JP2014228670A - 焦点位置調整方法および検査方法 - Google Patents
焦点位置調整方法および検査方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2014228670A JP2014228670A JP2013107645A JP2013107645A JP2014228670A JP 2014228670 A JP2014228670 A JP 2014228670A JP 2013107645 A JP2013107645 A JP 2013107645A JP 2013107645 A JP2013107645 A JP 2013107645A JP 2014228670 A JP2014228670 A JP 2014228670A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pattern
- light
- image
- sample
- mask
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Automatic Focus Adjustment (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Studio Devices (AREA)
Abstract
Description
前記光源から前記試料を照明する光を出射して、前記照明光学系の瞳と共役な位置に設けられた開口絞りに入射させ、次いで、遮光パターンが設けられた第1の遮光部に入射させてから、前記遮光パターンと同一のパターンであって、前記遮光パターンとは光軸に垂直な平面上で重ならない位置に設けられたパターンを有し、前記光軸の方向に前記第1の遮光部とずれて配置された第2の遮光部に入射させて、前記第1の遮光部の像を前記試料のパターン面よりも前側に結像するとともに、前記第2の遮光部の像を前記試料のパターン面よりも後側に結像する工程と、
前記試料に投影された前記第1の遮光部の像を、前記対物レンズを介して、前記センサの前記試料のパターンの像を結像する第1の受光面と同一面上に設けられた第2の受光面に結像する工程と、
前記試料に投影された前記第2の遮光部の像を、前記対物レンズを介して、前記センサの前記試料のパターンの像を結像する第1の受光面と同一面上に設けられた第3の受光面に結像する工程と、
前記第2の受光面に結像された像のコントラストと、前記第3の受光面に結像された像のコントラストとに基づいて、焦点位置を検出する工程と、
前記開口絞りの開口部を第1の径としたときの前記第2の受光面に結像された像のコントラストと前記第3の受光面に結像された像のコントラストとの差分値と、前記開口絞りの開口部を前記第1の径より大きい第2の径としたときの前記第2の受光面に結像された像のコントラストと前記第3の受光面に結像された像のコントラストとの差分値とに基づいて、前記焦点位置の調整を行う工程とを有することを特徴とするものである。
前記開口絞りの開口部を前記第2の径としたときの前記第2の受光面に結像された像のコントラストと前記第3の受光面に結像された像のコントラストとの差分値とに基づいて、前記合焦位置の近傍まで近付けられた前記焦点位置の微調整を行う工程とを有することが好ましい。
前記焦点位置の調整を行う工程では、前記開口部の径を変えて、前記第1の径および前記第2の径にすることが好ましい。
前記光源から前記試料を照明する光を出射して、前記照明光学系の瞳と共役な位置に設けられた開口絞りに入射させ、次いで、遮光パターンが設けられた第1の遮光部に入射させてから、前記遮光パターンと同一のパターンであって、前記遮光パターンとは光軸に垂直な平面上で重ならない位置に設けられたパターンを有し、前記光軸の方向に前記第1の遮光部とずれて配置された第2の遮光部に入射させて、前記第1の遮光部の像を前記試料のパターン面よりも前側に結像するとともに、前記第2の遮光部の像を前記試料のパターン面よりも後側に結像する工程と、
前記試料に投影された前記第1の遮光部の像を、前記対物レンズを介して、前記センサの前記試料のパターンの像を結像する第1の受光面と同一面上に設けられた第2の受光面に結像する工程と、
前記試料に投影された前記第2の遮光部の像を、前記対物レンズを介して、前記センサの前記試料のパターンの像を結像する第1の受光面と同一面上に設けられた第3の受光面に結像する工程と、
前記第2の受光面に結像された像のコントラストと、前記第3の受光面に結像された像のコントラストとに基づいて、焦点位置を検出する工程と、
前記開口絞りの開口部を第1の径としたときの前記第2の受光面に結像された像のコントラストと前記第3の受光面に結像された像のコントラストとの差分値と、前記開口絞りの開口部を前記第1の径より大きい第2の径としたときの前記第2の受光面に結像された像のコントラストと前記第3の受光面に結像された像のコントラストとの差分値とに基づいて、前記焦点位置の調整を行う工程と、
前記焦点位置の調整を終えた後、前記開口絞りが除かれた前記照明光学系と、前記結像光学系とによって、前記試料のパターンの像を前記第1の受光面に結像する工程と、
前記第1の受光面に結像した像を用いて前記試料に形成されたパターンの欠陥検査を行う工程とを有することを特徴とするものである。
前記開口絞りの開口部を前記第2の径としたときの前記第2の受光面に結像された像のコントラストと前記第3の受光面に結像された像のコントラストとの差分値とに基づいて、前記合焦位置の近傍まで近付けられた前記焦点位置の微調整を行う工程とを有することが好ましい。
前記焦点位置の調整を行う工程では、前記開口部の径を変えて、前記第1の径および前記第2の径にすることが好ましい。
図1〜図7を用いて、本実施の形態による焦点位置調整方法を説明する。
本実施の形態では、ダイ−トゥ−データベース方式による検査方法を述べる。したがって、検査対象の光学画像と比較される基準画像は、設計パターンデータから生成された参照画像である。但し、本発明は、ダイ−トゥ−ダイ方式による検査方法にも適用可能であり、その場合の基準画像は、検査対象とは異なる光学画像になる。
