JP2016049325A - ビーム輸送装置の調整方法および粒子線治療システム - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、上記課題を解決する手段を複数含んでいるが、その一例を挙げるならば、荷電粒子を加速し、荷電粒子ビームとして取り出す加速器と、前記荷電粒子ビームを照射点まで輸送するビーム輸送装置と、前記加速器、前記ビーム輸送装置を制御する制御部とを備え、前記ビーム輸送装置は、前記照射点がその内部に存在する建屋に対して固定された固定輸送装置と、この固定輸送装置の下流に接続された回転輸送装置であって、前記建屋に対して回転自在に設置され、前記建屋に対して固定された前記照射点に対してその回転によって前記荷電粒子を照射する角度を回転自在に定める回転輸送装置とを有し、前記回転輸送装置の先の前記照射点にある照射対象に対して前記荷電粒子ビームを照射するための粒子線治療装置におけるビーム輸送装置の調整方法であって、前記回転輸送装置内のビームの進行方向に垂直な面内の直行する二方向のベータトロン振動の位相進みの差がπの整数倍となるよう、前記制御部における前記回転輸送装置の制御パラメータを調整することを特徴とする。
例えば、シグマ行列の(1,1)成分はX方向での軌道からのずれの分散であり、(2,2)成分はビームの発散角の分散である。また、(1,2)成分は(1,1)成分の軌道に沿った微分に比例する量であり、ビームサイズの位置変化を表す。ビームサイズは(1,1)成分の二乗根をとればビームの空間的な広がりを表すビームサイズとなる。Y方向についても同様の議論が成立する。
200…イオン源、
300…入射器、
400…シンクロトロン、
410…取り出し用偏向電磁石、
420…シンクロトロン出射点、
500…ビーム輸送装置、
510…固定輸送装置、
520…回転輸送装置、
530…輸送経路、
551〜554…偏向部、
561〜567…四極電磁石、
571〜577…四極電磁石、
600…回転ガントリー、
610…回転軸、
630…照射点、
700…照射装置、
800…制御装置、
810…HMI、
820…記憶装置、
830…データ処理装置、
850…電源。
Claims (6)
- 荷電粒子を加速し、荷電粒子ビームとして取り出す加速器と、
前記荷電粒子ビームを照射点まで輸送するビーム輸送装置と、
前記加速器、前記ビーム輸送装置を制御する制御部とを備え、
前記ビーム輸送装置は、
前記照射点がその内部に存在する建屋に対して固定された固定輸送装置と、
この固定輸送装置の下流に接続された回転輸送装置であって、前記建屋に対して回転自在に設置され、前記建屋に対して固定された前記照射点に対してその回転によって前記荷電粒子を照射する角度を回転自在に定める回転輸送装置とを有し、
前記回転輸送装置の先の前記照射点にある照射対象に対して前記荷電粒子ビームを照射するための粒子線治療装置におけるビーム輸送装置の調整方法であって、
前記回転輸送装置内のビームの進行方向に垂直な面内の直行する二方向のベータトロン振動の位相進みの差がπの整数倍となるよう、前記制御部における前記回転輸送装置の制御パラメータを調整する
ことを特徴とするビーム輸送装置の調整方法。 - 請求項1に記載のビーム輸送装置の調整方法において、
前記位相進みの差を、前記回転輸送装置中の荷電粒子ビームの形状の前記回転輸送装置の回転角に対する依存性を測定することで算出する
ことを特徴とするビーム輸送装置の調整方法。 - 請求項1に記載のビーム輸送装置の調整方法において、
前記位相進みの差を、この位相進みの差の余弦を前記荷電粒子ビームの傾き角の正接と前記回転輸送装置の回転角の正接の比として算出し、この位相進みの差の余弦から前記位相進みの差を算出する
ことを特徴とするビーム輸送装置の調整方法。 - 請求項1に記載のビーム輸送装置の調整方法において、
調整者は、前記制御部における前記回転輸送装置の制御パラメータ、前記位相進みの差をπの整数倍とするための調整過程の各種パラメータをインターフェイスによって確認する
ことを特徴とするビーム輸送装置の調整方法。 - 患者の患部に荷電粒子ビームを照射する粒子線治療システムであって、
前記荷電粒子を加速し、荷電粒子ビームとして取り出す加速器と、
前記荷電粒子ビームを照射点まで輸送するビーム輸送装置と、
前記加速器、前記ビーム輸送装置を制御する制御部とを備え、
前記ビーム輸送装置は、
前記照射点がその内部に存在する建屋に対して固定された固定輸送装置と、
この固定輸送装置の下流に接続された回転輸送装置であって、前記建屋に対して回転自在に設置され、前記建屋に対して固定された前記照射点に対してその回転によって前記荷電粒子を照射する角度を回転自在に定める回転輸送装置とを有し、
前記制御部は、前記回転輸送装置内のビームの進行方向に垂直な面内の直行する二方向のベータトロン振動の位相進みの差がπの整数倍となるよう調整された制御パラメータに基づいて前記回転輸送装置の制御を行う
ことを特徴とする粒子線治療システム。 - 請求項5に記載の粒子線治療装置において、
前記回転輸送装置の制御パラメータ、前記位相進みの差をπの整数倍とするための調整過程の各種パラメータを調整者が確認するためのインターフェイスを更に備えた
ことを特徴とする粒子線治療装置。
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JP2014176887A JP6488086B2 (ja) | 2014-09-01 | 2014-09-01 | ビーム輸送装置の調整方法および粒子線治療システム |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2023149170A1 (ja) * | 2022-02-04 | 2023-08-10 | 株式会社 東芝 | 粒子線治療システムの製造方法および粒子線治療システム |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11142596A (ja) * | 1997-08-28 | 1999-05-28 | Hitachi Ltd | 荷電粒子ビーム出射装置 |
JP2003282300A (ja) * | 2002-03-26 | 2003-10-03 | Hitachi Ltd | 粒子線治療システム |
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2014
- 2014-09-01 JP JP2014176887A patent/JP6488086B2/ja active Active
Patent Citations (2)
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JPH11142596A (ja) * | 1997-08-28 | 1999-05-28 | Hitachi Ltd | 荷電粒子ビーム出射装置 |
JP2003282300A (ja) * | 2002-03-26 | 2003-10-03 | Hitachi Ltd | 粒子線治療システム |
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WO2023149170A1 (ja) * | 2022-02-04 | 2023-08-10 | 株式会社 東芝 | 粒子線治療システムの製造方法および粒子線治療システム |
JP2023114436A (ja) * | 2022-02-04 | 2023-08-17 | 株式会社東芝 | 粒子線治療システムの製造方法および粒子線治療システム |
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