JP2011186149A - 光学部品及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明は、基板上に多層の光学薄膜を成膜してなる光学部品であって、
真空蒸着法で形成された少なくとも1層の前記光学薄膜は、臨界荷重値30mN以上であることを特徴とする光学部品である。
ここで、臨界荷重値は、JIS R3255「ガラスを基板とした薄膜の付着性試験」と呼ばれる規格に準拠した測定方法を用いて評価した値である。
【選択図】図1
Description
真空蒸着法で形成された少なくとも1層の前記光学薄膜は、臨界荷重値30mN以上であることを特徴とする。
ここで、臨界荷重値は、JIS R3255「ガラスを基板とした薄膜の付着性試験」に準拠した測定方法を用いて評価した値である。
真空蒸着法で形成された少なくとも1層の前記光学薄膜は、臨界荷重値30mN以上であることを特徴とする。
ここで、臨界荷重値は、JIS R3255「ガラスを基板とした薄膜の付着性試験」に準拠した測定方法を用いて評価した値である。
ここで、臨界荷重値は、JIS R3255「ガラスを基板とした薄膜の付着性試験」に準拠した測定方法を用いて評価した値である。
樹脂製基板の面上に、低屈折率材料としてSiO2、高屈折率材料としてTa2O5を用いて多層からなる光学薄膜として反射防止膜を形成した。この反射防止膜は、基板側の1層目にTa2O5を配し、Ta2O5とSiO2を交互に積層して、合計4層の構成の反射防止膜とした。基板としてポリカーボネート系樹脂を用いた。この反射防止膜では、Ta2O5とSiO2の成膜中に、プラズマアシスト法として、プラズマ銃を用いてプラズマ照射を行った。
本実施例で用いられる低屈折率材料のSiO2については、材料の形状は問わない。顆粒状、焼結体のペレットや溶融体のリングでも良い。主成分がSiO2であれば、Al2O3との混合物質を用いても良い。
高屈折率材料については、Ta2O5に代えてTiO2やNb2O5を用いても良い。低屈折率材料と同様に材料の形状は問わない。
なお、プラズマアシスト法に代えて、イオンアシスト法を用いることもできる。また、プラズマアシスト法及びイオンアシスト法においては、各層を形成する材料に応じて、パラメータ(例えばガス流量、照射時間、印加出力)を制御することが好ましい。
次に、臨界荷重値の測定について説明する。臨界荷重値は、光学薄膜の擦傷性に対応する値である。表1に、臨界荷重値を測定するときの条件を掲げる。
次に、ヤング率の測定について説明する。ヤング率は、光学薄膜の硬さに対応する値である。硬さを測定するために、インデンテーション試験を行う。インデンテーション試験では、反射防止膜への荷重と、そのときの変位とを測定する。具体的には、高精度な荷重の印加と、それによる変位を高精度に測定する。
1層目 2層目 3層目 4層目 5層目 6層目 7層目
実施例1 Ta2O5 SiO2 Ta2O5 SiO2
実施例2 SiO2 TiO2 SiO2 TiO2 SiO2
実施例3 SiO2 TiO2 SiO2 TiO2 SiO2 TiO2 MgF2
実施例4 SiO SiO2 TiO2 SiO2 TiO2 SiO2
表2に掲げるように、基板側から順番に、SiO2とTiO2から構成されている。
ここで、SiO2層の形成にのみプラズマアシスト法を用いて反射防止膜を作製した。
樹脂製基板の面上に、低屈折率材料としてSiO2、高屈折率材料としてTiO2を用いて多層からなる光学薄膜として反射防止膜を形成した。この反射防止膜は、基板側の1層目にSiO2を配し、SiO2とTiO2を交互に積層して、合計5層の構成の反射防止膜とした。この反射防止膜では、SiO2の成膜中に、プラズマアシスト法として、プラズマ銃を用いてプラズマ照射を行った。
基板としてシクロオレフィン系樹脂を用いた。
表2に示すように、7層の膜構成である。基板側から順番に、6層目まで、SiO2とTiO2から構成されている。7層目はMgF2である。ここで、SiO2層とMgF2層の形成にのみプラズマアシスト法を用いて反射防止膜を作製した。基板としてポリカーボネート系樹脂を用いた。
表2に示すように、実施例2と同様の膜構成で、密着層としてSiOを一層目として、6層構成の反射防止膜を作成した。この反射防止膜では、SiO2の成膜中に、プラズマアシスト法として、プラズマ銃を用いてプラズマ照射を行った。基板としてアクリル系樹脂を用いた。
実施例1と同様の4層の構成で、蒸着法のみで反射防止膜を形成した。
(比較例2)
実施例2と同様の5層の構成で、蒸着法のみで反射防止膜を形成した。
(比較例3)
実施例3と同様の7層の構成で、蒸着法のみで反射防止膜を形成した。
(比較例4)
実施例4と同様の6層の構成で、蒸着法のみで反射防止膜を形成した。
また、表3に、各実施例と比較例との臨界荷重値、ヤング率の値を掲げる。
名称 臨界荷重値(mN) ヤング率(GPa)
シクロオレフィン系樹脂 50 0.23
ポリカーボネート系樹脂 40 0.20
アクリル系樹脂 110 0.26
実施例1 40 4.0
実施例2 55 3.5
実施例3 50 3.5
実施例4 110 3.3
比較例1 32 2.0
比較例2 32 2.0
比較例3 27 2.0
比較例4 35 2.0
また、反射防止膜のヤング率は、基板のヤング率の10倍以上である。
さらに、上述の光学薄膜は、多層膜のうちの最外層であることが望ましい。
Claims (14)
- 基板上に多層の光学薄膜を成膜してなる光学部品であって、
真空蒸着法で形成された少なくとも1層の前記光学薄膜は、臨界荷重値30mN以上であることを特徴とする光学部品。
ここで、臨界荷重値は、JIS R3255「ガラスを基板とした薄膜の付着性試験」に準拠した測定方法を用いて評価した値である。 - 真空蒸着法で形成された反射防止膜中の少なくとも1層の前記光学薄膜が、ナノインデンテーション測定法による測定値においてヤング率3GPa以上であることを特徴とする請求項1に記載の光学部品。
- 前記光学薄膜の臨界荷重値は、前記基板の臨界荷重値に対して70%以上であることを特徴とする請求項1または2に記載の光学部品。
- 前記光学薄膜のヤング率は、前記基板のヤング率の10倍以上であることを特徴とする請求項3に記載の光学部品。
- 真空蒸着法で形成された少なくとも1層の前記光学薄膜は、プラズマアシスト法により形成されていることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載の光学部品。
