JP2012123986A - Display partition forming photomask, display member manufacturing method, and plasma display back plate manufacturing method - Google Patents

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a display partition forming photomask having a lattice-shaped light-transmitting part capable of controlling the top part and bottom part widths of a partition in a suitable range, as well as a display member manufacturing method and a plasma display back plate manufacturing method.SOLUTION: A display partition forming photomask is used to form a lattice-shaped partition by photolithography using a negative type photosensitive paste. The display partition forming photomask includes a lattice-shaped light-transmitting pattern consisting of a first group of stripe-shaped light-transmitting pattern and a second group of stripe-shaped light-transmitting pattern crossing the first group of light-transmitting pattern at right angles, characterized in that, among pitches of the second group of light-transmitting pattern, odd numbered pitches P2 from the outermost part in a longer direction of the first group of light-transmitting pattern and even numbered pitches P3 from the outermost part in a longer direction of the first group of light-transmitting pattern respectively are uniform, and that P2 and P3 differ from each other.

Description

本発明は、壁掛けテレビや大型モニターに用いられるプラズマディスプレイ、プラズマアドレス液晶ディスプレイなどのディスプレイの隔壁形成用フォトマスク、およびそれを用いたディスプレイ用部材の製造方法、特にプラズマディスプレイ用背面板の製造方法に関する。   The present invention relates to a photomask for forming partition walls of a display such as a plasma display and a plasma addressed liquid crystal display used for a wall-mounted television or a large monitor, and a method for manufacturing a display member using the same, particularly a method for manufacturing a back plate for a plasma display About.

プラズマディスプレイパネル（以下ＰＤＰと称する）は液晶パネルに比べて高速表示が可能で、かつ視野角も広いことから、薄型・大型テレビに使用できるディスプレイとして注目されている。ＰＤＰは前面板と背面板との間に備えられた放電空間内で電極間にプラズマ放電を生じさせ、上記放電空間内に封入されているガスから発生した紫外線を放電空間内の蛍光体に当てることにより表示を行うものである。表示面となる前面板側のガラス基板には、対をなす複数のスキャン電極とサステイン電極が銀やクロム、アルミニウム、ニッケルなどの材料で形成されている。さらにスキャン電極およびサステイン電極を被覆してガラスを主成分とする誘電体層が２０〜５０μｍ厚みで形成され、誘電体層を被覆してＭｇＯ層が形成されている。一般的なプラズマディスプレイ用背面板部材の概略図を図５に示す。背面板１側のガラス基板２には、複数のアドレス電極３がストライプ状に形成され、アドレス電極３を被覆してガラスを主成分とする誘電体層４が形成されている。誘電体層４上に放電セルを仕切るための隔壁５が形成され、隔壁５と誘電体層４で形成された放電空間内に蛍光体層６が形成されてなる。このようなＰＤＰ用背面板の場合、放電の広がりを一定領域に抑え、表示を規定のセル内で行わせると同時に、均一な放電空間を確保するために、およそ幅２０〜８０μｍ、高さ２０〜２００μｍの形状をもつ隔壁５が設けられている。   Plasma display panels (hereinafter referred to as PDPs) are attracting attention as displays that can be used in thin and large televisions because they can display at a higher speed and have a wider viewing angle than liquid crystal panels. The PDP generates a plasma discharge between electrodes in a discharge space provided between a front plate and a back plate, and applies ultraviolet rays generated from a gas enclosed in the discharge space to a phosphor in the discharge space. Display. A plurality of paired scan electrodes and sustain electrodes are formed of a material such as silver, chromium, aluminum, or nickel on a glass substrate on the front plate side serving as a display surface. Further, a dielectric layer mainly composed of glass is formed with a thickness of 20 to 50 μm by covering the scan electrode and the sustain electrode, and an MgO layer is formed by covering the dielectric layer. A schematic view of a general back plate member for a plasma display is shown in FIG. A plurality of address electrodes 3 are formed in a stripe shape on the glass substrate 2 on the back plate 1 side, and a dielectric layer 4 mainly composed of glass is formed so as to cover the address electrodes 3. A partition wall 5 for partitioning a discharge cell is formed on the dielectric layer 4, and a phosphor layer 6 is formed in a discharge space formed by the partition wall 5 and the dielectric layer 4. In the case of such a back plate for PDP, in order to suppress the spread of discharge to a certain area and to perform display in a prescribed cell, and at the same time to secure a uniform discharge space, the width is approximately 20 to 80 μm and the height is 20 A partition wall 5 having a shape of ˜200 μm is provided.

フルカラー表示が可能なＰＤＰにおいては、蛍光体層６は、赤（Ｒ）緑（Ｇ）青（Ｂ）の各色に発光するものにより構成される。前面板側のガラス基板のサステイン電極と背面板１側のアドレス電極３が互いに直交するように、前面板と背面板１が封着され、それらの基板の間隙内にヘリウム、ネオン、キセノンなどから構成される希ガスが封入されＰＤＰが形成される。スキャン電極とアドレス電極３の交点を中心として画素セルが形成されるので、ＰＤＰは複数の画素セルを有し、画像の表示が可能になる。   In a PDP capable of full color display, the phosphor layer 6 is configured to emit light of each color of red (R), green (G), and blue (B). The front plate and the back plate 1 are sealed so that the sustain electrode of the glass substrate on the front plate side and the address electrode 3 on the back plate 1 side are orthogonal to each other, and helium, neon, xenon, etc. are placed in the gap between the substrates. The noble gas to be configured is sealed to form a PDP. Since the pixel cell is formed around the intersection of the scan electrode and the address electrode 3, the PDP has a plurality of pixel cells and can display an image.

近年、ＰＤＰの高性能化のために、従来のストライプ状の隔壁形状以外に、格子状、ハニカム状などの三叉部または交差部を有する隔壁形状が提案されている。このように隔壁構造が複雑化した理由の一つに、ストライプ状の隔壁構造の場合、画素間の放電の干渉が生じやすいことがあげられる。特に高精細化した場合には放電の干渉が顕著となり、前面板の放電ギャップを狭くする必要があるが、その場合には、画素の放電空間が狭くなるために、輝度が大幅に低下するという問題が生じる。この問題を解消するために、アドレス電極に平行なストライプ状の主隔壁と、主隔壁と略直交する、画素を仕切る補助隔壁からなる格子状の隔壁を設けることが提案されている。   In recent years, in order to improve the performance of PDPs, in addition to the conventional stripe-shaped partition wall shape, a partition wall shape having a trident or intersection such as a lattice shape or a honeycomb shape has been proposed. One of the reasons why the barrier rib structure is complicated in this way is that, in the case of a striped barrier rib structure, interference of discharge between pixels tends to occur. In particular, when the resolution is increased, the interference of discharge becomes significant, and it is necessary to narrow the discharge gap of the front plate. However, in that case, the discharge space of the pixel is narrowed, so that the luminance is greatly reduced. Problems arise. In order to solve this problem, it has been proposed to provide a stripe-shaped partition wall composed of a stripe-shaped main partition wall parallel to the address electrodes and an auxiliary partition wall that partitions the pixels substantially perpendicular to the main partition wall.

一般的な隔壁の形成方法としては、ガラスペーストを用いて隔壁パターンを形成し、焼成する方法が一般的である。隔壁パターンの形成方法としては、ガラスペーストをスクリーン印刷でパターン印刷し、乾燥する工程を多数回繰り返し、所定の高さの隔壁パターンを形成するスクリーン印刷法、フォトリソグラフィ技術により形成したサブトラティブマスク層を介してサンドブラストにより形成するサンドブラスト法などが知られている。しかし、スクリーン印刷法やサンドブラスト法では、工程が非常に多く製造コスト面で課題があった。   As a general method for forming a partition, a method of forming a partition pattern using a glass paste and firing it is generally used. As a partition pattern formation method, a glass paste is printed by screen printing, and a drying process is repeated many times to form a partition pattern having a predetermined height. A subtractive mask layer formed by a photolithography technique. A sand blasting method in which sand blasting is used to form a film is known. However, the screen printing method and the sand blast method have many processes and have problems in terms of production cost.

この問題を解決するため、感光性ガラスペーストを用いてフォトリソグラフィ技術により隔壁パターンを形成する方法が提案されている（例えば、特許文献１参照）。   In order to solve this problem, a method of forming a partition pattern by a photolithography technique using a photosensitive glass paste has been proposed (see, for example, Patent Document 1).

次に、ＰＤＰ用背面板の隔壁の好ましい形状について説明する。図６にプラズマディスプレイ用背面板の格子状隔壁の形状を示す。ＰＤＰ用背面板においては、表示品位、歩留まりの点から、主隔壁頂部幅Ｗ１、主隔壁底部幅Ｗ２、補助隔壁頂部幅Ｗ３、補助隔壁底部幅Ｗ４の関係が以下の式（１）〜（３）を全て満たすことが好ましく、より好ましくは以下の式（４）〜（６）を全て満たすことが好ましい。   Next, the preferable shape of the partition of the PDP back plate will be described. FIG. 6 shows the shape of the grid-like partition walls of the plasma display back plate. In the PDP back plate, the relationship between the main partition top width W1, the main partition bottom width W2, the auxiliary partition top width W3, and the auxiliary partition bottom width W4 is expressed by the following formulas (1) to (3) from the viewpoint of display quality and yield. ) Are preferably satisfied, and more preferably all of the following formulas (4) to (6) are satisfied.

