前載置部８１の間で基板Ｗを搬送する。 The front placement part 81 is disposed behind the indexer transport mechanism 25. The front placement part 81 is disposed to the left and rear of the transport mechanism 26a. The front placement part 81 is disposed to the right and rear of the transport mechanism 26b. The indexer transport mechanism 25 transports the substrate W between the carrier C and the front mounting portion 81.

前載置部８１は、熱処理用搬送機構３３の前方に配置される。 The front placement part 81 is disposed in front of the heat treatment transport mechanism 33.

前載置部８１は、複数（例えば８つ）の載置部８２ａ１、８２ａ２、８２ａ３、８２ａ４、８２ｂ１、８２ｂ２、８２ｂ３、８２ｂ４を備える。載置部８２ａ１−８２ａ４、８２ｂ１−８２ｂ４を区別しない場合には、載置部８２ａ１−８２ａ４、８２ｂ１−８２ｂ４を載置部８２と総称する。各載置部８２には、基板Ｗが載置される。インデクサ用搬送機構２５は、各載置部８２に基板Ｗを載置することができる。具体的には、搬送機構２６ａ、２６ｂはそれぞれ、各載置部８２に基板Ｗを載置することができる。インデクサ用搬送機構２５は、各載置部８２上の基板Ｗを取ることができる。具体的には、搬送機構２６ａ、２６ｂはそれぞれ、各載置部８２上の基板Ｗを取ることができる。 The front mounting portion 81 includes a plurality of (for example, eight) mounting portions 82a1, 82a2, 82a3, 82a4, 82b1, 82b2, 82b3, 82b4. When the placing portions 82a1-82a4 and 82b1-82b4 are not distinguished, the placing portions 82a1-82a4 and 82b1-82b4 are collectively referred to as the placing portion 82. The substrate W is placed on each of the placing portions 82. The indexer transport mechanism 25 can place the substrate W on each of the mounting portions 82. Specifically, each of the transport mechanisms 26a and 26b can mount the substrate W on each mounting part 82. The indexer transport mechanism 25 can take the substrate W on each of the mounting portions 82. Specifically, each of the transport mechanisms 26a and 26b can take the substrate W on each mounting portion 82.

各載置部８２は、仮想面Ｋと交差する位置に配置される。複数の載置部８２は、略上下方向Ｚに並ぶように配置される。載置部８２ｂ１は、平面視において、載置部８２ａ１と重なる。同様に、載置部８２ａ２−８２ａ４、８２ｂ２−８２ｂ４は、平面視において、載置部８２ａ１と重なる。 Each mounting portion 82 is arranged at a position intersecting the virtual plane K. The plurality of mounting portions 82 are arranged so as to be aligned in the substantially vertical direction Z. The mounting portion 82b1 overlaps with the mounting portion 82a1 in a plan view. Similarly, the placement portions 82a2-82a4 and 82b2-82b4 overlap the placement portion 82a1 in a plan view.

載置部８２ａ２、８２ｂ２は、載置部８２ａ１、８２ｂ１の上方に配置される。載置部８２ａ３、８２ｂ３は、載置部８２ａ２、８２ｂ２の上方に配置される。載置部８２ａ４、８２ｂ４は、載置部８２ａ４、８２ｂ４の上方に配置される。 The mounting portions 82a2 and 82b2 are arranged above the mounting portions 82a1 and 82b1. The mounting portions 82a3 and 82b3 are arranged above the mounting portions 82a2 and 82b2. The mounting portions 82a4 and 82b4 are arranged above the mounting portions 82a4 and 82b4.

載置部８２ａ１、８２ｂ１は、搬送機構３４ａ１、３４ｂ１と略同じ高さ位置に配置される。載置部８２ａ１、８２ｂ１は、搬送機構３４ａ１の前方かつ左方に配置される。載置部８２ａ１、８２ｂ１は、搬送機構３４ｂ１の前方かつ右方に配置される。搬送機構３４ａ１、３４ｂ１はそれぞれ、載置部８２ａ１、８２ｂ１に基板Ｗを載置することができる。搬送機構３４ａ１、３４ｂ１はそれぞれ、載置部８２ａ１、８２ｂ１上の基板Ｗを取ることができる。 The mounting portions 82a1 and 82b1 are arranged at substantially the same height positions as the transport mechanisms 34a1 and 34b1. The mounting portions 82a1 and 82b1 are arranged in front of and to the left of the transport mechanism 34a1. The mounting portions 82a1 and 82b1 are arranged in front of and to the right of the transport mechanism 34b1. The transport mechanisms 34a1 and 34b1 can mount the substrate W on the mounting portions 82a1 and 82b1, respectively. The transport mechanisms 34a1 and 34b1 can take the substrates W on the mounting portions 82a1 and 82b1, respectively.

載置部８２ａ２、８２ｂ２と搬送機構３４ａ２、３４ｂ２の相対的な位置関係は、載置部８２ａ１、８２ｂ１と搬送機構３４ａ１、３４ｂ１の相対的な位置関係と同じである。載置部８２ａ３、８２ｂ３と搬送機構３４ａ３、３４ｂ３の相対的な位置関係は、載置部８２ａ１、８２ｂ１と搬送機構３４ａ１、３４ｂ１の相対的な位置関係と同じである。載置部８２ａ４、８２ｂ４と搬送機構３４ａ４、３４ｂ４の相対的な位置関係は、載置部８２ａ１、８２ｂ１と搬送機構３４ａ１、３４ｂ１の相対的な位置関係と同じである。 The relative positional relationship between the mounting portions 82a2 and 82b2 and the transport mechanisms 34a2 and 34b2 is the same as the relative positional relationship between the mounting portions 82a1 and 82b1 and the transport mechanisms 34a1 and 34b1. The relative positional relationship between the mounting portions 82a3, 82b3 and the transport mechanisms 34a3, 34b3 is the same as the relative positional relationship between the mounting portions 82a1, 82b1 and the transport mechanisms 34a1, 34b1. The relative positional relationship between the mounting portions 82a4, 82b4 and the transport mechanisms 34a4, 34b4 is the same as the relative positional relationship between the mounting portions 82a1, 82b1 and the transport mechanisms 34a1, 34b1.

各載置部８２は、複数（例えば２つ）のプレート８５を備える。複数のプレート８５は、略上下方向Ｚに並ぶように配置される。１枚の基板Ｗが、１つのプレート８５上に載置される。このため、各載置部８２は、複数の基板Ｗを載置可能である。 Each mounting portion 82 includes a plurality of (for example, two) plates 85. The plurality of plates 85 are arranged so as to be aligned in the substantially vertical direction Z. One substrate W is placed on one plate 85. Therefore, each mounting portion 82 can mount a plurality of substrates W.

載置部８２ａ１は、本発明のおける第１前載置部の例である。載置部８２ｂ１は、本発明のおける第２前載置部の例である。載置部８２ａ２は、本発明のおける第３前載置部の例である。載置部８２ｂ２は、本発明のおける第４前載置部の例である。 The placing portion 82a1 is an example of the first front placing portion in the present invention. The placing portion 82b1 is an example of the second front placing portion in the present invention. The placing portion 82a2 is an example of the third front placing portion in the present invention. The placing portion 82b2 is an example of the fourth front placing portion in the present invention.

＜後載置部８３＞
図１、３、８を参照する。後載置部８３は、熱処理ブロック３１と液処理ブロック６１にわたって配置される。後載置部８３は、熱処理ブロック３１の搬送スペース３２と液処理ブロック６１の搬送スペース６３にまたがって配置される。 <Post-mounting section 83>
Please refer to FIGS. The rear mounting portion 83 is arranged over the heat treatment block 31 and the liquid treatment block 61. The rear mounting portion 83 is arranged so as to straddle the transport space 32 of the heat treatment block 31 and the transport space 63 of the liquid treatment block 61.

後載置部８３は、熱処理用搬送機構３３の後方に配置される。後載置部８３は、液処理用搬送機構６７の前方に配置される。 The rear mounting portion 83 is disposed behind the heat treatment transport mechanism 33. The rear mounting portion 83 is arranged in front of the liquid processing transport mechanism 67.

後載置部８３は、複数（例えば８つ）の載置部８４ａ１、８４ａ２、８４ａ３、８４ａ４、８４ｂ１、８４ｂ２、８４ｂ３、８４ｂ４を備える。載置部８４ａ１−８４ａ４、８４ｂ１−８４ｂ４を区別しない場合には、載置部８４ａ１−８４ａ４、８４ｂ１−８４ｂ４を載置部８４と総称する。各載置部８４には、基板Ｗが載置される。液処理用搬送機構６７は、各載置部８４に基板Ｗを載置することができる。液処理用搬送機構６７は、各載置部８４上の基板Ｗを取ることができる。 The rear mounting unit 83 includes a plurality of (for example, eight) mounting units 84a1, 84a2, 84a3, 84a4, 84b1, 84b2, 84b3, 84b4. When the placement portions 84a1-84a4 and 84b1-84b4 are not distinguished, the placement portions 84a1-84a4 and 84b1-84b4 are collectively referred to as the placement portion 84. The substrate W is placed on each of the placing portions 84. The liquid processing transport mechanism 67 can place the substrate W on each of the mounting portions 84. The liquid processing transport mechanism 67 can take the substrate W on each mounting portion 84.

各載置部８４は、仮想面Ｋと交差する位置に配置される。複数の載置部８４は、略上下方向Ｚに並ぶように配置される。載置部８４ｂ１は、平面視において、載置部８４ａ１と重なる。同様に、載置部８４ａ２−８４ａ４、８４ｂ２−８４ｂ４は、平面視において、載置部８４ａ１と重なる。 Each mounting portion 84 is arranged at a position intersecting with the virtual plane K. The plurality of mounting portions 84 are arranged so as to be aligned in the substantially vertical direction Z. The mounting portion 84b1 overlaps with the mounting portion 84a1 in a plan view. Similarly, the placement portions 84a2-84a4 and 84b2-84b4 overlap the placement portion 84a1 in a plan view.

載置部８４ａ２、８４ｂ２は、載置部８４ａ１、８４ｂ１の上方に配置される。載置部８４ａ３、８４ｂ３は、載置部８４ａ２、８４ｂ２の上方に配置される。載置部８４ａ４、８４ｂ４は、載置部８４ａ４、８４ｂ４の上方に配置される。 The mounting portions 84a2 and 84b2 are arranged above the mounting portions 84a1 and 84b1. The mounting portions 84a3 and 84b3 are arranged above the mounting portions 84a2 and 84b2. The mounting portions 84a4 and 84b4 are arranged above the mounting portions 84a4 and 84b4.

載置部８４ａ１、８４ｂ１は、搬送機構３４ａ１、３４ｂ１と略同じ高さ位置に配置される。載置部８４ａ１、８４ｂ１は、搬送機構３４ａ１の後方かつ左方に配置される。載置部８４ａ１、８４ｂ１は、搬送機構３４ｂ１の後方かつ右方に配置される。搬送機構３４ａ１、３４ｂ１はそれぞれ、載置部８４ａ１、８４ｂ１に基板Ｗを載置することができる。搬送機構３４ａ１、３４ｂ１はそれぞれ、載置部８４ａ１、８４ｂ１上の基板Ｗを取ることができる。 The mounting portions 84a1 and 84b1 are arranged at substantially the same height positions as the transport mechanisms 34a1 and 34b1. The mounting portions 84a1 and 84b1 are arranged behind and to the left of the transport mechanism 34a1. The mounting portions 84a1 and 84b1 are arranged behind and to the right of the transport mechanism 34b1. The transport mechanisms 34a1 and 34b1 can mount the substrate W on the mounting portions 84a1 and 84b1, respectively. The transport mechanisms 34a1 and 34b1 can take the substrate W on the mounting portions 84a1 and 84b1, respectively.

載置部８４ａ２、８４ｂ２と搬送機構３４ａ２、３４ｂ２の相対的な位置関係は、載置部８４ａ１、８４ｂ１と搬送機構３４ａ１、３４ｂ１の相対的な位置関係と同じである。載置部８４ａ３、８４ｂ３と搬送機構３４ａ３、３４ｂ３の相対的な位置関係は、載置部８４ａ１、８４ｂ１と搬送機構３４ａ１、３４ｂ１の相対的な位置関係と同じである。載置部８４ａ４、８４ｂ４と搬送機構３４ａ４、３４ｂ４の相対的な位置関係は、載置部８４ａ１、８４ｂ１と搬送機構３４ａ１、３４ｂ１の相対的な位置関係と同じである。 The relative positional relationship between the mounting portions 84a2 and 84b2 and the transport mechanisms 34a2 and 34b2 is the same as the relative positional relationship between the mounting portions 84a1 and 84b1 and the transport mechanisms 34a1 and 34b1. The relative positional relationship between the mounting portions 84a3 and 84b3 and the transport mechanisms 34a3 and 34b3 is the same as the relative positional relationship between the mounting portions 84a1 and 84b1 and the transport mechanisms 34a1 and 34b1. The relative positional relationship between the placing portions 84a4 and 84b4 and the transport mechanisms 34a4 and 34b4 is the same as the relative positional relationship between the placing portions 84a1 and 84b1 and the transport mechanisms 34a1 and 34b1.

載置部８４ａ１、８４ａ２、８４ｂ１、８４ｂ２は、搬送機構６８ａと略同じ高さ位置に配置される。載置部８４ａ１、８４ａ２、８４ｂ１、８４ｂ２は、搬送機構６８ａの前方に配置される。搬送機構６８ａは、載置部８４ａ１、８４ａ２、８４ｂ１、８４ｂ２に基板Ｗを載置することができる。搬送機構６８ａは、載置部８４ａ１、８４ａ２、８４ｂ１、８４ｂ２上の基板Ｗを取ることができる。 The mounting portions 84a1, 84a2, 84b1, 84b2 are arranged at substantially the same height position as the transport mechanism 68a. The mounting portions 84a1, 84a2, 84b1, 84b2 are arranged in front of the transport mechanism 68a. The transport mechanism 68a can place the substrate W on the placing portions 84a1, 84a2, 84b1, 84b2. The transport mechanism 68a can take the substrate W on the mounting portions 84a1, 84a2, 84b1, 84b2.

載置部８４ａ３、８４ａ４、８４ｂ３、８４ｂ４は、搬送機構６８ｂと略同じ高さ位置に配置される。載置部８４ａ３、８４ａ４、８４ｂ３、８４ｂ４は、搬送機構６８ｂの前方に配置される。搬送機構６８ｂは、載置部８４ａ３、８４ａ４、８４ｂ３、８４ｂ４に基板Ｗを載置することができる。搬送機構６８ｂは、載置部８４ａ３、８４ａ４、８４ｂ３、８４ｂ４上の基板Ｗを取ることができる。 The mounting portions 84a3, 84a4, 84b3, 84b4 are arranged at substantially the same height position as the transport mechanism 68b. The mounting portions 84a3, 84a4, 84b3, 84b4 are arranged in front of the transport mechanism 68b. The transport mechanism 68b can place the substrate W on the placing portions 84a3, 84a4, 84b3, 84b4. The transport mechanism 68b can take the substrate W on the mounting portions 84a3, 84a4, 84b3, 84b4.

各載置部８４は、載置部８２と略同じ構造を有する。具体的には、各載置部８４は、複数（例えば２つ）のプレート８５を備える。各載置部８４は、複数の基板Ｗを載置可能である。 Each mounting portion 84 has substantially the same structure as the mounting portion 82. Specifically, each mounting portion 84 includes a plurality of (for example, two) plates 85. Each mounting portion 84 can mount a plurality of substrates W.

載置部８４ａ１は、本発明のおける第１後載置部の例である。載置部８４ｂ１は、本発明のおける第２後載置部の例である。載置部８４ａ２は、本発明のおける第３後載置部の例である。載置部８４ｂ２は、本発明のおける第４後載置部の例である。 The mounting portion 84a1 is an example of the first rear mounting portion in the present invention. The mounting portion 84b1 is an example of the second rear mounting portion in the present invention. The mounting portion 84a2 is an example of the third rear mounting portion in the present invention. The mounting portion 84b2 is an example of the fourth rear mounting portion in the present invention.

＜制御部＞
図１を参照する。基板処理装置１は、制御部９１を備える。制御部９１は、例えば、インデクサ部２１に設置される。制御部９１は、ストッカ部１１とインデクサ部２１と熱処理ブロック３１と液処理ブロック６１を制御する。より具体的には、制御部９１は、キャリア搬送機構１５とインデクサ用搬送機構２５と熱処理用搬送機構３３と熱処理部３７と検査部４１と電装部５７と液処理用搬送機構６７と液処理部７１を制御する。 <Control part>
Please refer to FIG. The substrate processing apparatus 1 includes a control unit 91. The control unit 91 is installed in the indexer unit 21, for example. The control unit 91 controls the stocker unit 11, the indexer unit 21, the heat treatment block 31, and the liquid treatment block 61. More specifically, the control unit 91 controls the carrier transport mechanism 15, the indexer transport mechanism 25, the heat treatment transport mechanism 33, the heat treatment unit 37, the inspection unit 41, the electrical component unit 57, the liquid treatment transport mechanism 67, and the liquid treatment unit. Control 71.

制御部９１は、各種処理を実行する中央演算処理装置（ＣＰＵ）、演算処理の作業領域となるＲＡＭ（Random-Access Memory）、固定ディスク等の記憶媒体等によって実現されている。記憶媒体には、基板Ｗを処理するための処理レシピ（処理プログラム）や、各基板Ｗを識別するための情報など各種情報を記憶されている。 The control unit 91 is realized by a central processing unit (CPU) that executes various kinds of processing, a RAM (Random-Access Memory) that is a work area of the arithmetic processing, a storage medium such as a fixed disk, and the like. The storage medium stores various information such as a processing recipe (processing program) for processing the substrates W and information for identifying each substrate W.

＜基板処理装置１の動作例＞
ストッカ部１１とインデクサ部２１の動作例と、インデクサ部２１と熱処理ブロック３１と液処理ブロック６１の動作例を以下に説明する。 <Operation example of substrate processing apparatus 1>
An operation example of the stocker unit 11 and the indexer unit 21, and an operation example of the indexer unit 21, the heat treatment block 31, and the liquid treatment block 61 will be described below.

＜＜ストッカ部１１とインデクサ部２１の動作例＞＞
不図示の外部搬送機構が、未処理の基板Ｗを収容するキャリアＣを棚１３に載置する。キャリア搬送機構１５は、未処理の基板Ｗを収容するキャリアＣを、棚１３からキャリア載置部２２ａに載置する。搬送機構２６ａは、キャリア載置部２２ａ上のキャリアＣ内の基板Ｗを搬出する。搬送機構２６ａがキャリア載置部２２ａ上のキャリアＣ内の全ての基板Ｗを搬出した後、キャリア搬送機構１５は、キャリア載置部２２ａからキャリア載置部２２ｂに、基板Ｗを収容していないキャリアＣを搬送する。この際、キャリア搬送機構１５は、基板Ｗを収容していないキャリアＣを、一時的に棚１３に載置してもよい。搬送機構２６ｂは、キャリア載置部２２ｂ上のキャリアＣに、処理済みの基板Ｗを搬入する。その後、キャリア搬送機構１５は、キャリア載置部２２ｂから棚１３に、処理済みの基板Ｗを収容するキャリアＣを搬送する。外部搬送機構は、棚１３上の、処理済みの基板Ｗを収容するキャリアＣを取る。 <<Operation example of stocker unit 11 and indexer unit 21>>
An external transport mechanism (not shown) places the carrier C containing the unprocessed substrate W on the shelf 13. The carrier transfer mechanism 15 places the carrier C containing the unprocessed substrate W from the shelf 13 on the carrier placing portion 22a. The transport mechanism 26a carries out the substrate W in the carrier C on the carrier platform 22a. After the carrier mechanism 26a carries out all the substrates W in the carrier C on the carrier platform 22a, the carrier carrier mechanism 15 does not house the substrates W from the carrier platform 22a to the carrier platform 22b. The carrier C is transported. At this time, the carrier transfer mechanism 15 may temporarily place the carrier C that does not house the substrate W on the shelf 13. The transport mechanism 26b carries the processed substrate W into the carrier C on the carrier platform 22b. After that, the carrier transport mechanism 15 transports the carrier C containing the processed substrate W from the carrier platform 22b to the shelf 13. The external transport mechanism takes the carrier C on the shelf 13 for storing the processed substrate W.

＜＜インデクサ部２１と熱処理ブロック３１と液処理ブロック６１の動作例＞＞
図１３は、基板Ｗが通過する基板処理装置１の要素（例えば搬送機構や処理部）を模式的に示す図である。 <<Operation Example of Indexer 21, Heat Treatment Block 31, and Liquid Treatment Block 61>>
FIG. 13 is a diagram schematically showing elements of the substrate processing apparatus 1 through which the substrate W passes (for example, a transfer mechanism and a processing unit).

搬送機構２６ａは、キャリア載置部２２ａ上のキャリアＣから載置部８２ａ１−８２ａ４、８２ｂ１−８２ｂ４に基板Ｗを搬送する。例えば、搬送機構２６ａは、各載置部８２に基板Ｗを１枚ずつ載置してもよい。例えば、搬送機構２６ａは、各載置部８２に、基板Ｗを２枚ずつ載置してもよい。例えば、搬送機構２６ａは、各載置部８２に、２枚の基板Ｗを同時に載置してもよい。 The transport mechanism 26a transports the substrate W from the carrier C on the carrier platform 22a to the platforms 82a1-82a4 and 82b1-82b4. For example, the transport mechanism 26a may place one substrate W on each of the mounting portions 82. For example, the transport mechanism 26a may place two substrates W on each of the mounting portions 82. For example, the transport mechanism 26a may place two substrates W on each of the placement sections 82 at the same time.

搬送機構３４ａ１は、載置部８２ａ１から熱処理ユニット３８ａ１（具体的には、疎水化処理ユニットＡＨＰ）に基板Ｗを搬送する。熱処理部３７ａ１の疎水化処理ユニットＡＨＰは、基板Ｗに疎水化処理を行う。搬送機構３４ａ１は、熱処理部３７ａ１の疎水化処理ユニットＡＨＰから載置部８４ａ１に基板Ｗを搬送する。 The transport mechanism 34a1 transports the substrate W from the mounting portion 82a1 to the heat treatment unit 38a1 (specifically, the hydrophobic treatment unit AHP). The hydrophobization processing unit AHP of the thermal processing section 37a1 performs hydrophobization processing on the substrate W. The transport mechanism 34a1 transports the substrate W from the hydrophobic treatment unit AHP of the heat treatment section 37a1 to the mounting section 84a1.

