JP2017532593A - オブジェクトテーブル、リソグラフィ装置、及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
本願は2014年9月15日出願の欧州仮出願第14184714.5号の利益を主張するものであり、その全体が参照により本明細書に組み込まれる。
−オブジェクトを支持するように構成された支持表面と、
−支持表面に対してほぼ垂直な支持方向に支持表面からオブジェクトを変位させるように構成されたリフティング機構と、
を備える、オブジェクトテーブルが提供され、リフティング機構は、
・支持方向に延在する1本以上の細長いロッドであって、1本以上の細長いロッドが支持表面の下に位置決めされる第1の位置と、オブジェクトを支持表面からある距離で支持するために、1本以上の細長いロッドが支持表面の1つ以上のアパーチャを介して支持表面から突き出す第2の位置との間で変位可能である、1本以上の細長いロッドと、
・1本以上の細長いロッドを少なくとも部分的に封入する、ハウジングと、
・第1の位置と第2の位置との間で1本以上の細長いロッドがほぼ摩擦なしで変位できるように構成された、ベアリングと、
・第1の位置と第2の位置との間で1本以上の細長いロッドを変位させるように構成されたアクチュエータと、
・1本以上の細長いロッドの縦軸を中心とする回転を制限するように構成されたロッキング機構であって、ハウジングと1本以上の細長いロッドとの両方に機械的に接続された弾性要素を備え、弾性要素は、支持方向に比較的低い剛性を有し、縦軸を中心とする回転方向に比較的高い剛性を有する、ロッキング機構と、
を備える。
−オブジェクトを支持するように構成された支持表面と、
−支持表面に対してほぼ垂直な支持方向に支持表面からオブジェクトを変位させるように構成されたリフティング機構と、
を備える、オブジェクトテーブルがさらに提供され、リフティング機構は、
・支持方向に延在する1本以上の細長いロッドであって、1本以上の細長いロッドが支持表面の下に位置決めされる第1の位置と、オブジェクトを支持表面からある距離で支持するために、1本以上の細長いロッドが支持表面の1つ以上のアパーチャを介して支持表面から突き出す第2の位置との間で変位可能である、1本以上の細長いロッドと、
・1本以上の細長いロッドを少なくとも部分的に封入する、ハウジングと、
・第1の位置と第2の位置との間で1本以上の細長いロッドがほぼ摩擦なしで変位できるように構成された、ベアリングと、
・第1の位置と第2の位置との間で1本以上の細長いロッドを変位させるように構成されたアクチュエータと、
・1本以上の細長いロッドの縦軸を中心とする回転を制限するように構成されたロッキング機構であって、自己整合ベアリングを備え、自己整合ベアリングは、細長いロッドに接続された第1の部材と、ハウジングに接続され、自己整合ベアリングを形成するために第1の部材と協働する第2の部材とを有し、第1の部材は第1のベアリング表面を備え、第2の部材は第2のベアリング表面を備え、第1及び第2のベアリング表面は、1本以上の細長いロッドの縦軸を中心とする回転を制限するように構築及び構成され、第1及び第2のベアリング表面のうちの少なくとも1つは、第2の表面に対して第1の表面を自己整合して提供するように変位可能である、ロッキング機構と、
を備える。
1.ステップモードでは、マスクテーブルMT又は「マスク支持体」及び基板テーブルWT又は「基板支持体」は基本的に静止状態に維持される一方、放射ビームに付与されたパターン全体が1回でターゲット部分Cに投影される(すなわち単一静的露光)。次に、別のターゲット部分Cを露光できるように、基板テーブルWT又は「基板支持体」がX方向及び/又はY方向に移動される。ステップモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、単一静的露光で結像されるターゲット部分Cのサイズが制限される。