０．５≦Ｗ１／Ｗ２≦１．０ （１）
０．５≦Ｗ３／Ｗ４≦１．０ （２）
０．７≦Ｗ４／Ｗ２≦１．３ （３）
０．６≦Ｗ１／Ｗ２≦０．８ （４）
０．６≦Ｗ３／Ｗ４≦０．８ （５）
０．８≦Ｗ４／Ｗ２≦１．２ （６） 0.5 ≦ W1 / W2 ≦ 1.0 (1)
0.5 ≦ W3 / W4 ≦ 1.0 (2)
0.7 ≦ W4 / W2 ≦ 1.3 (3)
0.6 ≦ W1 / W2 ≦ 0.8 (4)
0.6 ≦ W3 / W4 ≦ 0.8 (5)
0.8 ≦ W4 / W2 ≦ 1.2 (6)

一方、感光性ガラスペーストを用いてフォトリソグラフィ技術により隔壁パターンを形成する方法では、塗布膜中では露光光の散乱が起こるため、隔壁の底部幅が頂部幅よりも広くなる傾向にある。特に頂部幅を小さく設計した場合にはその傾向が強くなる。また、１枚の格子状のマスクを用いて格子状の隔壁を形成する場合においては、格子のコーナー部は、塗布膜中の露光光の散乱が重なるために、コーナー部付近の底部幅は太くなる傾向にある。さらに、高精細化してくると、補助隔壁の長さは短くなることから、そのコーナー部の太りの影響を受け、補助隔壁において底部幅が大きくなりすぎる、すなわちＷ３／Ｗ４＜０．５となり上記式（２）の範囲外となることが多いという問題があった。   On the other hand, in the method of forming a barrier rib pattern by a photolithography technique using a photosensitive glass paste, since the exposure light is scattered in the coating film, the bottom width of the barrier rib tends to be wider than the top width. This tendency is particularly strong when the top width is designed to be small. In addition, in the case where a grid-like partition is formed using a single grid-like mask, the bottom of the corner near the corner is thick because the exposure light in the coating film is scattered at the corner of the grid. Tend to be. Further, as the definition becomes higher, the length of the auxiliary partition becomes shorter, so that the bottom width of the auxiliary partition becomes too large, that is, W3 / W4 <0.5 due to the influence of the thickness of the corner. There was a problem that it was often out of the range of the formula (2).

また、感光性ガラスペーストを用いた隔壁パターンの形成法として、複数回の露光を動作を行い、それぞれの露光の間にフォトマスクと感光性ガラスペースト塗布膜とを相対移動させる動作を行うことによって、フォトマスク上に異物が付着した場合やキズがあった場合であっても、断線や短絡等といった欠陥の発生を抑制し、生産性良くプラズマディスプレイ部材を製造する方法が知られている（特許文献２、３）。ＰＤＰにおいては、主隔壁の露光ズレを嫌うことから、前述の相対移動は主隔壁と平行な方向に行うことが多い。   In addition, as a method of forming a barrier rib pattern using a photosensitive glass paste, a plurality of exposure operations are performed, and a photomask and a photosensitive glass paste coating film are relatively moved during each exposure. In addition, there is a known method for manufacturing a plasma display member with high productivity by suppressing the occurrence of defects such as disconnection or short circuit even when foreign matter adheres to the photomask or when there are scratches (patent) References 2, 3). In the PDP, since the exposure of the main partition is disliked, the relative movement is often performed in a direction parallel to the main partition.

しかしながら、格子状隔壁パターンを形成するために、格子状の透光部パターンを有するフォトマスクを使用し、複数回の露光に同じフォトマスクを用いる場合、最終的に形成する補助隔壁のピッチが一定であることから、従来は図２に示すように補助隔壁を形成するための透光部のパターンが等ピッチであるフォトマスクが用いられていた。図２に示す従来のディスプレイの隔壁形成用フォトマスクを用い、１回目の露光を行った後、フォトマスクと感光性ガラスペースト塗布膜を主隔壁と平行な方向に補助隔壁のピッチの整数倍移動し、２回目の露光を行うと、基板中央部においては１回目の露光と２回目の露光において露光される部分が一致するため、１回のみ露光を行う場合と同様、Ｗ３／Ｗ４＜０．５となり上記式（２）の範囲外となることが多いという問題があった。   However, when a photomask having a grid-like light-transmitting part pattern is used to form a grid-like partition pattern, and the same photomask is used for multiple exposures, the pitch of the auxiliary partition finally formed is constant. For this reason, conventionally, as shown in FIG. 2, a photomask in which the patterns of the light transmitting portions for forming the auxiliary barrier ribs have an equal pitch has been used. Using the photomask for forming the barrier rib of the conventional display shown in FIG. 2, after the first exposure, the photomask and the photosensitive glass paste coating film are moved by an integral multiple of the pitch of the auxiliary barrier rib in the direction parallel to the main barrier rib. When the second exposure is performed, in the central portion of the substrate, the portions exposed in the first exposure and the second exposure match, so that W3 / W4 <0. There was a problem that it was often 5 and out of the range of the above formula (2).

特開平９−２２３４６２号公報（請求項１）JP-A-9-223462 (Claim 1) 特開２００４−２４００９５号公報（請求項１）JP 2004-240095 A (Claim 1) 国際公開パンフレットＷＯ２００６／０２５２６６号（請求項３）International Publication Pamphlet WO 2006/025266 (Claim 3)

本発明は隔壁の頂部幅と底部幅を好ましい範囲に制御可能な格子状透光部を有するディスプレイの隔壁形成用フォトマスク、ディスプレイ用部材の製造法およびプラズマディスプレイ用背面板の製造方法を提供することを目的とする。   The present invention provides a photomask for forming a partition wall of a display having a grid-like light-transmitting portion capable of controlling the top width and the bottom width of the partition wall within a preferable range, a method for manufacturing a display member, and a method for manufacturing a back plate for a plasma display. For the purpose.

上述の課題を解決するため、本発明は以下の構成を有する。すなわち、本発明の隔壁形成用フォトマスクは、ネガ型感光性ペーストを用いたフォトリソグラフィ法により格子状の隔壁を形成するために用いるディスプレイの隔壁形成用フォトマスクであって、ストライプ状の第１の群の透光パターンおよび前記第１の群の透光パターンに直交するストライプ状の第２の群の透光パターンからなる格子状の透光パターンを有し、前記第２の群の透光パターンのピッチのうち、前記第１の群の透光パターンの長手方向最外部から奇数番目のピッチＰ２および前記第１の群の透光パターンの長手方向最外部から偶数番目のピッチＰ３がそれぞれ一定であり、かつＰ２とＰ３が異なることを特徴とするものである。   In order to solve the above-described problems, the present invention has the following configuration. In other words, the photomask for forming barrier ribs of the present invention is a photomask for forming barrier ribs of a display used for forming grid-like barrier ribs by a photolithography method using a negative photosensitive paste, and is a striped first photomask. A light transmitting pattern of the second group and a light transmitting pattern of a second group of stripes orthogonal to the light transmitting pattern of the first group. Out of the pitches of the patterns, the odd-numbered pitch P2 from the outermost portion in the longitudinal direction of the first group of light-transmitting patterns and the even-numbered pitch P3 from the outermost portion in the longitudinal direction of the first group of light-transmitting patterns are constant. And P2 and P3 are different.

また、本発明のディスプレイ用部材の製造方法は、基板上にネガ型感光性ペーストを塗布して得られる塗布膜を上述のディスプレイの隔壁形成用フォトマスクを介して露光し、露光後の前記塗布膜または前記フォトマスクを前記第１の群の透光パターンに平行な方向に移動距離Ｌだけ相対移動させ、さらに前記フォトマスクを介して露光し、現像するディスプレイ用部材の製造方法であって、前記移動距離ＬがＰ２とＰ３の算術平均値（Ｐ２＋Ｐ３）／２の整数倍であることを特徴とする。   Further, in the method for producing a display member of the present invention, the coating film obtained by coating a negative photosensitive paste on a substrate is exposed through the above-described display partition forming photomask, and the coating after exposure is performed. A method of manufacturing a display member, wherein a film or the photomask is relatively moved by a moving distance L in a direction parallel to the light transmission pattern of the first group, further exposed through the photomask, and developed. The moving distance L is an integer multiple of an arithmetic average value (P2 + P3) / 2 of P2 and P3.

さらに、本発明のプラズマディスプレイ用背面板の製造方法は、基板上にストライプ状のアドレス電極もしくはアドレス電極の前駆体、ならびに前記アドレス電極もしくはアドレス電極の前駆体を覆う誘電体層もしくは誘電体層の前駆体を設け、前記誘電体層もしくは誘電体層の前駆体上にネガ型感光性ガラスペーストを塗布し、上述のディスプレイの隔壁形成用フォトマスクを、前記第１の群の透光パターンが前記アドレス電極もしくはアドレス電極の前駆体と平行かつ隣り合う前記アドレス電極もしくはアドレス電極の前駆体の中間位置となるように配置し、露光後の基板または前記フォトマスクを前記第１の群の透光パターンに平行な方向に移動距離Ｌだけ相対移動させ、さらに前記フォトマスクを介して露光し、現像し、焼成することにより隔壁を形成するプラズマディスプレイ用背面板の製造方法であって、前記移動距離ＬがＰ２とＰ３の算術平均値（Ｐ２＋Ｐ３）／２の整数倍であることを特徴とする。   Further, the manufacturing method of the back plate for plasma display of the present invention comprises a stripe-shaped address electrode or address electrode precursor on a substrate, and a dielectric layer or dielectric layer covering the address electrode or address electrode precursor. A precursor is provided, a negative photosensitive glass paste is applied on the dielectric layer or the precursor of the dielectric layer, and the barrier rib forming photomask for the display is used as the light transmission pattern of the first group. An address electrode or an address electrode precursor is disposed in parallel with and adjacent to the address electrode or address electrode precursor, and the exposed substrate or the photomask is disposed on the first group of light-transmitting patterns. The film is moved relative to the direction parallel to the distance L, exposed to light through the photomask, developed, and baked. The method for manufacturing a back panel for a plasma display that forms a partition wall, wherein the moving distance L is an integer multiple of the arithmetic average of P2 and P3 (P2 + P3) / 2.

本発明によれば、簡略な工程により生産性よく、隔壁の頂部幅と底部幅を好ましい範囲に制御可能形成可能となる。   According to the present invention, the top width and the bottom width of the partition wall can be controlled within a preferable range with a high productivity by a simple process.