搬送機構３４ｂ１は、載置部８２ｂ１から熱処理ユニット３８ｂ１（具体的には、疎水化処理ユニットＡＨＰ）に基板Ｗを搬送する。熱処理部３７ｂ１の疎水化処理ユニットＡＨＰは、基板Ｗに疎水化処理を行う。搬送機構３４ｂ１は、熱処理部３７ｂ１の疎水化処理ユニットＡＨＰから載置部８４ｂ１に基板Ｗを搬送する。 The transport mechanism 34b1 transports the substrate W from the mounting portion 82b1 to the heat treatment unit 38b1 (specifically, the hydrophobic treatment unit AHP). The hydrophobization processing unit AHP of the thermal processing section 37b1 performs hydrophobization processing on the substrate W. The transport mechanism 34b1 transports the substrate W from the hydrophobic treatment unit AHP of the thermal processing section 37b1 to the mounting section 84b1.

搬送機構３４ａ２−３４ａ４、３４ｂ２−３４ｂ４はそれぞれ、搬送機構３４ａ１、３４ｂ１と同様に、基板Ｗを搬送する。搬送機構３４ａ１−３４ａ４、３４ｂ１−３４ｂ４は、並行して動作する。熱処理部３７ａ２−３７ａ４、３７ｂ２−３７ｂ４はそれぞれ、熱処理部３７ａ１、３７ｂ１と同様に、基板Ｗに熱処理を行う。熱処理部３７ａ１−３７ａ４、３７ｂ１−３７ｂ４は、並行して動作する。 The transport mechanisms 34a2-34a4 and 34b2-34b4 transport the substrate W, similarly to the transport mechanisms 34a1 and 34b1, respectively. The transport mechanisms 34a1-34a4 and 34b1-34b4 operate in parallel. The thermal processing sections 37a2-37a4 and 37b2-37b4 perform thermal processing on the substrate W, similarly to the thermal processing sections 37a1 and 37b1, respectively. The thermal processing units 37a1-37a4 and 37b1-37b4 operate in parallel.

搬送機構６８ａは、載置部８４ａ１、８４ａ２、８４ｂ１、８４ｂ２から、液処理部７２に基板Ｗを搬送する。液処理部７２は、基板Ｗに液処理を行う。搬送機構６８ａは、液処理部７２から、載置部８４ａ１、８４ａ２、８４ｂ１、８４ｂ２に基板Ｗを搬送する。 The transport mechanism 68a transports the substrate W from the mounting portions 84a1, 84a2, 84b1, 84b2 to the liquid processing portion 72. The liquid processing unit 72 performs liquid processing on the substrate W. The transport mechanism 68a transports the substrate W from the liquid processing section 72 to the mounting sections 84a1, 84a2, 84b1, 84b2.

搬送機構６８ｂは、載置部８４ａ３、８４ａ４、８４ｂ３、８４ｂ４から、液処理部７３に基板Ｗを搬送する。液処理部７３は、基板Ｗに液処理を行う。搬送機構６８ｂは、液処理部７３から、載置部８４ａ３、８４ａ４、８４ｂ３、８４ｂ４に基板Ｗを搬送する。 The transport mechanism 68b transports the substrate W from the placement sections 84a3, 84a4, 84b3, 84b4 to the liquid processing section 73. The liquid processing unit 73 performs liquid processing on the substrate W. The transport mechanism 68b transports the substrate W from the liquid processing section 73 to the mounting sections 84a3, 84a4, 84b3, 84b4.

搬送機構３４ａ１は、載置部８４ａ１から熱処理ユニット３８ａ１（具体的には、加熱ユニットＨＰ）に基板Ｗを搬送する。熱処理部３７ａ１の加熱ユニットＨＰは、基板Ｗに加熱処理を行う。搬送機構３４ａ１は、熱処理部３７ａ１の加熱ユニットＨＰから他の熱処理ユニット３８ａ１（具体的には冷却ユニットＣＰ）に基板Ｗを搬送する。熱処理部３７ａ１の冷却ユニットＣＰは、基板Ｗに冷却処理を行う。搬送機構３４ａ１は、熱処理部３７ａ１の冷却ユニットＣＰから検査部４１ａ１に基板Ｗを搬送する。検査部４１ａ１は、基板Ｗを検査する。搬送機構３４ａ１は、検査部４１ａ１から載置部８２ａ１に基板Ｗを搬送する。 The transport mechanism 34a1 transports the substrate W from the mounting portion 84a1 to the heat treatment unit 38a1 (specifically, the heating unit HP). The heating unit HP of the thermal processing section 37a1 heats the substrate W. The transport mechanism 34a1 transports the substrate W from the heating unit HP of the thermal processing section 37a1 to another thermal processing unit 38a1 (specifically, the cooling unit CP). The cooling unit CP of the thermal processing section 37a1 cools the substrate W. The transport mechanism 34a1 transports the substrate W from the cooling unit CP of the heat treatment section 37a1 to the inspection section 41a1. The inspection unit 41a1 inspects the substrate W. The transport mechanism 34a1 transports the substrate W from the inspection section 41a1 to the mounting section 82a1.

搬送機構３４ｂ１は、載置部８４ｂ１から熱処理ユニット３８ｂ１（具体的には、加熱ユニットＨＰ）に基板Ｗを搬送する。熱処理部３７ｂ１の加熱ユニットＨＰは、基板Ｗに加熱処理を行う。搬送機構３４ｂ１は、熱処理ユニット３８ｂ１（具体的には、加熱ユニットＨＰ）から熱処理ユニット３８ｂ１（具体的には冷却ユニットＣＰ）に基板Ｗを搬送する。熱処理部３７ｂ１の冷却ユニットＣＰは、基板Ｗに冷却処理を行う。搬送機構３４ｂ１は、熱処理部３７ｂ１の冷却ユニットＣＰから検査部４１ｂ１に基板Ｗを搬送する。検査部４１ｂ１は、基板Ｗを検査する。搬送機構３４ｂ１は、検査部４１ｂ１から載置部８２ｂ１に基板Ｗを搬送する。 The transport mechanism 34b1 transports the substrate W from the mounting portion 84b1 to the thermal processing unit 38b1 (specifically, the heating unit HP). The heating unit HP of the thermal processing section 37b1 heats the substrate W. The transport mechanism 34b1 transports the substrate W from the thermal processing unit 38b1 (specifically, the heating unit HP) to the thermal processing unit 38b1 (specifically, the cooling unit CP). The cooling unit CP of the thermal processing section 37b1 cools the substrate W. The transport mechanism 34b1 transports the substrate W from the cooling unit CP of the heat treatment section 37b1 to the inspection section 41b1. The inspection unit 41b1 inspects the substrate W. The transport mechanism 34b1 transports the substrate W from the inspection unit 41b1 to the mounting unit 82b1.

搬送機構３４ａ２−３４ａ４、３４ｂ２−３４ｂ４はそれぞれ、搬送機構３４ａ１、３４ｂ１と同様に、基板Ｗを搬送する。搬送機構３４ａ１−３４ａ４、３４ｂ１−３４ｂ４は、並行して動作する。熱処理部３７ａ２−３７ａ４、３７ｂ２−３７ｂ４はそれぞれ、熱処理部３７ａ１、３７ｂ１と同様に、基板Ｗに熱処理を行う。熱処理部３７ａ１−３７ａ４、３７ｂ１−３７ｂ４は、並行して動作する。検査部４１ａ２−４１ａ４、４１ｂ２−４１ｂ４はそれぞれ、検査部４１ａ１、４１ｂ１と同様に、基板Ｗを検査する。検査部４１ａ１−４１ａ４、４１ｂ１−４１ｂ４は、並行して動作する。 The transport mechanisms 34a2-34a4 and 34b2-34b4 transport the substrate W, similarly to the transport mechanisms 34a1 and 34b1, respectively. The transport mechanisms 34a1-34a4 and 34b1-34b4 operate in parallel. The thermal processing sections 37a2-37a4 and 37b2-37b4 perform thermal processing on the substrate W, similarly to the thermal processing sections 37a1 and 37b1, respectively. The thermal processing units 37a1-37a4 and 37b1-37b4 operate in parallel. The inspection units 41a2-41a4 and 41b2-41b4 inspect the substrate W, respectively, similarly to the inspection units 41a1 and 41b1. The inspection units 41a1-41a4 and 41b1-41b4 operate in parallel.

搬送機構２６ｂは、載置部８２ａ１−８２ａ４、８２ｂ１−８２ｂ４から、キャリア載置部２２ｂ上のキャリアＣに基板Ｗを搬送する。 The transport mechanism 26b transports the substrate W from the mounting portions 82a1-82a4 and 82b1-82b4 to the carrier C on the carrier mounting portion 22b.

＜＜搬送機構３４の詳細な動作例＞＞
図１４Ａ−１４Ｒは、搬送機構３４ａ１の動作例を示す平面図である。搬送機構３４ａ１が、載置部８２ａ１にアクセスし、続いて、熱処理ユニット３８ａ１にアクセスする動作を例示する。図１４Ａ−１４Ｒは、搬送機構３４ａ１を簡略に図示する。 <<Detailed Operation Example of Transport Mechanism 34>>
14A-14R are plan views showing an operation example of the transport mechanism 34a1. An operation in which the transport mechanism 34a1 accesses the placing portion 82a1 and then accesses the heat treatment unit 38a1 will be illustrated. 14A-14R schematically illustrate the transport mechanism 34a1.

以下の説明では、略前後方向Ｘに並ぶ３つの熱処理ユニット３８ａ１を区別するために、これらの熱処理ユニット３８ａ１を、熱処理ユニットＵ１、Ｕ２、Ｕ３と記載する。熱処理ユニットＵ２は、熱処理ユニットＵ１の後方に配置される。熱処理ユニットＵ３は、熱処理ユニットＵ２の後方に配置される。 In the following description, these three heat treatment units 38a1 are referred to as heat treatment units U1, U2, and U3 in order to distinguish the three heat treatment units 38a1 arranged in the front-rear direction X. The heat treatment unit U2 is arranged behind the heat treatment unit U1. The heat treatment unit U3 is arranged behind the heat treatment unit U2.

以下の説明では、回転軸線Ａ３５ｄ、Ａ３５ｆを、単に回転軸線Ａ３５と記載する。回転軸線Ａ３５は、平面視において、仮想線Ｅ上を移動する。図１４Ａ−１４Ｒにおいて、反時計回りに回転することを単に「回転する」と記載する。図１４Ａ−１４Ｒにおいて、時計回りの回転することを単に「回転する」または「逆方向に回転する」と記載する。 In the following description, the rotation axis lines A35d and A35f are simply referred to as the rotation axis line A35. The rotation axis A35 moves on the virtual line E in a plan view. In FIGS. 14A-14R, rotating counterclockwise is simply referred to as “rotating”. In FIGS. 14A-14R, clockwise rotation is simply described as “rotating” or “rotating in the opposite direction”.

図１４Ａ−１４Ｒは、仮想線Ｅ上の点ｅ１、ｅ２、ｅ３、ｅ４、ｅ５、ｅ６、ｅ７を示す。点ｅ１は、回転軸線Ａ３５が移動可能な最も前方の位置である。点ｅ７は、回転軸線Ａ３５が移動可能な最も後方の位置である。点ｅ４は、平面視において、熱処理ユニットＵ２と略幅方向Ｙに向かい合う位置である。より具体的には、熱処理ユニットＵ２は、仮想的なプレート中心点Ｖ２を有する。プレート中心点Ｖ２は、平面視において、熱処理ユニットＵ２の第１プレート３９ａの中心に位置する。平面視において、プレート中心点Ｖ２を通り、略幅方向Ｙと平行な仮想線を、仮想線Ｆ２と呼ぶ。点ｅ４は、平面視において、仮想線Ｅが仮想線Ｆ２と交差する位置である。 14A-14R show points e1, e2, e3, e4, e5, e6, e7 on the imaginary line E. The point e1 is the most forward position where the rotation axis A35 can move. The point e7 is the rearmost position where the rotation axis A35 is movable. The point e4 is a position facing the heat treatment unit U2 in the substantially width direction Y in a plan view. More specifically, the heat treatment unit U2 has a virtual plate center point V2. The plate center point V2 is located at the center of the first plate 39a of the heat treatment unit U2 in a plan view. An imaginary line that passes through the plate center point V2 and is substantially parallel to the width direction Y in a plan view is referred to as an imaginary line F2. The point e4 is a position where the virtual line E intersects the virtual line F2 in plan view.

点ｅ２、ｅ３は、点ｅ１よりも後方、かつ、点ｅ４よりも前方に位置する。点ｅ３は、点ｅ２よりも後方に位置する。点ｅ５、ｅ６は、点ｅ４よりも後方、かつ、点ｅ７よりも前方に位置する。点ｅ６は、点ｅ５よりも後方に位置する。点ｅ２、ｅ６は、回転軸線Ａ３５と保持部３５ｅ、３５ｇと熱処理ユニットＵ２の位置関係から、予め決められている。点ｅ３は、回転軸線Ａ３５ｄと保持部３５ｅ、３５ｇと載置部８２ａ１の位置関係から、予め決められている。点ｅ５は、回転軸線Ａ３５ｄと保持部３５ｅ、３５ｇと載置部８４ａ１の位置関係から、予め決められている。 The points e2 and e3 are located behind the point e1 and ahead of the point e4. The point e3 is located behind the point e2. The points e5 and e6 are located behind the point e4 and ahead of the point e7. The point e6 is located behind the point e5. The points e2 and e6 are predetermined based on the positional relationship among the rotation axis A35, the holding portions 35e and 35g, and the heat treatment unit U2. The point e3 is predetermined based on the positional relationship among the rotation axis A35d, the holding portions 35e and 35g, and the mounting portion 82a1. The point e5 is predetermined based on the positional relationship among the rotation axis A35d, the holding portions 35e and 35g, and the mounting portion 84a1.

以下の説明では、載置部８２ａ１が備える２つのプレート８５を、プレート８５ａ、８５ｂと呼ぶ。基板Ｗは、プレート８５ａを経由して、インデクサ用搬送機構２５から搬送機構３４ａ１に渡される。基板Ｗは、プレート８５ｂを経由して、搬送機構３４ａ１からインデクサ用搬送機構２５に渡される。 In the following description, the two plates 85 included in the mounting portion 82a1 are referred to as plates 85a and 85b. The substrate W is transferred from the indexer transport mechanism 25 to the transport mechanism 34a1 via the plate 85a. The substrate W is transferred from the transport mechanism 34a1 to the indexer transport mechanism 25 via the plate 85b.

図１４Ａを参照する。回転軸線Ａ３５は、点ｅ３よりも後方に位置する。アーム部３５ｄは、前方を向く。このため、保持部３５ｅは、回転軸線Ａ３５の前方に位置する。アーム部３５ｆは、アーム３５ｄとは反対の方向を向く。すなわち、アーム部３５ｆは、後方を向く。このため、保持部３５ｇは、回転軸線Ａ３５の後方に位置する。保持部３５ｅは１枚の基板Ｗを保持する。保持部３５ｅに保持される基板Ｗは、例えば、処理済みの基板Ｗである。保持部３５ｅに保持される基板Ｗは、例えば、検査部４１ａ１から搬出した基板Ｗである。保持部３５ｇは基板Ｗを保持していない。載置部８２ａ１のプレート８５ｂには、基板Ｗが載置されていない。 Reference is made to FIG. 14A. The rotation axis A35 is located behind the point e3. The arm portion 35d faces forward. Therefore, the holding portion 35e is located in front of the rotation axis A35. The arm portion 35f faces the direction opposite to the arm 35d. That is, the arm portion 35f faces rearward. Therefore, the holding portion 35g is located behind the rotation axis A35. The holder 35e holds one substrate W. The substrate W held by the holder 35e is, for example, a processed substrate W. The substrate W held by the holding unit 35e is, for example, the substrate W carried out from the inspection unit 41a1. The holding portion 35g does not hold the substrate W. The substrate W is not placed on the plate 85b of the placing portion 82a1.

図１４Ａ−１４Ｄを参照する。水平移動部３５ｂがレール部３５ａに対して前方に移動することにより、回転軸線Ａ３５は、点ｅ３、ｅ２を通過し、点ｅ１まで前進する。回転軸線Ａ３５は、点ｅ１に到達したとき、水平移動部３５ｂは移動を停止する。 Reference is made to FIGS. 14A-14D. As the horizontal moving part 35b moves forward with respect to the rail part 35a, the rotation axis A35 passes through the points e3 and e2 and advances to the point e1. When the rotation axis A35 reaches the point e1, the horizontal movement unit 35b stops moving.

回転軸線Ａ３５が点ｅ３まで前進するとき、アーム部３５ｄは回転しない。これにより、回転軸線Ａ３５と保持部３５ｅの相対的な位置関係は変わらない。保持部３５ｅおよび保持部３５ｅに保持された基板Ｗは、前方に平行移動する。回転軸線Ａ３５が点ｅ３から点ｅ１まで前進するとき、アーム部３５ｄは回転する。これにより、回転軸線Ａ３５が点ｅ３から点ｅ１まで前進するとき、保持部３５ｅおよび保持部３５ｅに保持された基板Ｗは、前方かつ左方に移動する。回転軸線Ａ３５は、点ｅ１に到達したとき、アーム部３５ｄは回転を停止する。回転軸線Ａ３５が点ｅ１に位置するとき、保持部３５ｅは、回転軸線Ａ３５の前方かつ左方に位置する。回転軸線Ａ３５が点ｅ１に位置するとき、保持部３５ｅおよび保持部３５ｅに保持された基板Ｗは、平面視において、載置部８２ａ１のプレート８５ｂと重なる。回転軸線Ａ３５が点ｅ１に位置するとき、保持部３５ｅは、基板Ｗを載置部８２ａ１のプレート８５ｂに載置する。 When the rotation axis A35 advances to the point e3, the arm portion 35d does not rotate. As a result, the relative positional relationship between the rotation axis A35 and the holding portion 35e does not change. The holding unit 35e and the substrate W held by the holding unit 35e move forward in parallel. When the rotation axis A35 advances from the point e3 to the point e1, the arm portion 35d rotates. Thereby, when the rotation axis A35 moves forward from the point e3 to the point e1, the holding section 35e and the substrate W held by the holding section 35e move forward and leftward. When the rotation axis A35 reaches the point e1, the arm portion 35d stops rotating. When the rotation axis A35 is located at the point e1, the holding portion 35e is located in front of and to the left of the rotation axis A35. When the rotation axis A35 is located at the point e1, the holding portion 35e and the substrate W held by the holding portion 35e overlap the plate 85b of the mounting portion 82a1 in plan view. When the rotation axis A35 is located at the point e1, the holding unit 35e places the substrate W on the plate 85b of the placing unit 82a1.

回転軸線Ａ３５が点ｅ３、ｅ２を通過し、点ｅ１まで前進するとき、アーム部３５ｆは回転しない。これにより、回転軸線Ａ３５と保持部３５ｇの相対的な位置関係は変わらない。保持部３５ｇは、前方に平行移動する。 When the rotation axis A35 passes through the points e3 and e2 and moves forward to the point e1, the arm portion 35f does not rotate. As a result, the relative positional relationship between the rotation axis A35 and the holding portion 35g does not change. The holding portion 35g moves forward in parallel.

図１４Ｄ−１４Ｅを参照する。水平移動部３５ｂがレール部３５ａに対して後方に移動することにより、回転軸線Ａ３５は点ｅ１から後退する。回転軸線Ａ３５が点ｅ１から後退するとき、アーム部３５ｄは逆方向に回転する。これにより、保持部３５ｅは、後方かつ右方に移動する。保持部３５ｅが後方かつ右方に移動するとき、保持部３５ｅは、基板Ｗを保持しない。保持部３５ｅは、載置部８２ａ１と重ならない位置に移動する。回転軸線Ａ３５が点ｅ１から後退するとき、アーム部３５ｆは回転しない。これにより、保持部３５ｇは、後方に平行移動する。 Reference is made to FIGS. 14D-14E. The rotation axis A35 retracts from the point e1 by the horizontal movement portion 35b moving rearward with respect to the rail portion 35a. When the rotation axis A35 retracts from the point e1, the arm portion 35d rotates in the opposite direction. As a result, the holding portion 35e moves rearward and rightward. When the holder 35e moves rearward and rightward, the holder 35e does not hold the substrate W. The holding portion 35e moves to a position where it does not overlap the placing portion 82a1. When the rotation axis A35 retracts from the point e1, the arm portion 35f does not rotate. Thereby, the holding portion 35g moves rearward in parallel.

図１４Ｅ−１４Ｆを参照する。垂直移動部３５ｃは、水平移動部３５ｂに対して略上下方向Ｚに移動する。これにより、保持部３５ｅ、３５ｇは、略上下方向Ｚに平行移動する。保持部３５ｅは、プレート８５ａと略同じ高さ位置に移動する。プレート８５ａ上には、１枚の基板Ｗが載置されている。プレート８５ａ上の基板Ｗは、例えば、未処理の基板Ｗである。 Reference is made to FIGS. 14E-14F. The vertical moving unit 35c moves in the substantially vertical direction Z with respect to the horizontal moving unit 35b. As a result, the holding portions 35e and 35g move in parallel in the substantially vertical direction Z. The holding portion 35e moves to the substantially same height position as the plate 85a. One substrate W is placed on the plate 85a. The substrate W on the plate 85a is, for example, an unprocessed substrate W.

図１４Ｆ−１４Ｇを参照する。水平移動部３５ｂが再び前方に移動することにより、回転軸線Ａ３５は、再び、点ｅ１まで前進する。回転軸線Ａ３５は、点ｅ１に到達したとき、水平移動部３５ｂは移動を停止する。 Reference is made to FIGS. 14F-14G. When the horizontal movement unit 35b moves forward again, the rotation axis A35 advances to the point e1 again. When the rotation axis A35 reaches the point e1, the horizontal movement unit 35b stops moving.

