JP2012023174A - Carrying-out/in device for plate-shaped object - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、カセット内に収容された板状物をカセット内から搬出又はカセット内へ板状物を搬入する板状物の搬出入装置に関する。 The present invention relates to a plate-like material carrying-in / out device for carrying out a plate-like material housed in a cassette from the cassette or carrying a plate-like material into the cassette.
例えば、半導体デバイスの製造プロセスにおいては、シリコンやGaAs等のウエーハの表面にICやLSI等の回路素子が複数形成される。回路素子が形成された半導体ウエーハは、研削装置、研磨装置によって裏面が研削又は研磨されて所定の厚みへと薄化された後、個々の半導体デバイスへと分割される。このようにして製造された半導体デバイスは、携帯電話やパソコン等の電気機器に広く利用されている。 For example, in a semiconductor device manufacturing process, a plurality of circuit elements such as IC and LSI are formed on the surface of a wafer such as silicon or GaAs. The semiconductor wafer on which the circuit elements are formed is divided into individual semiconductor devices after the back surface is ground or polished by a grinding device or a polishing device and thinned to a predetermined thickness. Semiconductor devices manufactured in this way are widely used in electrical equipment such as mobile phones and personal computers.
ウエーハは、カセット内に複数枚収容された状態で研削装置や研磨装置に供給される。研削装置や研磨装置のカセット載置部に載置されたカセットから搬出入装置が各ウエーハを搬出する。 The wafers are supplied to a grinding device or a polishing device in a state where a plurality of wafers are accommodated in a cassette. The carry-in / out device carries out each wafer from the cassette placed on the cassette placement portion of the grinding device or polishing device.
搬出されたウエーハはチャックテーブルへと搬送されて保護テープを介してチャックテーブルに吸引保持され、このように保持されたウエーハの裏面に研削砥石や研磨パッドが当接して摺動することでウエーハの裏面が研削又は研磨される。 The unloaded wafer is transported to the chuck table and sucked and held by the chuck table via the protective tape. The grinding wheel or polishing pad abuts against the back surface of the wafer thus held, and slides on the wafer. The back side is ground or polished.
研削又は研磨されたウエーハは洗浄、乾燥された後、搬出入装置によって元のカセットと同一又は異なるカセットへと収容される(例えば、特開2002−289673号公報参照)。 The ground or polished wafer is cleaned and dried, and then accommodated in a cassette that is the same as or different from the original cassette by a carry-in / out device (see, for example, JP-A-2002-289673).
搬出入装置は、板状物であるウエーハを吸引保持する保持面を有する保持部と、保持部をカセット内に挿入する屈曲アーム機構とを少なくとも備えている(特開2002−270674号公報参照)。 The carry-in / out device includes at least a holding portion having a holding surface for sucking and holding a wafer that is a plate-like object, and a bending arm mechanism for inserting the holding portion into the cassette (see Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-270674). .
一方、近年の電気機器の小型化、薄型化の傾向に伴って半導体デバイスも更なる薄型化が要求されている。研削、研磨によって例えば100μm以下へとウエーハを薄化すると、ウエーハには反りが生じる。 On the other hand, with the trend of recent miniaturization and thinning of electric appliances, further thinning of semiconductor devices is required. When the wafer is thinned to, for example, 100 μm or less by grinding or polishing, the wafer is warped.
ところが、反りのあるウエーハでは、搬出入装置での吸引保持が難しいという問題がある。吸引保持するために吸引力を過剰に強くすると、薄化したウエーハを破損させる恐れがある。 However, a warped wafer has a problem that it is difficult to hold by suction with a carry-in / out device. If the suction force is excessively increased to hold the suction, the thinned wafer may be damaged.
本発明はこのような点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、薄化されて反ったウエーハでも吸引保持が可能な搬出入装置を提供することである。 The present invention has been made in view of these points, and an object of the present invention is to provide a carry-in / out apparatus capable of sucking and holding even a wafer that has been thinned and warped.