本発明のディスプレイの隔壁形成用フォトマスクの左上部の透光部パターンの形状を表した模式図である。It is the schematic diagram showing the shape of the translucent part pattern of the upper left part of the photomask for partition formation of the display of this invention. 従来のディスプレイの隔壁形成用フォトマスクの左上部の透光部パターンの形状を表した模式図である。It is the schematic diagram showing the shape of the translucent part pattern of the upper left part of the photomask for partition forming of the conventional display. 本発明のディスプレイ用部材の製造方法において、基板中央部付近における２回の露光を行った後の露光状態を示す上面模式図である。In the manufacturing method of the member for a display of the present invention, it is an upper surface mimetic diagram showing an exposure state after performing exposure twice in the central part vicinity of a substrate. 本発明のディスプレイ用部材の製造方法において、基板中央部付近における露光状態を示す断面模式図である。In the manufacturing method of the member for displays of the present invention, it is a cross section showing an exposure state near the central part of a substrate. 一般的なプラズマディスプレイ用背面板部材の概略図である。It is the schematic of the common backplate member for plasma displays. プラズマディスプレイ用背面板の格子状隔壁の形状を示す概略図である。It is the schematic which shows the shape of the grid | lattice-like partition of the backplate for plasma displays.

本発明のディスプレイの隔壁形成用フォトマスクは、ネガ型感光性ペーストを用いたフォトリソグラフィ法により格子状の隔壁を形成するために用いるディスプレイの隔壁形成用フォトマスクであって、ストライプ状の第１の群の透光パターンおよび前記第１の群の透光パターンに直交するストライプ状の第２の群の透光パターンからなる格子状の透光パターンを有し、前記第２の群の透光パターンのピッチのうち、前記第１の群の透光パターンの長手方向最外部から奇数番目のピッチＰ２および前記第１の群の透光パターンの長手方向最外部から偶数番目のピッチＰ３がそれぞれ一定であり、かつＰ２とＰ３が異なることを特徴とする。   The display partition forming photomask of the present invention is a display partition forming photomask used for forming a grid-shaped partition by a photolithography method using a negative photosensitive paste, and is a striped first photomask. A light transmitting pattern of the second group and a light transmitting pattern of a second group of stripes orthogonal to the light transmitting pattern of the first group. Out of the pitches of the patterns, the odd-numbered pitch P2 from the outermost portion in the longitudinal direction of the first group of light-transmitting patterns and the even-numbered pitch P3 from the outermost portion in the longitudinal direction of the first group of light-transmitting patterns are constant. And P2 and P3 are different.

図１は、本発明のディスプレイの隔壁形成用フォトマスクの左上部の透光部パターンの形状を表した模式図である。本発明のディスプレイの隔壁形成用フォトマスクは遮光部１０と、ストライプ状の第１の群の透光パターン１１、ストライプ状の第１の群の透光パターン１１に直交するストライプ状の第２の群の透光パターン１２からなる格子状の透光パターンとを有する。本発明のディスプレイの隔壁形成用フォトマスクは、第２の群の透光パターン１２のピッチのうち、前記第１の群の透光パターン１１の長手方向最外部から奇数番目のピッチＰ２および前記第１の群の透光パターン１１の長手方向最外部から偶数番目のピッチＰ３がそれぞれ一定であり、かつＰ２とＰ３が異なることを特徴とする。本発明のディスプレイの隔壁形成用フォトマスクを用い、複数回の露光を行うことによって、第２の群の透光パターン１２によって硬化し形成される隔壁の底部幅が大きくなりすぎるのを防ぐことができる。   FIG. 1 is a schematic diagram showing the shape of a light-transmitting portion pattern at the upper left portion of a photomask for forming a partition wall of a display according to the present invention. The photomask for forming a partition wall of the display according to the present invention includes a light shielding portion 10, a stripe-shaped first group of light-transmitting patterns 11, and a stripe-shaped second group of light-transmitting patterns 11 orthogonal to the stripe-shaped first group of light-transmitting patterns 11. And a lattice-like translucent pattern composed of a group of translucent patterns 12. The photomask for forming partition walls of the display according to the present invention includes an odd-numbered pitch P2 from the outermost part in the longitudinal direction of the first group of translucent patterns 11 among the pitches of the second group of translucent patterns 12, and the first group. The even-numbered pitches P3 from the outermost part in the longitudinal direction of the one group of translucent patterns 11 are constant, and P2 and P3 are different. By using the photomask for forming the partition wall of the display of the present invention and performing a plurality of exposures, it is possible to prevent the bottom width of the partition wall formed by being cured by the second group of translucent patterns 12 from becoming too large. it can.

なお、本発明において一定とは、異なる位置における寸法が略同一、具体的には平均値を中心に±５％の範囲内にあることをいう。また、本発明において平行、直交とは、２つの線のなす角がそれぞれ０°、９０°を中心に±３°の範囲内であることをいう。   In the present invention, “constant” means that the dimensions at different positions are substantially the same, specifically, within a range of ± 5% around the average value. Further, in the present invention, “parallel” and “orthogonal” mean that the angles formed by the two lines are within a range of ± 3 ° around 0 ° and 90 °, respectively.

図２は、従来のディスプレイの隔壁形成用フォトマスクの左上部の透光部パターンの形状を表した模式図である。図２のように第２の群の透光パターンのピッチが一定、すなわちＰ２とＰ３が同じである場合は、第２の群の透光パターン１２によって硬化し形成される隔壁の底部幅が大きくなりすぎるという問題を生じる。   FIG. 2 is a schematic diagram showing the shape of the light-transmitting part pattern at the upper left of a photomask for forming a partition wall of a conventional display. When the pitch of the light transmission patterns of the second group is constant as shown in FIG. 2, that is, when P2 and P3 are the same, the bottom width of the partition walls formed by curing with the light transmission patterns 12 of the second group is large. The problem of becoming too much.

Ｐ２とＰ３の差が８μｍ以上が好ましく、８μｍ以上とした場合に、特に第２の群の透光パターン１２によって硬化し形成される隔壁の底部幅が大きくなるのを防ぐことができる。さらに好ましくは２５μｍ以上である。   The difference between P2 and P3 is preferably 8 μm or more. When the difference is set to 8 μm or more, it is possible to prevent the bottom width of the partition walls formed by curing with the second group of translucent patterns 12 from being increased. More preferably, it is 25 μm or more.

また、第２の群の透光パターンの幅Ｘ２は一定であることが好ましく、Ｐ２とＰ３の差がＸ２の２．０倍以下、さらに好ましくは１．５倍以下であることが好ましい。Ｐ２とＰ３の差をＸ２の２．０倍以下とすることによって、第２の群の透光パターン１２によって硬化し形成される隔壁の頂部幅を一定以上確保することができると同時に、第２の群の透光パターン１２によって硬化し形成される隔壁の底部幅が大きくなりすぎるのを防ぐことができる。   The width X2 of the second group of translucent patterns is preferably constant, and the difference between P2 and P3 is preferably 2.0 times or less, more preferably 1.5 times or less of X2. By setting the difference between P2 and P3 to be 2.0 times or less of X2, the top width of the partition walls formed by being cured by the second group of translucent patterns 12 can be secured at a certain level, and at the same time, the second It is possible to prevent the bottom width of the partition wall formed by being cured by the light transmitting patterns 12 of the group from becoming too large.

なお、本発明のディスプレイの隔壁形成用フォトマスクの第１の群の透光パターンのピッチは一定であっても良いが、例えば格子状の隔壁を有するＰＤＰ用背面板において、第１の群の透光パターンによって主隔壁を形成する場合は、ＲＧＢの３色の蛍光体の発光特性に応じてそれぞれの色の蛍光体が設けられる隔壁のピッチを調整するように、対応する第１の群の透光パターンのピッチを設定しても良い。   Note that the pitch of the light transmission patterns of the first group of the photomask for forming the partition wall of the display of the present invention may be constant. For example, in the PDP back plate having a grid-shaped partition wall, When the main barrier rib is formed by the translucent pattern, the pitch of the barrier rib on which the phosphors of the respective colors are provided is adjusted in accordance with the light emission characteristics of the three color phosphors of RGB. You may set the pitch of a translucent pattern.

なお、本発明のディスプレイの隔壁形成用フォトマスクの第１の群の透光パターンの幅Ｘ１は、一定であることが好ましい。また、格子状の隔壁を有するＰＤＰ用背面板において、第１の群の透光パターンによって主隔壁を形成する場合は、上述の理由からＸ１＞Ｘ２とすることが一般的である。   In addition, it is preferable that the width | variety X1 of the transparent pattern of the 1st group of the photomask for partition formation of the display of this invention is constant. Further, in the PDP back plate having a grid-like partition wall, when the main partition wall is formed by the first group of translucent patterns, it is general that X1> X2 for the reasons described above.

本発明のディスプレイの隔壁形成用フォトマスクの材質は特に限定されないが、例えばガラス板等の透明な基板上に金属クロム膜等の遮光膜を設けたものを好ましく用いることができる。   The material of the photomask for forming a partition wall of the display of the present invention is not particularly limited, but for example, a transparent substrate such as a glass plate provided with a light shielding film such as a metal chromium film can be preferably used.

ガラス板は、ソーダライムガラス、高歪点ガラス、石英ガラス、合成石英ガラス、ホウケイ酸ガラス、アルミノケイ酸ガラス、鉛ガラスおよびホウ酸塩ガラスを用いることが平滑性、そり、品質の面から好ましい。フォトマスクは、露光パターニングの精度を確保するために、平滑性、反りが少ないこと、かつ基板に泡、へこみ、異物混入などが限りなく少ないことが求められる。   As the glass plate, soda lime glass, high strain point glass, quartz glass, synthetic quartz glass, borosilicate glass, aluminosilicate glass, lead glass and borate glass are preferably used in terms of smoothness, warpage and quality. In order to ensure the accuracy of exposure patterning, a photomask is required to have low smoothness and warpage, and to have extremely few bubbles, dents, foreign matters, etc. on the substrate.