回転軸線Ａ３５が点ｅ１まで前進するとき、アーム部３５ｄは回転する。これにより、回転軸線Ａ３５が点ｅ１まで前進するとき、保持部３５ｅは、前方かつ左方に移動する。回転軸線Ａ３５は、点ｅ１に到達したとき、アーム部３５ｄは回転を停止する。回転軸線Ａ３５が点ｅ１に位置するとき、保持部３５ｅは、回転軸線Ａ３５の前方かつ左方に位置する。回転軸線Ａ３５が点ｅ１に位置するとき、保持部３５ｅは、平面視において、載置部８２ａ１のプレート８５ａと重なる。回転軸線Ａ３５が点ｅ１に位置するとき、保持部３５ｅは、プレート８５ａ上の基板Ｗを取る。 When the rotation axis A35 advances to the point e1, the arm portion 35d rotates. As a result, when the rotation axis A35 moves forward to the point e1, the holding portion 35e moves forward and leftward. When the rotation axis A35 reaches the point e1, the arm portion 35d stops rotating. When the rotation axis A35 is located at the point e1, the holding portion 35e is located in front of and to the left of the rotation axis A35. When the rotation axis A35 is located at the point e1, the holding portion 35e overlaps the plate 85a of the mounting portion 82a1 in plan view. When the rotation axis A35 is located at the point e1, the holding unit 35e takes the substrate W on the plate 85a.

回転軸線Ａ３５が点ｅ１まで前進するとき、アーム部３５ｆは回転しない。これにより、保持部３５ｇは、前方に平行移動する。 When the rotation axis A35 moves forward to the point e1, the arm portion 35f does not rotate. As a result, the holding portion 35g moves forward in parallel.

図１４Ｇ−１４Ｋを参照する。水平移動部３５ｂが再び後方に移動することにより、回転軸線Ａ３５が点ｅ１から点ｅ４に後退する。回転軸線Ａ３５は、点ｅ４に到達したとき、水平移動部３５ｂは移動を停止する。 Reference is made to FIGS. 14G-14K. When the horizontal moving unit 35b moves backward again, the rotation axis A35 retreats from the point e1 to the point e4. When the rotation axis A35 reaches the point e4, the horizontal movement unit 35b stops moving.

回転軸線Ａ３５が点ｅ１から点ｅ３まで後退するとき、アーム部３５ｄは逆方向に回転する。これにより、保持部３５ｅおよび保持部３５ｅに保持された基板Ｗは、後方かつ右方に移動する。回転軸線Ａ３５は、点ｅ３に到達したとき、アーム部３５ｄは回転を停止する。回転軸線Ａ３５が点ｅ３に位置するとき、アーム部３５ｄは、前方を向く。このため、保持部３５ｅは、回転軸線Ａ３５の前方に位置する。回転軸線Ａ３５が点ｅ３から点ｅ４まで後退するとき、アーム部３５ｄは回転しない。これにより、保持部３５ｅおよび保持部３５ｅに保持された基板Ｗは、後方に平行移動する。 When the rotation axis A35 retracts from the point e1 to the point e3, the arm portion 35d rotates in the opposite direction. As a result, the holding unit 35e and the substrate W held by the holding unit 35e move rearward and rightward. When the rotation axis A35 reaches the point e3, the arm portion 35d stops rotating. When the rotation axis A35 is located at the point e3, the arm portion 35d faces forward. Therefore, the holding portion 35e is located in front of the rotation axis A35. When the rotation axis A35 retracts from the point e3 to the point e4, the arm portion 35d does not rotate. As a result, the holding portion 35e and the substrate W held by the holding portion 35e move in parallel rearward.

回転軸線Ａ３５が点ｅ１から点ｅ２まで後退するとき、アーム部３５ｆは回転しない。
これにより、保持部３５ｇは、後方に平行移動する。回転軸線Ａ３５が点ｅ２から点ｅ４まで後退するとき、アーム部３５ｆは回転し始める。これにより、保持部３５ｇは、右方に移動する。より詳しくは、保持部３５ｇは、仮想線Ｆ２に沿って移動する。保持部３５ｇは、回転軸線Ａ３５回りに回転しながら、点ｅ４から仮想線Ｆ２に沿って右方に移動する。保持部３５ｇは、点ｅ４から仮想線Ｆ２に沿って熱処理ユニットＵ２に近づく。 When the rotation axis A35 retracts from the point e1 to the point e2, the arm portion 35f does not rotate.
Thereby, the holding portion 35g moves rearward in parallel. When the rotation axis A35 retracts from the point e2 to the point e4, the arm portion 35f starts to rotate. As a result, the holding portion 35g moves to the right. More specifically, the holding portion 35g moves along the virtual line F2. The holding portion 35g moves rightward along the virtual line F2 from the point e4 while rotating around the rotation axis A35. The holding portion 35g approaches the heat treatment unit U2 along the imaginary line F2 from the point e4.

このように、水平移動部３５ｂが略前後方向Ｘに移動しながら、アーム部３５ｆが回転軸線Ａ３５回りに回転することによって、保持部３５ｇは熱処理ユニットＵ２に向かって略幅方向Ｙに直線的に移動する。 In this way, while the horizontal moving portion 35b moves in the substantially front-back direction X, the arm portion 35f rotates around the rotation axis A35, whereby the holding portion 35g linearly moves in the substantially width direction Y toward the heat treatment unit U2. Moving.

回転軸線Ａ３５が点ｅ４に到達したとき、アーム部３５ｆは回転を停止する。回転軸線Ａ３５が点ｅ４に位置するとき、アーム部３５ｆは右方を向く。このため、回転軸線Ａ３５が点ｅ４に位置するとき、保持部３５ｇは、回転軸線Ａ３５の右方に位置する。回転軸線Ａ３５が点ｅ４に位置するとき、保持部３５ｇは、平面視において、熱処理ユニットＵ２の第１プレート３９ａと重なる。回転軸線Ａ３５が点ｅ４に位置するとき、保持部３５ｇは、熱処理ユニットＵ２の第１プレート３９ａ上の基板Ｗを取る。ここで、処理ユニットＵ２の第１プレート３９ａ上の基板Ｗは、例えば、熱処理ユニットＵ２による処理が既に行われた基板Ｗである。 When the rotation axis A35 reaches the point e4, the arm portion 35f stops rotating. When the rotation axis A35 is located at the point e4, the arm portion 35f faces right. Therefore, when the rotation axis A35 is located at the point e4, the holding portion 35g is located to the right of the rotation axis A35. When the rotation axis A35 is located at the point e4, the holding portion 35g overlaps the first plate 39a of the heat treatment unit U2 in a plan view. When the rotation axis A35 is located at the point e4, the holding unit 35g takes the substrate W on the first plate 39a of the heat treatment unit U2. Here, the substrate W on the first plate 39a of the processing unit U2 is, for example, the substrate W that has already been processed by the thermal processing unit U2.

図１４Ｋ−１４Ｍを参照する。水平移動部３５ｂが前方に移動することにより、回転軸線Ａ３５が点ｅ４から点ｅ２に前進する。回転軸線Ａ３５は、点ｅ２に到達したとき、水平移動部３５ｂは前方のへの移動を停止する。 Reference is made to FIGS. 14K-14M. The horizontal axis 35 moves forward from the point e4 to the point e2 by the horizontal movement part 35b moving forward. When the rotation axis A35 reaches the point e2, the horizontal movement unit 35b stops moving forward.

回転軸線Ａ３５が点ｅ４から点ｅ２に前進するとき、アーム部３５ｄは回転しない。これにより、保持部３５ｅおよび保持部３５ｅに保持された基板Ｗは、前方に平行移動する。 When the rotation axis A35 advances from the point e4 to the point e2, the arm portion 35d does not rotate. As a result, the holding unit 35e and the substrate W held by the holding unit 35e move forward in parallel.

回転軸線Ａ３５が点ｅ４から点ｅ２に前進するとき、アーム部３５ｆは逆方向に回転する。これにより、保持部３５ｇおよび保持部３５ｇに保持された基板Ｗは、左方に移動する。より詳しくは、保持部３５ｇおよび保持部３５ｇに保持された基板Ｗは、仮想線Ｆ２に沿って移動する。保持部３５ｇおよび保持部３５ｇに保持された基板Ｗは、点ｅ４に向かって仮想線Ｆ２に沿って左方に移動する。保持部３５ｇおよび保持部３５ｇに保持された基板Ｗは、仮想線Ｆ２に沿って熱処理ユニットＵ２から遠ざかる。熱処理ユニットＵ２の第１プレート３９ａには、基板Ｗが載置されていない。 When the rotation axis A35 advances from the point e4 to the point e2, the arm portion 35f rotates in the opposite direction. As a result, the holding unit 35g and the substrate W held by the holding unit 35g move to the left. More specifically, the holding unit 35g and the substrate W held by the holding unit 35g move along the virtual line F2. The holding portion 35g and the substrate W held by the holding portion 35g move leftward along the virtual line F2 toward the point e4. The holding unit 35g and the substrate W held by the holding unit 35g move away from the heat treatment unit U2 along the virtual line F2. The substrate W is not placed on the first plate 39a of the heat treatment unit U2.

このように、水平移動部３５ｂが略前後方向Ｘに移動しながら、アーム部３５ｆが回転軸線Ａ３５回りに回転することによって、保持部３５ｇは、熱処理ユニットＵ２から遠ざかるように、略幅方向Ｙに直線的に移動する。これにより、保持部３５ｇに保持された基板Ｗを、熱処理ユニットＵ２から遠ざかるように、略幅方向Ｙに直線的に移動させる。 As described above, while the horizontal moving portion 35b moves in the substantially front-back direction X, the arm portion 35f rotates about the rotation axis A35, so that the holding portion 35g moves in the substantially width direction Y so as to move away from the heat treatment unit U2. Move in a straight line. As a result, the substrate W held by the holding portion 35g is linearly moved in the substantially width direction Y so as to move away from the heat treatment unit U2.

回転軸線Ａ３５が点ｅ２に到達したとき、アーム部３５ｆの逆回転は終了する。回転軸線Ａ３５が点ｅ２に位置するとき、アーム部３５ｆは後方を向く。このため、回転軸線Ａ３５が点ｅ２に位置するとき、保持部３５ｇおよび保持部３５ｇに保持された基板Ｗは、回転軸線Ａ３５の後方に位置する。 When the rotation axis A35 reaches the point e2, the reverse rotation of the arm portion 35f ends. When the rotation axis A35 is located at the point e2, the arm portion 35f faces rearward. Therefore, when the rotation axis A35 is located at the point e2, the holding portion 35g and the substrate W held by the holding portion 35g are located behind the rotation axis A35.

図１４Ｍ−１４Ｎを参照する。水平移動部３５ｂが後方に移動することにより、回転軸線Ａ３５が点ｅ２から点ｅ６に後退する。 Reference is made to FIGS. 14M-14N. The horizontal axis 35 moves backward from the point e2 to the point e6 as the horizontal moving part 35b moves backward.

回転軸線Ａ３５が点ｅ２から点ｅ６に後退するとき、アーム部３５ｄは回転しない。これにより、保持部３５ｅおよび保持部３５ｅに保持された基板Ｗは、後方に平行移動する。回転軸線Ａ３５が点ｅ４から点ｅ６に後退するとき、アーム部３５ｆは回転しない。これにより、保持部３５ｇおよび保持部３５ｇに保持された基板Ｗは、後方に平行移動する。 When the rotation axis A35 retracts from the point e2 to the point e6, the arm portion 35d does not rotate. As a result, the holding portion 35e and the substrate W held by the holding portion 35e move in parallel rearward. When the rotation axis A35 retracts from the point e4 to the point e6, the arm portion 35f does not rotate. As a result, the holding portion 35g and the substrate W held by the holding portion 35g move in parallel rearward.

図１４Ｎ−１４Ｐを参照する。水平移動部３５ｂが前方に移動することにより、回転軸線Ａ３５が点ｅ６から点ｅ４に前進する。回転軸線Ａ３５は、点ｅ４に到達したとき、水平移動部３５ｂは移動を停止する。 Reference is made to FIGS. 14N-14P. The horizontal axis 35 moves forward from the point e6 to the point e4 by the horizontal movement part 35b moving forward. When the rotation axis A35 reaches the point e4, the horizontal movement unit 35b stops moving.

回転軸線Ａ３５が点ｅ６から点ｅ４に前進するとき、アーム部３５ｄは逆方向に回転する。これにより、保持部３５ｅおよび保持部３５ｅに保持された基板Ｗは、右方に移動する。より詳しくは、保持部３５ｅおよび保持部３５ｅに保持された基板Ｗは、仮想線Ｆ２に沿って移動する。保持部３５ｅおよび保持部３５ｅに保持された基板Ｗは、点ｅ４から仮想線Ｆ２に沿って右方に移動する。持部３５ｅおよび保持部３５ｅに保持された基板Ｗは、点ｅ４から仮想線Ｆ２に沿って熱処理ユニットＵ２に近づく。 When the rotation axis A35 advances from the point e6 to the point e4, the arm portion 35d rotates in the opposite direction. As a result, the holding unit 35e and the substrate W held by the holding unit 35e move to the right. More specifically, the holding unit 35e and the substrate W held by the holding unit 35e move along the imaginary line F2. The holding unit 35e and the substrate W held by the holding unit 35e move rightward from the point e4 along the virtual line F2. The substrate W held by the holding unit 35e and the holding unit 35e approaches the heat treatment unit U2 along the virtual line F2 from the point e4.

このように、水平移動部３５ｂが略前後方向Ｘに移動しながら、アーム部３５ｄが回転軸線Ａ３５回りに回転することによって、保持部３５ｅは熱処理ユニットＵ２に向かって略幅方向Ｙに直線的に移動する。これにより、保持部３５ｇに保持された基板Ｗを、熱処理ユニットＵ２に向かって略幅方向Ｙに直線的に移動させる。 In this way, while the horizontal moving portion 35b moves in the substantially front-back direction X, the arm portion 35d rotates about the rotation axis A35, whereby the holding portion 35e linearly moves in the substantially width direction Y toward the heat treatment unit U2. Moving. As a result, the substrate W held by the holding portion 35g is linearly moved in the substantially width direction Y toward the heat treatment unit U2.

回転軸線Ａ３５が点ｅ４に到達したとき、アーム部３５ｄは回転を停止する。回転軸線Ａ３５が点ｅ６に位置するとき、アーム部３５ｄは右方を向く。このため、回転軸線Ａ３５が点ｅ４に位置するとき、保持部３５ｅおよび保持部３５ｅに保持された基板Ｗは、回転軸線Ａ３５の右方に位置する。回転軸線Ａ３５が点ｅ４に位置するとき、保持部３５ｅおよび保持部３５ｅに保持された基板Ｗは、平面視において、熱処理ユニットＵ２の第１プレート３９ａと重なる。保持部３５ｅは、熱処理ユニットＵ２の第１プレート３９ａに、基板Ｗを載置する。 When the rotation axis A35 reaches the point e4, the arm portion 35d stops rotating. When the rotation axis A35 is located at the point e6, the arm portion 35d faces right. Therefore, when the rotation axis A35 is located at the point e4, the holding portion 35e and the substrate W held by the holding portion 35e are located to the right of the rotation axis A35. When the rotation axis A35 is located at the point e4, the holding portion 35e and the substrate W held by the holding portion 35e overlap the first plate 39a of the heat treatment unit U2 in a plan view. The holder 35e places the substrate W on the first plate 39a of the heat treatment unit U2.

回転軸線Ａ３５が点ｅ６から点ｅ４に前進するとき、アーム部３５ｆは回転しない。これにより、保持部３５ｇおよび保持部３５ｇに保持された基板Ｗは、前方に平行移動する。 When the rotation axis A35 advances from the point e6 to the point e4, the arm portion 35f does not rotate. As a result, the holding portion 35g and the substrate W held by the holding portion 35g move forward in parallel.

図１４Ｐ−１４Ｒを参照する。水平移動部３５ｂが後方に移動することにより、回転軸線Ａ３５が点ｅ４から点ｅ６まで後退する。 Reference is made to FIGS. 14P-14R. The horizontal axis 35 moves backward from the point e4 to the point e6 by the horizontal movement part 35b moving backward.

回転軸線Ａ３５が点ｅ４から点ｅ６まで後退するとき、アーム部３５ｄは回転する。これにより、保持部３５ｅは、左方に移動する。より詳しくは、保持部３５ｅは、仮想線Ｆ２に沿って移動する。保持部３５ｅは、点ｅ４に向かって仮想線Ｆ２に沿って左方に移動する。保持部３５ｅは、仮想線Ｆ２に沿って熱処理ユニットＵ２から遠ざかる。保持部３５ｅは、基板Ｗを保持していない。 When the rotation axis A35 retracts from the point e4 to the point e6, the arm portion 35d rotates. As a result, the holding portion 35e moves to the left. More specifically, the holder 35e moves along the virtual line F2. The holding unit 35e moves leftward along the virtual line F2 toward the point e4. The holding portion 35e moves away from the heat treatment unit U2 along the imaginary line F2. The holder 35e does not hold the substrate W.

このように、水平移動部３５ｂが略前後方向Ｘに移動しながら、アーム部３５ｄが回転軸線Ａ３５回りに回転することによって、保持部３５ｅは、熱処理ユニットＵ２から遠ざかるように、略幅方向Ｙに直線的に移動する。 In this way, the horizontal moving portion 35b moves in the substantially front-back direction X, and the arm portion 35d rotates around the rotation axis A35, whereby the holding portion 35e moves in the substantially width direction Y so as to move away from the heat treatment unit U2. Move in a straight line.

回転軸線Ａ３５が点ｅ６に到達したとき、アーム部３５ｄの回転は終了する。回転軸線Ａ３５が点ｅ６に位置するとき、アーム部３５ｄは前方を向く。このため、回転軸線Ａ３５が点ｅ６に位置するとき、保持部３５ｅは、回転軸線Ａ３５の前方に位置する。 When the rotation axis A35 reaches the point e6, the rotation of the arm portion 35d ends. When the rotation axis A35 is located at the point e6, the arm portion 35d faces forward. Therefore, when the rotation axis A35 is located at the point e6, the holding portion 35e is located in front of the rotation axis A35.

回転軸線Ａ３５が点ｅ４から点ｅ５に後退するとき、アーム部３５ｆは回転しない。これにより、保持部３５ｇおよび保持部３５ｇに保持された基板Ｗは、後方に平行移動する。回転軸線Ａ３５が点ｅ５から点ｅ６に後退するとき、アーム部３５ｆは逆方向に回転する。これにより、保持部３５ｇおよび保持部３５ｇに保持された基板Ｗは、左方かつ後方に移動する。 When the rotation axis A35 retracts from the point e4 to the point e5, the arm portion 35f does not rotate. As a result, the holding portion 35g and the substrate W held by the holding portion 35g move in parallel rearward. When the rotation axis A35 retracts from the point e5 to the point e6, the arm portion 35f rotates in the opposite direction. As a result, the holding portion 35g and the substrate W held by the holding portion 35g move leftward and rearward.

その後、図示を省略するが、搬送機構３４ａ１は載置部８４ａ１にアクセスする。例えば、水平移動部３５ｂが後方にさらに移動することにより、回転軸線Ａ３５が点ｅ７まで後退する。回転軸線Ａ３５が点ｅ５から点ｅ７まで後退するとき、保持部３５ｇは逆方向に回転する。そして、回転軸線Ａ３５が点ｅ７に位置するとき、保持部３５ｇは、載置部８４ａ１に基板Ｗを載置する。 After that, although not shown, the transport mechanism 34a1 accesses the placing portion 84a1. For example, when the horizontal moving unit 35b further moves backward, the rotation axis A35 retracts to the point e7. When the rotation axis A35 retracts from the point e5 to the point e7, the holding portion 35g rotates in the opposite direction. When the rotation axis A35 is located at the point e7, the holding section 35g places the substrate W on the placing section 84a1.

搬送機構３４ａ２−３４ａ４、３４ｂ１−３４ｂ４も、搬送機構３４ａ１と同様に、動作する。 The transport mechanisms 34a2-34a4 and 34b1-34b4 also operate similarly to the transport mechanism 34a1.

上述した動作例では、搬送機構３４ａ１は、載置部８２ａ１（プレート８５ａ）から熱処理ユニット３８ａ１（Ｕ２）に基板Ｗを搬送した（図１４Ｆ−１４Ｐ参照）。但し、これに限られない。例えば、搬送機構３４ａ１は、熱処理ユニット３８ａ１に基板Ｗを載置せずに、載置部８２ａ１と載置部８４ａ１の間で基板Ｗを搬送できる。便宜上、図１４Ａ−１４Ｒを参照して、搬送機構３４ａ１が、熱処理ユニット３８ａ１に基板Ｗを載置せずに、載置部８２ａ１から載置部８４ａ１に基板Ｗを搬送する動作例を説明する。 In the operation example described above, the transport mechanism 34a1 transports the substrate W from the mounting portion 82a1 (plate 85a) to the thermal processing unit 38a1 (U2) (see FIGS. 14F-14P). However, it is not limited to this. For example, the transfer mechanism 34a1 can transfer the substrate W between the mounting portion 82a1 and the mounting portion 84a1 without mounting the substrate W on the thermal processing unit 38a1. For convenience, an operation example in which the transport mechanism 34a1 transports the substrate W from the mounting portion 82a1 to the mounting portion 84a1 without mounting the substrate W on the thermal processing unit 38a1 will be described with reference to FIGS. 14A-14R.

まず、保持部３５ｅは、載置部８２ａ１上の基板Ｗを取る（図１４Ｆ−１４Ｇ）。その後、保持部３５ｅは、図１４Ｎに示す位置に移動する。保持部３５ｅおよび保持部３５ｅに保持された基板Ｗは、回転軸線Ａ３５の前方に位置する。 First, the holding unit 35e takes the substrate W on the mounting unit 82a1 (FIGS. 14F-14G). After that, the holding portion 35e moves to the position shown in FIG. 14N. The holding unit 35e and the substrate W held by the holding unit 35e are located in front of the rotation axis A35.

