JP2017198607A - パターン欠陥検査方法およびパターン欠陥検査装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】チップ毎に、収集されたチップアドレスユニットAUとスケール率とを乗じることで、各チップの実AUを算出する。各チップの実AUに基づいて最大公約数AUを算出し、最大公約数AUが閾値より大きいか否かを判定する。閾値は、例えば、各チップパターンの実AUに応じた値である。最大公約数AUが閾値より大きい場合、最大公約数AUを使用AUに決定し、最大公約数AUが閾値以下である場合、同一AUを使用AUに決定する。再フラクチャリング回路は、同一AUを算出可能なチップ毎のチップAUを有するように設計データを変更する。変更後の設計データのうち、チップAUとスケール率とをチップ毎に読み出して両者を掛け合わせることで、チップ毎の同一AUを算出する。設計データを収集した後、決定された使用AUを用いてパターンの欠陥検査を実施する。
【選択図】図2
Description
図1は、第1の実施形態のパターン欠陥検査システム1を示す図である。図1のパターン欠陥検査システム1は、複数のパターン群を有する検査対象物の一例であるマスク2のパターンの欠陥を検査するために用いることができる。
次に、図1のパターン欠陥検査システム1を適用したパターン欠陥検査方法について説明する。図2は、第1の実施形態のパターン欠陥検査方法を示すフローチャートである。図3は、第1の実施形態のパターン欠陥検査方法を示す斜視図である。第1の実施形態のパターン欠陥検査方法では、図3の破線矢印に示す方向に検査領域201のストライプ202が連続的にスキャンされるように、XYθテーブル6を移動させる。XYθテーブル6を移動させながら、フォトダイオードアレイ8で撮像された光学画像に基づいてストライプ202上のパターンの欠陥を検査する。ストライプ202上には、複数のチップのそれぞれを反映した複数のパターン群203が設けられており、これらの複数のパターン群203に対して連続した検査を行う。なお、図3に示すパターン群203はあくまで一例に過ぎず、実際のパターン群は図3に対して大きさ、位置および形状が異なってよい。以下、パターンの欠陥検査の過程での使用AUの決定を中心に説明する。
次に、第2の実施形態として、図形の密集度を用いて使用AUを決定する実施形態について説明する。なお、第2の実施形態において、第1の実施形態に対応する構成部については、同一の符号を用いて重複した説明を省略する。図5は、第2の実施形態のパターン欠陥検査システム1を示す図である。
203 チップパターン
Claims (6)
- 複数のパターン群を有する検査対象物の設計データのうち、前記設計データ上のパターン群の単位寸法である第1アドレスユニットと、前記パターン群のスケール率とを前記パターン群毎に乗じることで、前記パターン群毎の第2アドレスユニットを算出し、
前記算出されたパターン群毎の第2アドレスユニットの最大公約数に相当する第3アドレスユニットを算出し、
前記算出された第3アドレスユニットが閾値より大きい場合に、前記設計データに基づいて、前記第3アドレスユニットを単位寸法とした図形で前記設計データ上のパターン群を表現した画像データを生成し、
前記生成された画像データに基づいて前記検査対象物のパターンの欠陥を検査するパターン欠陥検査方法。 - 前記算出された第3アドレスユニットが前記閾値以下の場合に、前記パターン群毎の第2アドレスユニットが同一値となるような前記パターン群毎の第1アドレスユニットを有するように前記設計データを変更する請求項1に記載のパターン欠陥検査方法。
- 前記同一値は、前記設計データの変更前に算出された前記パターン群毎の第2アドレスユニットの最小値である請求項2に記載のパターン欠陥検査方法。
- 前記パターン群毎の第2アドレスユニットは、収集経路を通じて前記設計データを保有する外部装置から収集した前記第1アドレスユニットおよび前記スケール率に基づいて算出し、
前記画像データは、前記収集経路を通じて前記外部装置から収集した前記設計データに基づいて生成し、
前記設計データの変更は、前記収集経路上に配置されたデータ変換装置で行う請求項2または3に記載のパターン欠陥検査方法。 - パターンを有する検査対象物の設計データに基づいて、前記検査対象物の所定の領域毎の前記パターンの密集度を算出し、
前記算出されたパターンの密集度に応じて、前記パターンを図形で表現する際の単位寸法である第4アドレスユニットを決定し、
前記決定された第4アドレスユニットを単位寸法とした図形で前記設計データ上のパターンを表現した画像データを生成し、
前記生成された画像データに基づいて前記検査対象物のパターンの欠陥を検査するパターン欠陥検査方法。 - 複数のパターン群を有する検査対象物の設計データのうち、前記設計データ上のパターン群の単位寸法である第1アドレスユニットと、前記パターン群のスケール率とを前記パターン群毎に乗じることで、前記パターン群毎の第2アドレスユニットを算出する第1算出部と、
前記算出されたパターン群毎の第2アドレスユニットの最大公約数に相当する第3アドレスユニットを算出する第2算出部と、
前記算出された第3アドレスユニットが閾値より大きい場合に、前記設計データに基づいて、前記第3アドレスユニットを単位寸法とした図形で前記設計データ上のパターン群を表現した画像データを生成する生成部と、
前記生成された画像データに基づいて前記検査対象物のパターンの欠陥を検査する検査部と、を備えるパターン欠陥検査装置。
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JP2019139022A (ja) * | 2018-02-08 | 2019-08-22 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 検査装置および検査方法 |
US11443419B2 (en) | 2019-03-13 | 2022-09-13 | Nuflare Technology, Inc. | Reference image generation method and pattern inspection method |
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