パターン形成層についても、銀塩乳剤、クロム、および酸化クロムの少なくとも１つを含む材料から形成されることが、パターン精度、耐久性、耐候性の面から好ましい。   The pattern forming layer is also preferably formed from a material containing at least one of a silver salt emulsion, chromium, and chromium oxide from the viewpoint of pattern accuracy, durability, and weather resistance.

本発明のディスプレイ用部材の製造方法は、基板上にネガ型感光性ペーストを塗布して得られる塗布膜を上述のディスプレイの隔壁形成用フォトマスクを介して露光し、露光後の前記塗布膜または前記フォトマスクを前記第１の群の透光パターンに平行な方向に移動距離Ｌだけ相対移動させ、さらに前記フォトマスクを介して露光し、現像するディスプレイ用部材の製造方法であって、前記移動距離ＬがＰ２とＰ３の算術平均値（Ｐ２＋Ｐ３）／２の整数倍であることを特徴とする。   In the method for producing a display member of the present invention, a coating film obtained by coating a negative photosensitive paste on a substrate is exposed through the above-described display partition forming photomask, and the coating film after exposure or A method of manufacturing a display member, wherein the photomask is moved relative to the first group of translucent patterns by a moving distance L, exposed through the photomask, and developed. The distance L is an integer multiple of the arithmetic average value (P2 + P3) / 2 of P2 and P3.

図３は本発明のディスプレイ用部材の製造方法において、基板中央部付近における２回の露光を行った後の露光状態を示す上面模式図である。１回目の露光を行った後、露光後の塗布膜またはフォトマスクを前記第１の群の透光パターンに平行な方向に（Ｐ２＋Ｐ３）／２の整数倍の距離だけ移動させ、２回目の露光を行うことによって、基板中央部付近においては、第１の群の透光パターン部分は重複して２回露光されることとなる。一方、第２の群の透光パターン部分については、幅方向にずれて露光が行われることになるので、２回露光される部分２５を中心に１回露光される部分２４が存在することになる。   FIG. 3 is a schematic top view showing an exposure state after performing exposure twice in the vicinity of the center of the substrate in the method for manufacturing a display member of the present invention. After the first exposure, the exposed coating film or photomask is moved by a distance that is an integral multiple of (P2 + P3) / 2 in a direction parallel to the light transmission pattern of the first group. By performing the above, in the vicinity of the central portion of the substrate, the first group of light-transmitting pattern portions are exposed twice. On the other hand, since the light transmission pattern portions of the second group are exposed while being shifted in the width direction, there is a portion 24 that is exposed once with the portion 25 exposed twice. Become.

図４は本発明のディスプレイ用部材の製造方法において、基板中央部付近における露光状態を示す断面模式図である。   FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing an exposure state in the vicinity of the center of the substrate in the method for manufacturing a display member of the present invention.

図４（Ａ）は、基板２６上に設けた感光性ガラスペースト塗布膜２７上に本発明のフォトマスク２０を配置し、１回目の露光を行った後の状態を模式的に示している。感光性ガラスペースト塗布膜２７上面では第２の群の透光パターン１２の開口部とほぼ同じ部分が露光され、硬化するが、感光性ガラスペースト塗布膜２７中で露光光が散乱し、下面では広がるため、露光部２２の断面は図に示すように台形となる。なお、露光光の散乱に伴い、下面では露光量は少なり、硬化の度合いは上面に近づくほど大きく、下面に近づくほど小さくなっている。   FIG. 4A schematically shows a state after the photomask 20 of the present invention is arranged on the photosensitive glass paste coating film 27 provided on the substrate 26 and the first exposure is performed. On the upper surface of the photosensitive glass paste coating film 27, substantially the same portions as the openings of the second group of translucent patterns 12 are exposed and cured, but the exposure light is scattered in the photosensitive glass paste coating film 27 and on the lower surface. Since it spreads, the cross section of the exposure part 22 becomes a trapezoid as shown in the figure. As the exposure light scatters, the amount of exposure decreases on the lower surface, and the degree of curing increases as it approaches the upper surface and decreases as it approaches the lower surface.

図４（Ｂ）は、フォトマスク２０を第１の群の透光パターンに平行な方向に（Ｐ２＋Ｐ３）／２の整数倍だけ相対移動し、２回目の露光を行った後の状態を模式的に示している。第２の群の透光パターンの位置が１回目の露光時とは異なるため、１回露光される部分２４と２回露光される部分２５が存在する。上述のように感光性ガラスペースト塗布膜２７で散乱が起こるため、１回の露光による硬化の度合いは上面に近づくほど大きく、下面に近づくほど小さくなっている。そのため、上面付近では１回露光される部分２４および２回露光される部分２５の両方において十分硬化が進んでいるが、下面付近では１回露光される部分２４では硬化が十分ではなく、２回露光される部分２５のみ十分硬化した状態となっている。   FIG. 4B schematically shows a state after the photomask 20 is relatively moved by an integral multiple of (P2 + P3) / 2 in a direction parallel to the light transmission pattern of the first group and the second exposure is performed. It shows. Since the position of the light transmission pattern of the second group is different from that at the time of the first exposure, there are a portion 24 exposed once and a portion 25 exposed twice. As described above, since scattering occurs in the photosensitive glass paste coating film 27, the degree of curing by one exposure increases as it approaches the upper surface, and decreases as it approaches the lower surface. For this reason, both the portion 24 exposed once and the portion 25 exposed twice are sufficiently cured in the vicinity of the upper surface, but the portion 24 exposed once in the vicinity of the lower surface is not sufficiently cured, and is twice Only the exposed portion 25 is sufficiently cured.

図４（Ｃ）は現像後の隔壁パターンの形状を示したものである。上述のように感光性ガラスペースト塗布膜上面付近では１回露光される部分２４でも十分硬化した状態であり、下面付近では１回露光される部分２４では十分硬化していない部分もあるため、現像により未硬化部分および硬化が不十分な部分が除去されることによって比較的矩形な隔壁パターンとなり、底部幅に対する頂部幅の割合が小さすぎるという問題は生じない。   FIG. 4C shows the shape of the partition wall pattern after development. As described above, the portion 24 exposed once is sufficiently cured near the upper surface of the photosensitive glass paste coating film, and the portion 24 exposed once is not sufficiently cured near the lower surface. As a result, the uncured portion and the insufficiently cured portion are removed to form a relatively rectangular partition wall pattern, and the problem of the ratio of the top width to the bottom width being too small does not occur.

なお、前記移動距離ＬはＰ２とＰ３の算術平均値（Ｐ２＋Ｐ３）／２の整数倍であればよいが、奇数倍であることが好ましく、等倍（１倍）であることがさらに好ましい。なお、ここでいう整数倍、奇数倍、等倍とはそれぞれ厳密に整数倍である必要はなく、概ね目的とする移動距離の０．９０〜１．１０倍、好ましくは０．９５〜１．０５倍の範囲内であればよい。   The moving distance L may be an integer multiple of the arithmetic average value (P2 + P3) / 2 of P2 and P3, but is preferably an odd multiple, more preferably equal (1). Note that the integer multiple, odd multiple, and equal multiple here do not have to be strictly integer multiples, but are generally 0.90 to 1.10 times, preferably 0.95 to 1.10 times the target travel distance. It may be within the range of 05 times.

本発明のディスプレイ部材の製造方法に用いる感光性ガラスペーストは、ガラス微粒子を含む無機成分と、感光性成分を含む有機成分からなる。   The photosensitive glass paste used for the manufacturing method of the display member of this invention consists of the inorganic component containing glass microparticles, and the organic component containing a photosensitive component.

ガラス微粒子としては、酸化ビスマス、酸化鉛、酸化亜鉛のうちの少なくとも１種類を合計で５〜５０重量％含有させることによって、ガラス基板２上にパターン加工するのに適した温度特性を有するガラスペーストを得ることができる。特に、酸化ビスマスを５〜５０重量％含有するガラス微粒子を用いると、ペーストのポットライフが長いなどの利点が得られる。   Glass paste having temperature characteristics suitable for patterning on the glass substrate 2 by containing at least one of bismuth oxide, lead oxide, and zinc oxide in a total amount of 5 to 50% by weight as the glass fine particles Can be obtained. In particular, when glass fine particles containing 5 to 50% by weight of bismuth oxide are used, advantages such as a long pot life of the paste can be obtained.

また、酸化リチウム、酸化ナトリウム、酸化カリウムのうち、少なくとも１種類を３〜２０重量％含むガラス微粒子を用いてもよい。アルカリ金属酸化物の添加量は、ペーストの安定性を向上させるためには２０重量％以下、好ましくは、１５重量％以下にすることが好ましい。また、酸化鉛、酸化ビスマス、酸化亜鉛のような金属酸化物と酸化リチウム，酸化ナトリウム、酸化カリウムのようなアルカリ金属酸化物の両方を含有するガラス微粒子を用いれば、より低いアルカリ含有量で、熱軟化温度や線膨脹係数を容易にコントロールすることができる。   Moreover, you may use the glass fine particle which contains 3-20 weight% of at least 1 sort (s) among lithium oxide, sodium oxide, and potassium oxide. The addition amount of the alkali metal oxide is 20% by weight or less, preferably 15% by weight or less in order to improve the stability of the paste. In addition, if glass fine particles containing both metal oxides such as lead oxide, bismuth oxide and zinc oxide and alkali metal oxides such as lithium oxide, sodium oxide and potassium oxide are used, with a lower alkali content, The thermal softening temperature and linear expansion coefficient can be easily controlled.

感光性成分を含む有機成分としては、感光性モノマー、感光性オリゴマー、感光性ポリマーのうちの少なくとも１種類から選ばれた感光性成分を含有することが好ましく、更に、必要に応じて、光重合開始剤、光吸収剤、増感剤、有機溶媒、増感助剤、重合禁止剤を添加する。   The organic component including the photosensitive component preferably contains a photosensitive component selected from at least one of a photosensitive monomer, a photosensitive oligomer, and a photosensitive polymer, and, if necessary, photopolymerization. An initiator, a light absorber, a sensitizer, an organic solvent, a sensitization aid, and a polymerization inhibitor are added.