次に、水平移動部３５ｂが前方に移動しながらアーム部３５ｄが回転する。これにより、保持部３５ｅに保持された基板Ｗは、仮想線Ｆ２に沿って熱処理ユニットＵ２に近づく（図１４Ｎ−１４Ｐ）。保持部３５ｅが図１４Ｐに示す位置に到達したとき、保持部３５ｅは、熱処理ユニットＵ２に基板Ｗを載置しない。保持部３５ｅは、第１プレート３９ａの上方の空間で、基板Ｗを保持したままである。保持部３５ｅおよび保持部３５ｅに保持された基板Ｗは、回転軸線Ａ３５の右方に移動する。 Next, the arm portion 35d rotates while the horizontal moving portion 35b moves forward. As a result, the substrate W held by the holder 35e approaches the heat treatment unit U2 along the virtual line F2 (FIGS. 14N-14P). When the holder 35e reaches the position shown in FIG. 14P, the holder 35e does not place the substrate W on the thermal processing unit U2. The holding portion 35e keeps holding the substrate W in the space above the first plate 39a. The holding unit 35e and the substrate W held by the holding unit 35e move to the right of the rotation axis A35.

引き続き、水平移動部３５ｂはさらに前進するとともに、アーム部３５ｄがさらに回転する。これにより、アーム部３５ｄおよび保持部３５ｅは、図１４Ｋ−１４Ｍに示されるアーム部３５ｆおよび保持部３５ｇと略同じ動作をする。保持部３５ｅに保持された基板Ｗは、仮想線Ｆ２に沿って熱処理ユニットＵ２から遠ざかる。保持部３５ｅおよび保持部３５ｅに保持された基板Ｗは、回転軸線Ａ３５の後方に移動する。 Subsequently, the horizontal moving part 35b further advances, and the arm part 35d further rotates. Thereby, the arm portion 35d and the holding portion 35e perform substantially the same operation as the arm portion 35f and the holding portion 35g shown in FIGS. 14K-14M. The substrate W held by the holder 35e moves away from the heat treatment unit U2 along the imaginary line F2. The holding unit 35e and the substrate W held by the holding unit 35e move to the rear of the rotation axis A35.

その後、水平移動部３５ｂは後退する。これにより、保持部３５ｅは、載置部８４ａ１
にアクセスし、載置部８４ａ１に基板Ｗを載置する。 After that, the horizontal moving unit 35b moves backward. As a result, the holding portion 35e is moved to the mounting portion 84a1.
To place the substrate W on the mounting portion 84a1.

このように、保持部３５ｅは、熱処理ユニット３８ａ１が有する空間を利用して、回転軸線Ａ３５回りに旋回できる。保持部３５ｅは、熱処理ユニット３８ａ１に基板Ｗを載置することなく、回転軸線Ａ３５の前方の位置から回転軸線Ａ３５の後方の位置に移動できる。このため、保持部３５ｅが載置部８２ａ１にアクセスした後、保持部３５ｅは載置部８４ａ１にアクセスできる。したがって、搬送機構３４ａ１は、熱処理ユニット３８ａ１に基板Ｗを載置せずに、載置部８２ａ１から載置部８４ａ１に基板Ｗを搬送できる。 Thus, the holding portion 35e can swivel around the rotation axis A35 by using the space of the heat treatment unit 38a1. The holding unit 35e can move from a position in front of the rotation axis A35 to a position in front of the rotation axis A35 without placing the substrate W on the heat treatment unit 38a1. Therefore, after the holding unit 35e accesses the placing unit 82a1, the holding unit 35e can access the placing unit 84a1. Therefore, the transfer mechanism 34a1 can transfer the substrate W from the mounting portion 82a1 to the mounting portion 84a1 without mounting the substrate W on the thermal processing unit 38a1.

搬送機構３４ａ１が上述した動作例とは逆の手順を行うことで、保持部３５ｅは、熱処理ユニット３８ａ１が有する空間を利用して、回転軸線Ａ３５の後方の位置から回転軸線Ａ３５の前方の位置に移動できる。したがって、搬送機構３４ａ１は、熱処理ユニット３８ａ１に基板Ｗを載置せずに、載置部８４ａ１から載置部８２ａ１に基板Ｗを搬送できる。 By performing the procedure reverse to the above-described operation example of the transport mechanism 34a1, the holding unit 35e uses the space of the heat treatment unit 38a1 to move from the position behind the rotation axis A35 to the position ahead of the rotation axis A35. You can move. Therefore, the transfer mechanism 34a1 can transfer the substrate W from the mounting portion 84a1 to the mounting portion 82a1 without mounting the substrate W on the thermal processing unit 38a1.

なお、アーム部３５ｄ、３５ｆはそれぞれ、回転軸線Ａ３５回りに約２５０度程度、回転可能である。 The arms 35d and 35f are rotatable about the rotation axis A35 by about 250 degrees.

＜実施形態の効果＞
可動部材５１ａ１は、第１フレーム４６に支持される。熱処理部３７ａ１は、可動部材５１ａ１に支持される。可動部材５１ａ１は、第１フレーム４６に対して移動可能である。可動部材５１ａ１が第１フレーム４６に対して移動することによって、熱処理部３７ａ１は第１フレーム４６に対して移動する。このため、熱処理部３７ａ１のメンテナンスを容易に行うことができる。 <Effects of the embodiment>
The movable member 51a1 is supported by the first frame 46. The heat treatment section 37a1 is supported by the movable member 51a1. The movable member 51a1 is movable with respect to the first frame 46. When the movable member 51a1 moves with respect to the first frame 46, the heat treatment section 37a1 moves with respect to the first frame 46. Therefore, the heat treatment section 37a1 can be easily maintained.

搬送機構３４ａ１は、可動部材５１ａ１に支持される。可動部材５１ａ１が第１フレーム４６に対して移動することによって、熱処理部３７ａ１は、搬送機構３４ａ１と一体に移動する。このため、可動部材５１ａ１がフレーム４６に対して移動するとき、熱処理部３７ａ１と搬送機構３４ａ１との相対的な位置を一定に保つことができる。よって、熱処理部３７ａ１と搬送機構３４ａ１との相対的な位置を一定に保った状態で、熱処理部３７ａ１のメンテナンスを行うことができる。したがって、熱処理部３７ａ１のメンテナンスを行う度に、熱処理部３７ａ１と搬送機構３４ａ１との相対的な位置を調整しなくてもよい。すなわち、熱処理部３７ａ１のメンテナンスを一層容易に行うことができる。 The transport mechanism 34a1 is supported by the movable member 51a1. When the movable member 51a1 moves with respect to the first frame 46, the heat treatment section 37a1 moves integrally with the transport mechanism 34a1. Therefore, when the movable member 51a1 moves with respect to the frame 46, the relative positions of the heat treatment section 37a1 and the transport mechanism 34a1 can be kept constant. Therefore, the heat treatment unit 37a1 can be maintained while the relative positions of the heat treatment unit 37a1 and the transport mechanism 34a1 are kept constant. Therefore, it is not necessary to adjust the relative positions of the heat treatment unit 37a1 and the transport mechanism 34a1 every time the heat treatment unit 37a1 is maintained. That is, maintenance of the heat treatment section 37a1 can be performed more easily.

以上のとおり、基板処理装置１によれば、基板処理装置１のメンテナンスを容易に行うことができる。 As described above, according to the substrate processing apparatus 1, the substrate processing apparatus 1 can be easily maintained.

可動部材５１ａ１が第１フレーム４６に対して移動することによって、熱処理部３７ａ１は、第１フレーム４６に対して略水平方向に移動する。このため、熱処理部３７ａ１は、他の部材と干渉することなく、第１フレーム４６に対して移動できる。例えば、他の部材が熱処理部３７ａ１の上方および下方の少なくともいずれかに配置される場合であっても、熱処理部３７ａ１は、他の部材と干渉することなく、第１フレーム４６に対して移動できる。 When the movable member 51a1 moves with respect to the first frame 46, the heat treatment section 37a1 moves substantially horizontally with respect to the first frame 46. Therefore, the heat treatment section 37a1 can move with respect to the first frame 46 without interfering with other members. For example, even when another member is arranged at least above or below the heat treatment unit 37a1, the heat treatment unit 37a1 can move with respect to the first frame 46 without interfering with other members. ..

可動部材５１ａ１が第１フレーム４６に対して移動することによって、熱処理部３７ａ１は、メンテナンス位置Ｑａ１に移動可能である。よって、熱処理部３７ａ１を容易にメンテナンス位置Ｑａ１に移動させることができる。 By moving the movable member 51a1 with respect to the first frame 46, the heat treatment section 37a1 can move to the maintenance position Qa1. Therefore, the heat treatment section 37a1 can be easily moved to the maintenance position Qa1.

熱処理部３７ａ１がメンテナンス位置Ｑａ１にあるとき、熱処理部３７ａ１の少なくとも一部は第１フレーム４６の外部に位置する。よって、熱処理部３７ａ１がメンテナンス位置Ｑａ１にあるとき、熱処理部３７ａ１のメンテナンスを容易に行うことができる。 When the heat treatment section 37a1 is at the maintenance position Qa1, at least a part of the heat treatment section 37a1 is located outside the first frame 46. Therefore, when the heat treatment section 37a1 is at the maintenance position Qa1, maintenance of the heat treatment section 37a1 can be easily performed.

熱処理部３７ａ１がメンテナンス位置Ｑａ１にあるとき、可動部材５１ａ１は第１フレーム４６に支持されている。このため、熱処理部３７ａ１がメンテナンス位置Ｑａ１にあるとき、熱処理部３７ａ１は、可動部材５１ａ１を介して、第１フレーム４６に支持されている。したがって、熱処理部３７ａ１のメンテナンスを一層容易に行うことができる。 When the thermal processing section 37a1 is at the maintenance position Qa1, the movable member 51a1 is supported by the first frame 46. Therefore, when the heat treatment section 37a1 is at the maintenance position Qa1, the heat treatment section 37a1 is supported by the first frame 46 via the movable member 51a1. Therefore, maintenance of the heat treatment section 37a1 can be performed more easily.

可動部材５１ａ１が第１フレーム４６に対して移動することによって、熱処理部３７ａ１は、処理位置Ｐａ１に移動可能である。このため、熱処理部３７ａ１を処理位置Ｐａ１に容易に移動させることができる。したがって、メンテナンス位置Ｑａ１と処理位置Ｐａ１との間で、熱処理部３７ａ１を容易に移動させることができる。 By moving the movable member 51a1 with respect to the first frame 46, the heat treatment section 37a1 can move to the processing position Pa1. Therefore, the thermal processing section 37a1 can be easily moved to the processing position Pa1. Therefore, the thermal processing section 37a1 can be easily moved between the maintenance position Qa1 and the processing position Pa1.

上述のとおり、可動部材５１ａ１が第１フレーム４６に対して移動することによって、熱処理部３７ａ１は搬送機構３４ａ１と一体に移動する。このため、可動部材５１ａ１が処理位置Ｐａ１に移動するときも、熱処理部３７ａ１と搬送機構３４ａ１との相対的な位置を一定に保つことができる。まとめると、熱処理部３７ａ１と搬送機構３４ａ１との相対的な位置を一定に保った状態で、メンテナンス位置Ｑａ１と処理位置Ｐａ１との間で、熱処理部３７ａ１を容易に移動させることができる。 As described above, when the movable member 51a1 moves with respect to the first frame 46, the heat treatment section 37a1 moves integrally with the transport mechanism 34a1. Therefore, even when the movable member 51a1 moves to the processing position Pa1, the relative position between the thermal processing section 37a1 and the transport mechanism 34a1 can be kept constant. In summary, it is possible to easily move the heat treatment unit 37a1 between the maintenance position Qa1 and the treatment position Pa1 while keeping the relative positions of the heat treatment unit 37a1 and the transport mechanism 34a1 constant.

熱処理部３７ａ１がメンテナンス位置Ｑａ１にあるときに第１フレーム４６の外部に位置する熱処理部３７ａ１の部分は、熱処理部３７ａ１が処理位置Ｐａ１にあるときに第１フレーム４６の外部に位置する熱処理部３７ａ１の部分よりも大きい。このため、熱処理部３７ａ１がメンテナンス位置Ｑａ１にあるとき、熱処理部３７ａ１のメンテナンスを容易に行うことができる。熱処理部３７ａ１が処理位置Ｐａ１にあるとき、熱処理部３７ａ１は基板Ｗに熱処理を適切に行うことができる。 The portion of the heat treatment portion 37a1 located outside the first frame 46 when the heat treatment portion 37a1 is in the maintenance position Qa1 is the heat treatment portion 37a1 located outside the first frame 46 when the heat treatment portion 37a1 is in the treatment position Pa1. Larger than the part. Therefore, when the heat treatment section 37a1 is at the maintenance position Qa1, maintenance of the heat treatment section 37a1 can be easily performed. When the thermal processing section 37a1 is at the processing position Pa1, the thermal processing section 37a1 can appropriately perform thermal processing on the substrate W.

熱処理部３７ａ１が処理位置Ｐａ１にあるとき、熱処理部３７ａ１の全部は、第１フレーム４６の内部に位置する。このため、熱処理部３７ａ１が処理位置Ｐａ１にあるとき、熱処理部３７ａ１は基板Ｗに熱処理を一層適切に行うことができる。 When the thermal processing section 37a1 is in the processing position Pa1, the entire thermal processing section 37a1 is located inside the first frame 46. Therefore, when the thermal processing section 37a1 is at the processing position Pa1, the thermal processing section 37a1 can more appropriately perform the thermal processing on the substrate W.

熱処理部３７ａ１が処理位置Ｐａ１にあるとき、可動部材５１ａ１は第１フレーム４６に支持されている。このため、熱処理部３７ａ１が処理位置Ｐａ１にあるとき、熱処理部３７ａ１は、可動部材５１ａ１を介して、第１フレーム４６に支持されている。したがって、熱処理部３７ａ１は基板Ｗに熱処理を一層適切に行うことができる。 When the thermal processing section 37a1 is at the processing position Pa1, the movable member 51a1 is supported by the first frame 46. Therefore, when the heat treatment section 37a1 is at the treatment position Pa1, the heat treatment section 37a1 is supported by the first frame 46 via the movable member 51a1. Therefore, the heat treatment unit 37a1 can more appropriately perform the heat treatment on the substrate W.

搬送機構３４ａ１に関して、レール部３５ａは、可動部材５１ａ１に固定される。水平移動部３５ｂは、レール部３５ａに支持される。アーム部３５ｄ、３５ｆは、水平移動部３５ｂに支持される。保持部３５ｅは、アーム部３５ｄに固定される。保持部３５ｇは、アーム部３５ｆに固定される。このように、レール部３５ａ、水平移動部３５ｂ、アーム部３５ｄ、３５ｆ、保持部３５ｅ、３５ｇは、直接的に、または、間接的に、可動部材５１ａ１に支持される。よって、可動部材５１ａ１は、搬送機構３４ａ１を好適に支持できる。 Regarding the transport mechanism 34a1, the rail portion 35a is fixed to the movable member 51a1. The horizontal moving part 35b is supported by the rail part 35a. The arm portions 35d and 35f are supported by the horizontal moving portion 35b. The holding portion 35e is fixed to the arm portion 35d. The holding portion 35g is fixed to the arm portion 35f. In this way, the rail portion 35a, the horizontal moving portion 35b, the arm portions 35d and 35f, and the holding portions 35e and 35g are directly or indirectly supported by the movable member 51a1. Therefore, the movable member 51a1 can favorably support the transport mechanism 34a1.

水平移動部３５ｂはレール部３５ａに対して略水平方向に移動可能である。このため、保持部３５ｅ、３５ｇは、レール部３５ａに対して略水平方向に移動可能である。アーム部３５ｄは水平移動部３５ｂに対して回転軸線Ａ３５ｄ回りに回転可能である。このため、保持部３５ｅは、水平移動部３５ｂに対して回転軸線Ａ３５ｄ回りに回転可能である。アーム部３５ｆは水平移動部３５ｂに対して回転軸線Ａ３５ｆ回りに回転可能である。このため、保持部３５ｇは、水平移動部３５ｂに対して回転軸線Ａ３５ｆ回りに回転可能である。よって、保持部３５ｅ、３５ｇは、熱処理部３７ａ１に好適にアクセスできる。 The horizontal moving portion 35b is movable in a substantially horizontal direction with respect to the rail portion 35a. Therefore, the holding portions 35e and 35g can move in a substantially horizontal direction with respect to the rail portion 35a. The arm portion 35d is rotatable about the rotation axis A35d with respect to the horizontal moving portion 35b. Therefore, the holding portion 35e can rotate around the rotation axis A35d with respect to the horizontal moving portion 35b. The arm portion 35f is rotatable around the rotation axis A35f with respect to the horizontal moving portion 35b. Therefore, the holding portion 35g can rotate around the rotation axis A35f with respect to the horizontal moving portion 35b. Therefore, the holding units 35e and 35g can suitably access the heat treatment unit 37a1.

搬送機構３４ｂ１は、搬送機構３４ａ１と略同じ構造を有する。したがって、搬送機構３４ｂ１の保持部３５ｅ、３５ｇは、熱処理ユニット３８ｂ１に好適にアクセスできる。 The transport mechanism 34b1 has substantially the same structure as the transport mechanism 34a1. Therefore, the holders 35e and 35g of the transport mechanism 34b1 can suitably access the heat treatment unit 38b1.

平面視において、水平移動部３５ｂに対する回転軸線Ａ３５ｄ、Ａ３５ｆの相対的な位置は、一定である。このため、アーム部３５ｄ、３５ｆが水平移動部３５ｂに支持される構造は、簡素である。保持部３５ｅ、３５ｇはアーム部３５ｄ、３５ｆに固定される。さらに、平面視において、保持部３５ｅと回転軸線Ａ３５ｄの距離は、一定である。平面視において、保持部３５ｇと回転軸線Ａ３５ｆの距離は、一定である。このため、保持部３５ｅ、３５ｇがアーム部３５ｄ、３５ｆに支持される構造は、簡素である。このように、搬送機構３４ａ１の構造は簡素である。その結果、搬送機構３４ａ１のサイズは、比較的に小さい。例えば、アーム部３５ｄ、３５ｆのサイズは、比較的に小さい。よって、平面視における搬送機構３４ａ１の設置スペースを効果的に低減できる。したがって、平面視における搬送スペース３２の面積を効果的に低減できる。 In a plan view, the relative positions of the rotation axis lines A35d and A35f with respect to the horizontal moving portion 35b are constant. Therefore, the structure in which the arm portions 35d and 35f are supported by the horizontal moving portion 35b is simple. The holding portions 35e and 35g are fixed to the arm portions 35d and 35f. Further, in plan view, the distance between the holding portion 35e and the rotation axis A35d is constant. In plan view, the distance between the holding portion 35g and the rotation axis A35f is constant. Therefore, the structure in which the holding portions 35e and 35g are supported by the arm portions 35d and 35f is simple. Thus, the structure of the transport mechanism 34a1 is simple. As a result, the size of the transport mechanism 34a1 is relatively small. For example, the sizes of the arms 35d and 35f are relatively small. Therefore, the installation space of the transport mechanism 34a1 in plan view can be effectively reduced. Therefore, the area of the transport space 32 in plan view can be effectively reduced.

ちなみに、搬送機構６８ａは、平面視において、水平移動部６９ｄに対する回転軸線Ａ６９ｅの相対的な位置は、一定であるが、平面視において、保持部６９ｆと回転軸線Ａ６９ｅとの距離は、一定でない。さらに、平面視において、保持部６９ｇと回転軸線Ａ６９ｅとの距離は、一定でない。このため、搬送機構６８ａの構造は、比較的に複雑である。以下、具体的に説明する。 Incidentally, in the transport mechanism 68a, the relative position of the rotation axis A69e to the horizontal moving portion 69d is constant in a plan view, but the distance between the holding portion 69f and the rotation axis A69e is not constant in a plan view. Furthermore, in plan view, the distance between the holding portion 69g and the rotation axis A69e is not constant. Therefore, the structure of the transport mechanism 68a is relatively complicated. The details will be described below.

平面視において、水平移動部６９ｄに対する回転軸線Ａ６９ｅの相対的な位置は、一定である。例えば、水平移動部６９ｄに対して回転部６９ｅが回転軸線Ａ６９ｅ回りに回転しても、回転軸線Ａ６９ｅは、平面視において、水平移動部６９ｄの右方の位置に保たれる。このため、水平移動部６９ｄが回転部６９ｅを支持する構造は、比較的に簡素である。ただし、平面視において、保持部６９ｆと回転軸線Ａ６９ｅとの距離は、一定でない。例えば、保持部６９ｆが回転部６９ｅに対して進退移動するとき、保持部６９ｆは、平面視において、回転軸線Ａ６９ｅに近づくか、回転軸線Ａ６９ｅから遠ざかる。したがって、回転部６９ｅが保持部６９ｆを支持する構造は、比較的に複雑である。このため、回転部６９ｅのサイズが、比較的に大きい。同様に、平面視において、保持部６９ｇと回転軸線Ａ６９ｅとの距離は、一定でない。したがって、回転部６９ｅが保持部６９ｇを支持する構造も、比較的に複雑である。このため、回転部６９ｅのサイズは、一層大きい。 In a plan view, the relative position of the rotation axis A69e with respect to the horizontal moving portion 69d is constant. For example, even if the rotating unit 69e rotates about the rotation axis A69e with respect to the horizontal moving unit 69d, the rotation axis A69e is maintained at the right side position of the horizontal moving unit 69d in plan view. Therefore, the structure in which the horizontal moving portion 69d supports the rotating portion 69e is relatively simple. However, in plan view, the distance between the holding portion 69f and the rotation axis A69e is not constant. For example, when the holding unit 69f moves back and forth with respect to the rotating unit 69e, the holding unit 69f approaches the rotation axis A69e or moves away from the rotation axis A69e in a plan view. Therefore, the structure in which the rotating portion 69e supports the holding portion 69f is relatively complicated. Therefore, the size of the rotating portion 69e is relatively large. Similarly, in plan view, the distance between the holding portion 69g and the rotation axis A69e is not constant. Therefore, the structure in which the rotating portion 69e supports the holding portion 69g is also relatively complicated. Therefore, the size of the rotating portion 69e is even larger.

搬送機構３４ｂ１は、搬送機構３４ａ１と略同じ構造を有する。このため、搬送機構３４ｂ１の構造は簡素である。よって、平面視における搬送機構３４ｂ１の設置スペースを効果的に低減できる。したがって、平面視における搬送スペース３２の面積を一層効果的に低減できる。 The transport mechanism 34b1 has substantially the same structure as the transport mechanism 34a1. Therefore, the structure of the transport mechanism 34b1 is simple. Therefore, the installation space of the transport mechanism 34b1 in plan view can be effectively reduced. Therefore, the area of the transport space 32 in plan view can be reduced more effectively.

