JP2016207971A - マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法 - Google Patents
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Abstract
Description
24、26 電極
28 誤り検出回路
41 制御回路
60 第1バッファ
62 第2バッファ
100 描画装置
101 試料
105 XYステージ
110 制御計算機
112 メモリ
150 描画部
160 制御部
200 電子ビーム
204 ブランキングプレート
Claims (5)
- 試料を載置する、連続移動可能なステージと、
荷電粒子ビームを放出する放出部と、
複数の開口部が形成され、前記複数の開口部全体が含まれる領域に前記荷電粒子ビームの照射を受け、前記複数の開口部を前記荷電粒子ビームの一部がそれぞれ通過することにより、マルチビームを形成するアパーチャ部材と、
前記アパーチャ部材の複数の開口部を通過したマルチビームのうち、それぞれ対応するビームのオン/オフを切り替えるブランキング偏向を行う複数のブランカが配置されたブランキングプレートと、
ブランキング偏向されたビームを、前記ステージの移動に追従して各ビームの描画位置に偏向する偏向器と、
ビーム毎に、複数回のショットの各々について、ビームのオン/オフを切り替えるブランキング制御データを生成し、前記ブランキング制御データを前記ブランキングプレートへ送信すると共に、各ビームが対応する描画位置に偏向されるように前記偏向器を制御する制御部と、
前記ブランキングプレートへ送信した前記ブランキング制御データを記憶する記憶部と、
を備え、
前記ブランキングプレートは、
各ブランカに対応し、直列接続された複数の第1バッファと、
前記第1バッファと、前記第1バッファに対応するブランカとの間で直列接続された複数段の第2バッファと、
前記第1バッファ及び各段の第2バッファに格納されているデータのエラー検出を行う誤り検出部と、
を有し、
前記ブランキング制御データが、前記第1バッファ及び前記第2バッファを介して対応するブランカに転送されるようになっており、
前記制御部は、前記誤り検出部によりエラーが検出された場合、該エラーが検出されたショット、及びこのショットよりショット順序が後のショットについて、ブランキング制御データを前記ブランキングプレートへ再送することを特徴とするマルチ荷電粒子ビーム描画装置。 - 請求項1において、前記制御部は、各ショットのブランキング制御データが、前記第1バッファ、又は前記複数段の第2バッファの何段目まで転送されているかを監視することを特徴とするマルチ荷電粒子ビーム描画装置。
- 請求項1又は2において、前記ブランキング制御データの再送と並行して、前記エラーが検出されたショットよりショット順序が前のショットについての描画を行うことを特徴とするマルチ荷電粒子ビーム描画装置。
- 請求項1乃至3のいずれかにおいて、前記制御部は、前記偏向器がビームを所定の描画位置へ偏向できなくなると判定した場合、描画を中断し、ステージ位置を戻すリカバー処理を行うことを特徴とするマルチ荷電粒子ビーム描画装置。
- 荷電粒子ビームによるマルチビームのビーム毎に、複数回のショットの各々について、ビームのオン/オフを切り替えるブランキング制御データをブランキングプレートへ出力する工程と、
前記ブランキング制御データを、各ブランカに対応し、直列接続された複数の第1バッファ、及び前記第1バッファと、前記第1バッファに対応するブランカとの間で直列接続された複数段の第2バッファを順次転送させる工程と、
ブランカが、前記第1バッファ及び前記第2バッファを介して転送されてきた前記ブランキング制御データに基づいて、ビームのオン/オフ切り替えを行う工程と、
前記第1バッファ及び各段の第2バッファに格納されているデータのエラー検出を行う工程と、
エラーが検出された場合、該エラーが検出されたショット、及びこのショットよりショット順序が後のショットについて、ブランキング制御データを前記ブランキングプレートへ再送する工程と、
を備えるマルチ荷電粒子ビーム描画方法。
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