感光性ガラスペーストの塗布方法としては、スクリーン印刷法、バーコーター、ロールコーター、ダイレクトコーター、ブレードコーターなどを用いることができる。塗布厚みは、塗布回数、スクリーンのメッシュ、ペーストの粘度などを選ぶことによって調整できる。なかでも精度よく、厚膜塗布が可能なダイレクトコーターを用いることが好ましい。   As a method for applying the photosensitive glass paste, a screen printing method, a bar coater, a roll coater, a direct coater, a blade coater, or the like can be used. The coating thickness can be adjusted by selecting the number of coatings, screen mesh, paste viscosity, and the like. Among these, it is preferable to use a direct coater that can be applied with high accuracy and a thick film.

感光性ペーストを塗布した後、通風オーブン、ホットプレート、ＩＲ炉などを用いて乾燥し、感光性ペーストの塗布膜を形成する。   After the photosensitive paste is applied, it is dried using a ventilating oven, a hot plate, an IR furnace, or the like to form a coating film of the photosensitive paste.

続いて、露光、現像により、所望のパターンを形成する。まず、露光装置を用いて露光を行う。通常のフォトリソグラフィ法で行われるように、フォトマスクを用いてマスク露光する。この際使用される活性光源は、例えば、可視光線、近紫外線、紫外線、電子線、Ｘ線、レーザ光などが挙げられる。これらの中で紫外線が最も好ましく、その光源として、例えば、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、ハロゲンランプ、殺菌灯などが使用できる。これらのなかでも超高圧水銀灯が好適である。露光条件は、塗布厚みによって異なるが、１〜１００ｍＷ／ｃｍ^２の出力の超高圧水銀灯を用いて０．１〜１０分間露光を行う。 Subsequently, a desired pattern is formed by exposure and development. First, exposure is performed using an exposure apparatus. Mask exposure is performed using a photomask, as is done by ordinary photolithography. Examples of the active light source used at this time include visible light, near ultraviolet light, ultraviolet light, electron beam, X-ray, and laser light. Among these, ultraviolet rays are most preferable, and as the light source, for example, a low-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, an ultrahigh-pressure mercury lamp, a halogen lamp, or a germicidal lamp can be used. Among these, an ultrahigh pressure mercury lamp is suitable. Exposure conditions vary depending on the coating thickness, but exposure is performed for 0.1 to 10 minutes using an ultrahigh pressure mercury lamp with an output of 1 to 100 mW / cm ² .

その後、上述のように露光後の塗布膜またはフォトマスクを第１の群の透光パターンに平行な方向に移動距離Ｌだけ相対移動させ、２回目の露光を行う。   Thereafter, as described above, the exposed coating film or photomask is relatively moved by a movement distance L in a direction parallel to the first group of light-transmitting patterns, and the second exposure is performed.

次に現像を行う。現像は、浸漬法やスプレー法、ブラシ法等で行うことができる。現像液は、感光性ペースト中の溶解させたい有機成分が溶解可能である溶液を用いる。感光性ペースト中にカルボキシル基などの酸性基をもつ化合物が存在する場合、アルカリ水溶液で現像できる。アルカリ水溶液としては、水酸化ナトリウムや炭酸ナトリウム、炭酸ナトリウム水溶液、水酸化カルシウム水溶液などが使用できるが、有機アルカリ水溶液を用いた方が焼成時にアルカリ成分を除去しやすいので好ましい。有機アルカリとしては、一般的なアミン化合物を用いることができる。具体的には、テトラメチルアンモニウムヒドロキサイド、トリメチルベンジルアンモニウムヒドロキサイド、モノエタノールアミン、ジエタノールアミンなどが挙げられる。アルカリ水溶液の濃度は、通常、０．０１〜１０重量％、より好ましくは０．１〜５重量％である。アルカリ濃度が低過ぎれば可溶部が除去されない傾向にあり、アルカリ濃度が高過ぎれば、パターン部を剥離したり、また、非可溶部を腐食させる傾向にある。また、現像時の現像温度は、２０〜５０℃で行うことが工程管理上好ましい。   Next, development is performed. Development can be performed by a dipping method, a spray method, a brush method, or the like. As the developer, a solution in which an organic component to be dissolved in the photosensitive paste can be dissolved is used. When a compound having an acidic group such as a carboxyl group is present in the photosensitive paste, it can be developed with an alkaline aqueous solution. As the alkaline aqueous solution, sodium hydroxide, sodium carbonate, sodium carbonate aqueous solution, calcium hydroxide aqueous solution or the like can be used. However, it is preferable to use an organic alkaline aqueous solution because an alkaline component can be easily removed during firing. As the organic alkali, a general amine compound can be used. Specific examples include tetramethylammonium hydroxide, trimethylbenzylammonium hydroxide, monoethanolamine, and diethanolamine. The concentration of the alkaline aqueous solution is usually 0.01 to 10% by weight, more preferably 0.1 to 5% by weight. If the alkali concentration is too low, the soluble portion tends not to be removed. If the alkali concentration is too high, the pattern portion tends to be peeled off or the insoluble portion tends to be corroded. The development temperature during development is preferably 20 to 50 ° C. in terms of process control.

このようにして形成した隔壁パターンについて、必要に応じ焼成炉にて焼成を行う。焼成雰囲気や温度は、ペーストや基板の種類によって異なるが、空気中、窒素、水素などの雰囲気中で焼成する。焼成炉としては、バッチ式の焼成炉やローラーハース式の連続型焼成炉を用いることができる。焼成温度は、４００〜８００℃で行うと良い。ガラス基板上に直接隔壁を形成する場合は、４５０〜６２０℃の温度で１０〜６０分間保持して焼成を行うと良い。   The partition wall pattern thus formed is fired in a firing furnace as necessary. The firing atmosphere and temperature vary depending on the type of paste and substrate, but firing is performed in an atmosphere of air, nitrogen, hydrogen, or the like. As the firing furnace, a batch-type firing furnace or a roller hearth-type continuous firing furnace can be used. The firing temperature is preferably 400 to 800 ° C. In the case where the partition wall is directly formed on the glass substrate, it is preferable to perform baking while maintaining the temperature at 450 to 620 ° C. for 10 to 60 minutes.

本発明のＰＤＰ用背面板の製造方法は、上述のディスプレイ用部材の製造方法を、上述のＰＤＰ用背面板の製造方法に適用したものである。すなわち、基板上にストライプ状のアドレス電極もしくはアドレス電極の前駆体、ならびに前記アドレス電極もしくはアドレス電極の前駆体を覆う誘電体層もしくは誘電体層の前駆体を設け、前記誘電体層もしくは誘電体層の前駆体上にネガ型感光性ガラスペーストを塗布し、上述のディスプレイの隔壁形成用フォトマスクを、前記第１の群の透光パターンが前記アドレス電極もしくはアドレス電極の前駆体と平行かつ隣り合う前記アドレス電極もしくはアドレス電極の前駆体の中間位置となるように配置し、露光後の基板または前記フォトマスクを前記第１の群の透光パターンに平行な方向に移動距離Ｌ相対移動させ、さらに前記フォトマスクを介して露光し、現像し、焼成することにより隔壁を形成するプラズマディスプレイ用背面板の製造方法であって、前記移動距離ＬがＰ２とＰ３の算術平均値（Ｐ２＋Ｐ３）／２の整数倍であることを特徴とするＰＤＰ用背面板の製造方法である。   The manufacturing method of the PDP back plate of the present invention is obtained by applying the above-described display member manufacturing method to the above-described PDP back plate manufacturing method. That is, a striped address electrode or address electrode precursor and a dielectric layer or dielectric layer precursor covering the address electrode or address electrode precursor are provided on the substrate, and the dielectric layer or dielectric layer is provided. A negative photosensitive glass paste is applied on the precursor, and the light-transmitting pattern of the first group is parallel and adjacent to the address electrode or the address electrode precursor. It is arranged so as to be an intermediate position of the address electrode or the precursor of the address electrode, and the exposed substrate or the photomask is moved relative to the movement distance L in a direction parallel to the light transmission pattern of the first group, A back plate for a plasma display that forms barrier ribs by exposing, developing and baking through the photomask. A manufacturing method, a manufacturing method of the PDP for the back plate, wherein the moving distance L is an integer multiple of P2 arithmetic mean value of P3 (P2 + P3) / 2.

ＰＤＰ用部材の製造方法に適用する場合は、第１の群の透光パターンにより主隔壁を、第２の群の透光パターンにより補助隔壁を形成する。主隔壁は、図１に示すとおりアドレス電極と平行に、かつ隣り合うアドレス電極の間に位置するように設けるため、露光の際は、第１の群の透光パターンがアドレス電極もしくはアドレス電極の前駆体と平行かつ隣り合うアドレス電極もしくはアドレス電極の前駆体の中間位置となるように配置する必要がある。   When applied to a method for manufacturing a PDP member, a main partition is formed by a first group of light transmission patterns, and an auxiliary partition is formed by a second group of light transmission patterns. As shown in FIG. 1, the main barrier ribs are provided in parallel with the address electrodes and between adjacent address electrodes. Therefore, at the time of exposure, the first group of translucent patterns is formed by the address electrodes or the address electrodes. It is necessary to arrange them so as to be in the middle position between the address electrodes or address electrode precursors which are parallel and adjacent to the precursor.

なお、上述のディスプレイ用部材の製造方法と同様、前記移動距離ＬはＰ２とＰ３の算術平均値（Ｐ２＋Ｐ３）／２の整数倍であればよいが、奇数倍であることが好ましく、等倍（１倍）であることがさらに好ましい。なお、ここでいう整数倍、奇数倍、等倍とはそれぞれ厳密に整数倍である必要はなく、概ね目的とする移動距離の０．９０〜１．１０倍、好ましくは０．９５〜１．０５倍の範囲内であればよい。   As in the above-described manufacturing method of a display member, the moving distance L may be an integer multiple of P2 and P3 arithmetic average value (P2 + P3) / 2, but is preferably an odd multiple, equal magnification ( 1 time) is more preferable. Note that the integer multiple, odd multiple, and equal multiple here do not have to be strictly integer multiples, but are generally 0.90 to 1.10 times, preferably 0.95 to 1.10 times the target travel distance. It may be within the range of 05 times.

以下に、本発明のＰＤＰ用背面板の製造方法を手順に沿って説明する。   Below, the manufacturing method of the backplate for PDP of this invention is demonstrated along a procedure.

本発明のＰＤＰ用部材としての背面板１に用いる基板としては、ソーダガラスの他にＰＤＰ用の高歪点ガラスである旭硝子社製の“ＰＤ２００”や日本電気硝子社製の“ＰＰ８”等を用いることができる。   As a substrate used for the back plate 1 as a member for PDP of the present invention, in addition to soda glass, “PD200” manufactured by Asahi Glass Co., Ltd., “PP8” manufactured by Nippon Electric Glass Co., Ltd., which is a high strain point glass for PDP, etc. Can be used.

ガラス基板上に銀やアルミニウム、クロム、ニッケルなどの金属によりアドレス電極またはその前駆体を形成する。形成方法は、これら金属粉末と有機バインダーを主成分とする金属ペーストをスクリーン印刷でパターン印刷する方法や、有機バインダーとして感光性有機成分を用いた感光性金属ペーストを塗布した後に、フォトマスク２０を介してパターン露光し、未硬化部分を現像工程で溶解除去し、４００〜６００℃の温度で焼成し、金属パターンを形成する感光性ペースト法を用いることができる。また、ガラス基板上にクロム、アルミニウム、銅等の金属をスパッタリングした後に、レジストを塗布し、レジストをパターン露光・現像した後にエッチングにより、不要部分の金属を取り除くエッチング法を用いることができる。電極厚みは１〜１０μｍが好ましく、２〜５μｍがより好ましい。電極厚みが薄すぎると抵抗値が大きくなり正確な駆動の際に負担がかかり、厚すぎるとコスト的に不利な傾向にある。アドレス電極３の幅は、好ましくは２０〜２００μｍである。アドレス電極３の幅が細すぎると断線、欠けなどの欠陥が生じやすくなり歩留まりが低下する、抵抗値が高くなり正確な駆動が困難となるなどの問題が生じる。また、太すぎると隣合う電極間の距離が小さくなるため、ショート欠陥が生じやすい傾向にある。さらに、アドレス電極は表示セル（画素の各ＲＧＢを形成する領域）に応じたピッチで形成される。通常のＰＤＰでは１００〜５００μｍ、高精細ＰＤＰにおいては１００〜２５０μｍのピッチで形成するのが好ましい。金属粉末と有機バインダーを主成分とする金属ペーストを用いる場合、最終的には焼成して有機成分を除去するが、先に電極のみを焼成して電極を形成した後に次工程を行っても良いが、焼成を行わず電極前駆体の状態で次工程を行い、後の工程において後述の誘電体層、隔壁などと同時に焼成して電極としても良い。   An address electrode or a precursor thereof is formed on a glass substrate with a metal such as silver, aluminum, chromium, or nickel. The forming method includes a method of pattern printing a metal paste mainly composed of these metal powders and an organic binder by screen printing, or after applying a photosensitive metal paste using a photosensitive organic component as an organic binder. It is possible to use a photosensitive paste method in which a pattern is exposed to light, an uncured portion is dissolved and removed in a development step, and baked at a temperature of 400 to 600 ° C. to form a metal pattern. Further, an etching method in which a metal such as chromium, aluminum, copper, or the like is sputtered on a glass substrate, a resist is applied, the resist is subjected to pattern exposure / development, and an unnecessary portion of the metal is removed by etching can be used. The electrode thickness is preferably 1 to 10 μm, and more preferably 2 to 5 μm. If the electrode thickness is too thin, the resistance value becomes large, and a burden is imposed on accurate driving. If it is too thick, the cost tends to be disadvantageous. The width of the address electrode 3 is preferably 20 to 200 μm. If the width of the address electrode 3 is too narrow, defects such as disconnection and chipping are likely to occur, resulting in a decrease in yield, a high resistance value, and accurate driving being difficult. On the other hand, if it is too thick, the distance between adjacent electrodes becomes small, so that a short defect tends to occur. Further, the address electrodes are formed at a pitch corresponding to the display cell (region where each RGB of the pixel is formed). The pitch is preferably 100 to 500 μm for a normal PDP and 100 to 250 μm for a high definition PDP. When using a metal paste mainly composed of metal powder and an organic binder, the organic component is finally removed by baking. However, the next step may be performed after the electrode is first formed by baking only the electrode. However, the next step may be performed in the state of an electrode precursor without firing, and the electrodes may be fired at the same time as a dielectric layer and partition walls described later in the subsequent step.

次いで誘電体層またはその前駆体を形成する。誘電体層はガラス粉末と有機バインダーを主成分とするガラスペーストをアドレス電極のパターン上に塗布し、４００〜６００℃で焼成することにより形成できる。誘電体層の厚みは好ましくは３〜３０μｍ、より好ましくは３〜２０μｍである。誘電体層の厚みが薄すぎるとピンホールが多発する傾向にあり、厚すぎると放電電圧が高くなり、消費電力が大きくなる傾向にある。誘電体層はガラス粉末と有機バインダーを主成分とするガラスペーストでアドレス電極を覆う形で塗布した後に、４００〜６００℃で焼成することにより形成できる。誘電体層に用いるガラスペーストには、酸化鉛、酸化ビスマス、酸化亜鉛、酸化リンの少なくとも１種類以上を含有し、これらを合計で１０〜８０重量％含有するガラス粉末を好ましく用いることができる。   Next, a dielectric layer or a precursor thereof is formed. The dielectric layer can be formed by applying a glass paste mainly composed of glass powder and an organic binder on the pattern of the address electrode and firing at 400 to 600 ° C. The thickness of the dielectric layer is preferably 3 to 30 μm, more preferably 3 to 20 μm. If the thickness of the dielectric layer is too thin, pinholes tend to occur frequently, and if it is too thick, the discharge voltage tends to be high and the power consumption tends to increase. The dielectric layer can be formed by applying a glass paste containing glass powder and an organic binder as main components so as to cover the address electrodes, and then baking at 400 to 600 ° C. As the glass paste used for the dielectric layer, glass powder containing at least one of lead oxide, bismuth oxide, zinc oxide and phosphorus oxide and containing 10 to 80% by weight in total can be preferably used.

該配合物を１０重量％以上とすることで、６００℃以下での焼成が容易になり、８０重量％以下とすることで、結晶化を防ぎ透過率の低下を防止する。ガラス粉末と有機バインダーを主成分とするガラスペースト塗布膜は、最終的には焼成して有機成分を除去するが、ガラスペースト塗布膜を形成した後に単独、あるいは先に設けたアドレス電極前駆体と同時に焼成を行っても良いし、後で設ける隔壁パターンと同時に焼成しても良い。   By making this blend 10% by weight or more, firing at 600 ° C. or less becomes easy, and by making it 80% by weight or less, crystallization is prevented and a decrease in transmittance is prevented. Glass paste coating film composed mainly of glass powder and organic binder is finally baked to remove organic components, but after forming the glass paste coating film alone or previously provided with the address electrode precursor Baking may be performed at the same time, or may be performed at the same time as a partition pattern provided later.

その後、上述の方法を用いて、誘電体層上に放電セルを仕切るための隔壁を形成する。隔壁の高さは、８０μｍ〜２００μｍが適している。８０μｍ以上とすることで、後工程で隔壁間に設ける蛍光体と前面板のスキャン電極が近づきすぎるのを防ぎ、放電による蛍光体の劣化を防ぐことができる。また、２００μｍ以下とすることで、スキャン電極での放電と蛍光体の距離を近づけ、十分な輝度を得ることができる。主隔壁のピッチＰ１は、１００μｍ≦Ｐ１≦５００μｍのものがよく用いられる。また、高精細プラズマディスプレイとしては、隔壁のピッチＰ１が、１００μｍ≦Ｐ１≦３００μｍである。１００μｍ以上とすることで放電空間を広くし十分な輝度を得ることができ、５００μｍ以下とすることで画素の細かいきれいな映像表示ができる。３００μｍ以下にすることにより、ＨＤＴＶ（ハイビジョン）レベルの美しい映像を表示することができる。隔壁の幅の半値幅Ｌは、１０μｍ≦Ｌ≦５０μｍであることが好ましい。１０μｍ以上とすることで強度を保ち、前面板と背面板１を封着する際に破損が生じるのを防ぐことができる。また、５０μｍ以下とすることで蛍光体の形成面積を大きくとることができ高い輝度を得ることができる。   Thereafter, barrier ribs for partitioning the discharge cells are formed on the dielectric layer using the method described above. The height of the partition wall is suitably 80 μm to 200 μm. By setting the thickness to 80 μm or more, it is possible to prevent the phosphor provided between the barrier ribs in the subsequent process from being too close to the scan electrode of the front plate, and to prevent the phosphor from being deteriorated due to discharge. Further, by setting the thickness to 200 μm or less, the distance between the discharge at the scan electrode and the phosphor can be reduced, and sufficient luminance can be obtained. The main partition pitch P1 is often 100 μm ≦ P1 ≦ 500 μm. In the high-definition plasma display, the partition pitch P1 is 100 μm ≦ P1 ≦ 300 μm. By setting the thickness to 100 μm or more, the discharge space can be widened and sufficient luminance can be obtained, and by setting the thickness to 500 μm or less, a fine image with fine pixels can be displayed. By setting the thickness to 300 μm or less, it is possible to display a beautiful video of HDTV (high definition) level. The full width at half maximum L of the partition wall is preferably 10 μm ≦ L ≦ 50 μm. By setting the thickness to 10 μm or more, the strength can be maintained, and damage can be prevented from occurring when the front plate and the back plate 1 are sealed. Further, when the thickness is 50 μm or less, the formation area of the phosphor can be increased and high luminance can be obtained.

感光性ガラスペーストを誘電体層またはその前駆体上に塗布し、フォトマスクを介して露光し、フォトマスクと露光後の感光性ガラスペースト塗布膜とを相対移動し、さらに露光し、現像、焼成を行って隔壁を形成する。塗布、露光、現像、焼成については、上述のディスプレイ用部材の製造方法と同様に行うことができる。   Photosensitive glass paste is applied onto the dielectric layer or its precursor, exposed through a photomask, the photomask and the exposed photosensitive glass paste coating film are moved relative to each other, further exposed, developed, and baked. To form a partition wall. About application | coating, exposure, image development, and baking, it can carry out similarly to the manufacturing method of the above-mentioned member for a display.

次いで所定のアドレス電極と平行方向に形成された主隔壁間に、Ｒ（赤）Ｇ（緑）Ｂ（青）各色に発光する蛍光体層を形成する。蛍光体層は、蛍光体粉末、有機バインダーおよび有機溶媒を主成分とする蛍光体ペーストを所定の主隔壁間に塗着させ、乾燥し、必要に応じて焼成することにより形成することができる。さらに、先のアドレス電極、および誘電体層、隔壁形成について、それぞれ焼成工程をすること記載したが、各電極ペースト、誘電体ペーストを変更することにより、アドレス電極／誘電体層、誘電体層／隔壁、アドレス電極／誘電体層／隔壁を一括して焼成することも可能である。この場合にも本発明の効果は損なわれることはない。   Next, phosphor layers that emit light of each color of R (red), G (green), and B (blue) are formed between main barrier ribs formed in a direction parallel to predetermined address electrodes. The phosphor layer can be formed by applying a phosphor paste mainly composed of phosphor powder, an organic binder, and an organic solvent between predetermined main partition walls, drying, and firing if necessary. Furthermore, although it has been described that the address electrode, the dielectric layer, and the barrier rib formation are respectively fired, the address electrode / dielectric layer, the dielectric layer / It is also possible to fire the barrier ribs, address electrodes / dielectric layers / barriers at once. Even in this case, the effect of the present invention is not impaired.

以下に、本発明を実施例により具体的に説明する。ただし、本発明はこれに限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be specifically described by way of examples. However, the present invention is not limited to this.

４２インチサイズのＡＣ（交流）型プラズマディスプレイパネルの背面板を形成し、評価を実施した。形成方法を順に説明する。   A 42-inch AC (alternating current) type plasma display panel back plate was formed and evaluated. The forming method will be described in order.

（実施例１〜６、比較例１）
ガラス基板として、５９０×９６４×２．８ｍｍの４２インチサイズのＰＤ−２００（旭硝子（株）製）を使用した。この基板上に、アドレス電極として、平均粒径２．０μｍの銀粉末を７０重量部、酸化ビスマスを６９重量％、酸化珪素２４重量％、酸化アルミニウム４重量％、酸化硼素３重量％の組成からなる平均粒径２．２μｍのガラス粉末２重量部、アクリル酸、メチルメタクリレート、スチレンの共重合ポリマー８重量部、トリメチロールプロパントリアクリレート７重量部、ベンゾフェノン３重量部、ブチルカルビトールアクリレート７重量部、ベンジルアルコール３重量部からなる感光性銀ペーストを用いて、フォトリソグラフィ法により、ピッチ１６０μｍ、線幅６０μｍ、焼成後厚み３μｍのストライプ状電極を形成した。 (Examples 1-6, Comparative Example 1)
As a glass substrate, PD-200 (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.) having a size of 590 × 964 × 2.8 mm and 42 inches was used. On this substrate, as an address electrode, a composition of 70 parts by weight of silver powder having an average particle diameter of 2.0 μm, 69% by weight of bismuth oxide, 24% by weight of silicon oxide, 4% by weight of aluminum oxide, and 3% by weight of boron oxide. 2 parts by weight of glass powder having an average particle size of 2.2 μm, 8 parts by weight of a copolymer of acrylic acid, methyl methacrylate and styrene, 7 parts by weight of trimethylolpropane triacrylate, 3 parts by weight of benzophenone, 7 parts by weight of butyl carbitol acrylate A striped electrode having a pitch of 160 μm, a line width of 60 μm, and a thickness after firing of 3 μm was formed by photolithography using a photosensitive silver paste comprising 3 parts by weight of benzyl alcohol.

この基板に、酸化ビスマスを７８重量％、酸化珪素１４重量％、酸化アルミニウム３重量％、酸化亜鉛３重量％、酸化硼素２重量％を含有する低融点ガラスの粉末を６０重量％、平均粒子径０．３μｍの酸化チタン粉末を１０重量％、エチルセルロース１５重量％、テルピネオール１５重量％誘電体ペースト塗布した後、５８０℃で焼成して、厚み１０μｍの誘電体層４を形成した。   On this substrate, 60% by weight of low melting point glass powder containing 78% by weight of bismuth oxide, 14% by weight of silicon oxide, 3% by weight of aluminum oxide, 3% by weight of zinc oxide and 2% by weight of boron oxide, average particle diameter A dielectric paste 4 having a thickness of 10 μm was formed by applying 0.3% of titanium oxide powder 10% by weight, 15% by weight of ethyl cellulose and 15% by weight of terpineol and then baking at 580 ° C.

隔壁５形成用の感光性ペーストは以下の組成のものを用いた。   The photosensitive paste for forming the partition walls 5 had the following composition.

ガラス粉末：Ｂｉ_２Ｏ_３／ＳｉＯ_２／Ａｌ_２Ｏ_３／ＺｎＯ／Ｂ_２Ｏ_３＝８２／５／３／５／３／２からなるガラス：平均粒径２μｍのガラス粉末：６７重量部
フィラー：平均粒径０．２μｍの酸化チタン：３重量部
ポリマー：”サイクロマー”Ｐ（ＡＣＡ２５０、ダイセル化学工業社製）：１０重量部
有機溶剤（１）：ベンジルアルコール：４重量部
有機溶剤（２）：ブチルカルビトールアセテート：３重量部
モノマー：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート：８重量部
光重合開始剤：ベンゾフェノン：３重量部
酸化防止剤：１，６−ヘキサンジオール−ビス［（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］：１重量部
有機染料：ベージックブルー２６：０．０１重量部
チキソトロピー付与剤：Ｎ，Ｎ’−１２−ヒドロキシステアリン酸ブチレンジアミン：０．５重量部
界面活性剤：ポリオキシエチレンセチルエーテル：０．４９重量部。 Glass powder: Bi ₂ O ₃ / SiO ₂ / Al ₂ O ₃ / ZnO / B ₂ O ₃ = 82/5/3/5/3/2 glass: glass powder with an average particle diameter of 2 μm: 67 parts by weight filler : Titanium oxide having an average particle size of 0.2 μm: 3 parts by weight Polymer: “Cyclomer” P (ACA250, manufactured by Daicel Chemical Industries): 10 parts by weight organic solvent (1): benzyl alcohol: 4 parts by weight organic solvent (2 ): Butyl carbitol acetate: 3 parts by weight Monomer: Dipentaerythritol hexaacrylate: 8 parts by weight Photopolymerization initiator: Benzophenone: 3 parts by weight Antioxidant: 1,6-hexanediol-bis [(3,5-di -T-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate]: 1 part by weight Organic dye: Basic Blue 26: 0.01 part by weight thixotropic agent: N, '12-hydroxystearic acid butylene diamine: 0.5 parts by weight Surfactant: Polyoxyethylene cetyl ether: 0.49 parts by weight.

上記ペーストをスリットダイコーターにて厚み３００μｍで塗布した後、クリーンオーブンにて１００℃、４０分の乾燥を行い、感光性ペースト膜を形成した。これに対し、所定のフォトマスクとのギャップを１５０μｍとり、露光を実施した。各実施例、比較例で該露光に使用したフォトマスクパターンの第１の群の透光パターンの幅Ｘ１、第２の群の透光パターンの幅Ｘ２、第１の群の透光パターンのピッチＰ１、第２の群の透光パターンのピッチのうち、第１の群の透光パターンの長手方向最外部から奇数番目のピッチ、Ｐ２、第２の群の透光パターンのピッチのうち、第１の群の透光パターンの長手方向最外部から偶数番目のピッチＰ３と、Ｐ３とＰ２の差｜Ｐ３−Ｐ２｜、｜Ｐ３−Ｐ２｜／Ｘ２を表１に示す。なお、移動距離ＬはＰ２とＰ３の算術平均値（Ｐ２＋Ｐ３）／２である４８０μｍとした。   The paste was applied with a slit die coater to a thickness of 300 μm, and then dried in a clean oven at 100 ° C. for 40 minutes to form a photosensitive paste film. On the other hand, exposure was carried out with a gap of 150 μm from a predetermined photomask. The width X1 of the first group of light transmission patterns, the width X2 of the second group of light transmission patterns, and the pitch of the first group of light transmission patterns used in the exposure in each of the examples and comparative examples. Among the pitches of P1 and the second group of translucent patterns, the odd-numbered pitches from the outermost part in the longitudinal direction of the first group of translucent patterns, P2 and the pitches of the second group of translucent patterns of the second group Table 1 shows even-numbered pitches P3 from the outermost part in the longitudinal direction of the first group of translucent patterns, and differences | P3-P2 |, | P3-P2 | / X2 between P3 and P2. The moving distance L was set to 480 μm which is an arithmetic average value (P2 + P3) / 2 of P2 and P3.