垂直移動部３５ｃは、水平移動部３５ｂに支持される。垂直移動部３５ｃは、水平移動部３５ｂに対して略上下方向Ｚに移動可能である。アーム部３５ｄ、３５ｆは、垂直移動部３５ｃを介して、水平移動部３５ｂに支持される。このため、垂直移動部３５ｃが水平移動部３５ｂに対して略上下方向Ｚに移動することによって、アーム部３５ｄ、３５ｆおよび保持部３５ｅ、３５ｇは、水平移動部３５ｂに対して略上下方向Ｚに移動する。よって、保持部３５ｅ、３５ｇは、熱処理部３７ａ１に一層好適にアクセスできる。 The vertical moving unit 35c is supported by the horizontal moving unit 35b. The vertical moving portion 35c is movable in the substantially vertical direction Z with respect to the horizontal moving portion 35b. The arm portions 35d and 35f are supported by the horizontal movement portion 35b via the vertical movement portion 35c. Therefore, the vertical moving portion 35c moves in the substantially vertical direction Z with respect to the horizontal moving portion 35b, whereby the arm portions 35d, 35f and the holding portions 35e, 35g move in the substantially vertical direction Z with respect to the horizontal moving portion 35b. Moving. Therefore, the holding parts 35e and 35g can more suitably access the heat treatment part 37a1.

可動部材５１ｂ１は、第２フレーム４７に支持される。熱処理部３７ｂ１は、可動部材５１ｂ１に支持される。可動部材５１ｂ１は、第２フレーム４７に対して移動可能である。可動部材５１ｂ１が第２フレーム４７に対して移動することによって、熱処理部３７ｂ１は第２フレーム４７に対して移動する。このため、熱処理部３７ｂ１のメンテナンスを容易に行うことができる。 The movable member 51b1 is supported by the second frame 47. The heat treatment section 37b1 is supported by the movable member 51b1. The movable member 51b1 is movable with respect to the second frame 47. When the movable member 51b1 moves with respect to the second frame 47, the heat treatment section 37b1 moves with respect to the second frame 47. Therefore, maintenance of the heat treatment section 37b1 can be easily performed.

搬送機構３４ｂ１は、可動部材５１ｂ１に支持される。可動部材５１ｂ１が第２フレーム４７に対して移動することによって、熱処理部３７ｂ１は、搬送機構３４ｂ１と一体に移動する。このため、可動部材５１ｂ１が第２フレーム４７に対して移動するとき、熱処理部３７ｂ１と搬送機構３４ｂ１との相対的な位置を一定に保つことができる。よって、熱処理部３７ｂ１と搬送機構３４ｂ１との相対的な位置を一定に保った状態で、熱処理部３７ｂ１のメンテナンスを行うことができる。したがって、熱処理部３７ｂ１のメンテナンスを行う度に、熱処理部３７ｂ１と搬送機構３４ｂ１との相対的な位置を調整しなくてもよい。すなわち、熱処理部３７ｂ１のメンテナンスを一層容易に行うことができる。 The transport mechanism 34b1 is supported by the movable member 51b1. When the movable member 51b1 moves with respect to the second frame 47, the heat treatment section 37b1 moves integrally with the transport mechanism 34b1. Therefore, when the movable member 51b1 moves with respect to the second frame 47, the relative positions of the heat treatment section 37b1 and the transport mechanism 34b1 can be kept constant. Therefore, the heat treatment unit 37b1 can be maintained while the relative positions of the heat treatment unit 37b1 and the transport mechanism 34b1 are kept constant. Therefore, it is not necessary to adjust the relative positions of the heat treatment unit 37b1 and the transport mechanism 34b1 every time the heat treatment unit 37b1 is maintained. That is, the maintenance of the heat treatment section 37b1 can be performed more easily.

以上のとおり、基板処理装置１によれば、基板処理装置１のメンテナンスを一層容易に行うことができる。 As described above, according to the substrate processing apparatus 1, the maintenance of the substrate processing apparatus 1 can be performed more easily.

基板処理装置１は、熱処理部３７ａ１に加えて、熱処理部３７ｂ１を備える。このため、基板処理装置１のスループットを好適に向上できる。 The substrate processing apparatus 1 includes a heat treatment section 37b1 in addition to the heat treatment section 37a1. Therefore, the throughput of the substrate processing apparatus 1 can be improved suitably.

第２フレーム４７は、第１フレーム４６と略同じ高さ位置に配置される。言い換えれば、第１フレーム４６と第２フレーム４７は略水平方向に並ぶように配置される。搬送機構３４ａ１は、熱処理部３７ａ１と第２フレーム４７の間に配置される。搬送機構３４ｂ１は、熱処理部３７ｂ１と第１フレーム４６の間に配置される。言い換えれば、熱処理部３７ａ１と搬送機構３４ａ１と搬送機構３４ｂ１と熱処理部３７ｂ１は、この順番で、略水平方向に並ぶように配置される。このため、熱処理部３７ａ１、３７ｂ１と搬送機構３４ａ１、３４ｂ１を、効率良く設置できる。 The second frame 47 is arranged at substantially the same height position as the first frame 46. In other words, the first frame 46 and the second frame 47 are arranged so as to be aligned in a substantially horizontal direction. The transport mechanism 34a1 is arranged between the heat treatment section 37a1 and the second frame 47. The transport mechanism 34b1 is arranged between the thermal processing section 37b1 and the first frame 46. In other words, the heat treatment section 37a1, the transport mechanism 34a1, the transport mechanism 34b1, and the heat treatment section 37b1 are arranged in this order so as to be arranged substantially horizontally. Therefore, the heat treatment units 37a1 and 37b1 and the transport mechanisms 34a1 and 34b1 can be efficiently installed.

第２フレーム４７は、第１フレーム４６の左方に配置される。搬送機構３４ａ１は、熱処理部３７ａ１の左方に配置される。搬送機構３４ｂ１は、搬送機構３４ａ１の左方に配置される。熱処理部３７ｂ１は、搬送機構３４ｂ１の左方に配置される。このため、熱処理部３７ａ１、３７ｂ１と搬送機構３４ａ１、３４ｂ１を、効率良く設置できる。 The second frame 47 is arranged to the left of the first frame 46. The transport mechanism 34a1 is arranged to the left of the heat treatment section 37a1. The transport mechanism 34b1 is arranged to the left of the transport mechanism 34a1. The heat treatment section 37b1 is arranged on the left side of the transport mechanism 34b1. Therefore, the heat treatment units 37a1 and 37b1 and the transport mechanisms 34a1 and 34b1 can be efficiently installed.

可動部材５１ａ１が第１フレーム４６に対して移動することによって、熱処理部３７ａ１は、第１フレーム４６に対して第１方向に移動可能である。熱処理部３７ａ１が第１フレーム４６に対して第１方向に移動するとき、熱処理部３７ａ１は第２フレーム４７から遠ざかる。このため、熱処理部３７ａ１は、第２フレーム４７と干渉することなく、移動できる。 By moving the movable member 51a1 with respect to the first frame 46, the heat treatment section 37a1 can move in the first direction with respect to the first frame 46. When the heat treatment section 37a1 moves in the first direction with respect to the first frame 46, the heat treatment section 37a1 moves away from the second frame 47. Therefore, the heat treatment unit 37a1 can move without interfering with the second frame 47.

熱処理部３７ａ１は、熱処理部３７ｂ１の右方に配置される。可動部材５１ａ１が第１フレーム４６に対して移動することによって、熱処理部３７ａ１は、第１フレーム４６に対して右方に移動可能である。このため、熱処理部３７ａ１は、熱処理部３７ｂ１と干渉することなく、移動できる。 The heat treatment section 37a1 is arranged to the right of the heat treatment section 37b1. By moving the movable member 51a1 with respect to the first frame 46, the heat treatment section 37a1 can move to the right with respect to the first frame 46. Therefore, the thermal processing section 37a1 can move without interfering with the thermal processing section 37b1.

可動部材５１ｂ１が第２フレーム４７に対して移動することによって、熱処理部３７ｂ１は、第２フレーム４７に対して第２方向に移動可能である。熱処理部３７ｂ１が第２フレーム４７に対して第２方向に移動するとき、熱処理部３７ｂ１は第１フレーム４７から遠ざかる。このため、熱処理部３７ｂ１は、第１フレーム４６と干渉することなく、移動できる。 By moving the movable member 51b1 with respect to the second frame 47, the heat treatment section 37b1 can move in the second direction with respect to the second frame 47. When the heat treatment section 37b1 moves in the second direction with respect to the second frame 47, the heat treatment section 37b1 moves away from the first frame 47. Therefore, the heat treatment section 37b1 can move without interfering with the first frame 46.

熱処理部３７ｂ１は、熱処理部３７ａ１の左方に配置される。可動部材５１ｂ１が第２フレーム４７に対して移動することによって、熱処理部３７ｂ１は、第２フレーム４７に対して左方に移動可能である。このため、熱処理部３７ｂ１は、熱処理部３７ａ１と干渉することなく、移動できる。 The heat treatment section 37b1 is arranged to the left of the heat treatment section 37a1. When the movable member 51b1 moves with respect to the second frame 47, the heat treatment section 37b1 can move leftward with respect to the second frame 47. Therefore, the heat treatment unit 37b1 can move without interfering with the heat treatment unit 37a1.

可動部材５１ａ１が第１フレーム４６に対して移動することによって、可動部材５１ａ１は、熱処理部３７ａ１の少なくとも一部を第１フレーム４６から第１方向に引き出し可能である。このため、熱処理部３７ａ１のメンテナンスを容易に行うことができる。 By moving the movable member 51a1 with respect to the first frame 46, the movable member 51a1 can pull out at least a part of the heat treatment section 37a1 from the first frame 46 in the first direction. Therefore, the heat treatment section 37a1 can be easily maintained.

可動部材５１ｂ１が第２フレーム４７に対して移動することによって、可動部材５１ｂ１は、熱処理部３７ｂ１の少なくとも一部を第２フレーム４７から第２方向に引き出し可能である。このため、熱処理部３７ｂ１のメンテナンスを容易に行うことができる。 By moving the movable member 51b1 with respect to the second frame 47, the movable member 51b1 can draw out at least a part of the heat treatment section 37b1 from the second frame 47 in the second direction. Therefore, maintenance of the heat treatment section 37b1 can be easily performed.

可動部材５１ｂ１が第２フレーム４７に対して移動することによって、熱処理部３７ｂ１はメンテナンス位置Ｑｂ１に移動可能である。よって、熱処理部３７ｂ１を容易にメンテナンス位置Ｑｂ１に移動させることができる。 By moving the movable member 51b1 with respect to the second frame 47, the heat treatment section 37b1 can move to the maintenance position Qb1. Therefore, the heat treatment section 37b1 can be easily moved to the maintenance position Qb1.

第２フレーム４７は、第１フレーム４６の左方に配置される。熱処理部３７ａ１がメンテナンス位置Ｑａ１にあるとき、熱処理部３７ａ１の少なくとも一部は第１フレーム４６の右方に位置する。よって、熱処理部３７ａ１が第１メンテナンス位置Ｑａ１にあるとき、熱処理部３７ａ１の少なくとも一部は、第１フレーム４６の外部、かつ、第２フレーム４７の外部に位置する。このため、熱処理部３７ａ１がメンテナンス位置Ｑａ１にあるとき、熱処理部３７ａ１のメンテナンスを容易に行うことができる。 The second frame 47 is arranged to the left of the first frame 46. When the heat treatment section 37a1 is at the maintenance position Qa1, at least a part of the heat treatment section 37a1 is located on the right side of the first frame 46. Therefore, when the thermal processing section 37a1 is at the first maintenance position Qa1, at least a part of the thermal processing section 37a1 is located outside the first frame 46 and outside the second frame 47. Therefore, when the heat treatment section 37a1 is at the maintenance position Qa1, maintenance of the heat treatment section 37a1 can be easily performed.

第１フレーム４６は、第２フレーム４７の右方に配置される。熱処理部３７ｂ１がメンテナンス位置Ｑｂ１にあるとき、熱処理部３７ｂ１の少なくとも一部は第２フレーム４７の左方に位置する。よって、熱処理部３７ｂ１がメンテナンス位置Ｑｂ１にあるとき、熱処理部３７ｂ１の少なくとも一部は、第１フレーム４６の外部、かつ、第２フレーム４７の外部に位置する。このため、熱処理部３７ｂ１がメンテナンス位置Ｑｂ１にあるとき、熱処理部３７ｂ１のメンテナンスを容易に行うことができる。 The first frame 46 is arranged to the right of the second frame 47. When the heat treatment section 37b1 is at the maintenance position Qb1, at least a part of the heat treatment section 37b1 is located on the left side of the second frame 47. Therefore, when the heat treatment section 37b1 is at the maintenance position Qb1, at least a part of the heat treatment section 37b1 is located outside the first frame 46 and outside the second frame 47. Therefore, when the heat treatment section 37b1 is at the maintenance position Qb1, the heat treatment section 37b1 can be easily maintained.

第２フレーム４７は、第１フレーム４６と略同じ形状を有する。よって、第１フレーム４６と第２フレーム４７を容易に製造できる。このため、基板処理装置１を容易に製造できる。 The second frame 47 has substantially the same shape as the first frame 46. Therefore, the first frame 46 and the second frame 47 can be easily manufactured. Therefore, the substrate processing apparatus 1 can be easily manufactured.

第２フレーム４７は、第１フレーム４６から分離可能である。このため、基板処理装置１を容易に製造できる。 The second frame 47 can be separated from the first frame 46. Therefore, the substrate processing apparatus 1 can be easily manufactured.

例えば、基板処理装置１の製造を、以下の第１、第２、第３作業に分けることができる。
・第１フレーム４６に可動部材５１ａ１と熱処理部３７ａ１と搬送機構３４ａ１を取り付ける第１作業
・第２フレーム４７に可動部材５１ｂ１と熱処理部３７ｂ１と搬送機構３４ｂ１を取り付ける第２作業
・第１フレーム４６と第２フレーム４７を連結する第３作業
ここで、第１作業と第２作業と第３作業をそれぞれ、異なる場所および異なる時刻に行うことができる。
よって、基板処理装置１を容易に製造できる。 For example, the manufacture of the substrate processing apparatus 1 can be divided into the following first, second, and third operations.
First work to attach the movable member 51a1, heat treatment section 37a1 and transport mechanism 34a1 to the first frame 46 Second work to attach the movable member 51b1, heat treatment section 37b1 and transport mechanism 34b1 to the second frame 47 First frame 46 Third work for connecting the second frame 47 Here, the first work, the second work, and the third work can be performed at different places and different times, respectively.
Therefore, the substrate processing apparatus 1 can be easily manufactured.

搬送機構３４ｂ１は、搬送機構３４ａ１と左右対象な位置に配置される。熱処理部３７ｂ１は、熱処理部３７ａ１と左右対象な位置に配置される。このため、基板処理装置１の設計および製造を一層容易に行うことができる。 The transport mechanism 34b1 is arranged at a position symmetrical with the transport mechanism 34a1. The heat treatment section 37b1 is arranged at a position symmetrical with the heat treatment section 37a1. Therefore, the design and manufacturing of the substrate processing apparatus 1 can be performed more easily.

可動部材５１ａ２は、第１フレーム４６に支持される。熱処理部３７ａ２は、可動部材５１ａ２に支持される。可動部材５１ａ２は、第１フレーム４６に対して移動可能である。可動部材５１ａ２が第１フレーム４６に対して移動することによって、熱処理部３７ａ２は第１フレーム４７に対して移動する。このため、熱処理部３７ａ２のメンテナンスを容易に行うことができる。 The movable member 51a2 is supported by the first frame 46. The heat treatment section 37a2 is supported by the movable member 51a2. The movable member 51a2 is movable with respect to the first frame 46. When the movable member 51a2 moves with respect to the first frame 46, the heat treatment section 37a2 moves with respect to the first frame 47. Therefore, the heat treatment section 37a2 can be easily maintained.

搬送機構３４ａ２は、可動部材５１ａ２に支持される。可動部材５１ａ２が第１フレーム４６に対して移動することによって、熱処理部３７ａ２は、搬送機構３４ａ２と一体に移動する。このため、可動部材５１ａ２が第１フレーム４６に対して移動するとき、熱処理部３７ａ２と搬送機構３４ａ２との相対的な位置を一定に保つことができる。よって、熱処理部３７ａ２と搬送機構３４ａ２との相対的な位置を一定に保った状態で、熱処理部３７ａ２のメンテナンスを行うことができる。したがって、熱処理部３７ａ２のメンテナンスを行う度に、熱処理部３７ａ２と搬送機構３４ａ２との相対的な位置を調整しなくてもよい。すなわち、熱処理部３７ａ２のメンテナンスを一層容易に行うことができる。 The transport mechanism 34a2 is supported by the movable member 51a2. When the movable member 51a2 moves with respect to the first frame 46, the heat treatment section 37a2 moves integrally with the transport mechanism 34a2. Therefore, when the movable member 51a2 moves with respect to the first frame 46, the relative positions of the heat treatment section 37a2 and the transport mechanism 34a2 can be kept constant. Therefore, the heat treatment unit 37a2 can be maintained while the relative positions of the heat treatment unit 37a2 and the transport mechanism 34a2 are kept constant. Therefore, it is not necessary to adjust the relative positions of the heat treatment unit 37a2 and the transport mechanism 34a2 every time the heat treatment unit 37a2 is maintained. That is, maintenance of the heat treatment unit 37a2 can be performed more easily.

以上のとおり、基板処理装置１によれば、基板処理装置１のメンテナンスを容易に行うことができる。 As described above, according to the substrate processing apparatus 1, the substrate processing apparatus 1 can be easily maintained.

可動部材５１ａ２は、可動部材５１ａ１とは独立して、第１フレーム４６に対して移動可能である。このため、熱処理部３７ａ１、３７ａ２を個別に移動させることができる。よって、例えば、熱処理部３７ａ１、３７ａ２の一方のみのメンテナンスを容易に行うことができる。あるいは、熱処理部３７ａ１、３７ａ２の両方のメンテナンスを容易に行うことができる。 The movable member 51a2 is movable with respect to the first frame 46 independently of the movable member 51a1. Therefore, the heat treatment units 37a1 and 37a2 can be individually moved. Therefore, for example, maintenance of only one of the heat treatment units 37a1 and 37a2 can be easily performed. Alternatively, maintenance of both the heat treatment parts 37a1 and 37a2 can be easily performed.

基板処理装置１は、熱処理部３７ａ１に加えて、熱処理部３７ａ２を備える。このため、基板処理装置１のスループットを好適に向上できる。 The substrate processing apparatus 1 includes a heat treatment section 37a2 in addition to the heat treatment section 37a1. Therefore, the throughput of the substrate processing apparatus 1 can be improved suitably.

熱処理部３７ａ２は、熱処理部３７ａ１の上方に配置される。このため、平面視における熱処理部３７ａ１、３７ａ２の設置スペースを低減できる。搬送機構３４ａ２は、搬送機構３４ａ１の上方に配置される。このため、平面視における搬送機構３４ａ１、３４ａ２の設置スペースを低減できる。よって、基板処理装置１のフットプリントを低減できる。 The heat treatment section 37a2 is arranged above the heat treatment section 37a1. Therefore, the installation space of the heat treatment parts 37a1 and 37a2 in a plan view can be reduced. The transport mechanism 34a2 is arranged above the transport mechanism 34a1. Therefore, the installation space of the transport mechanisms 34a1 and 34a2 in plan view can be reduced. Therefore, the footprint of the substrate processing apparatus 1 can be reduced.

ガイド部５５は、第１フレーム４６に固定される。摺動部５６は、可動部材５１ａ１に固定される。摺動部５６は、ガイド部５５に案内される。このため、可動部材５１ａ１は、第１フレーム４６に対して好適に移動できる。 The guide portion 55 is fixed to the first frame 46. The sliding portion 56 is fixed to the movable member 51a1. The sliding portion 56 is guided by the guide portion 55. Therefore, the movable member 51a1 can move favorably with respect to the first frame 46.

熱処理部３７ａ１がメンテナンス位置Ｑａ１にあるとき、検査部４１ａ１の少なくとも一部は第１フレーム４６の外部に位置する。よって、熱処理部３７ａ１がメンテナンス位置Ｑａ１にあるとき、検査部４１ａのメンテナンスを容易に行うことができる。 When the heat treatment section 37a1 is at the maintenance position Qa1, at least a part of the inspection section 41a1 is located outside the first frame 46. Therefore, when the heat treatment section 37a1 is at the maintenance position Qa1, the inspection section 41a can be easily maintained.

熱処理部３７ａ１がメンテナンス位置Ｑａ１にあるとき、電装部５７ａ１の少なくとも一部は第１フレーム４６の外部に位置する。よって、熱処理部３７ａ１がメンテナンス位置Ｑａ１にあるとき、電装部５７ａ１のメンテナンスを容易に行うことができる。 When the heat treatment section 37a1 is at the maintenance position Qa1, at least a part of the electrical equipment section 57a1 is located outside the first frame 46. Therefore, when the heat treatment section 37a1 is at the maintenance position Qa1, maintenance of the electrical component section 57a1 can be easily performed.

熱処理部３７ａ１と搬送スペース３２は、略幅方向Ｙに並ぶように配置される。熱処理部３７ａ１は、複数の熱処理ユニット３８ａ１を備える。熱処理ユニット３８ａ１はそれぞれ、１枚の基板Ｗに熱処理を行う。搬送機構３４ａ１は、熱処理ユニット３８ａ１に基板を搬送する。ここで、熱処理ユニット３８ａ１は略前後方向Ｘに並ぶように配置される。このため、熱処理部３７ａ１に含まれる熱処理ユニット３８ａ１の数を、比較的に容易に増大できる。よって、熱処理部３７ａ１は、比較的に多くの基板Ｗに熱処理を並行して行うことができる。したがって、基板処理装置１のスループットを好適に向上できる。 The heat treatment section 37a1 and the transport space 32 are arranged so as to be aligned in the substantially width direction Y. The heat treatment section 37a1 includes a plurality of heat treatment units 38a1. Each of the heat treatment units 38a1 heats one substrate W. The transfer mechanism 34a1 transfers the substrate to the thermal processing unit 38a1. Here, the heat treatment units 38a1 are arranged substantially in the front-rear direction X. Therefore, the number of heat treatment units 38a1 included in the heat treatment unit 37a1 can be relatively easily increased. Therefore, the thermal processing section 37a1 can perform thermal processing on a relatively large number of substrates W in parallel. Therefore, the throughput of the substrate processing apparatus 1 can be improved suitably.