まず、実施の形態1で述べたようにして、試料11に光源1からの光を照射して焦点位置を検出し、検出した位置が合焦位置となるように調整する。
(1)記憶工程
ダイ−トゥ−データベース比較方式による検査の場合、欠陥判定の基準となるのは、設計パターンデータから生成する参照画像である。検査装置100では、試料11のパターン形成時に用いた設計パターンデータが磁気ディスク装置109に記憶される。
展開工程においては、図8の展開回路111が、磁気ディスク装置109から制御計算機110を通して設計パターンデータを読み出し、読み出された試料11の設計パターンデータを2値ないしは多値のイメージデータ(設計画像データ)に変換する。このイメージデータは参照回路112に送られる。
フィルタ処理工程では、図8の参照回路112によって、図形のイメージデータである設計パターンデータに適切なフィルタ処理が施される。その理由は、次の通りである。
光学画像取得工程で取得されたマスク採取データは、センサ回路106から比較回路108へ送られる。また、参照回路112からは、参照データが比較回路108へ送られる。比較回路108では、マスク採取データと参照データとが、ダイ−トゥ−データベース方式によって比較される。具体的には、撮像されたストライプデータが検査フレーム単位に切り出され、検査フレーム毎に、欠陥判定の基準となるデータと適切な比較判定アルゴリズムを用いて比較される。そして、両者の差が所定の閾値を超える場合に欠陥と判定される。欠陥に関する情報は、マスク検査結果として保存される。例えば、制御計算機110によって、欠陥の座標、欠陥判定の根拠となった光学画像などが磁気ディスク装置109に保存される。
保存されたマスク検査結果は、レビュー装置に送られる。レビュー装置は、検査装置の構成要素の1つであってもよく、また、検査装置の外部装置であってもよい。レビューは、オペレータによって、検出された欠陥が実用上問題となるものであるかどうかを判断する動作である。オペレータは、例えば、欠陥判定の根拠となった基準画像と、欠陥が含まれる光学画像とを見比べて、修正の必要な欠陥であるか否かを判断する。
b 結像光学系
1 光源
2,4,5,8,12 レンズ
3 開口絞り
6,7 マスク
9 ハーフミラー
10 対物レンズ
11 試料
13 センサ
14 ステージ
15 光軸
201,202,203,204 ストライプ
100 検査装置
106 センサ回路
107 位置回路
108 比較回路
109 磁気ディスク装置
110 制御計算機
111 展開回路
112 参照回路
113 オートローダ制御回路
114 ステージ制御回路
115 ネットワークインターフェイス
116 フレキシブルディスク装置
117 液晶ディスプレイ
118 パターンモニタ
119 プリンタ
120 バス
122 レーザ測長システム
125 焦点位置調整回路
130 オートローダ
Claims (8)
- 光源の光を対物レンズを介して試料に照明する照明光学系と、前記試料で反射した光または前記試料を透過した光を前記対物レンズを介してセンサに結像する結像光学系とを有し、前記センサに結像した像を用いて、前記試料に形成されたパターンの欠陥検査を行う検査装置における焦点位置調整方法であって、
前記光源から前記試料を照明する光を出射して、前記照明光学系の瞳と共役な位置に設けられた開口絞りに入射させ、次いで、遮光パターンが設けられた第1の遮光部に入射させてから、前記遮光パターンと同一のパターンであって、前記遮光パターンとは光軸に垂直な平面上で重ならない位置に設けられたパターンを有し、前記光軸の方向に前記第1の遮光部とずれて配置された第2の遮光部に入射させて、前記第1の遮光部の像を前記試料のパターン面よりも前側に結像するとともに、前記第2の遮光部の像を前記試料のパターン面よりも後側に結像する工程と、
前記試料に投影された前記第1の遮光部の像を、前記対物レンズを介して、前記センサの前記試料のパターンの像を結像する第1の受光面と同一面上に設けられた第2の受光面に結像する工程と、
前記試料に投影された前記第2の遮光部の像を、前記対物レンズを介して、前記センサの前記試料のパターンの像を結像する第1の受光面と同一面上に設けられた第3の受光面に結像する工程と、
前記第2の受光面に結像された像のコントラストと、前記第3の受光面に結像された像のコントラストとに基づいて、焦点位置を検出する工程と、
前記開口絞りの開口部を第1の径としたときの前記第2の受光面に結像された像のコントラストと前記第3の受光面に結像された像のコントラストとの差分値と、前記開口絞りの開口部を前記第1の径より大きい第2の径としたときの前記第2の受光面に結像された像のコントラストと前記第3の受光面に結像された像のコントラストとの差分値とに基づいて、前記焦点位置の調整を行う工程とを有することを特徴とする焦点位置調整方法。 - 前記焦点位置の調整を行う工程は、前記開口絞りの開口部を前記第1の径としたときの前記第2の受光面に結像された像のコントラストと前記第3の受光面に結像された像のコントラストとの差分値を用いて、前記焦点位置を合焦位置の近傍まで近付ける工程と、
前記開口絞りの開口部を前記第2の径としたときの前記第2の受光面に結像された像のコントラストと前記第3の受光面に結像された像のコントラストとの差分値とに基づいて、前記合焦位置の近傍まで近付けられた前記焦点位置の微調整を行う工程とを有することを特徴とする請求項1に記載の焦点位置調整方法。 - 前記開口絞りは、開口部の径を可変可能な構成であり、
前記焦点位置の調整を行う工程では、前記開口部の径を変えて、前記第1の径および前記第2の径にすることを特徴とする請求項1または2に記載の焦点位置調整方法。 - 前記焦点位置の調整を行う工程では、前記第1の径の開口部を有する開口絞りと、前記第2の径の開口部を有する開口絞りとの2種類の開口絞りを用いることを特徴とする請求項1または2に記載の焦点位置調整方法。