本発明によると、板状物を吸引保持する保持面を有する保持部と、該保持部をカセット内に挿入する屈曲アーム機構とを備え、該カセット内に収容された板状物を該カセット内から搬出又は該カセット内へ板状物を搬入する板状物の搬出入装置であって、該保持部は、該保持面に開口する吸引口と、吸引源に接続されて該吸引口に負圧を伝達する負圧伝達路と、該吸引口を囲繞するように配設された弾性部材からなる吸着パッドと、を具備したことを特徴とする板状物の搬出入装置が提供される。 According to the present invention, a holding part having a holding surface for sucking and holding a plate-like object and a bending arm mechanism for inserting the holding part into the cassette are provided, and the plate-like object accommodated in the cassette is placed in the cassette. A plate-like object carrying-in / out device for carrying out a plate-like object or carrying a plate-like object into the cassette, wherein the holding portion is connected to a suction port that opens on the holding surface and a suction source and is loaded on the suction port. There is provided a plate-like material carrying-in / out device comprising: a negative pressure transmission path for transmitting pressure; and a suction pad made of an elastic member disposed so as to surround the suction port.
本発明の搬出入装置は、吸引口の周囲に弾性部材からなる吸着パッドが配設されているため、薄化されて反ったウエーハでも確実に吸引保持することができる。 Since the suction pad made of an elastic member is disposed around the suction port, the carry-in / out apparatus of the present invention can reliably suck and hold a wafer that has been thinned and warped.
以下、本発明の実施形態を図面を参照して詳細に説明する。図1を参照すると、所定の厚さに研削される前の半導体ウエーハの斜視図が示されている。図1に示す半導体ウエーハ11は、例えば厚さが700μmのシリコンウエーハからなっており、表面11aに複数のストリート13が格子状に形成されているとともに、該複数のストリート13によって区画された各領域にIC,LSI等のデバイス15が形成されている。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. Referring to FIG. 1, a perspective view of a semiconductor wafer before being ground to a predetermined thickness is shown. The
このように構成された半導体ウエーハ11は、デバイス15が形成されているデバイス領域17と、デバイス領域17を囲繞する外周余剰領域19を備えている。また、半導体ウエーハ11の外周にはシリコンウエーハの結晶方位を示すマークとしてのノッチ21が形成されている。
The
半導体ウエーハ11の表面11aには、保護テープ貼着工程により保護テープ23が貼着される。従って、半導体ウエーハ11の表面11aは保護テープ23によって保護され、図2に示すように裏面11bが露出する形態となる。
A
図3を参照すると、本発明のウエーハ搬出入装置(板状物の搬出入装置)を具備した研削装置の概略斜視図が示されている。4は研削装置2のベース(ハウジング)であり、ベース4の後方には二つのコラム6a,6bが垂直に立設されている。
Referring to FIG. 3, there is shown a schematic perspective view of a grinding apparatus provided with the wafer carry-in / out device (plate-like product carry-in / out device) of the present invention. Reference numeral 4 denotes a base (housing) of the grinding apparatus 2, and two
コラム6aには、上下方向に伸びる一対のガイドレール(一本のみ図示)8が固定されている。この一対のガイドレール8に沿って粗研削ユニット10が上下方向に移動可能に装着されている。粗研削ユニット10は、そのハウジング20が一対のガイドレール8に沿って上下方向に移動する移動基台12に取り付けられている。
A pair of guide rails (only one is shown) 8 extending in the vertical direction is fixed to the column 6a. A
粗研削ユニット10は、ハウジング20と、ハウジング20中に回転可能に収容された図示しないスピンドルと、スピンドルを回転駆動するサーボモータ22と、スピンドルの先端に固定された複数の粗研削用の研削砥石26を有する研削ホイール24を含んでいる。
