JP2016138661A - Guide device, exposure device and manufacturing method of article - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、案内装置、露光装置および物品の製造方法に関する。 The present invention relates to a guide device, an exposure apparatus, and an article manufacturing method.
半導体デバイス等の製造に用いられる露光装置には、半導体集積回路における回路パターンの微細化や高集積化に伴って、高精度な微細加工技術が要求されている。このような露光装置は、基板を保持した基板ステージを駆動する駆動装置を備え、駆動装置は、基板ステージの移動を案内する案内装置を備えている。 An exposure apparatus used for manufacturing a semiconductor device or the like is required to have a highly accurate fine processing technique as a circuit pattern in a semiconductor integrated circuit is miniaturized and highly integrated. Such an exposure apparatus includes a drive device that drives a substrate stage holding a substrate, and the drive device includes a guide device that guides the movement of the substrate stage.
案内装置は、一般的に、基台の上に支持されて基板ステージが移動する方向と平行に備えられた案内部材と、基板ステージを支持して案内部材に沿って移動する移動部材とを備えている。かかる案内装置は、基板ステージが移動する際に発生する基板ステージの回転(ピッチングやヨーイングなど)を抑制し、基板ステージを滑らかに移動させることができる。しかし、このような案内装置では、移動部材が移動する際に案内部材と移動部材とが擦れるため、擦れた部分からパーティクルが発生する。そして、発生したパーティクルが案内装置の外部に飛散してしまうと、パーティクルが基板やパターンに付着してパターン欠損や歩留り低下などを引き起こし、露光装置における高精度な微細加工を阻害してしまう。そこで、移動部材の移動方向の端部にカバーを取り付けることでパーティクルの飛散を防止する技術が提案されている(特許文献1参照)。 In general, a guide device includes a guide member supported on a base and provided parallel to a direction in which the substrate stage moves, and a moving member that supports the substrate stage and moves along the guide member. ing. Such a guide device can suppress the rotation (pitching, yawing, etc.) of the substrate stage that occurs when the substrate stage moves, and can move the substrate stage smoothly. However, in such a guide device, when the moving member moves, the guide member and the moving member rub against each other, so that particles are generated from the rubbed portion. When the generated particles are scattered outside the guide device, the particles adhere to the substrate or the pattern, causing a pattern defect or a decrease in yield, thereby hindering high-precision fine processing in the exposure apparatus. Therefore, a technique for preventing scattering of particles by attaching a cover to the end of the moving member in the moving direction has been proposed (see Patent Document 1).
しかしながら、移動部材の移動方向の端部にカバーを取り付けただけでは、案内部材と移動部材との間から発生したパーティクルがカバーの内部で飛び続けてしまう。そのため、パーティクルが飛ぶ方向によっては、カバーと案内部材もしくは基台との隙間からカバーの外部にパーティクルが飛散してしまうという問題がある。このように、従来の技術では、パーティクルの飛散を防止する効果が不十分であった。 However, if the cover is only attached to the end of the moving member in the moving direction, particles generated between the guide member and the moving member will continue to fly inside the cover. Therefore, depending on the direction in which the particles fly, there is a problem that the particles are scattered outside the cover from the gap between the cover and the guide member or the base. Thus, in the conventional technique, the effect of preventing the scattering of particles was insufficient.
そこで、本発明は、案内装置において、パーティクルの飛散を防止する上で有利な技術を提供することを目的とする。 Therefore, an object of the present invention is to provide a technique advantageous in preventing scattering of particles in a guide device.
上記目的を達成するために、本発明の一側面としての駆動装置は、基台の第1面上に配置された案内部材と、前記案内部材の延伸方向である第1方向に沿って移動可能な移動部材と、を有する案内装置であって、前記移動部材に固定されて前記移動部材とともに移動する複数の第1板部材および複数の第2板部材を含み、前記複数の第1板部材は、前記移動部材に対して前記第1方向側に設けられ、それぞれが前記第1面と対面する部分から前記第1面と交差する方向に延伸した延伸面を有し、前記複数の第2板部材は、前記移動部材に対して、前記第1面に沿う方向であり且つ前記第1方向と交差する第2方向側に設けられ、それぞれが前記第1面と対面する部分から前記第1面と交差する方向に延伸した延伸面を有し、前記複数の第1板部材は前記第1方向に互いに離隔して配置され、前記複数の第2板部材は前記第2方向に互いに離隔して配置されていることを特徴とする。 In order to achieve the above object, a drive device according to one aspect of the present invention is movable along a guide member disposed on a first surface of a base and a first direction that is an extension direction of the guide member. A plurality of first plate members and a plurality of second plate members that are fixed to the moving member and move together with the moving member, wherein the plurality of first plate members are A plurality of second plates, each having a stretched surface provided on the first direction side with respect to the moving member, each extending in a direction intersecting the first surface from a portion facing the first surface. The member is provided on the second direction side that is in a direction along the first surface and intersects the first direction with respect to the moving member, and each of the first surface from a portion facing the first surface. A plurality of first plates having a stretched surface extending in a direction intersecting with the plurality of first plates Timber are spaced apart from each other in the first direction, the plurality of second plate member is characterized by being spaced apart from each other in the second direction.
