JP2013098478A - 基板処理システム、基板搬送方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】塗布現像処理システムのインターフェイスステーション5は、ウェハを露光装置に搬入する前に少なくともウェハの裏面を洗浄するウェハ洗浄部141と、洗浄後のウェハの裏面について、当該ウェハの露光が可能かどうかを露光装置に搬入前に検査するウェハ検査部142と、ウェハ洗浄部141とウェハ検査部142との間でウェハWを搬送する搬送手段143を有している。ウェハ洗浄部141、ウェハ検査部142及び搬送手段143は、筐体140の内部に設けられている。
【選択図】図5
Description
バッファ待機部は洗浄検査ユニット100の外部、例えば第7のブロックG7に設けられていてもよい。
そうすることで、洗浄及び検査を終えたウェハWを、第7のブロックG7を経由することなく、例えば第2の搬送アーム122により直接脱水ユニット101に搬送できる。これにより、ウェハWと各搬送アームとが接触する回数を最小限に抑えることができるので、ウェハWの裏面がパーティクルにより汚染される可能性を、従来よりも低減できる。
2 カセットステーション
3 処理ステーション
4 露光装置
5 インターフェイスステーション
6 制御装置
10 カセット搬入出部
11 ウェハ搬送部
12 カセット載置台
13 カセット載置板
20 搬送路
21 ウェハ搬送装置
30 下部反射防止膜形成ユニット
31 レジスト塗布ユニット
32 上部反射防止膜形成ユニット
33 現像処理ユニット
40 熱処理ユニット
41 アドヒージョンユニット
42 周辺露光ユニット
50〜56 受け渡しユニット
60〜62 受け渡しユニット
70 ウェハ搬送装置
85 ウェハ搬送装置
90 ウェハ搬送装置
100 洗浄検査ユニット
101 脱水ユニット
110 受け渡しユニット
111 受け渡しユニット
112 温度調整ユニット
120 ウェハ搬送機構
121 第1の搬送アーム
122 第2の搬送アーム
130 ウェハ搬送装置
131 第3の搬送アーム
132 第4の搬送アーム
135 ウェハ搬送制御部
140 筐体
141 ウェハ洗浄部
142 ウェハ検査部
143 搬送手段
144 待機載置台
150 吸着パッド
151 スピンチャック
152 ブラシ
153 枠体
154 上部カップ
154a 開口部
160 シャフト
161 駆動機構
162 昇降ピン
163 支持体
163a 洗浄液ノズル
163b パージノズル
164 駆動機構
170 ドレン管
171 排気管
180 保持アーム
181 光源
182 カメラ
190 処理容器
191 保持部材
192 シャフト
193 昇降機構
194 排気機構
195 排気管
196 パージ管
200 冷却機構
C カセット
D ウェハ搬送領域
F カップ
W ウェハ
Claims (24)
- 基板を処理する複数の処理ユニットが設けられた処理ステーションと、前記処理ステーションと外部に設けられた露光装置との間で基板の受け渡しを行うインターフェイスステーションと、を備えた基板処理システムであって、
前記インターフェイスステーションは、
基板を前記露光装置に搬入する前に少なくとも基板の裏面を洗浄する基板洗浄部と、
少なくとも前記洗浄後の基板の裏面について、当該基板の露光が可能かどうかを前記露光装置に搬入する前に検査する基板検査部と、を有し、
前記基板洗浄部と前記基板検査部は、同一の筐体の内部に配置され、
前記筐体の内部には、前記基板洗浄部と前記基板検査部との間で基板を搬送する搬送手段が設けられていることを特徴とする、基板処理システム。 - 前記インターフェイスステーションには、前記基板洗浄部で洗浄した後の基板に付着した水分を除去する脱水ユニットが設けられていることを特徴とする、請求項1に記載の基板処理システム。
- 前記基板検査部での検査の結果、基板の状態が、前記基板洗浄部での再洗浄により露光可能な状態になると判定されれば、当該基板を前記基板洗浄部に再度搬送するように、前記搬送手段を制御する基板搬送制御部を有していることを特徴とする、請求項1〜2のいずれかに記載の基板処理システム。