The
粗研削ユニット10は、粗研削ユニット10を一対の案内レール8に沿って上下方向に移動するボールねじ14とパルスモータ16とから構成される粗研削ユニット移動機構18を備えている。パルスモータ16をパルス駆動すると、ボールねじ14が回転し、移動基台12が上下方向に移動される。
The
他方のコラム6bにも、上下方向に伸びる一対のガイドレール(一本のみ図示)19が固定されている。この一対のガイドレール19に沿って仕上げ研削ユニット28が上下方向に移動可能に装着されている。
A pair of guide rails 19 (only one is shown) 19 extending in the vertical direction are also fixed to the
仕上げ研削ユニット28は、そのハウジング36が一対のガイドレール19に沿って上下方向に移動する図示しない移動基台に取り付けられている。仕上げ研削ユニット28は、ハウジング36と、ハウジング36中に回転可能に収容された図示しないスピンドルと、スピンドルを回転駆動するサーボモータ38と、スピンドルの先端に固定された仕上げ研削用の研削砥石42を有する研削ホイール40を含んでいる。
The
仕上げ研削ユニット28は、仕上げ研削ユニット28を一対の案内レール19に沿って上下方向に移動するボールねじ30とパルスモータ32とから構成される仕上げ研削ユニット移動機構34を備えている。パルスモータ32を駆動すると、ボールねじ30が回転し、仕上げ研削ユニット28が上下方向に移動される。
The
研削装置2は、コラム6a,6bの前側においてハウジング4の上面と略面一となるように配設されたターンテーブル44を具備している。ターンテーブル44は比較的大径の円盤状に形成されており、図示しない回転駆動機構によって矢印45で示す方向に回転される。
The grinding device 2 includes a
ターンテーブル44には、互いに円周方向に120°離間して3個のチャックテーブル46が水平面内で回転可能に配置されている。チャックテーブル46は、ポーラスセラミック材によって円盤状に形成された吸着チャックを有しており、吸着チャックの保持面上に載置されたウエーハを真空吸引手段を作動することにより吸引保持する。
On the
ターンテーブル44に配設された3個のチャックテーブル46は、ターンテーブル44が適宜回転することにより、ウエーハ搬入・搬出領域A、粗研削加工領域B、仕上げ研削加工領域C、及びウエーハ搬入・搬出領域Aに順次移動される。
The three chuck tables 46 arranged on the
ハウジング4の前側部分には、研削加工前のウエーハが収容されているカセット50と、研削加工後のウエーハを収容するカセット66と、カセット50内に収容されたウエーハを搬出するとともに、研削加工後のウエーハをカセット66内に搬入するウエーハの搬出入装置(ウエーハ搬送ロボット)54が配設されている。
In the front portion of the housing 4, a
ウエーハの搬出入装置54は、図4に示すように複数のアームを回動可能に連結した屈曲アーム機構51と、屈曲アーム機構51の先端部に連結されたウエーハ保持部(ハンド)52を有している。
As shown in FIG. 4, the wafer carry-in / out
屈曲アーム機構51は、図示しない駆動手段によりZ軸方向(上下方向)に移動される支持部材72と、支持部材72に対して回動可能に取り付けられた第1アーム74と、第1アーム74に対して回動可能に取り付けられた第2アーム76とから構成される。
The
第2アーム76の先端部には、駆動部77を介してウエーハ保持部(ハンド)52が取り付けられている。ウエーハ52の保持面52aには、図6に最もよく示されるように、3個の吸引口80が開口されており、各吸引口80を囲繞するように弾性部材からなる吸着パッド78が配設されている。
A wafer holding part (hand) 52 is attached to the tip of the
カセット66の両側壁66aの内側には複数の棚82が形成されており、ウエーハ11は左右で対応する高さの棚82に支持されてカセット66内に収容されている。カセット50もカセット66と同様な構成を有している。
A plurality of
再び図3を参照すると、ウエーハの搬出入装置54に隣接して、複数の位置決めピン58を有する位置決めテーブル56と、ウエーハ搬入機構(ローディングアーム)60と、ウエーハ搬出機構(アンローディングアーム)62と、研削されたウエーハを洗浄及びスピン乾燥するスピンナ洗浄装置64が配設されている。
Referring again to FIG. 3, a positioning table 56 having a plurality of positioning pins 58, a wafer carry-in mechanism (loading arm) 60, and a wafer carry-out mechanism (unloading arm) 62 are adjacent to the wafer carry-in / out
スピンナ洗浄装置64には、研削された半導体ウエーハ11を吸引保持して回転するスピンナテーブル68が装着されている。70はスピンナ洗浄装置64のカバーである。
A spinner table 68 that rotates while sucking and holding the
図5を参照すると、ウエーハ搬出入装置54のウエーハ保持部52でウエーハ11を吸引保持した状態のウエーハ搬出入装置54の斜視図が示されている。図5に示された状態は、スピンナ洗浄装置64のスピンナテーブル68からウエーハ搬出入装置54のウエーハ保持部52でウエーハ11を吸引保持して、カセット66の最上段の棚82内にウエーハ11を収容しようとする状態である。
Referring to FIG. 5, a perspective view of the wafer loading /