同様に、熱処理部３７ｂ１と搬送スペース３２は、略幅方向Ｙに並ぶように配置される。より具体的には、搬送スペース３２は、略幅方向Ｙにおいて熱処理部３７ａ１と第２熱処理部３７ｂ１の間に配置される。熱処理部３７ｂ１は、複数の熱処理ユニット３８ｂ１を備える。熱処理ユニット３８ｂ１はそれぞれ、１枚の基板Ｗに熱処理を行う。搬送機構３４ｂ１は、熱処理ユニット３８ｂ１に基板Ｗを搬送する。ここで、熱処理ユニット３８ｂ１は略前後方向Ｘに並ぶように配置される。このため、熱処理部３７ｂ１に含まれる熱処理ユニット３８ｂ１の数を、比較的に容易に増大できる。よって、熱処理部３７ｂ１は、比較的に多くの基板Ｗに熱処理を並行して行うことができる。したがって、基板処理装置１のスループットを好適に向上できる。 Similarly, the heat treatment section 37b1 and the transport space 32 are arranged so as to be aligned in the substantially width direction Y. More specifically, the transport space 32 is arranged between the heat treatment section 37a1 and the second heat treatment section 37b1 in the substantially width direction Y. The heat treatment section 37b1 includes a plurality of heat treatment units 38b1. Each of the heat treatment units 38b1 heats one substrate W. The transport mechanism 34b1 transports the substrate W to the thermal processing unit 38b1. Here, the heat treatment units 38b1 are arranged so as to be aligned in the substantially front-back direction X. Therefore, the number of heat treatment units 38b1 included in the heat treatment unit 37b1 can be increased relatively easily. Therefore, the thermal processing section 37b1 can perform thermal processing on a relatively large number of substrates W in parallel. Therefore, the throughput of the substrate processing apparatus 1 can be improved suitably.

ここで、熱処理部３７ａ１に含まれる熱処理ユニット３８ａ１の数は、１２個以下である。このため、搬送機構３４ａ１が負担する基板Ｗの搬送量が過度に大きくなることを好適に防止できる。同様に、熱処理部３７ｂ１に含まれる熱処理ユニット３８ａ１の数は、１２個以下である。このため、搬送機構３４ｂ１が負担する基板Ｗの搬送量が過度に大きくなることを好適に防止できる。 Here, the number of heat treatment units 38a1 included in the heat treatment unit 37a1 is 12 or less. Therefore, it is possible to preferably prevent the transport amount of the substrate W that the transport mechanism 34a1 bears from becoming excessively large. Similarly, the number of heat treatment units 38a1 included in the heat treatment unit 37b1 is 12 or less. Therefore, it is possible to preferably prevent the transport amount of the substrate W that the transport mechanism 34b1 bears from becoming excessively large.

搬送機構３４ａ１は熱処理ユニット３８ａ１に対して略前後方向Ｘに移動可能である。このため、搬送機構３４ａ１は熱処理ユニット３８ａ１に好適にアクセスできる。搬送機構３４ｂ１は熱処理ユニット３８ｂ１に対して略前後方向Ｘに移動可能である。このため、搬送機構３４ｂ１は熱処理ユニット３８ｂ１に好適にアクセスできる。 The transport mechanism 34a1 is movable in the front-rear direction X with respect to the heat treatment unit 38a1. Therefore, the transport mechanism 34a1 can suitably access the heat treatment unit 38a1. The transport mechanism 34b1 is movable in the front-rear direction X with respect to the heat treatment unit 38b1. Therefore, the transport mechanism 34b1 can suitably access the heat treatment unit 38b1.

搬送機構３４ｂ１は、搬送機構３４ａ１とは独立して、移動可能である。このため、搬送機構３４ａ１、３４ｂ１はそれぞれ、熱処理ユニット３８ａ１、３８ｂ１に効率良くアクセスできる。 The transport mechanism 34b1 is movable independently of the transport mechanism 34a1. Therefore, the transport mechanisms 34a1 and 34b1 can efficiently access the thermal processing units 38a1 and 38b1, respectively.

搬送機構３４ａ１は、水平移動部３５ｂとアーム部３５ｄ、３５ｆと保持部３５ｅ、３５ｇを備える。アーム部３５ｄ、３５ｆは水平移動部３５ｂに支持される。保持部３５ｅ、３５ｇは、アーム部３５ｄ、３５ｆに固定される。このように、保持部３５ｅ、３５ｇは、間接的に、水平移動部３５ｂに支持される。水平移動部３５ｂは熱処理ユニット３８ａ１に対して略前後方向Ｘに移動可能である。このため、保持部３５ｅ、３５ｇは、熱処理ユニット３８ａ１に対して略前後方向Ｘに移動可能である。アーム部３５ｄ、３５ｆは水平移動部３５ｂに対して回転軸線Ａ３５ｄ、Ａ３５ｆ回りに回転可能である。このため、保持部３５ｅ、３５ｇは、水平移動部３５ｂに対して回転軸線Ａ３５ｄ、Ａ３５ｆ回りに回転可能である。よって、保持部３５ｅ、３５ｇは、熱処理ユニット３８ａ１に好適にアクセスできる。 The transport mechanism 34a1 includes a horizontal moving portion 35b, arm portions 35d and 35f, and holding portions 35e and 35g. The arm portions 35d and 35f are supported by the horizontal moving portion 35b. The holding portions 35e and 35g are fixed to the arm portions 35d and 35f. In this way, the holding portions 35e and 35g are indirectly supported by the horizontal moving portion 35b. The horizontal moving portion 35b is movable in the front-rear direction X with respect to the heat treatment unit 38a1. Therefore, the holding portions 35e and 35g are movable in the front-rear direction X with respect to the heat treatment unit 38a1. The arm portions 35d and 35f are rotatable about the rotation axis lines A35d and A35f with respect to the horizontal moving portion 35b. Therefore, the holding portions 35e and 35g can rotate around the rotation axis lines A35d and A35f with respect to the horizontal moving portion 35b. Therefore, the holders 35e and 35g can suitably access the heat treatment unit 38a1.

搬送機構３４ｂ１は、搬送機構３４ａ１と略同じ構造を有する。したがって、搬送機構３４ｂ１の保持部３５ｅ、３５ｇは、熱処理ユニット３８ｂ１に好適にアクセスできる。 The transport mechanism 34b1 has substantially the same structure as the transport mechanism 34a1. Therefore, the holders 35e and 35g of the transport mechanism 34b1 can suitably access the heat treatment unit 38b1.

搬送機構３４ａ１に関して、水平移動部３５ｂが略前後方向Ｘに移動することによって、保持部３５ｅ、３５ｇは略前後方向Ｘに平行移動する。アーム部３５ｄが回転軸線Ａ３５ｄ回りに回転することによって、保持部３５ｅは回転軸線Ａ３５ｄ回りに回転する。アーム部３５ｆが回転軸線Ａ３５ｆ回りに回転することによって、保持部３５ｇは回転軸線Ａ３５ｆ回りに回転する。ここで、水平移動部３５ｂが略前後方向Ｘに移動しながら、アーム部３５ｄが回転軸線Ａ３５ｄ回りに回転することによって、保持部３５ｅに保持された基板Ｗを、熱処理ユニット３８ａ１に向かって略幅方向Ｙに直線的に基板を移動させる。同様に、水平移動部３５ｂが略前後方向Ｘに移動しながら、アーム部３５ｆが回転軸線Ａ３５ｆ回りに回転することによって、保持部３５ｇに保持された基板Ｗを、熱処理ユニット３８ａ１に向かって略幅方向Ｙに直線的に基板を移動させる。よって、前後方向Ｘにおける１つの熱処理ユニット３８ａ１の長さＬａが短い場合あっても、搬送機構３４ａ１は熱処理ユニット３８ａ１に基板Ｗを好適に搬送できる。 With respect to the transport mechanism 34a1, as the horizontal moving unit 35b moves in the substantially front-rear direction X, the holding units 35e and 35g move in parallel in the substantially front-rear direction X. When the arm portion 35d rotates around the rotation axis A35d, the holding portion 35e rotates around the rotation axis A35d. When the arm portion 35f rotates about the rotation axis A35f, the holding portion 35g rotates about the rotation axis A35f. Here, the horizontal movement part 35b moves in the substantially front-back direction X, and the arm part 35d rotates about the rotation axis A35d, so that the substrate W held by the holding part 35e has a substantially width toward the heat treatment unit 38a1. The substrate is moved linearly in the direction Y. Similarly, as the horizontal moving unit 35b moves in the substantially front-back direction X, the arm unit 35f rotates about the rotation axis A35f, so that the substrate W held by the holding unit 35g has a substantially width toward the heat treatment unit 38a1. The substrate is moved linearly in the direction Y. Therefore, even when the length La of one heat treatment unit 38a1 in the front-rear direction X is short, the transport mechanism 34a1 can suitably transport the substrate W to the heat treatment unit 38a1.

搬送機構３４ｂ１に関しても、水平移動部３５ｂが略前後方向Ｘに移動しながら、アーム部３５ｄ、３５ｆが回転軸線Ａ３５ｄ、Ａ３５ｆ回りに回転することによって、保持部３５ｅ、３５ｇに保持された基板Ｗを、熱処理ユニット３８ｂ１に向かって略幅方向Ｙに直線的に基板Ｗを移動させる。よって、前後方向Ｘにおける１つの熱処理ユニット３８ｂ１の長さＬｂが短い場合あっても、搬送機構３４ｂ１は熱処理ユニット３８ｂ１に基板Ｗを好適に搬送できる。 With respect to the transport mechanism 34b1, the arm 35d, 35f rotates around the rotation axes A35d, A35f while the horizontal moving unit 35b moves in the substantially front-rear direction X, so that the substrate W held by the holders 35e, 35g is transferred. The substrate W is linearly moved in the width direction Y toward the heat treatment unit 38b1. Therefore, even if the length Lb of one heat treatment unit 38b1 in the front-rear direction X is short, the transport mechanism 34b1 can suitably transport the substrate W to the heat treatment unit 38b1.

前後方向Ｘにおける１つの熱処理ユニット３８ａ１の長さＬａは、基板の半径ｒの３倍以下である。このように、熱処理ユニット３８ａ１のサイズは比較的に小さい。このため、熱処理ユニット３８ａ１の設置スペースを好適に低減できる。前後方向における１つの熱処理ユニット３８ｂ１の長さＬｂは、基板の半径ｒの３倍以下である。このように、熱処理ユニット３８ｂ１のサイズは比較的に小さい。このため、熱処理ユニット３８ｂ１の設置スペースを好適に低減できる。 The length La of one heat treatment unit 38a1 in the front-rear direction X is 3 times or less the radius r of the substrate. As described above, the size of the heat treatment unit 38a1 is relatively small. Therefore, the installation space of the heat treatment unit 38a1 can be reduced appropriately. The length Lb of one heat treatment unit 38b1 in the front-back direction is 3 times or less the radius r of the substrate. Thus, the size of the heat treatment unit 38b1 is relatively small. Therefore, the installation space of the heat treatment unit 38b1 can be reduced appropriately.

上述のとおり、搬送機構３４ａ１は、熱処理ユニット３８ａ１に向かって略幅方向Ｙに直線的に基板Ｗを搬送する。このため、長さＬａが基板の半径ｒの３倍以下であっても、搬送機構３４ａ１は熱処理ユニット３８ａ１に基板Ｗを好適に搬送できる。同様に、搬送機構３４ｂ１は、熱処理ユニット３８ｂ１に向かって略幅方向Ｙに直線的に基板Ｗを搬送する。このため、長さＬｂが基板Ｗの半径ｒの３倍以下であっても、搬送機構３４ｂ１は熱処理ユニット３８ｂ１に基板Ｗを好適に搬送できる。 As described above, the transport mechanism 34a1 linearly transports the substrate W toward the heat treatment unit 38a1 in the substantially width direction Y. Therefore, even if the length La is 3 times or less the radius r of the substrate, the transport mechanism 34a1 can suitably transport the substrate W to the heat treatment unit 38a1. Similarly, the transport mechanism 34b1 linearly transports the substrate W toward the heat treatment unit 38b1 in the substantially width direction Y. Therefore, even if the length Lb is 3 times or less the radius r of the substrate W, the transport mechanism 34b1 can suitably transport the substrate W to the heat treatment unit 38b1.

略前後方向Ｘに隣り合う２つの第１中心点Ｇａ１の間の距離Ｄａは、基板Ｗの半径ｒの３倍以下である。このように、距離Ｄａは、比較的に小さい。このため、熱処理ユニット３８ａ１のサイズは比較的に小さく、かつ、略前後方向Ｘに並ぶ２つの熱処理ユニット３８ａ１は、互いに近接している。よって、熱処理ユニット３８ａ１の設置スペースを好適に低減できる。すなわち、熱処理部３７ａ１の設置スペースを好適に低減できる。同様に、略前後方向Ｘに隣り合う２つの第２中心点Ｇｂ１の間の距離Ｄｂは、基板Ｗの半径ｒの３倍以下である。このように、熱処理ユニット３８ｂ１のサイズは比較的に小さく、かつ、略前後方向Ｘに並ぶ２つの熱処理ユニット３８ｂ１は、互いに近接している。よって、熱処理ユニット３８ｂ１の設置スペースを好適に低減できる。すなわち、熱処理部３７ｂ１の設置スペースを好適に低減できる。したがって、基板処理装置１のフットプリントを低減できる。 A distance Da between two first center points Ga1 adjacent to each other in the front-rear direction X is three times or less the radius r of the substrate W. Thus, the distance Da is relatively small. For this reason, the size of the heat treatment unit 38a1 is relatively small, and the two heat treatment units 38a1 arranged substantially in the front-rear direction X are close to each other. Therefore, the installation space of the heat treatment unit 38a1 can be suitably reduced. That is, the installation space of the heat treatment section 37a1 can be suitably reduced. Similarly, the distance Db between two second center points Gb1 adjacent to each other in the front-rear direction X is three times or less the radius r of the substrate W. As described above, the size of the heat treatment unit 38b1 is relatively small, and the two heat treatment units 38b1 arranged substantially in the front-rear direction X are close to each other. Therefore, the installation space of the heat treatment unit 38b1 can be suitably reduced. That is, the installation space of the heat treatment section 37b1 can be reduced appropriately. Therefore, the footprint of the substrate processing apparatus 1 can be reduced.

幅方向Ｙにおける搬送スペース３２の長さは、基板Ｗの半径ｒの５倍以下である。このため、平面視における搬送スペース３２の面積を低減できる。よって、基板処理装置１のフットプリントを低減できる。 The length of the transport space 32 in the width direction Y is 5 times or less the radius r of the substrate W. Therefore, the area of the transport space 32 in plan view can be reduced. Therefore, the footprint of the substrate processing apparatus 1 can be reduced.

熱処理部３７ａ１が基板Ｗに行う熱処理は、前処理を含む。熱処理部３７ｂ１が基板Ｗに行う熱処理も、前処理を含む。ここで、前処理は、液処理が行われる前の基板Ｗに行う熱処理である。このため、基板処理装置１は、前処理を基板Ｗに効率良く行うことができる。 The heat treatment performed by the heat treatment unit 37a1 on the substrate W includes pretreatment. The heat treatment performed by the heat treatment unit 37b1 on the substrate W also includes pretreatment. Here, the pretreatment is a heat treatment performed on the substrate W before the liquid treatment is performed. Therefore, the substrate processing apparatus 1 can efficiently perform the pretreatment on the substrate W.

熱処理部３７ａ１が基板Ｗに行う熱処理は、後処理を含む。熱処理部３７ｂ１が基板Ｗに行う熱処理も、後処理を含む。ここで、後処理は、液処理が行われた後の基板Ｗに行う熱処理である。このため、基板処理装置１は、後処理を基板Ｗに効率良く行うことができる。 The heat treatment performed on the substrate W by the heat treatment unit 37a1 includes post-treatment. The heat treatment performed by the heat treatment unit 37b1 on the substrate W also includes post-treatment. Here, the post-treatment is a heat treatment performed on the substrate W after the liquid treatment. Therefore, the substrate processing apparatus 1 can efficiently perform the post-processing on the substrate W.

熱処理部３７ａ１が基板Ｗに行う熱処理は、疎水化処理を含む。熱処理部３７ｂ１が基板Ｗに行う熱処理も、疎水化処理を含む。このため、基板処理装置１は、疎水化処理を基板Ｗに効率良く行うことができる。 The heat treatment performed by the heat treatment unit 37a1 on the substrate W includes a hydrophobic treatment. The heat treatment performed on the substrate W by the heat treatment unit 37b1 also includes a hydrophobic treatment. Therefore, the substrate processing apparatus 1 can efficiently perform the hydrophobic treatment on the substrate W.

熱処理部３７ａ１が基板Ｗに行う熱処理は、加熱処理を含む。熱処理部３７ｂ１が基板Ｗに行う熱処理も、加熱処理を含む。このため、基板処理装置１は、加熱処理を基板Ｗに効率良く行うことができる。 The heat treatment performed on the substrate W by the heat treatment unit 37a1 includes heat treatment. The heat treatment performed on the substrate W by the heat treatment unit 37b1 also includes heat treatment. Therefore, the substrate processing apparatus 1 can efficiently perform the heat treatment on the substrate W.

熱処理部３７ａ１が基板Ｗに行う熱処理は、冷却処理を含む。熱処理部３７ｂ１が基板Ｗに行う熱処理も、冷却処理を含む。このため、基板処理装置１は、冷却処理を基板Ｗに効率良く行うことができる。 The heat treatment performed on the substrate W by the heat treatment unit 37a1 includes a cooling treatment. The heat treatment performed on the substrate W by the heat treatment unit 37b1 also includes a cooling treatment. Therefore, the substrate processing apparatus 1 can efficiently perform the cooling process on the substrate W.

熱処理部３７ｂ１が基板Ｗに行う熱処理は、熱処理部３７ａ１が基板Ｗに行う熱処理と同じである。このため、基板処理装置１は、基板Ｗに効率良く熱処理を行うことができる。 The heat treatment performed on the substrate W by the heat treatment unit 37b1 is the same as the heat treatment performed on the substrate W by the heat treatment unit 37a1. Therefore, the substrate processing apparatus 1 can efficiently perform the heat treatment on the substrate W.

載置部８２ａ１と載置部８２ｂ１は、上下方向Ｚに並ぶように配置される。載置部８２ｂ１は、平面視において、載置部８２ａ１と重なる。このため、平面視における載置部８２ａ１、８２ｂ１の設置スペースを低減できる。よって、基板処理装置１のフットプリントを低減できる。 The placement portion 82a1 and the placement portion 82b1 are arranged in a line in the vertical direction Z. The mounting portion 82b1 overlaps with the mounting portion 82a1 in a plan view. Therefore, the installation space of the placement portions 82a1 and 82b1 in a plan view can be reduced. Therefore, the footprint of the substrate processing apparatus 1 can be reduced.

液処理部７１は、搬送機構３４ａ１が基板Ｗを搬送可能な領域Ｂａの外部に配置される。このように、液処理部７１は、搬送機構３４ａ１がアクセスできない位置に配置される。このため、搬送機構３４ａ１は、液処理部７１に基板Ｗを搬送しない。よって、搬送機構３４ａ１が負担する基板Ｗの搬送量が過度に大きくなることを好適に防止できる。液処理部７１は、搬送機構３４ｂ１が基板Ｗを搬送可能な領域Ｂｂの外部に配置される。このため、搬送機構３４ｂ１は、液処理部７１に基板Ｗを搬送しない。よって、搬送機構３４ｂ１が負担する基板Ｗの搬送量が過度に大きくなることを好適に防止できる。 The liquid processing unit 71 is arranged outside the region Ba in which the transfer mechanism 34a1 can transfer the substrate W. In this way, the liquid processing section 71 is arranged at a position where the transfer mechanism 34a1 cannot access. Therefore, the transport mechanism 34a1 does not transport the substrate W to the liquid processing section 71. Therefore, it is possible to preferably prevent the transport amount of the substrate W borne by the transport mechanism 34a1 from becoming excessively large. The liquid processing unit 71 is arranged outside the region Bb in which the transfer mechanism 34b1 can transfer the substrate W. Therefore, the transport mechanism 34b1 does not transport the substrate W to the liquid processing section 71. Therefore, it is possible to preferably prevent the transport amount of the substrate W borne by the transport mechanism 34b1 from becoming excessively large.

基板処理装置１は、液処理用搬送機構６７を備える。このため、液処理部に基板を好適に搬送できる。 The substrate processing apparatus 1 includes a liquid processing transport mechanism 67. Therefore, the substrate can be suitably transported to the liquid processing section.

液処理用搬送機構６７は、搬送機構３４ａ１の後方に配置される。このため、搬送機構３４ａ１が液処理用搬送機構６７と干渉することを好適に防止できる。液処理用搬送機構６７は、搬送機構３４ｂ１の後方に配置される。このため、搬送機構３４ｂ１が液処理用搬送機構６７と干渉することを好適に防止できる。 The liquid processing transport mechanism 67 is disposed behind the transport mechanism 34a1. Therefore, it is possible to preferably prevent the transfer mechanism 34a1 from interfering with the liquid processing transfer mechanism 67. The liquid processing transport mechanism 67 is disposed behind the transport mechanism 34b1. Therefore, it is possible to preferably prevent the transfer mechanism 34b1 from interfering with the liquid processing transfer mechanism 67.

液処理部７１は、液処理用搬送機構６７に隣接する位置に配置される。このため、液処理用搬送機構６７は、液処理部７１に容易にアクセスできる。 The liquid processing section 71 is arranged at a position adjacent to the liquid processing transport mechanism 67. Therefore, the liquid processing transport mechanism 67 can easily access the liquid processing section 71.