- 前記基板搬送制御部は、前記基板洗浄部に再度搬送されて洗浄された基板を再度基板検査部に搬送するように前記基板搬送機構を制御することを特徴とする、請求項3に記載の基板処理システム。
- 前記インターフェイスステーションには、前記基板検査部で検査された後であって且つ前記露光装置に搬入前の基板を所定の温度に調整する温度調整機構が設けられていることを特徴とする、請求項1〜4のいずれかに記載の基板処理システム。
- 前記温度調整機構は、前記筐体の内部に設けられていることを特徴とする、請求項5に記載の基板処理システム。
- 前記インターフェイスステーションには、前記基板検査部で検査後の基板を一時的に待機させるバッファ待機部が設けられていることを特徴とする、請求項1〜6に記載の基板処理システム。
- 前記バッファ待機部は、前記筐体の内部に設けられていることを特徴とする、請求項7に記載の基板処理システム。
- 前記バッファ待機部は、前記検査後の基板の検査結果が判明するまで当該検査後の基板を待機させることを特徴とする、請求項7または8のいずれかに記載の基板処理システム。
- 前記筐体の内部には、前記搬送手段を洗浄する搬送手段洗浄機構が設けられていること特徴とする、請求項1〜9のいずれかに記載の基板処理システム。
- 前記搬送手段洗浄機構は、前記基板洗浄部が兼用していることを特徴とする、請求項10に記載の基板処理システム。
- 基板を処理する複数の処理ユニットが設けられた処理ステーションと、前記処理ステーションと外部に設けられた露光装置との間で基板の受け渡しを行うインターフェイスステーションと、を備えた基板処理システムにおける基板の搬送方法であって、
前記インターフェイスステーションは、
基板を前記露光装置に搬入する前に少なくとも基板の裏面を洗浄する基板洗浄部と、
少なくとも前記洗浄後の基板の裏面について、当該基板の露光が可能かどうかを前記露光装置に搬入する前に検査する基板検査部と、を有し、
前記基板洗浄部と前記基板検査部は、同一の筐体の内部に配置され、
前記基板洗浄部と前記基板検査部との間の基板の搬送を、前記筐体の内部に設けられた搬送手段により行うことを特徴とする、基板搬送方法。 - 前記インターフェイスステーションには、基板に付着した水分を除去する脱水ユニットが設けられ、
前記基板洗浄部で洗浄した後の基板は、前記脱水ユニットで脱水されることを特徴とする、請求項12に記載の基板搬送方法。 - 前記基板検査部での検査の結果、基板の状態が、前記基板洗浄部での再洗浄により露光可能な状態になると判定された場合、当該基板を前記基板洗浄部に再度搬送して洗浄することを特徴とする、請求項12または13のいずれかに記載の基板搬送方法。
- 前記基板洗浄部に再度搬送されて洗浄された基板を、再度基板検査部に搬送することを特徴とする、請求項14に記載の基板搬送方法。
- 前記基板検査部で検査された後であって且つ前記露光装置に搬入前の基板を所定の温度に調整することを特徴とする、請求項12〜15のいずれかに記載の基板搬送方法。
- 前記基板の温度調整は、前記筐体の内部で行われることを特徴とする、請求項16に記載の基板搬送方法。
- 前記基板検査部で検査後の基板を、前記インターフェイスステーションに設けられたバッファ待機部で一次的に待機させることを特徴とする、請求項12〜17に記載の基板搬送方法。
- 前記バッファ待機部は、前記筐体の内部に設けられていることを特徴とする、請求項18に記載の基板搬送方法。
- 前記検査後の基板を、前記基板検査部での検査結果が判明するまで前記バッファ待機部にさせることを特徴とする、請求項18または19のいずれかに記載の基板搬送方法。
- 前記筐体の内部には、前記搬送手段を洗浄する搬送手段洗浄機構が設けられていること特徴とする、請求項12〜20のいずれかに記載の基板搬送方法。
- 前記搬送手段洗浄機構は、前記基板洗浄部が兼用していることを特徴とする、請求項21に記載の基板搬送方法。
- 請求項12〜22のいずれかに記載の基板搬送方法を基板処理システムによって実行させるために、当該基板処理システムを制御する制御装置のコンピュータ上で動作するプログラム。
- 請求項23に記載のプログラムを格納した読み取り可能なコンピュータ記憶媒体。
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