本発明によれば、案内装置において、パーティクルの飛散を防止する上で有利な技術を提供することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, in a guide apparatus, the technique advantageous when preventing scattering of a particle can be provided.
以下、添付図面を参照して、本発明の好適な実施の形態について説明する。なお、各図において、同一の部材については同一の参照番号を付し、重複する説明は省略する。 DESCRIPTION OF EXEMPLARY EMBODIMENTS Hereinafter, preferred embodiments of the invention will be described with reference to the accompanying drawings. In addition, in each figure, the same reference number is attached | subjected about the same member and the overlapping description is abbreviate | omitted.
<第1実施形態>
本発明の第1実施形態の案内装置5について、図1を参照して説明する。図1は、本発明の第1実施形態の案内装置5を備えた駆動装置100を示す図である。駆動装置100は、基台1と、ねじ部材2と、ナット部材3と、基板ステージ4とを備える。また、駆動装置100は、基板ステージ4の移動を案内するための案内装置5と、ねじ部材2を回転駆動させるためのモーター8とを備える。
<First Embodiment>
A
ねじ部材2は、棒状に形成されており、ねじ部材2の側面には、ねじ溝が螺旋状に形成されている。また、ねじ部材2は、ねじ部材2の両端部において基台1に固定された支持台9よって回転自在に支持され、ねじ部材2の一方の端部がモーター8に接続されている。そのため、モーター8に信号が供給されてモーター8が駆動すると、ねじ部材2が回転軸を中心に回転する。
The
ナット部材3は、円筒状に形成されており、ナット部材3の中心を貫通するねじ部材2に螺合している。ナット部材3の内側には、ねじ部材2のねじ溝と同じ間隔のねじ溝が形成されており、ナット部材3のねじ溝とねじ部材2のねじ溝との間には転動体が備えられている。この転動体により、ねじ部材2が回転したときに、ナット部材3がねじ部材2の回転軸に沿って摺動することができる。また、ナット部材3は、基板ステージ4を支持しており、ナット部材3がねじ部材2の回転軸に沿って摺動することで、基板ステージ4をねじ部材2の回転軸方向に駆動することができる。
The
案内装置5は、基板ステージ4が移動する際に発生する基板ステージ4の回転(ピッチングやヨーイングなど)を抑制して、基板ステージ4を滑らかに移動させるために備えられており、案内部材6と移動ユニット7とで構成される。案内部材6は、下面の全面が基台1(の第1面上)に固定されており、基板ステージ4が移動する範囲にわたって、ねじ部材2の回転軸方向と平行になるように、ねじ部材2の両側に配置されている。案内部材6の側面には、移動ユニット7を案内部材6に沿って移動させるための溝11が形成されており、後述する転動体12が案内部材6に形成された溝11に配置される。また、移動ユニット7は、基板ステージ4を支持しており、基板ステージ4の移動に伴い、案内部材6に沿って移動する。
The
ここで、第1実施形態の案内装置5における移動ユニット7について、図2を参照して説明する。図2は、第1実施形態の案内装置5における移動ユニット7の構成を示す仰瞰図(基台1は図示せず)である。移動ユニット7は、移動部材20とカバーユニット30とで構成されている。移動部材20は、案内部材6の上面および側面を囲うように構成されており、案内部材6(の延伸方向(第1方向))に沿って移動可能である。移動部材20の内側には、案内部材6に形成された溝11に対応する溝21が形成されており、移動部材20に形成された溝21と案内部材6に形成された溝11との間には転動体12が備えられている。この転動体12により、基板ステージ4が移動したときに、移動部材20が案内部材6に沿って滑らかに移動することができる。しかし、転動体12によって移動部材20が案内部材6に沿って滑らかに移動できたとしても、案内部材6と移動部材20と転動体12との擦れは防止できないため、擦れた部分からパーティクル13が発生してしまう。そして、発生したパーティクル13が案内装置5の外部へ飛散し、例えば、案内装置5を有する露光装置内に混入すると、パターン欠損や歩留り低下などを引き起こし、露光装置における高精度な微細加工を阻害してしまう。そこで、第1実施形態の駆動装置100における移動ユニット7は、パーティクル13の飛散を防止するためにカバーユニット30を備えている。
Here, the moving unit 7 in the