2.スキャンモードでは、マスクテーブルMT又は「マスク支持体」及び基板テーブルWT又は「基板支持体」は同期的にスキャンされる一方、放射ビームに付与されるパターンがターゲット部分Cに投影される(すなわち単一動的露光)。マスクテーブルMT又は「マスク支持体」に対する基板テーブルWT又は「基板支持体」の速度及び方向は、投影システムPSの拡大(縮小)及び像反転特性によって求めることができる。スキャンモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、単一動的露光におけるターゲット部分の(非スキャン方向における)幅が制限され、スキャン動作の長さによってターゲット部分の(スキャン方向における)高さが決まる。
3.別のモードでは、マスクテーブルMT又は「マスク支持体」はプログラマブルパターニングデバイスを保持して基本的に静止状態に維持され、基板テーブルWT又は「基板支持体」を移動又はスキャンさせながら、放射ビームに与えられたパターンをターゲット部分Cに投影する。このモードでは、一般にパルス状放射源を使用して、基板テーブルWT又は「基板支持体」を移動させる毎に、又はスキャン中に連続する放射パルスの間で、プログラマブルパターニングデバイスを必要に応じて更新する。この動作モードは、以上で言及したようなタイプのプログラマブルミラーアレイなどのプログラマブルパターニングデバイスを使用するマスクレスリソグラフィに容易に利用できる。
−オブジェクトを支持するように構成された支持表面と、
−支持表面に対してほぼ垂直な支持方向に支持表面からオブジェクトを変位させるように構成されたリフティング機構と、
を備える、オブジェクトテーブルが提供され、リフティング機構は、
・支持方向に延在する1本以上の細長いロッドであって、1本以上の細長いロッドが支持表面の下に位置決めされる第1の位置と、オブジェクトを支持表面からある距離で支持するために、1本以上の細長いロッドが支持表面の1つ以上のアパーチャを介して支持表面から突き出す第2の位置との間で変位可能である、1本以上の細長いロッドと、
・1本以上の細長いロッドを少なくとも部分的に封入する、ハウジングと、
・第1の位置と第2の位置との間で1本以上の細長いロッドがほぼ摩擦なしで変位できるように構成された、ベアリングと、
・第1の位置と第2の位置との間で1本以上の細長いロッドを変位させるように構成されたアクチュエータと、
・1本以上の細長いロッドの縦軸を中心とする回転を制限するように構成されたロッキング機構であって、ハウジングと1本以上の細長いロッドとの両方に機械的に接続された弾性要素を備え、弾性要素は、支持方向に比較的低い剛性を有し、縦軸を中心とする回転方向に比較的高い剛性を有する、ロッキング機構と、
を備え、前記弾性要素はリーフスプリングを備える。
Claims (11)
- −オブジェクトを支持するように構成された支持表面と、
−前記支持表面に対してほぼ垂直な支持方向に前記支持表面から前記オブジェクトを変位させるように構成されたリフティング機構と、
を備える、オブジェクトテーブルであって、前記リフティング機構は、
・前記支持方向に延在する1本以上の細長いロッドであって、前記1本以上の細長いロッドが前記支持表面の下に位置決めされる第1の位置と、前記オブジェクトを前記支持表面からある距離で支持するために、前記1本以上の細長いロッドが前記支持表面の1つ以上のアパーチャを介して前記支持表面から突き出す第2の位置との間で、変位可能である、1本以上の細長いロッドと、
・前記1本以上の細長いロッドを少なくとも部分的に封入する、ハウジングと、
・前記第1の位置と前記第2の位置との間で前記1本以上の細長いロッドがほぼ摩擦なしで変位できるように構成された、ベアリングと、
・前記第1の位置と前記第2の位置との間で前記1本以上の細長いロッドを変位させるように構成された、アクチュエータと、
・前記1本以上の細長いロッドの縦軸を中心とする回転を制限するように構成されたロッキング機構であって、前記ハウジングと前記1本以上の細長いロッドとの両方に機械的に接続された弾性要素を備え、前記弾性要素は、前記支持方向に比較的低い剛性を有し、前記縦軸を中心とする回転方向に比較的高い剛性を有する、ロッキング機構と、
を備える、オブジェクトテーブル。 - 前記弾性要素はリーフスプリングを備える、請求項1に記載のオブジェクトテーブル。