- 光源の光を対物レンズを介して試料に照明する照明光学系と、前記試料で反射した光または前記試料を透過した光を前記対物レンズを介してセンサに結像する結像光学系とを有し、前記センサに結像した像を用いて、前記試料に形成されたパターンの欠陥検査を行う検査方法であって、
前記光源から前記試料を照明する光を出射して、前記照明光学系の瞳と共役な位置に設けられた開口絞りに入射させ、次いで、遮光パターンが設けられた第1の遮光部に入射させてから、前記遮光パターンと同一のパターンであって、前記遮光パターンとは光軸に垂直な平面上で重ならない位置に設けられたパターンを有し、前記光軸の方向に前記第1の遮光部とずれて配置された第2の遮光部に入射させて、前記第1の遮光部の像を前記試料のパターン面よりも前側に結像するとともに、前記第2の遮光部の像を前記試料のパターン面よりも後側に結像する工程と、
前記試料に投影された前記第1の遮光部の像を、前記対物レンズを介して、前記センサの前記試料のパターンの像を結像する第1の受光面と同一面上に設けられた第2の受光面に結像する工程と、
前記試料に投影された前記第2の遮光部の像を、前記対物レンズを介して、前記センサの前記試料のパターンの像を結像する第1の受光面と同一面上に設けられた第3の受光面に結像する工程と、
前記第2の受光面に結像された像のコントラストと、前記第3の受光面に結像された像のコントラストとに基づいて、焦点位置を検出する工程と、
前記開口絞りの開口部を第1の径としたときの前記第2の受光面に結像された像のコントラストと前記第3の受光面に結像された像のコントラストとの差分値と、前記開口絞りの開口部を前記第1の径より大きい第2の径としたときの前記第2の受光面に結像された像のコントラストと前記第3の受光面に結像された像のコントラストとの差分値とに基づいて、前記焦点位置の調整を行う工程と、
前記焦点位置の調整を終えた後、前記開口絞りが除かれた前記照明光学系と、前記結像光学系とによって、前記試料のパターンの像を前記第1の受光面に結像する工程と、
前記第1の受光面に結像した像を用いて前記試料に形成されたパターンの欠陥検査を行う工程とを有することを特徴とする検査方法。 - 前記焦点位置の調整を行う工程は、前記開口絞りの開口部を前記第1の径としたときの前記第2の受光面に結像された像のコントラストと前記第3の受光面に結像された像のコントラストとの差分値を用いて、前記焦点位置を合焦位置の近傍まで近付ける工程と、
前記開口絞りの開口部を前記第2の径としたときの前記第2の受光面に結像された像のコントラストと前記第3の受光面に結像された像のコントラストとの差分値とに基づいて、前記合焦位置の近傍まで近付けられた前記焦点位置の微調整を行う工程とを有することを特徴とする請求項5に記載の検査方法。 - 前記開口絞りは、開口部の径を可変可能な構成であり、
前記焦点位置の調整を行う工程では、前記開口部の径を変えて、前記第1の径および前記第2の径にすることを特徴とする請求項5または6に記載の検査方法。 - 前記焦点位置の調整を行う工程では、前記第1の径の開口部を有する開口絞りと、前記第2の径の開口部を有する開口絞りとの2種類の開口絞りを用いることを特徴とする請求項5または6に記載の検査方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013107645A JP6220553B2 (ja) | 2013-05-22 | 2013-05-22 | 焦点位置調整方法および検査方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013107645A JP6220553B2 (ja) | 2013-05-22 | 2013-05-22 | 焦点位置調整方法および検査方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014228670A true JP2014228670A (ja) | 2014-12-08 |
JP6220553B2 JP6220553B2 (ja) | 2017-10-25 |
Family
ID=52128572
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013107645A Active JP6220553B2 (ja) | 2013-05-22 | 2013-05-22 | 焦点位置調整方法および検査方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6220553B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018146884A (ja) * | 2017-03-08 | 2018-09-20 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | マップ作成方法、マスク検査方法およびマスク検査装置 |
JP2019020274A (ja) * | 2017-07-18 | 2019-02-07 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | パターン検査方法およびパターン検査装置 |
US10222341B2 (en) | 2016-07-01 | 2019-03-05 | Nuflare Technology, Inc. | Focusing apparatus, focusing method, and pattern inspection method |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002324752A (ja) * | 2001-02-13 | 2002-11-08 | Nikon Corp | 投影光学系の製造方法及び調整方法、露光装置及びその製造方法、デバイス製造方法、並びにコンピュータシステム |
JP2008281719A (ja) * | 2007-05-09 | 2008-11-20 | Lasertec Corp | 光学顕微鏡、焦点位置調整方法、及びパターン基板の製造方法 |