カバーユニット30は、移動部材20の移動方向(±X方向)の側面に配置された第1カバーユニット30aと、移動部材20の移動方向と直交する方向(±Y方向)の側面に配置された第2カバーユニット30bとを有する。第1カバーユニット30aと第2カバーユニット30bは、移動部材20の側面を取り囲んで一体になるように構成されており、移動部材20と案内部材6との間から発生したパーティクル13が飛散することを防止している。以下に、第1カバーユニット30aおよび第2カバーユニット30bの構成について図3および図4を参照してそれぞれ説明する。
The
まず、第1カバーユニット30aについて図3を参照して説明する。図3は、第1実施形態の案内装置5における移動ユニット7を案内部材6の側面方向(Y方向)から見たときの断面図である。図3において、一点破線より右側は案内部材6上における断面図であり、一点破線より左側は案内部材6よりすぐ手前における断面図である。第1カバーユニット30aは、移動部材20の移動方向(±X方向)に(第1方向側に)、移動部材20を挟んで対になるように配置されている。また、第1カバーユニット30aは、第1カバー部材31a(第1固定部材)と、複数の第1板部材32aと、複数の第1スペーサ34a(第1固定部材)とを備え、それらをユニット化している。
First, the
第1カバー部材31aは、移動部材20から移動部材の移動方向(±X方向)に突出し、基台1に対面する第1部分35aと、移動部材20の上面に接続された第1接続部36aとを含んでいる。ここで、第1カバー部材31aの第1接続部36aは、第1部分35aを移動部材20に接続できればよいため、移動部材20の上面の一部のみに接続するように構成してもよいし、移動部材20の側面に接続するように構成してもよい。また、第1部分35aを移動部材20に直接接続できる場合には、第1カバー部材31aは、第1接続部36aを備えずに、第1部分35aのみで構成してもよい。
The
第1板部材32a(延伸面)は、基台1と隙間を介して対面している端部(部分)から第1カバー部材31aの第1部分35aに向けて延び(延伸し)、第1部分35aに接続するように構成されている。また、第1板部材32aには、案内部材6を貫通させるための切欠部33が形成されており、案内部材6の上面および側面を囲むような逆凹形状となっている。第1板部材32aに形成された切欠部33は、移動ユニット7が移動する際に第1板部材32aが案内部材6と接触しないように、即ち、第1板部材32aと案内部材6との間に隙間ができるように構成されている。このような第1板部材32aは複数枚用いられ、複数の第1板部材32aのそれぞれは、移動部材20から離れる方向に、即ち、移動部材20の移動方向(±X方向)に相互に離隔して配置されている。なお、複数の第1板部材32aを、後述する第1スペーサ34aによって移動部材20に固定できる場合は、第1カバー部材31aを用いなくてもよい。
The first plate member 32a (extension surface) extends (extends) from the end (part) facing the
第1スペーサ34aは、移動部材20の移動方向(±X方向)に離隔して配置された複数の第1板部材32aの間(以下、複数の第1板部材32aにおける隙間とする)に挿入される。また、第1スペーサ34aは、基台側に開放した逆凹形状をしており、複数の第1板部材32aにおける間隔を一定値(ピッチp)に保っている。なお、複数の第1板部材32aにおける隙間が第1カバー部材31aによって一定値に保つことができる場合には、第1スペーサ34aを用いなくてもよい。
The
次に、第2カバーユニット30bについて図4を参照して説明する。図4は、第1実施形態の案内装置5における移動ユニット7を移動部材20の移動方向(−X方向)から見たときの断面図である。第2カバーユニット30bは、移動部材20の移動方向と直交する方向(±Y方向)に(第1面に沿う方向であり且つ第1方向と交差する第2方向側に)、移動部材20を挟んで対になるように配置されている。また、第2カバーユニット30bは、第2カバー部材31b(第2固定部材)と、複数の第2板部材32bと、複数のスペーサ34b(第2固定部材)とを備え、それらをユニット化している。なお、第2カバーユニット30bが配置される方向は、移動部材20の移動方向と直交する方向(±Y方向)に限定するものではなく、移動部材20の移動方向と異なる方向であればよい。
Next, the
第2カバー部材31bは、移動部材20から移動部材20の移動方向と直交する方向(±Y方向)に突出し、基台1に対面する第2部分35bと、移動部材20の上面に接続された第2接続部36bとを含んでいる。ここで、第2カバー部材31bの第2接続部36bは、第2部分35bを移動部材20に接続できればよいため、移動部材20の上面の一部のみに接続するように構成してもよいし、移動部材20の側面に接続するように構成してもよい。また、第2部分35bを移動部材20に直接接続できる場合には、第2カバー部材31bは、第2接続部36bを備えずに、第2部分35bのみで構成してもよい。
The