- 前記リーフスプリングは湾曲リーフスプリングである、請求項2に記載のオブジェクトテーブル。
- −オブジェクトを支持するように構成された支持表面と、
−前記支持表面に対してほぼ垂直な支持方向に前記支持表面から前記オブジェクトを変位させるように構成されたリフティング機構と、
を備える、オブジェクトテーブルであって、前記リフティング機構は、
・前記支持方向に延在する1本以上の細長いロッドであって、前記1本以上の細長いロッドが前記支持表面の下に位置決めされる第1の位置と、前記オブジェクトを前記支持表面からある距離で支持するために、前記1本以上の細長いロッドが前記支持表面の1つ以上のアパーチャを介して前記支持表面から突き出す第2の位置との間で、変位可能である、1本以上の細長いロッドと、
・前記1本以上の細長いロッドを少なくとも部分的に封入する、ハウジングと、
・前記第1の位置と前記第2の位置との間で前記1本以上の細長いロッドがほぼ摩擦なしで変位できるように構成された、ベアリングと、
・前記第1の位置と前記第2の位置との間で前記1本以上の細長いロッドを変位させるように構成された、アクチュエータと、
・前記1本以上の細長いロッドの縦軸を中心とする回転を制限するように構成されたロッキング機構であって、自己整合ベアリングを備え、前記自己整合ベアリングは、前記細長いロッドに接続された第1の部材と、前記ハウジングに接続され、前記自己整合ベアリングを形成するために前記第1の部材と協働する第2の部材とを有し、前記第1の部材は第1のベアリング表面を備え、前記第2の部材は第2のベアリング表面を備え、前記第1及び第2のベアリング表面は、前記1本以上の細長いロッドの前記縦軸を中心とする前記回転を制限するように構築及び構成され、前記第1及び第2のベアリング表面のうちの少なくとも1つは、前記第2の表面に対して前記第1の表面を自己整合して提供するように変位可能である、ロッキング機構と、
を備える、オブジェクトテーブル。 - 前記ベアリング及び前記自己整合ベアリングはガスベアリングであり、共通のガス供給を有する、請求項4に記載のオブジェクトテーブル。
- 前記ベアリングは、前記縦軸に沿って配置された円筒ガスベアリングのペアを含み、前記アクチュエータは、前記縦軸に沿って前記円筒エアベアリングのペア間に配置される、請求項1〜5のいずれか一項に記載のオブジェクトテーブル。
- 前記アクチュエータは、前記ハウジングに取り付けられたコイルアセンブリと、前記1本以上の細長いロッドに取り付けられた永久磁石アセンブリとを備える、電磁アクチュエータである、請求項1〜6のいずれか一項に記載のオブジェクトテーブル。
- 前記リフティング機構は、前記支持方向での前記1本以上の細長いロッドに対する前記ハウジングの位置を測定するための位置測定システムをさらに備える、請求項1〜7のいずれか一項に記載のオブジェクトテーブル。
- 前記1本以上の細長いロッドの端部は、真空吸引を用いて前記オブジェクトを保持するように構成される、請求項1〜8のいずれか一項に記載のオブジェクトテーブル。
- 放射ビームを調整するように構成された照明システムと、
パターニングデバイスを支持するように構築された支持体であって、前記パターニングデバイスはパターン付き放射ビームを形成するために前記放射ビームの断面にパターンを付与することが可能である、支持体と、
基板を保持するように構築された基板テーブルと、
前記パターン付き放射ビームを前記基板のターゲット部分上に投影するように構成された投影システムと、
を備える、リソグラフィ装置であって、
前記支持体及び/又は支持テーブルは、前記それぞれのパターニングデバイス及び/又は前記基板を支持するための前記請求項のいずれか一項に従ったオブジェクトテーブルを備える、
リソグラフィ装置。 - 放射のパターン付きビームを基板上に投影することを含む、デバイス製造方法であって、請求項1から9のいずれか一項に従い、基板をオブジェクトテーブル上にロードするステップをさらに含む、デバイス製造方法。
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