本実験にて露光に使用したフォトマスクのＰ１は１６０μｍ、Ｐは４８０μｍであるが本発明はこれに限定されるものではない。上記のようにして形成した露光済み基板を０．４重量％の炭酸ナトリウム水溶液で現像し、隔壁５パターンを形成した。パターン形成終了済み基板を５９０℃で１５分間焼成を行った。焼成後得られた格子状隔壁のＷ１、Ｗ２、Ｗ３、Ｗ４の測定結果とＷ１／Ｗ２、Ｗ３／Ｗ４、Ｗ３／Ｗ４の値を表２に示す。ただしＷ１、Ｗ２、Ｗ３、Ｗ４はそれぞれ該主隔壁、該補助隔壁の中央（隣り合う交差部の中間点）における幅を測定したものである。   P1 of the photomask used for exposure in this experiment is 160 μm and P is 480 μm, but the present invention is not limited to this. The exposed substrate formed as described above was developed with a 0.4 wt% aqueous sodium carbonate solution to form a partition 5 pattern. The substrate on which pattern formation was completed was baked at 590 ° C. for 15 minutes. Table 2 shows the measurement results of W1, W2, W3, and W4 and the values of W1 / W2, W3 / W4, and W3 / W4 of the grid-like partition walls obtained after firing. However, W1, W2, W3, and W4 are the widths measured at the center of the main partition and the auxiliary partition (the midpoint between adjacent intersections), respectively.

実施例１〜５は０．５≦Ｗ１／Ｗ２≦１かつ０．５≦Ｗ３／Ｗ４≦１かつ０．７≦Ｗ４／Ｗ２≦１．３を満たすことができた。比較例においては１〜３のいずれも本条件を満足することはできなかった。   In Examples 1 to 5, 0.5 ≦ W1 / W2 ≦ 1 and 0.5 ≦ W3 / W4 ≦ 1 and 0.7 ≦ W4 / W2 ≦ 1.3 could be satisfied. In the comparative example, none of 1 to 3 could satisfy this condition.

本発明に係るディスプレイの隔壁形成用フォトマスク、ディスプレイ用部材の製造方法およびプラズマディスプレイ用背面板の製造方法は、プラズマディスプレイの製造等に利用可能である。   The display partition forming photomask, the display member manufacturing method and the plasma display back plate manufacturing method according to the present invention can be used for manufacturing a plasma display or the like.

１：背面板
２：ガラス基板
３：アドレス電極
４：誘電体層
５：隔壁
６：蛍光体層
７：主隔壁
８：補助隔壁
１０：遮光部
１１：第１の群の透光パターン
１２：第２の群の透光パターン
２０：フォトマスク
２１：未露光部
２２：露光部
２３：隔壁パターン
２４：１回露光される部分
２５：２回露光される部分
２６：基板
２７：感光性ガラスペースト塗布膜
Ｐ１：第１の群の透光パターンのピッチ
Ｐ２：第２の群の透光パターンのピッチのうち、第１の群の透光パターンの長手方向最外部から奇数番目のピッチ
Ｐ３：第２の群の透光パターンのピッチのうち、第１の群の透光パターンの長手方向最外部から偶数番目のピッチ
Ｗ１：主隔壁頂部幅
Ｗ２：主隔壁底部幅
Ｗ３：補助隔壁頂部幅
Ｗ４：補助隔壁底部幅
Ｘ１：主隔壁形成用透光部幅
Ｘ２：補助隔壁形成用透光部
1: Back plate 2: Glass substrate 3: Address electrode 4: Dielectric layer 5: Partition wall 6: Phosphor layer 7: Main partition wall 8: Auxiliary partition wall 10: Shading part 11: First group of light-transmitting patterns 12: No. Translucent pattern 20 of 2 groups: Photomask 21: Unexposed part 22: Exposed part 23: Partition pattern 24: Part exposed twice: Part exposed twice: Substrate 27: Application of photosensitive glass paste Film P1: Pitch P2 of the first group of light transmission patterns P2: Odd pitch P3: Second of the pitches of the second group of light transmission patterns from the outermost portion in the longitudinal direction of the first group of light transmission patterns Among the pitches of the light transmission patterns of the first group, the even-numbered pitches W1: the main partition top width W2: the main partition bottom width W3: the auxiliary partition top width W4: auxiliary Partition bottom width X1: Translucent portion width X2 for main partition formation: Auxiliary The wall-forming light-transmitting portions

Claims (9)

ネガ型感光性ペーストを用いたフォトリソグラフィ法により格子状の隔壁を形成するために用いるディスプレイの隔壁形成用フォトマスクであって、ストライプ状の第１の群の透光パターンおよび前記第１の群の透光パターンに直交するストライプ状の第２の群の透光パターンからなる格子状の透光パターンを有し、前記第２の群の透光パターンのピッチのうち、前記第１の群の透光パターンの長手方向最外部から奇数番目のピッチＰ２および前記第１の群の透光パターンの長手方向最外部から偶数番目のピッチＰ３がそれぞれ一定であり、かつＰ２とＰ３が異なることを特徴とするディスプレイの隔壁形成用フォトマスク。   A display partition forming photomask for use in forming a grid-shaped partition wall by a photolithography method using a negative photosensitive paste, comprising: a stripe-shaped first group of translucent patterns and the first group A lattice-shaped light transmission pattern composed of a stripe-shaped second group of light transmission patterns orthogonal to the light transmission pattern of the first group of the pitches of the light transmission patterns of the second group. The odd-numbered pitch P2 from the outermost portion in the longitudinal direction of the translucent pattern and the even-numbered pitch P3 from the outermost portion in the longitudinal direction of the first group of translucent patterns are constant, and P2 and P3 are different. A photomask for forming partition walls of a display. Ｐ２とＰ３の差が８μｍ以上である、請求項１に記載のディスプレイの隔壁形成用フォトマスク。   The partition photomask for forming a display partition according to claim 1, wherein a difference between P2 and P3 is 8 µm or more. Ｐ２とＰ３の差が２５μｍ以上である、特徴とする請求項２に記載のディスプレイの隔壁形成用フォトマスク。   The photomask for forming partition walls of a display according to claim 2, wherein a difference between P2 and P3 is 25 µm or more. 前記第２の群の透光パターンの幅Ｘ２が一定であり、Ｐ２とＰ３の差がＸ２の２．０倍以下である、請求項１〜３のいずれかに記載のディスプレイの隔壁形成用フォトマスク。   4. The photo for forming a partition wall of a display according to claim 1, wherein a width X <b> 2 of the translucent pattern of the second group is constant, and a difference between P <b> 2 and P <b> 3 is 2.0 times or less of X <b> 2. mask. Ｐ２とＰ３の差がＸ２の１．５倍以下である、請求項４に記載のディスプレイの隔壁形成用フォトマスク。   The photomask for forming partition walls of a display according to claim 4, wherein a difference between P2 and P3 is 1.5 times or less of X2. 請求項１〜５のいずれかに記載のディスプレイの隔壁形成用フォトマスクを介して、基板上にネガ型感光性ペーストを塗布して得られる塗布膜を露光し、露光後の前記塗布膜または前記フォトマスクを前記第１の群の透光パターンに平行な方向に移動距離Ｌだけ相対移動させ、さらに前記フォトマスクを介して露光し、現像するディスプレイ用部材の製造方法であって、前記移動距離ＬがＰ２とＰ３の算術平均値（Ｐ２＋Ｐ３）／２の整数倍であることを特徴とするディスプレイ用部材の製造方法。   The coating film obtained by apply | coating a negative photosensitive paste on a board | substrate through the photomask for barrier rib formation of the display in any one of Claims 1-5 is exposed, The said coating film after exposure or the said A method for manufacturing a display member, wherein a photomask is relatively moved in a direction parallel to the light transmission pattern of the first group by a moving distance L, and further exposed and developed through the photomask, wherein the moving distance is A method for producing a display member, wherein L is an integer multiple of an arithmetic average value of P2 and P3 (P2 + P3) / 2. 前記移動距離ＬがＰ２とＰ３の算術平均値（Ｐ２＋Ｐ３）／２に等しい、請求項６に記載のディスプレイ用部材の製造方法。   The method for manufacturing a display member according to claim 6, wherein the moving distance L is equal to an arithmetic average value (P2 + P3) / 2 of P2 and P3. 基板上にストライプ状のアドレス電極もしくはアドレス電極の前駆体、ならびに前記アドレス電極もしくはアドレス電極の前駆体を覆う誘電体層もしくは誘電体層の前駆体を設け、前記誘電体層もしくは誘電体層の前駆体上にネガ型感光性ガラスペーストを塗布し、請求項１〜５のいずれかに記載のディスプレイの隔壁形成用フォトマスクを、前記第１の群の透光パターンが前記アドレス電極もしくはアドレス電極の前駆体と平行かつ隣り合う前記アドレス電極もしくはアドレス電極の前駆体の中間位置となるように配置し、露光後の基板または前記フォトマスクを前記第１の群の透光パターンに平行な方向に移動距離Ｌだけ相対移動させ、さらに前記フォトマスクを介して露光し、現像し、焼成することにより隔壁を形成するプラズマディスプレイ用背面板の製造方法であって、前記移動距離ＬがＰ２とＰ３の算術平均値（Ｐ２＋Ｐ３）／２の整数倍であることを特徴とするプラズマディスプレイ用背面板の製造方法。   A striped address electrode or address electrode precursor, and a dielectric layer or dielectric layer precursor covering the address electrode or address electrode precursor are provided on a substrate, and the dielectric layer or dielectric layer precursor is provided. A negative photosensitive glass paste is applied on the body, and the barrier rib forming photomask of the display according to any one of claims 1 to 5, wherein the first group of translucent patterns is the address electrodes or the address electrodes. Arranged so as to be in the middle position between the address electrodes or address electrode precursors that are parallel to and adjacent to the precursor, and move the exposed substrate or the photomask in a direction parallel to the light transmission pattern of the first group Relatively moved by a distance L, and further exposed through the photomask, developed, and baked to form a plasma display that forms barrier ribs. A method of manufacturing a play for the rear plate, and the moving distance L is the manufacturing method of the back plate for a plasma display, which is a integral multiple of P2 arithmetic mean value of P3 (P2 + P3) / 2. 前記移動距離ＬがＰ２とＰ３の算術平均値（Ｐ２＋Ｐ３）／２に等しい、請求項８に記載のプラズマディスプレイ用背面板の製造方法。
The method for manufacturing a back plate for a plasma display according to claim 8, wherein the moving distance L is equal to an arithmetic average value (P2 + P3) / 2 of P2 and P3.

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