第1実施形態のカバーユニット30では、第1カバー部材31aと第2カバー部材31bとが一体的に(即ち、同一部材で)構成されているため、第1接続部36aと第2接続部36bとは共通した部材として構成されている。但し、第1カバー部材31aと第2カバー部材31bとが相互に独立して構成される場合には、第1カバー部材31aおよび第2カバー部材31bは、第1接続部36aおよび第2接続部36bをそれぞれ含むように構成される。この場合、第1接続部36aおよび第2接続部36bは、相互に独立した部材となり、第1接続部36aおよび第2接続部36bを介して第1カバー部材31aおよび第2カバー部材31bのそれぞれが移動部材20に接続される。
In the
第2板部材32b(延伸面)は、基台1と隙間を介して対面している端部(部分)から第2カバー部材31bの第2部分35bに向けて延び(延伸し)、第2部分35bに接続するように構成されている。このような第2板部材32bは複数枚用いられ、複数の第2板部材32bのそれぞれは、移動部材20から離れる方向に、即ち、移動部材20の移動方向と直交する方向(±Y方向)に相互に離隔して配置されている。なお、複数の第2板部材32bを、後述する第2スペーサ34bによって移動部材20に固定できる場合は、第2カバー部材31bを用いなくてもよい。
The
第2スペーサ34bは、移動部材20の移動方向と直交する方向(±Y方向)に離隔して配置された複数の第2板部材32bの間(以下、複数の第2板部材32bにおける隙間とする)に挿入される。また、第2スペーサ34bは、基台側に開放した逆凹形状をしており、複数の第2板部材32bにおける間隔を一定値(ピッチp)に保っている。なお、複数の第2板部材32bにおける隙間が第2カバー部材31bによって一定値に保つことができる場合は、第2スペーサ34bを用いなくてもよい。
The
このように構成された第1カバーユニット30aおよび第2カバーユニット30bは、±X方向および±Y方向に飛散するパーティクル13をそれぞれトラップすることができる。即ち、第1実施形態の案内装置5は、案内部材6と移動部材20との間から発生したパーティクル13が案内装置5の外部に飛散することを防止する。なお、第1カバーユニット30aおよび第2カバーユニット30bは、移動部材20に着脱可能に構成してもよい。また、第1カバーユニット30aと第2カバーユニット30bとは、互いに着脱可能に構成してもよい。
The
ここで、カバーユニット30がパーティクル13の飛散を防止する作用について図5を参照して説明する。図5(a)は、案内部材6と移動部材20との間から発生したパーティクル13が第2カバーユニット30bの外部に飛散する様子を示した図である。パーティクル13の入射角θがtanθ=2g/pを満たすとき、パーティクル13は、複数の第2板部材32bの基台側の端面と基台1との間で反射を繰り返しながら第2カバーユニット30bの外部に飛散してしまう。ここで、pは複数の第2板部材32bにおける間隔(ピッチ)であり、gは第2板部材32bの基台側の端面と基台1との隙間である。しかし、このような条件を満たすパーティクル13が発生することは極めて稀であり、大抵の場合は、図5(b)に示すように、パーティクル13は複数の第2板部材32bにおける隙間37に入り込む。図5(b)は、案内部材6と移動部材20との間から発生したパーティクル13が複数の第2板部材32bにおける隙間37に入り込む様子を示した図である。隙間37に入り込んだパーティクル13は、複数の第2板部材32b(移動部材20も含む)や第2スペーサ34bで多数回の反射を繰り返すため、パーティクル13の運動エネルギーが徐々に減衰される。その結果、パーティクル13は複数の第2板部材32bや第2スペーサ34bにトラップされ、移動ユニット7の外部に飛散することが殆どなくなる。
Here, the effect | action which the
案内部材6と移動部材20との間から発生するパーティクル13が移動ユニット7の外部に飛散することをより少なくするためには、第2板部材32bの基台側の端面と基台1との隙間gを小さくするとよい。これにより、入射角θが小さいパーティクル13しか隙間gを通過できなくなり、パーティクル13の飛散を更に防止することができる。また、第2カバーユニット30bにおいて第2板部材32bの数が多いほど、および第2板部材32bの外側の寸法が大きいほど、パーティクル13の飛散の防止効果を高めることができるが、移動ユニット7の大型化を招いてしまう。そのため、移動ユニット7の大きさを考慮して、第2板部材32bの数および外側の寸法を設定するとよい。さらに、第2カバー部材31bと複数の第2板部材32bと第2スペーサ34bとを有する第2カバーユニット30bを、機械加工などにより一つの部品としてユニット化することもできる。なお、図5では、案内部材6と移動部材20の間から±Y方向にパーティクル13が発生した場合について説明したが、移動部材20の移動方向(±X方向)にパーティクル13が発生した場合においても同様である。この場合は、パーティクル13は第1カバーユニット30aにトラップされるため、第1カバーユニット30aも上述した第2カバーユニットと同様に構成するとよい。
In order to further reduce the scattering of
上述したように、第1実施形態の案内装置5は、案内部材6と移動部材20との間から発生したパーティクル13を、カバーユニット30の中に入り込ませてトラップすることができる。従って、第1実施形態の案内装置5では、パーティクル13が案内装置5の外部に飛散することを大幅に減らすことができる。
As described above, the
<露光装置の実施形態>
本発明の実施形態にかかる案内装置を有する露光装置200について、図6を参照して説明する。図6は、本発明の露光装置200の構成を示す概略図である。本発明の露光装置200は、マスク40のパターンを基板41(例えば、ガラス基板や半導体基板)に投影して基板を露光するように構成される。露光装置200は、マスク40に光を照射する照明光学系42と、マスク40を保持するマスクステージ43と、基板41を保持する基板ステージ4と、マスク40のパターンを基板41に投影する投影光学系44と、駆動装置100とを備える。駆動装置100は、ねじ部材2とナット部材3と案内装置5とを含み、基板ステージ4を駆動する。ねじ部材2は、基台1の上に支持されており、モーター8が駆動することによって回転軸を中心に回転する。ナット部材3は、基板ステージ4を支持しており、ねじ部材2が回転することによって、ねじ部材2の回転軸に沿って基板ステージ4を駆動可能にする。案内装置5は、基台1の上に配置された案内部材6と、基板ステージ4を支持すると共に、基板ステージ4の移動に伴って案内部材6に沿って移動可能な移動部材20とを有する。そして、移動部材20は、第1実施形態の案内装置5と同様に、案内装置5から発生するパーティクルが飛散することを防止するカバーユニット30を備えている。
<Embodiment of exposure apparatus>
An
このように構成された露光装置200は、上述したように、駆動装置100が備える案内装置5がカバーユニット30を備えているため、案内装置5から発生するパーティクルが飛散することを防止している。従って、露光装置200では、露光時にパーティクルが基板やマスクに付着することが低減され、パターン欠損や歩留り低下などを抑制することができる。換言すれば、露光装置200は、高精度な微細加工を実現することができる。
As described above, the
<物品の製造方法の実施形態>
本発明の実施形態にかかる物品の製造方法は、例えば、半導体デバイス等のマイクロデバイスや微細構造を有する素子等の物品を製造するのに好適である。本実施形態の物品の製造方法は、基板に塗布された感光剤に上記の露光装置を用いて潜像パターンを形成する工程(基板に描画を行う工程)と、かかる工程で潜像パターンが形成された基板を現像する工程とを含む。更に、かかる製造方法は、他の周知の工程(酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等)を含む。本実施形態の物品の製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも1つにおいて有利である。
<Embodiment of Method for Manufacturing Article>
The method for manufacturing an article according to an embodiment of the present invention is suitable, for example, for manufacturing an article such as a microdevice such as a semiconductor device or an element having a fine structure. In the method for manufacturing an article according to the present embodiment, a latent image pattern is formed on the photosensitive agent applied to the substrate using the above exposure apparatus (a step of drawing on the substrate), and the latent image pattern is formed in this step. Developing the processed substrate. Further, the manufacturing method includes other well-known steps (oxidation, film formation, vapor deposition, doping, planarization, etching, resist stripping, dicing, bonding, packaging, and the like). The method for manufacturing an article according to the present embodiment is advantageous in at least one of the performance, quality, productivity, and production cost of the article as compared with the conventional method.