図6の拡大図に示すように、ウエーハ保持部52の保持面52aには3個の吸引口80が開口しており、図7に最もよく示されるように、各吸引口80は弾性部材からなる吸着パッド78により囲繞されている。好ましくは、吸着パッド78は独立気泡を有する例えば厚み1〜2mmのウレタンスポンジから構成されている。ゴムや通常のスポンジから吸着パッド78を形成するようにしてもよい。
As shown in the enlarged view of FIG. 6, the holding
図7に示されるように、吸着パッド78は両面テープ79によりウエーハ保持部52の保持面52aに貼着されている。好ましくは、吸着パッド78の両面テープ79との接着面は皮付き処理が施されている。
As shown in FIG. 7, the
ウレタンスポンジに皮付き処理を施すことにより、両面テープ79との接着力が向上し、ウエーハ搬出入時の擦れにより吸着パッド78が剥離して取れてしまうことを防止できる。
By applying the skin treatment to the urethane sponge, the adhesive force with the double-
吸着パッド78の接着に両面テープ79を使用することにより、吸着パッド78の取り付け及び取り外しが容易となる。図6に示されるように、各吸引口80は負圧伝達路84を介して負圧吸引源86に接続されている。
By using the double-
次に、図8を参照して、薄く研削されて反りを有するウエーハ11の保持部52による吸引保持について説明する。図8(A)に示すように、ウエーハ11はスピンナ洗浄装置64のスピンナテーブル68に吸引保持されている。この状態で、スピンナテーブル68の下方からウエーハ搬出入機構54のウエーハ保持部52を挿入して上昇させる。
Next, with reference to FIG. 8, suction holding by the holding
図8(B)に示すように、ウエーハ保持部52を上昇させるとともに吸引口80から吸引すると、ウレタンスポンジから形成されている吸引パッド78が潰れ、ウエーハ保持部52で反りを有するウエーハ11を吸引保持することができる。
As shown in FIG. 8B, when the
ウエーハ搬出入機構54の保持部52でウエーハ11を吸引保持した状態で、スピンナテーブル68の吸引を解除し、図5に示すように、ウエーハ搬出入機構54でウエーハ11をカセット66へ搬送する。
While the
尚、ウエーハ搬出入機構54の保持部52でウエーハ11を吸引保持するまでは、スピンナテーブル68でウエーハ11を吸引保持しておくのが好ましいが、スピンナテーブル68の吸引を早めに解除しても、ウエーハ搬出入機構54の保持部52でウエーハ11を吸引保持することはできる。
It is preferable that the
上述したウエーハ搬出入機構54では、ウエーハ保持部52の吸引口80の周囲に弾性部材からなる吸着パッド78が配設されているため、薄く研削されて反ったウエーハ11でもウエーハ搬出入装置54の保持部52でウエーハ11の吸引保持が可能となり、スピンナ洗浄装置64のスピンナテーブル68からカセット66まで反りを有するウエーハ11を搬送することができる。
In the wafer loading /
尚、上述した実施形態では、本発明のウエーハ搬出入機構54を研削装置2に適用した例について説明したが、本発明のウエーハ搬出入機構は、ウエーハ11を薄く研磨して反りが発生したウエーハを搬送する研磨装置のウエーハ搬出入機構にも同様に適用することができる。
In the above-described embodiment, the example in which the wafer carry-in / out
2 研削装置
10 粗研削ユニット
11 半導体ウエーハ
28 仕上げ研削ユニット
44 ターンテーブル
46 チャックテーブ
50,66 カセット
51 屈曲アーム機構
52 ウエーハ保持部(ハンド)
54 ウエーハ搬出入機構
68 スピンナテーブル
78 吸着パッド
80 吸引口
2 Grinding
54 Wafer loading /
Claims (1)
該保持部は、
該保持面に開口する吸引口と、
吸引源に接続されて該吸引口に負圧を伝達する負圧伝達路と、
該吸引口を囲繞するように配設された弾性部材からなる吸着パッドと、
を具備したことを特徴とする板状物の搬出入装置。 A holding part having a holding surface for sucking and holding a plate-like object and a bending arm mechanism for inserting the holding part into the cassette, and carrying out the plate-like object accommodated in the cassette from the cassette or the cassette A plate-like material carry-in / out device for carrying a plate-like material into the inside,
The holding part is
A suction port opening in the holding surface;
A negative pressure transmission path connected to a suction source and transmitting negative pressure to the suction port;
A suction pad made of an elastic member disposed so as to surround the suction port;
The board | substrate carrying-in / out apparatus characterized by having comprised.
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