JP2012194503A (ja) * | 2011-03-18 | 2012-10-11 | Canon Inc | 撮像装置 |
-
2013
- 2013-05-22 JP JP2013107645A patent/JP6220553B2/ja active Active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002324752A (ja) * | 2001-02-13 | 2002-11-08 | Nikon Corp | 投影光学系の製造方法及び調整方法、露光装置及びその製造方法、デバイス製造方法、並びにコンピュータシステム |
JP2008281719A (ja) * | 2007-05-09 | 2008-11-20 | Lasertec Corp | 光学顕微鏡、焦点位置調整方法、及びパターン基板の製造方法 |
JP2012194503A (ja) * | 2011-03-18 | 2012-10-11 | Canon Inc | 撮像装置 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10222341B2 (en) | 2016-07-01 | 2019-03-05 | Nuflare Technology, Inc. | Focusing apparatus, focusing method, and pattern inspection method |
JP2018146884A (ja) * | 2017-03-08 | 2018-09-20 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | マップ作成方法、マスク検査方法およびマスク検査装置 |
JP2019020274A (ja) * | 2017-07-18 | 2019-02-07 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | パターン検査方法およびパターン検査装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6220553B2 (ja) | 2017-10-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6364193B2 (ja) | 焦点位置調整方法および検査方法 | |
TWI618977B (zh) | Mask inspection method and mask inspection device | |
JP6025419B2 (ja) | 検査方法および検査装置 | |
JP6251647B2 (ja) | マスク検査装置及びマスク検査方法 | |
JP6518415B2 (ja) | 撮像装置、検査装置および検査方法 | |
JP6134565B2 (ja) | 検査方法および検査装置 | |
JP6236216B2 (ja) | 検査装置および検査方法 | |
JP6745152B2 (ja) | 合焦装置、合焦方法、及びパターン検査方法 | |
JP6043583B2 (ja) | 焦点位置検出装置、検査装置、焦点位置検出方法および検査方法 | |
JP2014181966A (ja) | 検査方法および検査装置 | |
JP2017009379A (ja) | 検査装置および検査方法 | |
JP2016166789A (ja) | 検査装置および検査方法 | |
JP2017090133A (ja) | 検査装置および検査方法 | |
JP6431786B2 (ja) | 線幅誤差取得方法、線幅誤差取得装置および検査システム | |
JP6263358B2 (ja) | 検査方法および検査装置 | |
JP6220553B2 (ja) | 焦点位置調整方法および検査方法 | |
JP2015105897A (ja) | マスクパターンの検査方法 | |
JP2015230273A (ja) | マスク検査装置及びマスク検査方法 | |
JP6255191B2 (ja) | 検査装置および検査方法 | |
JP4922381B2 (ja) | パターン検査装置及びパターン検査方法 | |
JP7293148B2 (ja) | 検査装置及び検査方法 | |
JP6893842B2 (ja) | パターン検査方法およびパターン検査装置 | |
US8797525B2 (en) | Pattern inspection apparatus and pattern inspection method | |
JP2018077053A (ja) | パターン検査方法及びパターン検査装置 | |
JP2007225311A (ja) | 光学画像取得装置、パターン検査装置、光学画像取得方法、及び、パターン検査方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20160413 |
|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20160712 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20160729 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20170118 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20170124 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20170905 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20171002 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6220553 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |