JP2012069848A

JP2012069848A - Drying equipment

Info

Publication number: JP2012069848A
Application number: JP2010214957A
Authority: JP
Inventors: Takashi Kakimura; 祟柿村; Fumihiko Ikeda; 文彦池田
Original assignee: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Current assignee: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority date: 2010-09-27
Filing date: 2010-09-27
Publication date: 2012-04-05
Anticipated expiration: 2030-09-27
Also published as: JP5539825B2

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a drying equipment capable of surely drying a substrate while equipment costs and operation costs are reduced and easily executing maintenance of the equipment even when a substrate to be dried is large in size.SOLUTION: Ten support bars 31 coupled to a pair of dividing plates 47 which are connected with a rectification board 41 constituting a movement support part and support pins 32 arranged on the support bars 31 are moved to a maintenance position by the action of a pair of slide rails 71. Then, an operator can access an maintenance area by detaching a door part 62 from a sidewall 61.

Description

この発明は、例えば、有機ＥＬ表示装置用ガラス基板、液晶表示装置用ガラス基板、ＰＤＰ用ガラス基板あるいは半導体製造装置用マスク基板、フォトマスク用ガラス基板等の基板の表面に塗布された薄膜を乾燥する乾燥装置に関する。 This invention dries a thin film applied on the surface of a substrate such as a glass substrate for an organic EL display device, a glass substrate for a liquid crystal display device, a glass substrate for a PDP or a mask substrate for a semiconductor manufacturing device, a glass substrate for a photomask, etc. The present invention relates to a drying apparatus.

液晶表示装置用ガラス基板等の基板に塗布されたフォトレジスト等の薄膜を減圧乾燥する乾燥装置は、特許文献１に開示されている。この特許文献１に記載の乾燥装置においては、基部と蓋部とパッキンからなるチャンバーを備え、基板を搬入したチャンバ内を真空ポンプにより減圧することで、レジスト液の成分の中心である溶剤の蒸発を促進し、フォトレジストを迅速に乾燥させるようにしている。このような減圧乾燥装置を使用してフォトレジストを乾燥させた場合には、風や熱等の外的要因の影響を防止して、フォトレジストをムラなく乾燥させることが可能となる。 A drying apparatus for drying a thin film such as a photoresist coated on a substrate such as a glass substrate for a liquid crystal display under reduced pressure is disclosed in Patent Document 1. The drying apparatus described in Patent Document 1 includes a chamber composed of a base, a lid, and packing, and the inside of the chamber into which the substrate is loaded is depressurized by a vacuum pump to evaporate the solvent that is the center of the resist solution components. To help dry the photoresist quickly. When the photoresist is dried using such a reduced pressure drying apparatus, it is possible to prevent the influence of external factors such as wind and heat, and to dry the photoresist evenly.

特開平７−２８３１０８号公報JP-A-7-283108

近年の基板の大サイズ化に伴い、基板の乾燥装置も大型化する。このとき、特許文献１に記載された減圧乾燥装置においては、チャンバーも大型化することから、装置のコストが高くなる。また、この減圧乾燥装置においては、基板をチャンバー内に搬入・搬出するためにチャンバーを構成する蓋部を開閉する必要があることから、大型の蓋部を移動させる機構が必要となるばかりではなく、蓋部の移動のために大きなエネルギーが必要となり、その稼働コストが高くなる。 With the recent increase in size of substrates, the substrate drying apparatus also increases in size. At this time, in the reduced-pressure drying apparatus described in Patent Document 1, the chamber is also increased in size, which increases the cost of the apparatus. In addition, in this vacuum drying apparatus, it is necessary to open and close the lid that constitutes the chamber in order to carry the substrate into and out of the chamber, so that not only a mechanism for moving the large lid is required. A large amount of energy is required for the movement of the lid, and its operating cost increases.

また、近年の基板の大サイズ化に伴う乾燥装置の大型化により、装置のメンテナンスを装置の外側から行うことが困難となりつつあるという問題も生じている。 In addition, with the recent increase in size of the drying apparatus accompanying the increase in size of the substrate, there is a problem that it is becoming difficult to perform maintenance of the apparatus from the outside of the apparatus.

この発明は上記課題を解決するためになされたものであり、乾燥すべき基板が大サイズとなった場合においても、装置コストや稼働コストを低減しながら基板を確実に乾燥させることができ、また、装置のメンテナンスを容易に実行することが可能な乾燥装置を提供することを目的とする。 The present invention has been made to solve the above problems, and even when the substrate to be dried becomes large in size, the substrate can be reliably dried while reducing the apparatus cost and the operation cost. An object of the present invention is to provide a drying apparatus capable of easily performing maintenance of the apparatus.

請求項１に記載の発明は、基板の表面に塗布された薄膜を乾燥する乾燥装置において、複数の基板を、その表面が平行となる状態で上下方向に多段状に支持する基板支持手段と、前記基板支持手段により支持された複数の基板の表面に沿って気流を発生させる気流形成手段と、を備え、前記基板支持手段は、固定支持部と、前記固定支持部に対して移動する移動支持部とから構成され、前記移動支持部が前記固定支持部から離隔することにより、前記固定支持部と前記移動支持部との間にメンテナンス用のスペースが形成可能であることを特徴とする。 The invention according to claim 1 is a drying apparatus for drying a thin film applied to the surface of a substrate, and a substrate supporting means for supporting a plurality of substrates in a multi-stage shape in the vertical direction in a state where the surfaces are parallel to each other; Airflow forming means for generating airflow along the surfaces of the plurality of substrates supported by the substrate support means, and the substrate support means includes a fixed support portion and a movable support that moves relative to the fixed support portion. And a space for maintenance can be formed between the fixed support portion and the movable support portion by separating the movable support portion from the fixed support portion.

請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の発明において、前記移動支持部をスライド可能に支持することにより、前記移動支持部を前記固定支持部に対して離隔または近接する方向に移動可能に支持する案内部材を備えている。 According to a second aspect of the present invention, in the first aspect of the present invention, the movable support portion is moved in a direction of separating or approaching the fixed support portion by slidably supporting the movable support portion. A guide member is provided to support it.