搬送機構３４ａ２、３４ｂ２は、搬送機構３４ａ１、３４ａ２の上方に配置される。このため、平面視における搬送機構３４ａ１、３４ａ２、３４ｂ１、３４ｂ２の設置スペースを低減できる。言い換えれば、平面視における搬送スペース３２の設置面積を低減できる。 The transport mechanisms 34a2 and 34b2 are arranged above the transport mechanisms 34a1 and 34a2. Therefore, the installation space of the transport mechanisms 34a1, 34a2, 34b1, 34b2 in plan view can be reduced. In other words, the installation area of the transport space 32 in plan view can be reduced.

熱処理部３７ａ２と搬送スペース３２は、略幅方向Ｙに並ぶように配置される。このため、平面視における熱処理部３７ａ１、３７ａ２の設置スペースを低減できる。熱処理部３７ｂ２は、平面視において、熱処理部３７ｂ１と重なる。このため、平面視における熱処理部３７ｂ１、３７ｂ２の設置スペースを低減できる。 The heat treatment section 37a2 and the transport space 32 are arranged so as to be aligned in the substantially width direction Y. Therefore, the installation space of the heat treatment parts 37a1 and 37a2 in a plan view can be reduced. The heat treatment section 37b2 overlaps the heat treatment section 37b1 in a plan view. Therefore, the installation space of the heat treatment parts 37b1 and 37b2 in a plan view can be reduced.

熱処理部３７ａ２と搬送スペース３２は、略幅方向Ｙに並ぶように配置される。より具体的には、搬送スペース３２は、略幅方向Ｙにおいて熱処理部３７ａ２と熱処理部３７ｂ２の間に配置される。熱処理部３７ａ２は、複数の熱処理ユニット３８ａ２を備える。熱処理ユニット３８ａ２はそれぞれ、１枚の基板Ｗに熱処理を行う。搬送機構３４ａ２は、熱処理ユニット３８ａ２に基板Ｗを搬送する。ここで、熱処理ユニット３８ａ２は、略前後方向Ｘに並ぶように配置される。このため、熱処理部３７ａ２に含まれる熱処理ユニット３８ａ２の数を、比較的に容易に増大できる。
よって、熱処理部３７ａ２は、比較的に多くの基板Ｗに熱処理を並行して行うことができる。したがって、基板処理装置１のスループットを好適に向上できる。 The heat treatment section 37a2 and the transport space 32 are arranged so as to be aligned in the substantially width direction Y. More specifically, the transport space 32 is arranged between the heat treatment sections 37a2 and 37b2 in the substantially width direction Y. The heat treatment section 37a2 includes a plurality of heat treatment units 38a2. Each of the thermal processing units 38a2 performs thermal processing on one substrate W. The transport mechanism 34a2 transports the substrate W to the thermal processing unit 38a2. Here, the heat treatment units 38a2 are arranged so as to be aligned in the substantially front-back direction X. Therefore, the number of heat treatment units 38a2 included in the heat treatment unit 37a2 can be relatively easily increased.
Therefore, the thermal processing section 37a2 can perform thermal processing on a relatively large number of substrates W in parallel. Therefore, the throughput of the substrate processing apparatus 1 can be improved suitably.

熱処理部３７ｂ２は、搬送機構３４ｂ２の左方に配置される。熱処理部３７ｂ２は、複数の熱処理ユニット３８ｂ２を備える。熱処理ユニット３８ｂ２はそれぞれ、１枚の基板Ｗに熱処理を行う。搬送機構３４ｂ２は、熱処理ユニット３８ｂ２に基板Ｗを搬送する。熱処理ユニット３８ｂ２は、略前後方向Ｘに並ぶように配置される。このため、熱処理部３７ｂ２に含まれる熱処理ユニット３８ｂ２の数を、比較的に容易に増大できる。よって、熱処理部３７ｂ２は、比較的に多くの基板Ｗに熱処理を並行して行うことができる。したがって、基板処理装置１のスループットを好適に向上できる。 The heat treatment section 37b2 is arranged on the left side of the transport mechanism 34b2. The heat treatment section 37b2 includes a plurality of heat treatment units 38b2. Each of the heat treatment units 38b2 heats one substrate W. The transport mechanism 34b2 transports the substrate W to the thermal processing unit 38b2. The heat treatment units 38b2 are arranged so as to be aligned in the substantially front-rear direction X. Therefore, the number of heat treatment units 38b2 included in the heat treatment unit 37b2 can be relatively easily increased. Therefore, the thermal processing section 37b2 can perform thermal processing on a relatively large number of substrates W in parallel. Therefore, the throughput of the substrate processing apparatus 1 can be improved suitably.

熱処理部３７ａ２、３７ｂ１、３７ｂ２が基板Ｗに行う熱処理はそれぞれ、熱処理部３７ａ１が基板Ｗに行う熱処理と同じである。このため、基板処理装置１は、基板Ｗに効率良く熱処理を行うことができる。 The heat treatments performed on the substrate W by the heat treatment units 37a2, 37b1, and 37b2 are the same as the heat treatments performed on the substrate W by the heat treatment unit 37a1. Therefore, the substrate processing apparatus 1 can efficiently perform the heat treatment on the substrate W.

載置部８２ａ１、８２ａ２、８２ｂ１、８２ｂ２は、略上下方向Ｚに並ぶように配置される。載置部８２ａ２、８２ｂ１、８２ｂ２はそれぞれ、平面視において、載置部８２ａ１と重なる。このため、平面視における載置部８２ａ１、８２ａ２、８２ｂ１、８２ｂ２の設置スペースを低減できる。よって、基板処理装置１のフットプリントを低減できる。 The mounting portions 82a1, 82a2, 82b1, 82b2 are arranged substantially in the vertical direction Z. The placing portions 82a2, 82b1, and 82b2 respectively overlap the placing portion 82a1 in a plan view. Therefore, the installation space of the mounting portions 82a1, 82a2, 82b1, 82b2 in a plan view can be reduced. Therefore, the footprint of the substrate processing apparatus 1 can be reduced.

インデクサ用搬送機構２５は、キャリアＣと載置部８２ａ１との間で基板Ｗを搬送する。このため、載置部８２ａ１を介して、インデクサ用搬送機構２５と搬送機構３４ａ１の間で、基板Ｗを搬送できる。例えば、インデクサ用搬送機構２５は、キャリアＣから搬出した基板Ｗを搬送機構３４ａ１に渡すことができる。例えば、インデクサ用搬送機構２５は、搬送機構３４ａ１から受けた基板ＷをキャリアＣ内に搬入できる。 The indexer transport mechanism 25 transports the substrate W between the carrier C and the mounting portion 82a1. Therefore, the substrate W can be transported between the indexer transport mechanism 25 and the transport mechanism 34a1 via the mounting portion 82a1. For example, the indexer transport mechanism 25 can pass the substrate W unloaded from the carrier C to the transport mechanism 34a1. For example, the indexer transport mechanism 25 can carry the substrate W received from the transport mechanism 34a1 into the carrier C.

同様に、インデクサ用搬送機構２５は、キャリアＣと載置部８２ｂ１との間で基板Ｗを搬送する。このため、載置部８２ｂ１を介して、インデクサ用搬送機構２５と搬送機構３４ｂ１の間で、基板Ｗを搬送できる。インデクサ用搬送機構２５は、キャリアＣと載置部８２ａ２との間で基板Ｗを搬送する。このため、載置部８２ａ２を介して、インデクサ用搬送機構２５と搬送機構３４ａ２の間で、基板Ｗを搬送できる。インデクサ用搬送機構２５は、キャリアＣと載置部８２ｂ２との間で基板Ｗを搬送する。このため、載置部８２ｂ２を介して、インデクサ用搬送機構２５と搬送機構３４ｂ２の間で、基板Ｗを搬送できる。 Similarly, the indexer transport mechanism 25 transports the substrate W between the carrier C and the mounting portion 82b1. Therefore, the substrate W can be transferred between the indexer transfer mechanism 25 and the transfer mechanism 34b1 via the mounting portion 82b1. The indexer transport mechanism 25 transports the substrate W between the carrier C and the mounting portion 82a2. Therefore, the substrate W can be transported between the indexer transport mechanism 25 and the transport mechanism 34a2 via the mounting portion 82a2. The indexer transport mechanism 25 transports the substrate W between the carrier C and the mounting portion 82b2. Therefore, the substrate W can be transported between the indexer transport mechanism 25 and the transport mechanism 34b2 via the mounting portion 82b2.

液処理部７１は、搬送機構３４ａ２が基板Ｗを搬送可能な領域の外部に配置される。このため、搬送機構３４ａ２は、液処理部７１に基板Ｗを搬送しない。よって、搬送機構３４ａ２が負担する基板Ｗの搬送量が過度に大きくなることを好適に防止できる。 The liquid processing unit 71 is arranged outside the region where the transport mechanism 34a2 can transport the substrate W. Therefore, the transfer mechanism 34a2 does not transfer the substrate W to the liquid processing section 71. Therefore, it is possible to preferably prevent the transport amount of the substrate W carried by the transport mechanism 34a2 from becoming excessively large.

液処理部７１は、搬送機構３４ｂ２が基板Ｗを搬送可能な領域の外部に配置される。このため、搬送機構３４ｂ２は、液処理部７１に基板Ｗを搬送しない。よって、搬送機構３４ｂ２が負担する基板Ｗの搬送量が過度に大きくなることを好適に防止できる。 The liquid processing unit 71 is arranged outside the region where the transport mechanism 34b2 can transport the substrate W. Therefore, the transfer mechanism 34b2 does not transfer the substrate W to the liquid processing section 71. Therefore, it is possible to preferably prevent the transport amount of the substrate W borne by the transport mechanism 34b2 from becoming excessively large.

液処理用搬送機構６７は、搬送機構３４ａ２、３４ｂ２の後方に配置される。このため、搬送機構３４ａ２、３４ｂ２が液処理用搬送機構６７と干渉することを好適に防止できる。 The liquid processing transport mechanism 67 is disposed behind the transport mechanisms 34a2 and 34b2. Therefore, it is possible to preferably prevent the transfer mechanisms 34a2 and 34b2 from interfering with the liquid processing transfer mechanism 67.

液処理部７１は、液処理用搬送機構６７と略幅方向Ｙに並ぶ位置に配置される。よって、液処理用搬送機構６７は、液処理部７１に容易にアクセスできる。 The liquid processing section 71 is arranged at a position aligned with the liquid processing transport mechanism 67 in the substantially width direction Y. Therefore, the liquid processing transport mechanism 67 can easily access the liquid processing section 71.

載置部８４ａ１、８４ａ２、８４ｂ１、８４ｂ２は、略上下方向Ｚに並ぶように配置される。載置部８４ａ２、８４ｂ１、８４ｂ２はそれぞれ、平面視において、載置部８４ａ１と重なる。このため、平面視における載置部８４ａ１、８４ａ２、８４ｂ１、８４ｂ２の設置スペースを低減できる。よって、基板処理装置１のフットプリントを低減できる。 The mounting portions 84a1, 84a2, 84b1, 84b2 are arranged substantially in the vertical direction Z. The mounting portions 84a2, 84b1, 84b2 respectively overlap the mounting portion 84a1 in a plan view. Therefore, the installation space of the mounting portions 84a1, 84a2, 84b1, 84b2 in plan view can be reduced. Therefore, the footprint of the substrate processing apparatus 1 can be reduced.

搬送機構３４ａ１および液処理用搬送機構６７は、基板Ｗを載置部８４ａ１に載置可能である。このため、載置部８４ａ１を介して、搬送機構３４ａ１と液処理用搬送機構６７の間で、基板Ｗを搬送できる。例えば、液処理用搬送機構６７は、搬送機構３４ａ１から受けた基板Ｗを液処理部７１に搬入できる。例えば、液処理用搬送機構６７は、液処理部７１から搬出した基板Ｗを搬送機構３４ａ１に渡すことができる。 The transport mechanism 34a1 and the liquid processing transport mechanism 67 can mount the substrate W on the mounting portion 84a1. Therefore, the substrate W can be transferred between the transfer mechanism 34a1 and the liquid processing transfer mechanism 67 via the mounting portion 84a1. For example, the liquid processing transport mechanism 67 can carry the substrate W received from the transport mechanism 34a1 into the liquid processing section 71. For example, the liquid processing transfer mechanism 67 can pass the substrate W carried out from the liquid processing section 71 to the transfer mechanism 34a1.

同様に、搬送機構３４ｂ１および液処理用搬送機構６７は、基板Ｗを載置部８４ｂ１に載置可能である。このため、載置部８４ｂ１を介して、搬送機構３４ｂ１と液処理用搬送機構６７の間で、基板Ｗを搬送できる。搬送機構３４ａ２および液処理用搬送機構６７は、基板Ｗを載置部８４ａ２に載置可能である。このため、載置部８４ａ２を介して、搬送機構３４ａ２と液処理用搬送機構６７の間で、基板Ｗを搬送できる。搬送機構３４ｂ２および液処理用搬送機構６７は、基板Ｗを載置部８４ｂ２に載置可能である。このため、載置部８４ｂ２を介して、搬送機構３４ｂ２と液処理用搬送機構６７の間で、基板Ｗを搬送できる。 Similarly, the transport mechanism 34b1 and the liquid processing transport mechanism 67 can mount the substrate W on the mounting portion 84b1. Therefore, the substrate W can be transferred between the transfer mechanism 34b1 and the liquid processing transfer mechanism 67 via the mounting portion 84b1. The transport mechanism 34a2 and the liquid processing transport mechanism 67 can mount the substrate W on the mounting portion 84a2. Therefore, the substrate W can be transferred between the transfer mechanism 34a2 and the liquid processing transfer mechanism 67 via the mounting portion 84a2. The transport mechanism 34b2 and the liquid processing transport mechanism 67 can mount the substrate W on the mounting portion 84b2. Therefore, the substrate W can be transferred between the transfer mechanism 34b2 and the liquid processing transfer mechanism 67 via the mounting portion 84b2.

基板処理装置１は、検査部４１ａ１−４１ａ４、４１ｂ１−４１ｂ４を備える。このため、基板処理装置１は、基板Ｗに対する検査を効率良く行うことができる。 The substrate processing apparatus 1 includes inspection units 41a1-41a4 and 41b1-41b4. Therefore, the substrate processing apparatus 1 can efficiently inspect the substrate W.

本発明は、実施形態に限られることはなく、下記のように変形実施することができる。 The present invention is not limited to the embodiment and can be modified as follows.

上述した実施形態では、熱処理用搬送機構３３は、８つの搬送機構３４ａ１−３４ａ４、３４ｂ１−３４ｂ４を備えた。但し、これに限られない。熱処理用搬送機構３３が備える搬送機構３４の数を、適宜に変更できる。 In the above-described embodiment, the heat treatment transfer mechanism 33 includes eight transfer mechanisms 34a1-34a4 and 34b1-34b4. However, it is not limited to this. The number of transport mechanisms 34 included in the heat treatment transport mechanism 33 can be changed as appropriate.

上述した実施形態では、回転軸線Ａ３５ｆは、回転軸線Ａ３５ｄと同じ位置に配置された。ただし、これに限られない。例えば、回転軸線Ａ３５ｆは、回転軸線Ａ３５ｄと異なる位置に配置されてもよい。 In the embodiment described above, the rotation axis A35f is arranged at the same position as the rotation axis A35d. However, it is not limited to this. For example, the rotation axis A35f may be arranged at a position different from the rotation axis A35d.

上述した実施形態では、基板処理装置１は、８つの熱処理部３７ａ１−３７ａ４、３７ｂ１−３７ｂ４を備えた。但し、これに限られない。基板処理装置１が備える熱処理部３７の数を、適宜に変更できる。 In the above-described embodiment, the substrate processing apparatus 1 includes the eight thermal processing units 37a1-37a4 and 37b1-37b4. However, it is not limited to this. The number of heat treatment units 37 included in the substrate processing apparatus 1 can be changed appropriately.

上述した実施形態では、熱処理部３７ａ１は、７つの熱処理ユニット３８ａ１を備えた。但し、これに限られない。熱処理部３７ａ１が備える熱処理ユニット３８ａ１の数を、適宜に変更できる。 In the above-described embodiment, the heat treatment section 37a1 includes seven heat treatment units 38a1. However, it is not limited to this. The number of heat treatment units 38a1 included in the heat treatment unit 37a1 can be changed appropriately.

上述した実施形態では、熱処理部３７ａ１が基板Ｗに行う熱処理として、疎水化処理と加熱処理と冷却処理を例示した。但し、これに限られない。熱処理部３７ａ１が基板Ｗに行う熱処理の内容を、適宜に変更できる。例えば、熱処理部３７ａ１が基板Ｗに行う熱処理は、疎水化処理と加熱処理と冷却処理の１つ、または、２つを含まなくてもよい。 In the above-described embodiment, as the heat treatment performed on the substrate W by the heat treatment unit 37a1, the hydrophobic treatment, the heat treatment, and the cooling treatment are illustrated. However, it is not limited to this. The content of the heat treatment performed on the substrate W by the heat treatment unit 37a1 can be appropriately changed. For example, the heat treatment performed on the substrate W by the heat treatment unit 37a1 may not include one or two of the hydrophobic treatment, the heating treatment, and the cooling treatment.

上述した実施形態では、熱処理部３７ｂ１が基板Ｗに行う熱処理は、熱処理部３７ａ１が基板Ｗに行う熱処理と同じである。但し、これに限られない。熱処理部３７ｂ１が基板Ｗに行う熱処理は、熱処理部３７ａ１が基板Ｗに行う熱処理と異なってもよい。 In the above-described embodiment, the heat treatment performed on the substrate W by the heat treatment unit 37b1 is the same as the heat treatment performed on the substrate W by the heat treatment unit 37a1. However, it is not limited to this. The heat treatment performed by the heat treatment unit 37b1 on the substrate W may be different from the heat treatment performed by the heat treatment unit 37a1 on the substrate W.

上述した実施形態では、摺動部５６は、可動部材５１ａ１の下部に固定された。但し、これに限られない。摺動部５６を、可動部材５１ａ１の任意の部位に固定できる。例えば、摺動部５６を、可動部材５１ａ１の側部または上部に固定してもよい。 In the above-described embodiment, the sliding portion 56 is fixed to the lower portion of the movable member 51a1. However, it is not limited to this. The sliding part 56 can be fixed to any part of the movable member 51a1. For example, the sliding portion 56 may be fixed to the side portion or the upper portion of the movable member 51a1.

上述した実施形態では、液処理部７１は、液処理用搬送機構６７と略幅方向Ｙに並ぶ位置に配置された。但し、これに限られない。例えば、液処理部７１を、液処理用搬送機構６７の後方の位置に配置してもよい。例えば、液処理部７１を、液処理用搬送機構６７と略幅方向Ｙに並ぶ位置、および、液処理用搬送機構６７の後方の位置の少なくともいずれかに配置してもよい。 In the above-described embodiment, the liquid processing part 71 is arranged at a position aligned with the liquid processing transport mechanism 67 in the substantially width direction Y. However, it is not limited to this. For example, the liquid processing section 71 may be arranged at a position behind the liquid processing transport mechanism 67. For example, the liquid processing unit 71 may be arranged at least at a position aligned with the liquid processing transport mechanism 67 in the substantially width direction Y or at a position behind the liquid processing transport mechanism 67.

上述した実施形態では、液処理部７１が基板Ｗに行う塗布処理は、基板Ｗにレジスト膜を形成する処理であった。但し、これに限られない。塗布処理は、基板Ｗに反射防止膜を形成する処理であってもよい。 In the above-described embodiment, the coating process performed by the liquid processing section 71 on the substrate W was a process of forming a resist film on the substrate W. However, it is not limited to this. The coating process may be a process of forming an antireflection film on the substrate W.

上述した実施形態では、液処理部７１が基板Ｗに行う液処理は、塗布処理であった。但し、これに限られない。液処理は、基板Ｗを現像する現像処理であってもよい。現像処理は、現像液を基板Ｗに供給する。液処理は、基板Ｗを洗浄する洗浄処理であってもよい。洗浄処理は、洗浄液を基板Ｗに供給する。 In the above-described embodiment, the liquid processing performed by the liquid processing unit 71 on the substrate W is the coating processing. However, it is not limited to this. The liquid treatment may be a development treatment for developing the substrate W. In the developing process, the developing solution is supplied to the substrate W. The liquid process may be a cleaning process for cleaning the substrate W. In the cleaning process, the cleaning liquid is supplied to the substrate W.

上述した実施形態では、基板処理装置１は、検査部４１を備えた。但し、これに限られない。例えば、検査部４１を省略してもよい。 In the embodiment described above, the substrate processing apparatus 1 includes the inspection unit 41. However, it is not limited to this. For example, the inspection unit 41 may be omitted.

上述した実施形態では、可動部材５１ａ１は、検査部４１ａを支持した。但し、これに限られない。可動部材５１ａ１は、検査部４１ａを支持しなくてもよい。 In the above-described embodiment, the movable member 51a1 supports the inspection unit 41a. However, it is not limited to this. The movable member 51a1 may not support the inspection unit 41a.

上述した実施形態では、検査部４１ａは１つの検査ユニット４２ａ１を備えた。但し、これに限られない。検査部４１ａは、複数の検査ユニット４２ａ１を備えてもよい。 In the above-described embodiment, the inspection unit 41a includes one inspection unit 42a1. However, it is not limited to this. The inspection unit 41a may include a plurality of inspection units 42a1.

上述した実施形態および各変形実施形態については、さらに各構成を他の変形実施形態の構成に置換または組み合わせるなどして適宜に変更してもよい。 The above-described embodiment and each modified embodiment may be appropriately modified by replacing or combining each configuration with the configuration of another modified embodiment.