以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されないことはいうまでもなく、その要旨の範囲内で種々の変形および変更が可能である。 As mentioned above, although preferred embodiment of this invention was described, it cannot be overemphasized that this invention is not limited to these embodiment, A various deformation | transformation and change are possible within the range of the summary.
1:基台、2:ねじ部材、3:ナット部材、4:基板ステージ、5:案内装置、30:カバーユニット、100:駆動装置 1: base, 2: screw member, 3: nut member, 4: substrate stage, 5: guide device, 30: cover unit, 100: drive device
Claims (9)
前記移動部材に固定されて前記移動部材とともに移動する複数の第1板部材および複数の第2板部材を含み、
前記複数の第1板部材は、前記移動部材に対して前記第1方向側に設けられ、それぞれが前記第1面と対面する部分から前記第1面と交差する方向に延伸した延伸面を有し、
前記複数の第2板部材は、前記移動部材に対して、前記第1面に沿う方向であり且つ前記第1方向と交差する第2方向側に設けられ、それぞれが前記第1面と対面する部分から前記第1面と交差する方向に延伸した延伸面を有し、
前記複数の第1板部材は前記第1方向に互いに離隔して配置され、前記複数の第2板部材は前記第2方向に互いに離隔して配置されていることを特徴とする案内装置。 A guide device having a guide member disposed on a first surface of a base and a movable member movable along a first direction which is an extending direction of the guide member,
Including a plurality of first plate members and a plurality of second plate members fixed to the moving member and moving together with the moving member;
The plurality of first plate members are provided on the first direction side with respect to the moving member, and each of the first plate members has an extending surface extending in a direction intersecting the first surface from a portion facing the first surface. And
The plurality of second plate members are provided on a second direction side that is in a direction along the first surface and intersects the first direction with respect to the moving member, and each of the second plate members faces the first surface. Having a stretched surface stretched in a direction intersecting the first surface from a portion;
The plurality of first plate members are spaced apart from each other in the first direction, and the plurality of second plate members are spaced apart from each other in the second direction.
前記基板ステージを駆動する駆動装置を備え、
前記駆動装置は、基台の上に支持されたねじ部材と、前記基板ステージを支持し、前記ねじ部材の回転軸に沿って前記基板ステージを駆動可能なナット部材と、前記基板ステージを支持して前記基板ステージの移動を案内する請求項1乃至7のうちいずれか1項に記載の案内装置と、を有することを特徴とする露光装置。 An exposure apparatus that exposes a substrate held on a substrate stage,
A driving device for driving the substrate stage;
The driving device supports a screw member supported on a base, the substrate stage, a nut member capable of driving the substrate stage along a rotation axis of the screw member, and the substrate stage. An exposure apparatus comprising: the guide device according to claim 1 that guides movement of the substrate stage.
前記ステップで露光された前記基板を現像するステップと、
を有することを特徴とする物品の製造方法。 Exposing the pattern formed on the mask to the substrate using the exposure apparatus according to claim 8;
Developing the substrate exposed in the step;
A method for producing an article comprising:
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016138661A true JP2016138661A (en) | 2016-08-04 |
JP6104426B2 JP6104426B2 (en) | 2017-03-29 |
Family
ID=56560120
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016077562A Active JP6104426B2 (en) | 2016-04-07 | 2016-04-07 | GUIDE DEVICE, EXPOSURE DEVICE, AND ARTICLE MANUFACTURING METHOD |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6104426B2 (en) |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1037956A (en) * | 1996-07-19 | 1998-02-13 | Mitsubishi Jidosha Tekunometaru Kk | Rear motion bearing with cover |
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-
2016
- 2016-04-07 JP JP2016077562A patent/JP6104426B2/en active Active
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6104426B2 (en) | 2017-03-29 |
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---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20170126 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
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