請求項３に記載の発明は、請求項２に記載の発明において、基板を搬入および搬出するための搬入・搬出領域が形成され、前記固定支持部および前記移動支持部を収納するチャンバーと、複数の排気口を備え、前記チャンバーにおける前記基板支持手段により支持された基板に対して前記搬入・搬出領域とは逆側に配設された仕切板と、前記仕切板における排気口を介して前記チャンバー内を排気する排気手段と、を備え、前記移動支持部と前記固定支持部とが離隔したときに、前記チャンバーの側壁における前記移動支持部と前記固定支持部との間の領域が、前記チャンバーに対して着脱自在に構成される。 According to a third aspect of the present invention, in the second aspect of the present invention, a loading / unloading region for loading and unloading a substrate is formed, and a plurality of chambers are provided for storing the fixed support portion and the moving support portion. A partition plate disposed on the opposite side of the loading / unloading region with respect to the substrate supported by the substrate support means in the chamber, and the chamber through the exhaust port in the partition plate An exhaust means for exhausting the interior of the chamber, and when the moving support portion and the fixed support portion are separated from each other, a region between the moving support portion and the fixed support portion on a side wall of the chamber is the chamber. It is configured to be detachable with respect to.

請求項４に記載の発明は、請求項２に記載の発明において、基板を搬入および搬出するための搬入・搬出領域が形成され、前記固定支持部および前記移動支持部を収納するチャンバーと、複数の排気口を備え、前記チャンバーにおける前記基板支持手段により支持された基板に対して前記搬入・搬出領域とは逆側に配設された仕切板と、前記仕切板における排気口を介して前記チャンバー内を排気する排気手段と、を備え、前記チャンバーは、前記搬入・搬出領域側の移動チャンバー部と、前記排気口側の固定チャンバー部とから構成され、前記移動支持部は前記移動チャンバー部に連結され、前記固定支持部は前記固定チャンバー部に連結される。 According to a fourth aspect of the present invention, in the second aspect of the present invention, a loading / unloading area for loading and unloading a substrate is formed, and a plurality of chambers for storing the fixed support portion and the moving support portion are provided. A partition plate disposed on the opposite side of the loading / unloading region with respect to the substrate supported by the substrate support means in the chamber, and the chamber through the exhaust port in the partition plate And an exhaust means for exhausting the interior of the chamber, wherein the chamber includes a moving chamber portion on the loading / unloading region side and a fixed chamber portion on the exhaust port side, and the moving support portion is disposed on the moving chamber portion. The fixed support part is connected to the fixed chamber part.

請求項５に記載の発明は、請求項３または請求項４に記載の発明において、前記チャンバーは、基板を収納して乾燥するための乾燥ゾーンと、チャンバー内の排気を均一に行うための均圧ゾーンとから構成され、前記乾燥ゾーンと前記均圧ゾーンとの間に前記仕切板が配設されるとともに、前記排気手段は、前記均圧ゾーンに配設された排気口を含む。 According to a fifth aspect of the present invention, in the third or fourth aspect of the present invention, the chamber includes a drying zone for storing and drying the substrate, and a uniform for exhausting the chamber uniformly. The partition plate is disposed between the drying zone and the pressure equalizing zone, and the exhaust means includes an exhaust port disposed in the pressure equalizing zone.

請求項１に記載の発明によれば、乾燥すべき基板が大サイズとなった場合においても、装置コストや稼働コストを低減しながら基板を確実に乾燥させることが可能となる。そして、固定支持部と移動支持部との間にメンテナンス用のスペースを形成することで、複数の基板を多段状に支持する基板支持手段のメンテナンスを容易に実行することが可能となる。 According to the first aspect of the present invention, even when the substrate to be dried becomes a large size, it is possible to reliably dry the substrate while reducing the apparatus cost and the operation cost. Then, by forming a maintenance space between the fixed support portion and the moving support portion, it becomes possible to easily perform maintenance of the substrate support means for supporting a plurality of substrates in a multi-stage shape.

請求項２に記載の発明によれば、移動支持部をスライドさせることにより、固定支持部と移動支持部との間に、容易にメンテナンス用のスペースを形成することが可能となる。 According to the second aspect of the present invention, it is possible to easily form a maintenance space between the fixed support portion and the moving support portion by sliding the moving support portion.

請求項３に記載の発明によれば、チャンバーと仕切板の作用により、搬入・搬出領域から仕切板に向かう均一な気流を形成することができ、基板全面を迅速かつ均一に乾燥させることが可能となる。また、チャンバーの側壁における移動支持部と固定支持部の間の領域が着脱自在であることから、その領域を利用してメンテナンス用のスペースにアクセスすることが可能となる。 According to the third aspect of the present invention, a uniform air flow from the loading / unloading area toward the partition plate can be formed by the action of the chamber and the partition plate, and the entire surface of the substrate can be dried quickly and uniformly. It becomes. In addition, since the region between the moving support portion and the fixed support portion on the side wall of the chamber is detachable, it is possible to access the space for maintenance using the region.

請求項４に記載の発明によれば、チャンバーと仕切板の作用により、搬入・搬出領域から仕切板に向かう均一な気流を形成することができ、基板全面を迅速かつ均一に乾燥させることが可能となる。また、移動チャンバー部と固定チャンバー部との間に形成される領域を利用して、メンテナンス用のスペースにアクセスすることが可能となる。 According to the fourth aspect of the present invention, a uniform air flow from the loading / unloading area toward the partition plate can be formed by the action of the chamber and the partition plate, and the entire surface of the substrate can be dried quickly and uniformly. It becomes. Further, it is possible to access a space for maintenance using an area formed between the moving chamber portion and the fixed chamber portion.

請求項５に記載の発明によれば、均圧ゾーンの作用により、各排気口からの排気量を均一なものとして、基板全面をより均一に乾燥することが可能となる。 According to the fifth aspect of the invention, the entire surface of the substrate can be dried more uniformly by making the exhaust amount from each exhaust port uniform by the action of the pressure equalization zone.

この発明に係る乾燥装置２を適用した塗布システムのブロック図である。1 is a block diagram of a coating system to which a drying device 2 according to the present invention is applied. 搬送ロボット５の概要図である。3 is a schematic diagram of a transfer robot 5. FIG. この発明の第１実施形態に係る乾燥装置２の概要図である。1 is a schematic diagram of a drying device 2 according to a first embodiment of the present invention. この発明の第１実施形態に係る乾燥装置２の概要図である。1 is a schematic diagram of a drying device 2 according to a first embodiment of the present invention. チャンバー２４における乾燥ゾーン２１内の支持棒３１および支持ピン３２の配置を示す概要図である。3 is a schematic diagram showing the arrangement of support rods 31 and support pins 32 in a drying zone 21 in a chamber 24. FIG. チャンバー２４における乾燥ゾーン２１内の支持棒３１および支持ピン３２の配置を示す概要図である。3 is a schematic diagram showing the arrangement of support rods 31 and support pins 32 in a drying zone 21 in a chamber 24. FIG. 整流板４１の正面図である。3 is a front view of a current plate 41. FIG. 仕切板４７の正面図である。7 is a front view of a partition plate 47. FIG. この発明の第２実施形態に係る乾燥装置２を示す概要図である。It is a schematic diagram which shows the drying apparatus 2 which concerns on 2nd Embodiment of this invention.

以下、この発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。まず、この発明に係る乾燥装置２を適用した塗布システムの構成について説明する。図１は、この発明に係る乾燥装置２を適用した塗布システムのブロック図である。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. First, the configuration of a coating system to which the drying device 2 according to the present invention is applied will be described. FIG. 1 is a block diagram of a coating system to which a drying apparatus 2 according to the present invention is applied.

この塗布システムは、液晶表示装置用ガラス基板（以下、単に「基板」という）に対してフォトレジストの薄膜を塗布するための塗布装置１と、塗布装置１により基板に塗布されたフォトレジストの薄膜を乾燥するためのこの発明に係る乾燥装置２と、乾燥装置２によりフォトレジストの薄膜がある程度まで乾燥した基板を加熱するホットプレート３と、ホットプレート３により加熱された基板を常温まで冷却するためのクールプレート４とから構成される。 This coating system includes a coating apparatus 1 for coating a thin film of photoresist on a glass substrate for a liquid crystal display device (hereinafter simply referred to as “substrate”), and a thin film of photoresist applied to the substrate by the coating apparatus 1. In order to cool the substrate heated by the hot plate 3 to room temperature, the drying device 2 according to the present invention for drying the substrate, the hot plate 3 for heating the substrate with the photoresist thin film dried to some extent by the drying device 2 And the cool plate 4.

塗布装置１と乾燥装置２との間には、基板を塗布装置１から乾燥装置２に搬送するための搬送ロボット５が配設されている。また、塗布装置２とホットプレート３との間には、基板を乾燥装置２からホットプレート３に搬送するための搬送ロボット６が配設されている。さらに、ホットプレート３とクールプレート４との間には、基板をホットプレート３からクールプレート４に搬送するための搬送ロボット７が配設されている。 Between the coating device 1 and the drying device 2, a transport robot 5 for transporting the substrate from the coating device 1 to the drying device 2 is disposed. Further, a transfer robot 6 for transferring the substrate from the drying device 2 to the hot plate 3 is disposed between the coating device 2 and the hot plate 3. Further, a transfer robot 7 for transferring the substrate from the hot plate 3 to the cool plate 4 is disposed between the hot plate 3 and the cool plate 4.

乾燥装置２の上部には、搬送ロボット５と搬送ロボット６との間で基板を受け渡すための図示しない受渡部が付設されており、ホットプレート３の上部には、搬送ロボット６と搬送ロボット７との間で基板を受け渡すための図示しない受渡部が付設されている。基板は、これらの搬送ロボット５、６、７の作用により、図１において矢印で示すように、塗布装置１、乾燥装置２、ホットプレート３、クールプレート４に対して順次搬送され、フォトレジストの塗布と乾燥、定着が実行される。 A transfer unit (not shown) for transferring the substrate between the transfer robot 5 and the transfer robot 6 is attached to the upper part of the drying apparatus 2. The transfer robot 6 and the transfer robot 7 are provided above the hot plate 3. A delivery section (not shown) is provided for delivering the substrate to and from. The substrate is sequentially transferred to the coating device 1, the drying device 2, the hot plate 3, and the cool plate 4 by the action of the transfer robots 5, 6, and 7 as shown by arrows in FIG. Application, drying and fixing are executed.

図２は搬送ロボット５の概要図である。この搬送ロボット５は、４本のアーム５１とその移動機構５２とから構成される。なお、他の搬送ロボット６、７も、この搬送ロボット５と同様の構成を有する。 FIG. 2 is a schematic diagram of the transfer robot 5. The transfer robot 5 is composed of four arms 51 and a moving mechanism 52. The other transfer robots 6 and 7 have the same configuration as the transfer robot 5.

次に、この発明に係る乾燥装置２の構成について説明する。図３および図４は、この発明の第１実施形態に係る乾燥装置２の概要図である。なお、この図における乾燥装置２は、チャンバー２４の上部を取り外して見た平面図となっている。また、図３は基板を乾燥する状態を、また、図４はメンテナンス用のスペースが形成されたメンテナンス状態を示している。 Next, the configuration of the drying device 2 according to the present invention will be described. 3 and 4 are schematic views of the drying device 2 according to the first embodiment of the present invention. In addition, the drying apparatus 2 in this figure is a plan view with the upper portion of the chamber 24 removed. 3 shows a state in which the substrate is dried, and FIG. 4 shows a maintenance state in which a space for maintenance is formed.

この乾燥装置２は、基板１００を乾燥するための乾燥ゾーン２１と、この乾燥ゾーン２１を均一に排気するための均圧ゾーン２２、２３とから成るチャンバー２４を備える。このチャンバー２４において、搬送ロボット５側（図示左側）の基板１００の搬入・搬出領域には、整流板４１が配設されている。また、基板１００の搬入・搬出領域とは逆側となる乾燥ゾーン２１と均圧ゾーン２２との間の位置には、仕切板４７が配設されている。また、乾燥ゾーン２１の両側に配置された一対の均圧ゾーン２３と乾燥ゾーン２１との間にも、各々一対の仕切板４７が配設されている。チャンバー２４には、均圧ゾーン２２に接続する２本の排気管２６と、各均圧ゾーン２３に接続する排気管２６とが配設されており、各排気管２６には、ダンパー２７が付設されている。そして、各排気管２６は、排気ファンや工場排気等の排気機構と接続されている。 The drying apparatus 2 includes a chamber 24 including a drying zone 21 for drying the substrate 100 and pressure equalizing zones 22 and 23 for exhausting the drying zone 21 uniformly. In this chamber 24, a rectifying plate 41 is disposed in the loading / unloading area of the substrate 100 on the transfer robot 5 side (the left side in the drawing). Further, a partition plate 47 is disposed at a position between the drying zone 21 and the pressure equalizing zone 22 on the opposite side to the loading / unloading area of the substrate 100. A pair of partition plates 47 is also disposed between the pair of pressure equalizing zones 23 and the drying zone 21 disposed on both sides of the drying zone 21. The chamber 24 is provided with two exhaust pipes 26 connected to the pressure equalization zones 22 and exhaust pipes 26 connected to the respective pressure equalization zones 23. Each exhaust pipe 26 is provided with a damper 27. Has been. Each exhaust pipe 26 is connected to an exhaust mechanism such as an exhaust fan or factory exhaust.

チャンバー２４における乾燥ゾーン２１には、複数の基板１００をその表面が平行となる状態で上下方向に多段状に支持するための、複数の支持棒３１および支持ピン３２が配設されている。複数の支持棒３１は、一対の均圧ゾーン２３と乾燥ゾーン２１との間に配設された仕切板４７とその両端が接続されている。 The drying zone 21 in the chamber 24 is provided with a plurality of support bars 31 and support pins 32 for supporting the plurality of substrates 100 in a vertical direction with the surfaces thereof being parallel. The plurality of support bars 31 are connected to a partition plate 47 disposed between the pair of pressure equalizing zones 23 and the drying zone 21 and both ends thereof.

図５および図６は、チャンバー２４における乾燥ゾーン２１内の支持棒３１および支持ピン３２の配置を示す概要図である。ここで、図５は、乾燥ゾーン２１を搬送ロボット５側から整流板４１を取り外して見た状態を示し、図６は、乾燥ゾーン２１を図５とは直交する方向から側板を取り外して見た状態を示している。 FIGS. 5 and 6 are schematic views showing the arrangement of the support rods 31 and the support pins 32 in the drying zone 21 in the chamber 24. Here, FIG. 5 shows a state in which the drying zone 21 is viewed from the side of the transport robot 5 with the rectifying plate 41 being removed, and FIG. 6 is a state in which the drying plate 21 is viewed from the direction orthogonal to FIG. Indicates the state.

図６に示すように、乾燥ゾーン２１内には、搬送ロボット５による基板１００の搬入・搬出方向とは直交する方向を向く支持棒３１が、基板１００の搬入・搬出方向(図６に示す左右方向）に５本、上下向に５本の計２５本配設されている。そして、図５に示すように、各支持棒３１の上面には、各々、５個の支持ピン３２が配設されている。乾燥ゾーン２１内には、これらの支持棒３１および支持ピン３２からなる基板支持手段により、５枚の基板１００が、その表面が水平方向を向いて互いに平行となる状態で、上下方向に互いに重畳した多段状に支持される。 As shown in FIG. 6, in the drying zone 21, support rods 31 that face in a direction orthogonal to the loading / unloading direction of the substrate 100 by the transfer robot 5 are loaded / unloaded in the loading / unloading direction of the substrate 100 (left and right shown in FIG. 25 in total, 5 in the direction) and 5 in the vertical direction. As shown in FIG. 5, five support pins 32 are arranged on the upper surface of each support bar 31. In the drying zone 21, the five substrates 100 are superposed on each other in the vertical direction with their surfaces parallel to each other in the horizontal direction by the substrate support means comprising the support rods 31 and the support pins 32. It is supported in a multistage shape.

図２に示す搬送ロボット５の４本のアーム５１は、図５において仮想線で示すように、５本の支持棒３１の間の位置に進入する。そして、搬送ロボット５の各アーム５１は、その位置で昇降することにより、そこに支持した基板１００を支持ピン３２上に載置し、あるいは、支持ピン３２により支持された基板１００をその下方からすくい上げて搬出する。 The four arms 51 of the transfer robot 5 shown in FIG. 2 enter a position between the five support bars 31 as indicated by phantom lines in FIG. Each arm 51 of the transfer robot 5 moves up and down at that position, so that the substrate 100 supported thereon is placed on the support pins 32, or the substrate 100 supported by the support pins 32 is placed from below. Scoop up and remove.

図７は、図３および図４に示す整流板４１の正面図である。 FIG. 7 is a front view of the rectifying plate 41 shown in FIGS. 3 and 4.

この整流板４１は、チャンバーにおける基板１００の搬入・搬出領域において、基板１００と基板１００の搬送装置である搬送ロボット５のアーム５１が通過可能な領域にのみ開口部４４が形成された構成を有する。すなわち、この整流板４１に形成された開口部４４は、基板１００を通過させるための領域４２と、基板１００を支持した４本のアーム５１を通過させ、かつ、支持ピン３２との間で基板１００を受け渡すときに４本のアーム５１が昇降するための領域４３とから構成される。この整流板４１の作用により、各排気管２６から同一の排気量で排気を行ったときに、チャンバー２４内の気流の速度を大きくすることができることから、基板１００を迅速に乾燥させることが可能となる。 The rectifying plate 41 has a configuration in which an opening 44 is formed only in a region where the arm 51 of the transfer robot 5 which is a transfer device for the substrate 100 and the substrate 100 can pass in the transfer / unload region of the substrate 100 in the chamber. . That is, the opening 44 formed in the rectifying plate 41 passes the region 42 for allowing the substrate 100 to pass therethrough and the four arms 51 supporting the substrate 100, and between the support pins 32 and the substrate. The four arms 51 are moved up and down when the 100 is delivered. By the action of this rectifying plate 41, the speed of the air flow in the chamber 24 can be increased when the exhaust gas is exhausted from each exhaust pipe 26, so that the substrate 100 can be dried quickly. It becomes.

図８は、図３および図４に示す仕切板４７の正面図である。 FIG. 8 is a front view of the partition plate 47 shown in FIGS. 3 and 4.

この仕切板４７は、乾燥ゾーン２１と均圧ゾーン２２、２３との間の位置において、支持ピン３２により支持された複数の基板１００に対応した複数の排気口４８を形成するためのものである。すなわち、この仕切板４７には、支持ピン３２により支持された複数の基板１００に対応して、横方向に５個列設されたスリット形状を有する排気口４８が、上下方向に５段形成されている。そして、横方向に５個列設された排気口４８の高さ位置は、図５に示すように、支持ピン３２により支持された対応する各基板１００の表面より低い位置となっている。なお、５個の排気口４８を横方向に列設するかわりに、横方向に長い単一のスリット状の排気口を使用してもよい。 The partition plate 47 is for forming a plurality of exhaust ports 48 corresponding to the plurality of substrates 100 supported by the support pins 32 at a position between the drying zone 21 and the pressure equalizing zones 22 and 23. . That is, the partition plate 47 is formed with five vertical slits 48 in the vertical direction corresponding to the plurality of substrates 100 supported by the support pins 32 in a row. ing. The height positions of the five exhaust ports 48 arranged in the horizontal direction are lower than the surface of each corresponding substrate 100 supported by the support pins 32, as shown in FIG. Instead of arranging the five exhaust ports 48 in the horizontal direction, a single slit-shaped exhaust port that is long in the horizontal direction may be used.

チャンバー２４の均圧ゾーン２２、２３に接続する排気管２６から排気を行った場合には、仕切板４７の作用により、各排気口４８から均一な排気が行われ、搬入・搬出領域に設置された整流板４１の開口部４４から各排気口４８に向かう均一な気流を形成することができる。このとき、各排気口４８がスリット状の形状を有することから、チャンバー２４内の気流を一定速度の均一なものとすることができ、基板１００をより迅速かつ均一に乾燥することが可能となる。そして、これらの排気口４８の高さ位置が、図５に示すように、支持ピン３２により支持された対応する各基板１００の表面より低い位置となっていることから、薄膜から発生する空気より比重の大きい溶剤の蒸気を、効率的に排出することが可能となる。 When exhaust is performed from the exhaust pipe 26 connected to the pressure equalization zones 22 and 23 of the chamber 24, uniform exhaust is performed from each exhaust port 48 by the action of the partition plate 47 and is installed in the carry-in / carry-out area. A uniform air flow from the opening 44 of the rectifying plate 41 toward each exhaust port 48 can be formed. At this time, since each exhaust port 48 has a slit shape, the air flow in the chamber 24 can be made uniform at a constant speed, and the substrate 100 can be dried more quickly and uniformly. . Since the height positions of the exhaust ports 48 are lower than the corresponding surfaces of the respective substrates 100 supported by the support pins 32, as shown in FIG. It becomes possible to efficiently discharge the vapor of the solvent having a large specific gravity.

なお、この実施形態においては、チャンバー２４における整流板４１が配置された基板１００の搬入・搬出領域とは逆側に均圧ゾーン２２を形成するとともに、乾燥ゾーン２１の両側にも、均圧ゾーン２２と直交する方向に一対の均圧ゾーン２３を形成している。そして、これらの均圧ゾーン２２、２３と乾燥ゾーン２１の間に、各々、仕切板４７を配置している。これらの均圧ゾーン２２、２３のうち、均圧ゾーン２２は、チャンバー２４における整流板４１が配置された基板１００の搬入・搬出領域から均圧ゾーン２２に向かう気流を発生させるために必要なものとなる。一方、乾燥ゾーン２１の両側に形成された一対の均圧ゾーン２３は、これを省略することも可能である。 In this embodiment, the pressure equalizing zone 22 is formed on the opposite side of the loading / unloading region of the substrate 100 on which the current plate 41 is disposed in the chamber 24, and the pressure equalizing zone is also formed on both sides of the drying zone 21. A pair of pressure equalizing zones 23 are formed in a direction orthogonal to the direction 22. And the partition plate 47 is arrange | positioned between these pressure equalization zones 22 and 23 and the drying zone 21, respectively. Among these pressure equalization zones 22 and 23, the pressure equalization zone 22 is necessary for generating an air flow from the loading / unloading region of the substrate 100 on which the rectifying plate 41 is disposed in the chamber 24 toward the pressure equalization zone 22. It becomes. On the other hand, the pair of pressure equalizing zones 23 formed on both sides of the drying zone 21 can be omitted.

この実施形態のように、チャンバー２４において、均圧ゾーン２２の他に、一対の均圧ゾーン２３を形成した場合には、基板１００の外周全域から排気を行うことができ、基板１００の表面全域に気流を形成させることができる。また、基板１００の外周全域から排気を行うことから、同じ排気量の場合に気流の速度を小さくすることができ、フォトレジストの薄膜の乾燥ムラを防止することが可能となる。なお、一対の均圧ゾーン２３に配設される排気管２６の位置は、整流板４１の開口部４４から各仕切板４７の排気口４８に向かう均一な気流を形成するため、均圧ゾーン２３における整流板４１から離隔した位置（均圧ゾーン２２に近接した位置）に配設することが好ましい。 When a pair of pressure equalizing zones 23 is formed in the chamber 24 in addition to the pressure equalizing zones 22 as in this embodiment, exhaust can be performed from the entire outer periphery of the substrate 100, and the entire surface of the substrate 100 can be exhausted. Can form an air flow. Further, since the exhaust is performed from the entire outer periphery of the substrate 100, the velocity of the airflow can be reduced when the exhaust amount is the same, and the drying unevenness of the photoresist thin film can be prevented. The positions of the exhaust pipes 26 disposed in the pair of pressure equalization zones 23 form a uniform air flow from the opening 44 of the rectifying plate 41 toward the exhaust ports 48 of the partition plates 47. It is preferable to dispose at a position separated from the current plate 41 (position close to the pressure equalizing zone 22).

図３に示すように、乾燥ゾーン２１内の２５本の支持棒３１のうち、均圧ゾーン２２側の１５本の支持棒３１は、均圧ゾーン２２と乾燥ゾーン２１の間に配置された仕切板４７に接続する一対の仕切板４７に連結されている。一方、乾燥ゾーン２１内の２５本の支持棒３１のうち、基板１００の搬入・搬出領域側の１０本の支持棒３１は、整流板４１と接続する一対の仕切板４７に連結されている。そして、整流板４１とこの整流板４１に接続する一対の仕切板４７とは、一対のスライドレール７１の作用により、そこに連結された１０本の支持棒３１とともに、図３に示す基板１００の乾燥位置から、図４に示すメンテナンス位置まで、スライド可能となっている。 As shown in FIG. 3, among the 25 support rods 31 in the drying zone 21, 15 support rods 31 on the pressure equalizing zone 22 side are partitions arranged between the pressure equalizing zone 22 and the drying zone 21. It is connected to a pair of partition plates 47 connected to the plate 47. On the other hand, of the 25 support rods 31 in the drying zone 21, 10 support rods 31 on the side of the carry-in / out region of the substrate 100 are connected to a pair of partition plates 47 connected to the rectifying plate 41. The rectifying plate 41 and the pair of partition plates 47 connected to the rectifying plate 41 are made of the substrate 100 shown in FIG. 3 together with the ten support rods 31 connected thereto by the action of the pair of slide rails 71. It can slide from the dry position to the maintenance position shown in FIG.

この乾燥装置２においては、均圧ゾーン２２と乾燥ゾーン２１の間に配置された仕切板４７に接続する一対の仕切板４７に連結された１５本の支持棒３１と、その支持棒３１に配設された支持ピン３２とは、この発明に係る固定支持部を構成する。一方、整流板４１と接続する一対の仕切板４７に連結された１０本の支持棒３１と、その支持棒３１に配設された支持ピン３２とは、この発明に係る移動支持部を構成する。そして、固定支持部を構成する一対の仕切板４７と、移動支持部を構成する一対の仕切板４７との間には、パッキン６３が配設されている。 In this drying apparatus 2, fifteen support rods 31 connected to a pair of partition plates 47 connected to the partition plate 47 disposed between the pressure equalization zone 22 and the drying zone 21, and the support rods 31 are arranged on the support rods 31. The provided support pins 32 constitute a fixed support portion according to the present invention. On the other hand, the ten support rods 31 connected to the pair of partition plates 47 connected to the rectifying plate 41 and the support pins 32 arranged on the support rods 31 constitute a moving support unit according to the present invention. . And packing 63 is arrange | positioned between a pair of partition plate 47 which comprises a fixed support part, and a pair of partition plate 47 which comprises a movement support part.

図４に示すように、移動支持部を構成する整流板４１と接続する一対の仕切板４７に連結された１０本の支持棒３１およびその支持棒３１に配設された支持ピン３２がメンテナンス位置に移動したときに、チャンバー２４を形成する側壁６１のうちメンテナンス位置に対応する領域には、この側壁から着脱自在な扉部６２が形成されている。メンテナンス時には、オペレータは、この扉部６２を側壁６１から取り外すことにより、メンテナンス空間にアクセスすることが可能となる。 As shown in FIG. 4, ten support rods 31 connected to a pair of partition plates 47 connected to the rectifying plate 41 constituting the moving support portion and the support pins 32 arranged on the support rods 31 are in the maintenance position. In the region corresponding to the maintenance position in the side wall 61 that forms the chamber 24, a door portion 62 that is detachable from the side wall is formed. At the time of maintenance, the operator can access the maintenance space by removing the door 62 from the side wall 61.

以上のような構成を有する乾燥装置２においては、図１に示す塗布装置１によりフォトレジストが塗布されてその薄膜が形成された基板１００を、搬送ロボット５によりチャンバー２４の乾燥ゾーン２１に順次搬送する。乾燥ゾーン２１においては、整流板４１の開口部４４から仕切板４７の排気口４８に向かって基板１００の表面に沿って流れる均一な気流の作用により、フォトレジストの薄膜から溶剤を蒸発させて乾燥させることが可能となる。このため、乾燥すべき基板１００が大サイズとなった場合においても、装置コストや稼働コストを低減しながら基板１００を確実に乾燥させることが可能となる。 In the drying apparatus 2 having the above-described configuration, the substrate 100 on which the thin film is formed by applying the photoresist by the coating apparatus 1 shown in FIG. 1 is sequentially transferred to the drying zone 21 of the chamber 24 by the transfer robot 5. To do. In the drying zone 21, the solvent is evaporated from the thin film of the photoresist and dried by the action of a uniform air current flowing along the surface of the substrate 100 from the opening 44 of the rectifying plate 41 toward the exhaust port 48 of the partition plate 47. It becomes possible to make it. For this reason, even when the substrate 100 to be dried becomes a large size, it is possible to reliably dry the substrate 100 while reducing the apparatus cost and the operation cost.

このとき、複数の基板１００を重畳した状態でまとめて乾燥させることができることから、１枚の基板１００の乾燥に、塗布装置１によるフォトレジストの薄膜の塗布に要する時間の５倍の時間を費やすことができる。従って、従来のような減圧乾燥を行わない場合においても、気流の流れにより基板１００を十分に乾燥させることが可能となる。 At this time, since a plurality of substrates 100 can be dried together in a superposed state, it takes five times the time required to apply the photoresist thin film by the coating apparatus 1 to dry one substrate 100. be able to. Therefore, even when vacuum drying as in the prior art is not performed, the substrate 100 can be sufficiently dried by the flow of airflow.

このような乾燥装置において、基板１００の乾燥を継続して実行したときには、チャンバー２４内の清掃やメンテナンスを行う必要がある。このような場合においては、移動支持部を構成する整流板４１と接続する一対の仕切板４７に連結された１０本の支持棒３１およびその支持棒３１に配設された支持ピン３２を、図４に示すメンテナンス位置に移動させる。そして、扉部６２を側壁６１から取り外すことにより、オペレータがメンテナンス空間にアクセスすることが可能となる。 In such a drying apparatus, when the substrate 100 is continuously dried, the chamber 24 needs to be cleaned and maintained. In such a case, the ten support rods 31 connected to the pair of partition plates 47 connected to the rectifying plate 41 constituting the moving support portion and the support pins 32 disposed on the support rods 31 are illustrated in FIG. 4 is moved to the maintenance position. Then, by removing the door 62 from the side wall 61, the operator can access the maintenance space.

特に、この発明に係る乾燥装置のように、複数の基板１００を、その表面が平行となる状態で上下方向に多段状に支持する構成を採用した場合においては、装置のメンテナンス時に多数の支持棒３１を取り外してメンテナンスを行うことが困難となるが、上述した構成を採用した場合には、オペレータがメンテナンス空間に容易にアクセスすることができ、メンテナンス作業を容易に実行することが可能となる。 In particular, in the case of adopting a configuration in which a plurality of substrates 100 are supported in multiple stages in the vertical direction with their surfaces parallel to each other as in the drying apparatus according to the present invention, a large number of support bars are used during maintenance of the apparatus. Although it becomes difficult to perform the maintenance by removing 31, when the above-described configuration is adopted, the operator can easily access the maintenance space, and the maintenance work can be easily performed.

次に、この発明の他の実施の形態について説明する。図９はこの発明の第２実施形態に係る乾燥装置２を示す概要図である。なお、上述した第１実施形態と同一の部材については、同一の符号を付して詳細な説明を省略する。 Next, another embodiment of the present invention will be described. FIG. 9 is a schematic view showing a drying device 2 according to the second embodiment of the present invention. In addition, about the member same as 1st Embodiment mentioned above, the same code | symbol is attached | subjected and detailed description is abbreviate | omitted.

この第２実施形態に係る乾燥装置２は、チャンバー２４が搬入・搬出領域側の移動チャンバー部と、均圧ゾーン２２側の固定チャンバー部とに二分割されている。そして、固定支持部を構成する均圧ゾーン２２と乾燥ゾーン２１の間に配置された仕切板４７に接続する一対の仕切板４７に連結された１５本の支持棒３１は、固定チャンバー部に接続されている。一方、移動支持部を構成する整流板４１と接続する一対の仕切板４７に連結された１０本の支持棒３１は、移動チャンバー部に接続されている。そして、移動支持部を構成する整流板４１と接続する一対の仕切板４７に連結された１０本の支持棒３１およびその支持棒３１に配設された支持ピン３２は、移動チャンバー部とともに、４本のスライドレール７２の作用により、乾燥位置から、図９に示すメンテナンス位置まで、スライド可能となっている。メンテナンス時には、オペレータは、固定チャンバー部と移動チャンバー部とを離隔させることにより、メンテナンス空間にアクセスすることが可能となる。 In the drying apparatus 2 according to the second embodiment, the chamber 24 is divided into a moving chamber part on the carry-in / carry-out area side and a fixed chamber part on the pressure equalization zone 22 side. The 15 support rods 31 connected to the pair of partition plates 47 connected to the partition plate 47 disposed between the pressure equalization zone 22 and the drying zone 21 constituting the fixed support portion are connected to the fixed chamber portion. Has been. On the other hand, ten support rods 31 connected to a pair of partition plates 47 connected to the rectifying plate 41 constituting the moving support portion are connected to the moving chamber portion. The ten support rods 31 connected to the pair of partition plates 47 connected to the rectifying plate 41 constituting the movement support portion and the support pins 32 arranged on the support rod 31 are 4 together with the movement chamber portion. By the action of the slide rail 72 of the book, it is possible to slide from the dry position to the maintenance position shown in FIG. At the time of maintenance, the operator can access the maintenance space by separating the fixed chamber portion and the moving chamber portion.

このとき、固定チャンバー部と移動チャンバー部との間には、パッキン６３が配設されていることから、固定チャンバー部と移動チャンバー部とが互いに当接する乾燥位置に移動したときには、移動チャンバー部と固定チャンバー部との間を確実にシールして、チャンバー２４の気密性を高めることが可能となる。 At this time, since the packing 63 is disposed between the fixed chamber portion and the moving chamber portion, when the fixed chamber portion and the moving chamber portion move to a dry position where they abut each other, the moving chamber portion It is possible to improve the airtightness of the chamber 24 by securely sealing the space between the fixed chamber portion.

以上のように、この発明に係る乾燥装置２によれば、多段に配置された基板１００の表面に沿って流れる均一な気流の作用により、フォトレジストの薄膜から溶剤を蒸発させて乾燥させることが可能となる。このため、乾燥すべき基板１００が大サイズとなった場合においても、装置コストや稼働コストを低減しながら基板１００を確実に乾燥させることが可能となる。このとき、この乾燥装置２は、塗布装置１とホットプレート３との間に配置されることから、仮に基板１００の表面のフォトレジストの薄膜が完全に乾燥しなかったとしても、その流動性がなくなる程度に乾燥できさえすれば、後段のホットプレート３によりフォトレジストを完全に乾燥させることができることから、塗布システム全体としてフォトレジストの塗布と乾燥とを効率的に実行することが可能となる。 As described above, according to the drying apparatus 2 of the present invention, the solvent is evaporated from the photoresist thin film and dried by the action of the uniform airflow flowing along the surface of the substrate 100 arranged in multiple stages. It becomes possible. For this reason, even when the substrate 100 to be dried becomes a large size, it is possible to reliably dry the substrate 100 while reducing the apparatus cost and the operation cost. At this time, since the drying device 2 is disposed between the coating device 1 and the hot plate 3, even if the photoresist thin film on the surface of the substrate 100 is not completely dried, the fluidity is low. Since the photoresist can be completely dried by the subsequent hot plate 3 as long as it can be dried, it becomes possible to efficiently apply and dry the photoresist as the entire coating system.