- 前記光学薄膜は多層膜のうちの最外層であることを特徴とする請求項1〜5のいずれか一項に記載の光学部品。
- 前記基板の材質が樹脂であることを特徴とする請求項1〜5のいずれか一項に記載の光学部品。
- 基板上に光学薄膜を成膜する工程を有する光学部品の製造方法であって、
真空蒸着法で形成された少なくとも1層の前記光学薄膜は、臨界荷重値30mN以上であることを特徴とする光学部品の製造方法。
ここで、臨界荷重値は、JIS R3255「ガラスを基板とした薄膜の付着性試験」に準拠した測定方法を用いて評価した値である。 - 真空蒸着法で形成された反射防止膜中の少なくとも1層の前記光学薄膜が、ナノインデンテーション測定法による測定値においてヤング率3GPa以上であることを特徴とする請求項8に記載の光学部品。
- 前記光学薄膜の臨界荷重値は、前記基板の臨界荷重値に対して70%以上であることを特徴とする請求項8または9に記載の光学部品の製造方法。
- 前記光学薄膜の硬さは、前記基板の硬さの10倍以上であることを特徴とする請求項10に記載の光学部品の製造方法。
- 真空蒸着法で形成された少なくとも1層の前記光学薄膜は、プラズマアシスト法により形成されていることを特徴とする請求項8〜11に記載の光学部品の製造方法。
- 前記光学薄膜は多層膜のうちの最外層であることを特徴とする請求項8〜12のいずれか一項に記載の光学部品の製造方法。
- 前記基板の材質が樹脂であることを特徴とする請求項8〜13のいずれか一項に記載の光学部品の製造方法。
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2021021893A (ja) * | 2019-07-30 | 2021-02-18 | マクセル株式会社 | 膜付きレンズ、レンズユニットおよびカメラモジュール |
JP2021113936A (ja) * | 2020-01-21 | 2021-08-05 | デクセリアルズ株式会社 | 偏光板、光学機器及び偏光板の製造方法 |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102520066B (zh) * | 2011-11-24 | 2013-07-24 | 天津大学 | 一种测量镶嵌薄膜杨氏模量的方法 |
CN112005131A (zh) * | 2018-04-27 | 2020-11-27 | 柯尼卡美能达株式会社 | 光学薄膜、光学构件及光学薄膜的制造方法 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000239830A (ja) * | 1999-02-17 | 2000-09-05 | Agency Of Ind Science & Technol | 酸化物光学薄膜の形成方法及び酸化物光学薄膜の形成装置 |
JP2002258006A (ja) * | 2001-02-28 | 2002-09-11 | Toppan Printing Co Ltd | 光学機能フィルムおよびその製造方法 |
JP2009199022A (ja) * | 2008-02-25 | 2009-09-03 | Hoya Corp | 光学部材 |
JP2010014655A (ja) * | 2008-07-07 | 2010-01-21 | Fujifilm Corp | 放射線像変換パネル |
JP2011001608A (ja) * | 2009-06-19 | 2011-01-06 | Canon Optron Inc | 薄膜形成用組成物および光学薄膜 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
ZA884511B (en) * | 1987-07-15 | 1989-03-29 | Boc Group Inc | Method of plasma enhanced silicon oxide deposition |
US5618619A (en) * | 1994-03-03 | 1997-04-08 | Monsanto Company | Highly abrasion-resistant, flexible coatings for soft substrates |
-
2010
- 2010-03-08 JP JP2010050671A patent/JP2011186149A/ja active Pending
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2011
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Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000239830A (ja) * | 1999-02-17 | 2000-09-05 | Agency Of Ind Science & Technol | 酸化物光学薄膜の形成方法及び酸化物光学薄膜の形成装置 |
JP2002258006A (ja) * | 2001-02-28 | 2002-09-11 | Toppan Printing Co Ltd | 光学機能フィルムおよびその製造方法 |
JP2009199022A (ja) * | 2008-02-25 | 2009-09-03 | Hoya Corp | 光学部材 |
JP2010014655A (ja) * | 2008-07-07 | 2010-01-21 | Fujifilm Corp | 放射線像変換パネル |
JP2011001608A (ja) * | 2009-06-19 | 2011-01-06 | Canon Optron Inc | 薄膜形成用組成物および光学薄膜 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2021021893A (ja) * | 2019-07-30 | 2021-02-18 | マクセル株式会社 | 膜付きレンズ、レンズユニットおよびカメラモジュール |
JP2021113936A (ja) * | 2020-01-21 | 2021-08-05 | デクセリアルズ株式会社 | 偏光板、光学機器及び偏光板の製造方法 |
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