１ … 基板処理装置
１１ … ストッカ部
２１ … インデクサ部
２２ａ、２２ａ１、２２ａ２、２２ｂ、２２ｂ１、２２ｂ２ … キャリア載置部
２５ … インデクサ用搬送機構
３１ … 熱処理ブロック
３２ … 搬送スペース
３３ … 熱処理用搬送機構
３４ａ１ … 搬送機構（第１搬送機構）
３４ｂ１ … 搬送機構（第２搬送機構）
３４ａ２ … 搬送機構（第３搬送機構）
３４ａ２ … 搬送機構（第４搬送機構）
３４ａ３、３４ａ４、３４ｂ３、３４ｂ４ … 搬送機構
３５ａ … レール部（第１レール部、第２レール部）
３５ｂ … 水平移動部（第１水平移動部、第２水平移動部）
３５ｃ … 垂直移動部（第１垂直移動部、第２垂直移動部）
３５ｄ … アーム部（第１アーム部、第２アーム部）
３５ｅ … 保持部（第１保持部、第２保持部）
３５ｆ … アーム部（第１アーム部、第２アーム部）
３５ｇ … 保持部（第１保持部、第２保持部）
３７ａ１ … 熱処理部（第１熱処理部）
３７ｂ１ … 熱処理部（第２熱処理部）
３７ａ２ … 熱処理部（第３熱処理部）
３７ｂ２ … 熱処理部（第４熱処理部）
３７ａ３、３７ａ４、３７ｂ３、３７ｂ４ … 熱処理部
３８ａ１ … 熱処理ユニット（第１熱処理ユニット）
３８ｂ１ … 熱処理ユニット（第２熱処理ユニット）
３８ａ２ … 熱処理ユニット（第３熱処理ユニット）
３８ｂ２ … 熱処理ユニット（第４熱処理ユニット）
３８ａ３、３８ａ４、３８ｂ３、３８ｂ４ … 熱処理ユニット
ＡＨＰ … 疎水化処理ユニット
ＨＰ … 加熱ユニット
ＣＰ … 冷却ユニット
４５ … フレーム
４６ … 第１フレーム
４７ … 第２フレーム
４８ｄ … 空間（第１フレーム／第２フレームの内部）
５１ａ１ … 可動部材（第１可動部材）
５１ｂ１ … 可動部材（第２可動部材）
５１ａ２ … 可動部材（第３可動部材）
５１ｂ２ … 可動部材（第４可動部材）
５１ａ３、５１ａ４、５１ｂ３、５１ｂ４ … 可動部材
５５ … ガイド部
５６ … 摺動部
６１ … 液処理ブロック
６７ … 液処理用搬送機構
７１ … 液処理部
８１ … 前載置部
８２ａ１ … 載置部（第１前載置部）
８２ｂ１ … 載置部（第２前載置部）
８２ａ２ … 載置部（第３前載置部）
８２ｂ２ … 載置部（第４前載置部）
８２ａ３、８２ａ４、８２ｂ３、８２ｂ４ … 載置部
８３ … 後載置部
８４ａ１ … 載置部（第１後載置部）
８４ｂ１ … 載置部（第２後載置部）
８４ａ２ … 載置部（第３後載置部）
８４ｂ２ … 載置部（第４後載置部）
８４ａ３、８４ａ４、８４ｂ３、８４ｂ４ … 載置部
９１ … 制御部
Ａ３５ｄ … 回転軸線（第１軸線、第２軸線）
Ａ３５ｆ … 回転軸線（第１軸線、第２軸線）
Ｂａ … 搬送機構３４ａ１が基板Ｗを搬送可能な領域
Ｂｂ … 搬送機構３４ｂ１が基板Ｗを搬送可能な領域
Ｃ … キャリア
Ｄａ … 略前後方向に隣り合う２つの第１中心点の間の距離
Ｄｂ … 略前後方向に隣り合う２つの第２中心点の間の距離
Ｅ … 仮想線
Ｇａ１ … 熱処理ユニット３８ａ１の第１中心点
Ｇｂ１ … 熱処理ユニット３８ｂ１の第２中心点
Ｊ … 搬送スペースの中心点
Ｋ … 仮想面
Ｌａ … 前後方向における１つの熱処理ユニット３８ａ１の長さ
Ｌｂ … 前後方向における１つの熱処理ユニット３８ｂ１の長さ
Ｌ１ … 幅方向における搬送スペース３２の長さ
Ｌ２ … 前後方向における搬送スペースの長さ
Ｐａ１ … 処理位置（第１処理位置）
Ｐｂ１ … 処理位置（第２処理位置）
Ｐａ２ … 処理位置（第３処理位置）
Ｐｂ２ … 処理位置（第４処理位置）
Ｐａ３、Ｐａ４、Ｐｂ３、Ｐｂ４ … 処理位置
Ｑａ１ … メンテナンス位置（第１メンテナンス位置）
Ｑｂ１ … メンテナンス位置（第２メンテナンス位置）
Ｑａ２ … メンテナンス位置（第３メンテナンス位置）
Ｑｂ２ … メンテナンス位置（第４メンテナンス位置）
Ｑａ３、Ｑａ４、Ｑｂ３、Ｑｂ４ … 処理位置
ｒ … 基板の半径
Ｗ … 基板
Ｘ … 前後方向
Ｙ … 幅方向
Ｚ … 上下方向 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Substrate processing apparatus 11... Stocker part 21... Indexer part 22a, 22a1, 22a2, 22b, 22b1, 22b2... Carrier mounting part 25... Indexer transfer mechanism 31... Heat treatment block 32... Transfer space 33... Heat transfer transfer mechanism 34a1 ... Transport mechanism (first transport mechanism)
34b1... Transport mechanism (second transport mechanism)
34a2... Transport mechanism (third transport mechanism)
34a2... Transport mechanism (fourth transport mechanism)
34a3, 34a4, 34b3, 34b4... Transport mechanism 35a... Rail part (first rail part, second rail part)
35b... Horizontal moving part (first horizontal moving part, second horizontal moving part)
35c... Vertical moving part (first vertical moving part, second vertical moving part)
35d... Arm part (first arm part, second arm part)
35e... Holding part (first holding part, second holding part)
35f... Arm part (first arm part, second arm part)
35g... Holding part (first holding part, second holding part)
37a1... Heat treatment section (first heat treatment section)
37b1... Heat treatment section (second heat treatment section)
37a2... Heat treatment section (third heat treatment section)
37b2... Heat treatment section (fourth heat treatment section)
37a3, 37a4, 37b3, 37b4... Heat treatment part 38a1... Heat treatment unit (first heat treatment unit)
38b1... Heat treatment unit (second heat treatment unit)
38a2... Heat treatment unit (third heat treatment unit)
38b2... Heat treatment unit (fourth heat treatment unit)
38a3, 38a4, 38b3, 38b4... Heat treatment unit AHP... Hydrophobic treatment unit HP... Heating unit CP... Cooling unit 45... Frame 46... First frame 47... Second frame 48d... Space (inside of first frame/second frame) )
51a1... Movable member (first movable member)
51b1... Movable member (second movable member)
51a2... Movable member (third movable member)
51b2... Movable member (fourth movable member)
51a3, 51a4, 51b3, 51b4... Movable member 55... Guide part 56... Sliding part 61... Liquid processing block 67... Liquid processing transport mechanism 71... Liquid processing part 81... Pre-mounting part 82a1... Mounting part (first (Front mounting section)
82b1... Mounting part (2nd front mounting part)
82a2... Mounting part (third front mounting part)
82b2... Mounting part (4th front mounting part)
82a3, 82a4, 82b3, 82b4... Mounting part 83... Rear mounting part 84a1... Mounting part (1st rear mounting part)
84b1... Mounting part (second rear mounting part)
84a2... Mounting part (third rear mounting part)
84b2... Mounting part (fourth rear mounting part)
84a3, 84a4, 84b3, 84b4... Placement part 91... Control part A35d... Rotation axis line (1st axis line, 2nd axis line)
A35f... Rotation axis (first axis, second axis)
Ba... Area in which the transport mechanism 34a1 can transport the substrate W Bb... Area in which the transport mechanism 34b1 can transport the substrate W C... Carrier Da... Distance between two first center points adjacent to each other substantially in the front-back direction Db... Distance E between two second center points adjacent in the front-rear direction E... Virtual line Ga1... First center point Gb1 of heat treatment unit 38a1... Second center point J of heat treatment unit 38b1... Center point K of transport space K... Virtual plane La... Length of one heat treatment unit 38a1 in front-rear direction Lb... Length of one heat treatment unit 38b1 in front-rear direction L1... Length of transfer space 32 in width direction L2... Length of transfer space in front-rear direction Pa1... Treatment Position (first processing position)
Pb1... Processing position (second processing position)
Pa2... Processing position (third processing position)
Pb2... Processing position (fourth processing position)
Pa3, Pa4, Pb3, Pb4... Processing position Qa1... Maintenance position (first maintenance position)
Qb1...Maintenance position (second maintenance position)
Qa2... Maintenance position (3rd maintenance position)
Qb2...Maintenance position (4th maintenance position)
Qa3, Qa4, Qb3, Qb4... Processing position r... Radius of substrate W... Substrate X... Front-rear direction Y... Width direction Z... Vertical direction

Claims (20)

基板処理装置であって、
第１フレームと、
前記第１フレームに支持され、前記第１フレームに対して移動可能な第１可動部材と、
前記第１可動部材に支持され、基板に熱処理を行う第１熱処理部と、
前記第１可動部材に支持され、前記第１熱処理部に基板を搬送する第１搬送機構と、
を備え、
前記第１可動部材が前記第１フレームに対して移動することによって、前記第１熱処理部は、前記第１搬送機構と一体に、前記第１フレームに対して移動する
基板処理装置。 A substrate processing apparatus,
The first frame,
A first movable member supported by the first frame and movable with respect to the first frame;
A first heat treatment section which is supported by the first movable member and heat-treats the substrate;
A first transfer mechanism that is supported by the first movable member and transfers a substrate to the first heat treatment section;
Equipped with
A substrate processing apparatus in which the first movable member moves with respect to the first frame by moving the first movable member with respect to the first frame, integrally with the first transport mechanism. 請求項１に記載の基板処理装置において、
前記第１可動部材が前記第１フレームに対して移動することによって、前記第１熱処理部は、前記第１フレームに対して水平方向に移動する
基板処理装置。 The substrate processing apparatus according to claim 1,
A substrate processing apparatus, wherein the first movable member moves in a horizontal direction with respect to the first frame by moving the first movable member with respect to the first frame. 請求項１または２に記載の基板処理装置において、
前記第１可動部材が前記第１フレームに対して移動することによって、前記第１熱処理部は、前記第１熱処理部の少なくとも一部が前記第１フレームの外部に位置する第１メンテナンス位置に移動可能である
基板処理装置。 The substrate processing apparatus according to claim 1,
When the first movable member moves with respect to the first frame, the first heat treatment unit moves to a first maintenance position in which at least a part of the first heat treatment unit is located outside the first frame. Possible substrate processing equipment. 請求項３に記載の基板処理装置において、
前記第１熱処理部が前記第１メンテナンス位置にあるとき、前記第１可動部材は前記第１フレームに支持されている
基板処理装置。 The substrate processing apparatus according to claim 3,
The substrate processing apparatus, wherein the first movable member is supported by the first frame when the first thermal processing section is in the first maintenance position. 請求項３または４に記載の基板処理装置において、
前記第１可動部材が前記第１フレームに対して移動することによって、前記第１熱処理部は、前記第１熱処理部が基板に熱処理を行うための第１処理位置に移動可能である
基板処理装置。 The substrate processing apparatus according to claim 3,
By moving the first movable member with respect to the first frame, the first thermal processing section can be moved to a first processing position for the first thermal processing section to perform thermal processing on the substrate. . 請求項５に記載の基板処理装置において、
前記第１熱処理部が前記第１メンテナンス位置にあるときに前記第１フレームの外部に位置する前記第１熱処理部の部分は、前記第１熱処理部が前記第１処理位置にあるときに前記第１フレームの外部に位置する前記第１熱処理部の部分よりも大きい
基板処理装置。 The substrate processing apparatus according to claim 5,
The portion of the first heat treatment unit that is located outside the first frame when the first heat treatment unit is in the first maintenance position is the first heat treatment unit when the first heat treatment unit is in the first treatment position. A substrate processing apparatus that is larger than a portion of the first heat treatment section located outside one frame. 請求項５または６に記載の基板処理装置において、
前記第１熱処理部が前記第１処理位置にあるとき、前記第１熱処理部の全部は、前記第１フレームの内部に位置する
基板処理装置。 The substrate processing apparatus according to claim 5 or 6,
The substrate processing apparatus, wherein when the first thermal processing section is at the first processing position, the entire first thermal processing section is located inside the first frame. 請求項５から７のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記第１熱処理部が前記第１処理位置にあるとき、前記第１可動部材は前記第１フレームに支持されている
基板処理装置。 The substrate processing apparatus according to any one of claims 5 to 7,
The substrate processing apparatus, wherein the first movable member is supported by the first frame when the first thermal processing section is in the first processing position. 請求項１から８のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記第１搬送機構は、
前記第１可動部材に固定され、水平方向に延びる第１レール部と、
前記第１レール部に支持され、前記第１レール部に対して水平方向に移動可能な第１水平移動部と、
前記第１水平移動部に支持され、前記第１水平移動部に対して第１軸線回りに回転可能な第１アーム部と、
前記第１アーム部に固定され、基板を保持する第１保持部と、
を備え、
前記第１軸線は上下方向と平行であり、
平面視において、前記第１水平移動部に対する前記第１軸線の相対的な位置は、一定であり、
平面視において、前記第１保持部と前記第１軸線との距離は、一定である
基板処理装置。 The substrate processing apparatus according to any one of claims 1 to 8,
The first transport mechanism,
A first rail portion fixed to the first movable member and extending in the horizontal direction;
A first horizontal moving unit supported by the first rail unit and movable in a horizontal direction with respect to the first rail unit;
A first arm part supported by the first horizontal moving part and rotatable about a first axis with respect to the first horizontal moving part;
A first holding unit fixed to the first arm unit for holding the substrate;
Equipped with
The first axis is parallel to the vertical direction,
In a plan view, the relative position of the first axis with respect to the first horizontal moving unit is constant,
A substrate processing apparatus in which a distance between the first holding unit and the first axis is constant in a plan view. 請求項９に記載の基板処理装置において、
前記第１搬送機構は、
前記第１水平移動部に支持され、前記第１水平移動部に対して上下方向に移動可能な第１垂直移動部と、
を備え、
前記第１アーム部は、前記第１垂直移動部を介して、前記第１水平移動部に支持される
を備える基板処理装置。 The substrate processing apparatus according to claim 9,
The first transport mechanism,
A first vertical moving unit that is supported by the first horizontal moving unit and is vertically movable with respect to the first horizontal moving unit;
Equipped with
The substrate processing apparatus, wherein the first arm unit is supported by the first horizontal moving unit via the first vertical moving unit. 請求項１から１０のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記基板処理装置は、
前記第１フレームに連結される第２フレームと、
前記第２フレームに支持され、前記第２フレームに対して移動可能な第２可動部材と、
前記第２可動部材に支持され、基板に熱処理を行う第２熱処理部と、
前記第２可動部材に支持され、前記第２熱処理部に基板を搬送する第２搬送機構と、
を備え、
前記第２可動部材が前記第２フレームに対して移動することによって、前記第２熱処理部は、前記第２搬送機構と一体に、前記第２フレームに対して移動する
基板処理装置。 The substrate processing apparatus according to any one of claims 1 to 10,
The substrate processing apparatus,
A second frame connected to the first frame;
A second movable member supported by the second frame and movable with respect to the second frame;
A second heat treatment section that is supported by the second movable member and heat-treats the substrate;
A second transfer mechanism which is supported by the second movable member and transfers the substrate to the second heat treatment section;
Equipped with
A substrate processing apparatus in which the second movable member moves with respect to the second frame by moving the second movable member with respect to the second frame, integrally with the second transfer mechanism. 請求項１１に記載の基板処理装置において、
前記第２フレームは、前記第１フレームと同じ高さ位置に配置され、
前記第１搬送機構は、前記第１熱処理部と前記第２フレームの間に配置され、
前記第２搬送機構は、前記第２熱処理部と前記第１フレームの間に配置される
基板処理装置。 The substrate processing apparatus according to claim 11,
The second frame is arranged at the same height as the first frame,
The first transport mechanism is disposed between the first heat treatment section and the second frame,
The substrate processing apparatus, wherein the second transfer mechanism is arranged between the second heat treatment section and the first frame. 請求項１２に記載の基板処理装置において、
前記第２フレームから前記第１フレームに向かう方向を第１方向とし、
前記第１方向とは反対の方向を第２方向とし、
前記第１可動部材が前記第１フレームに対して移動することによって、前記第１熱処理部は、前記第１フレームに対して前記第１方向に移動可能であり、
前記第２可動部材が前記第２フレームに対して移動することによって、前記第２熱処理部は、前記第２フレームに対して前記第２方向に移動可能である
基板処理装置。 The substrate processing apparatus according to claim 12,
A direction from the second frame to the first frame is a first direction,
A direction opposite to the first direction is defined as a second direction,
By moving the first movable member with respect to the first frame, the first heat treatment unit is movable in the first direction with respect to the first frame,
A substrate processing apparatus, wherein the second movable member is movable in the second direction with respect to the second frame by moving the second movable member with respect to the second frame. 請求項１３に記載の基板処理装置において、
前記第１可動部材が前記第１フレームに対して移動することによって、前記第１可動部材は、前記第１熱処理部の少なくとも一部を前記第１フレームから前記第１方向に引き出し可能であり、
前記第２可動部材が前記第２フレームに対して移動することによって、前記第２可動部材は、前記第２熱処理部の少なくとも一部を前記第２フレームから前記第２方向に引き出し可能である
基板処理装置。 The substrate processing apparatus according to claim 13,
By moving the first movable member with respect to the first frame, the first movable member can draw out at least a part of the first heat treatment section from the first frame in the first direction,
By moving the second movable member with respect to the second frame, the second movable member can draw out at least a part of the second heat treatment unit from the second frame in the second direction. Processing equipment. 請求項１１から１４のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記第２フレームは、前記第１フレームと同じ形状を有する
基板処理装置。 The substrate processing apparatus according to any one of claims 11 to 14,
The second frame has the same shape as the first frame. 請求項１１から１５のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記第２フレームは、前記第１フレームから分離可能である
基板処理装置。 The substrate processing apparatus according to any one of claims 11 to 15,
The substrate processing apparatus is capable of separating the second frame from the first frame. 請求項１１から１６のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記第２搬送機構は、前記第１搬送機構と左右対象な位置に配置され、
前記第２熱処理部は、前記第１熱処理部と左右対象な位置に配置される
基板処理装置。 The substrate processing apparatus according to any one of claims 11 to 16,
The second transport mechanism is disposed in a position symmetrical to the first transport mechanism,
The substrate processing apparatus, wherein the second heat treatment unit is arranged in a position symmetrical to the first heat treatment unit. 請求項１から１７のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記基板処理装置は、
前記第１フレームに支持され、前記第１フレームに対して移動可能な第３可動部材と、
前記第３可動部材に支持され、基板に熱処理を行う第３熱処理部と、
前記第３可動部材に支持され、前記第３熱処理部に基板を搬送する第３搬送機構と、
を備え、
前記第３可動部材は、前記第１可動部材とは独立して、前記第１フレームに対して移動可能であり、
前記第３可動部材が前記第１フレームに対して移動することによって、前記第３熱処理部は、前記第３搬送機構と一体に、前記第１フレームに対して移動する
基板処理装置。 The substrate processing apparatus according to any one of claims 1 to 17,
The substrate processing apparatus,
A third movable member supported by the first frame and movable with respect to the first frame;
A third heat treatment unit which is supported by the third movable member and heat-treats the substrate;
A third transfer mechanism that is supported by the third movable member and transfers the substrate to the third heat treatment section;
Equipped with
The third movable member is movable with respect to the first frame independently of the first movable member,
A substrate processing apparatus in which the third movable member moves with respect to the first frame by moving the third movable member with respect to the first frame, integrally with the third transfer mechanism. 請求項１８に記載の基板処理装置において、
前記第３熱処理部は、前記第１熱処理部の上方に配置され、
前記第３搬送機構は、前記第１搬送機構の上方に配置される
基板処理装置。 The substrate processing apparatus according to claim 18,
The third heat treatment unit is disposed above the first heat treatment unit,
The substrate processing apparatus, wherein the third transfer mechanism is arranged above the first transfer mechanism. 請求項１から１９のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記基板処理装置は、
前記第１フレームに固定されるガイド部と、
前記第１可動部材に固定され、前記ガイド部に案内される摺動部と、
を備える
基板処理装置。 The substrate processing apparatus according to any one of claims 1 to 19,
The substrate processing apparatus,
A guide portion fixed to the first frame;
A sliding portion fixed to the first movable member and guided by the guide portion;
A substrate processing apparatus comprising.
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Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000021784A (en) * 1998-07-01 2000-01-21 Tokyo Electron Ltd Jig for transferring treating chamber and heater, and transferring method
JP2004015019A (en) * 2002-06-11 2004-01-15 Dainippon Screen Mfg Co Ltd Substrate handling device
JP2004087675A (en) * 2002-08-26 2004-03-18 Dainippon Screen Mfg Co Ltd Substrate treating device
JP2010056104A (en) * 2008-08-26 2010-03-11 Sokudo Co Ltd Substrate treating device
JP2013171983A (en) * 2012-02-21 2013-09-02 Tokyo Electron Ltd Substrate processing apparatus

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5001828B2 (en) * 2007-12-28 2012-08-15 株式会社Ｓｏｋｕｄｏ Substrate processing equipment
JP5611152B2 (en) * 2011-08-29 2014-10-22 東京エレクトロン株式会社 Substrate heat treatment equipment
JP6001961B2 (en) * 2012-08-29 2016-10-05 株式会社Ｓｃｒｅｅｎセミコンダクターソリューションズ Substrate processing apparatus and substrate processing method
US9541836B2 (en) * 2014-02-10 2017-01-10 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Method and apparatus for baking photoresist patterns
TWI631230B (en) * 2015-12-24 2018-08-01 愛森特有限公司 Inter-back type deposition system with reduced footprint

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000021784A (en) * 1998-07-01 2000-01-21 Tokyo Electron Ltd Jig for transferring treating chamber and heater, and transferring method
JP2004015019A (en) * 2002-06-11 2004-01-15 Dainippon Screen Mfg Co Ltd Substrate handling device
JP2004087675A (en) * 2002-08-26 2004-03-18 Dainippon Screen Mfg Co Ltd Substrate treating device
JP2010056104A (en) * 2008-08-26 2010-03-11 Sokudo Co Ltd Substrate treating device
JP2013171983A (en) * 2012-02-21 2013-09-02 Tokyo Electron Ltd Substrate processing apparatus

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