そして、装置のメンテナンス時においては、オペレータがメンテナンス空間に容易にアクセスすることができることから、基板１００の大サイズ化に伴って装置が大型化した場合においても、そのメンテナンスを容易に実行することが可能となる。 In maintenance of the apparatus, the operator can easily access the maintenance space. Therefore, even when the apparatus is enlarged with the increase in the size of the substrate 100, the maintenance can be easily performed. It becomes possible.

１塗布装置
２乾燥装置
３ホットプレート
４クールプレート
５搬送ロボット
６搬送ロボット
７搬送ロボット
２１乾燥ゾーン
２２均圧ゾーン
２３均圧ゾーン
２４チャンバー
２６排気管
２７ダンパー
３１支持棒
３２支持ピン
４１整流板
４４開口部
４７仕切板
４８排気口
５１アーム
６３パッキン
７１スライドレール
７２スライドレール
１００基板
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Coating device 2 Drying device 3 Hot plate 4 Cool plate 5 Transfer robot 6 Transfer robot 7 Transfer robot 21 Drying zone 22 Pressure equalization zone 23 Pressure equalization zone 24 Chamber 26 Exhaust pipe 27 Damper 31 Support rod 32 Support pin 41 Current plate 44 Opening Part 47 Partition plate 48 Exhaust port 51 Arm 63 Packing 71 Slide rail 72 Slide rail 100 Substrate

Claims

基板の表面に塗布された薄膜を乾燥する乾燥装置において、
複数の基板を、その表面が平行となる状態で上下方向に多段状に支持する基板支持手段と、
前記基板支持手段により支持された複数の基板の表面に沿って気流を発生させる気流形成手段と、
を備え、
前記基板支持手段は、固定支持部と、前記固定支持部に対して移動する移動支持部とから構成され、前記移動支持部が前記固定支持部から離隔することにより、前記固定支持部と前記移動支持部との間にメンテナンス用のスペースが形成可能であることを特徴とする乾燥装置。 In a drying device for drying a thin film applied to the surface of a substrate,
Substrate support means for supporting a plurality of substrates in a multi-stage shape in the vertical direction with their surfaces parallel to each other;
Airflow forming means for generating airflow along the surfaces of the plurality of substrates supported by the substrate support means;
With
The substrate support means includes a fixed support portion and a movable support portion that moves relative to the fixed support portion, and the fixed support portion and the movement are separated when the movable support portion is separated from the fixed support portion. A drying device characterized in that a space for maintenance can be formed between the support portion and the support portion.

請求項１に記載の乾燥装置において、
前記移動支持部をスライド可能に支持することにより、前記移動支持部を前記固定支持部に対して離隔または近接する方向に移動可能に支持する案内部材を備える乾燥装置。 The drying apparatus according to claim 1, wherein
A drying apparatus including a guide member that supports the movement support unit so as to be slidable so as to move the movement support unit in a direction away from or in proximity to the fixed support unit.

請求項２に記載の乾燥装置において、
基板を搬入および搬出するための搬入・搬出領域が形成され、前記固定支持部および前記移動支持部を収納するチャンバーと、
複数の排気口を備え、前記チャンバーにおける前記基板支持手段により支持された基板に対して前記搬入・搬出領域とは逆側に配設された仕切板と、
前記仕切板における排気口を介して前記チャンバー内を排気する排気手段と、
を備え、
前記移動支持部と前記固定支持部とが離隔したときに、前記チャンバーの側壁における前記移動支持部と前記固定支持部との間の領域が、前記チャンバーに対して着脱自在に構成される乾燥装置。 The drying apparatus according to claim 2,
A loading / unloading area for loading and unloading the substrate is formed, and a chamber for storing the fixed support portion and the moving support portion,
A plurality of exhaust ports, and a partition plate disposed on the opposite side of the carry-in / out region with respect to the substrate supported by the substrate support means in the chamber;
Exhaust means for exhausting the chamber through an exhaust port in the partition plate;
With
When the moving support part and the fixed support part are separated from each other, an area between the moving support part and the fixed support part on the side wall of the chamber is configured to be detachable from the chamber. .

請求項２に記載の乾燥装置において、
基板を搬入および搬出するための搬入・搬出領域が形成され、前記固定支持部および前記移動支持部を収納するチャンバーと、
複数の排気口を備え、前記チャンバーにおける前記基板支持手段により支持された基板に対して前記搬入・搬出領域とは逆側に配設された仕切板と、
前記仕切板における排気口を介して前記チャンバー内を排気する排気手段と、
を備え、
前記チャンバーは、前記搬入・搬出領域側の移動チャンバー部と、前記排気口側の固定チャンバー部とから構成され、
前記移動支持部は前記移動チャンバー部に連結され、前記固定支持部は前記固定チャンバー部に連結される乾燥装置。 The drying apparatus according to claim 2,
A loading / unloading area for loading and unloading the substrate is formed, and a chamber for storing the fixed support portion and the moving support portion,
A plurality of exhaust ports, and a partition plate disposed on the opposite side of the carry-in / out region with respect to the substrate supported by the substrate support means in the chamber;
Exhaust means for exhausting the chamber through an exhaust port in the partition plate;
With
The chamber is composed of a moving chamber part on the carry-in / out area side and a fixed chamber part on the exhaust port side,
The drying apparatus is configured such that the moving support unit is connected to the moving chamber unit, and the fixed support unit is connected to the fixed chamber unit.

請求項３または請求項４に記載の乾燥装置において、
前記チャンバーは、基板を収納して乾燥するための乾燥ゾーンと、チャンバー内の排気を均一に行うための均圧ゾーンとから構成され、
前記乾燥ゾーンと前記均圧ゾーンとの間に前記仕切板が配設されるとともに、
前記排気手段は、前記均圧ゾーンに配設された排気口を含む乾燥装置。
In the drying apparatus according to claim 3 or 4,
The chamber includes a drying zone for storing and drying the substrate, and a pressure equalizing zone for uniformly exhausting the chamber.
The partition plate is disposed between the drying zone and the pressure equalization zone,
The drying device includes an exhaust port disposed in the pressure equalizing zone.