JP2011033269A - 噴霧乾燥装置および顆粒の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】回転ディスク30のボス部33が、回転ディスク30の上板34の上部開口部35から回転軸24に沿って上板34の上面から飛び出しており、上板34と下板32との間の隙間を分散隙間αとし、上板34の上面から飛び出しているボス部33の突出高さをγとした場合に、0.5×α<γ<2.5×α、好ましくは0.6×α≦γ<2.5×α、さらに好ましくは0.9×α≦γ≦2.4×α、特に好ましくは0.9×α≦γ≦1.8×αの関係にある。
【選択図】図3
Description
スラリーを吐出するための吐出ノズルと、
前記吐出ノズルから吐出されたスラリーを放射状に噴霧する回転ディスクと、
前記吐出ノズルを保持する保持部材が下端に取り付けられ、前記回転ディスクの回転軸が内部に配置してある保護ケーシングと、を有する噴霧乾燥装置であって、
前記回転ディスクが、
前記回転軸に固定してあるボス部と、
前記ボス部と一体に形成された下板と、
上部開口部を持ち、前記下板に対して所定隙間で略平行に固定され、前記回転軸の軸芯方向に沿って上側に位置する上板と、を有し、
前記吐出ノズルの吐出口が、前記上板の上部開口部から前記上板と下板との間の所定隙間内に位置し、
前記ボス部が前記上板の上部開口部から前記回転軸に沿って前記上板の上面から飛び出しており、
前記上板と下板との間の隙間を分散隙間αとし、前記上板の上面から飛び出している前記ボス部の突出高さをγとした場合に、
0.5×α<γ<2.5×α、好ましくは0.6×α≦γ<2.5×α、さらに好ましくは0.9×α≦γ≦2.4×α、特に好ましくは0.9×α≦γ≦1.8×αの関係にあることを特徴とする。
前記保持部材よりも下側に位置する前記回転ディスクが乾燥筒体の内部上方に位置するように、前記保護ケーシングが、前記乾燥筒体の上部に取り付けられている。吐出ノズルとスラリーチューブとは、必ずしも別部材である必要はなく、一体化されたものでも良い。たとえばスラリーチューブの開口端で、吐出ノズルを構成してもよく、吐出ノズルを特別に用意しなくても良い。
上記のいずれかに記載の噴霧乾燥装置を用い、
前記回転ディスクを回転させながら、前記吐出ノズルから前記回転ディスクの下板へ向けてスラリーを吐出し、前記スラリーを回転ディスクの外周に位置する乾燥雰囲気中へ吹き飛ばして顆粒を製造することを特徴とする。
第1実施形態
第2実施形態
その他の実施形態
実施例1
4… 乾燥筒体
6… 供給ノズル
10… サイクロン
12… バグフィルター
14… 回収機用ブロアー
20… 噴霧ユニット
22… 保護ケーシング
22a… 下端
22b… ケーシング本体
22c… 小径部
22d… テーパ部
23… 保持部材
24… 回転軸
30… 回転ディスク
32… 下板
33… ボス部
34… 上板
35… 上部開口部
36… 分散ピン
38… 所定隙間
40… 吐出ノズル
42… 吐出口
44… スラリーチューブ
50… スラリー
Claims (7)
- スラリーを吐出するための吐出ノズルと、
前記吐出ノズルから吐出されたスラリーを放射状に噴霧する回転ディスクと、
前記吐出ノズルを保持する保持部材が下端に取り付けられ、前記回転ディスクの回転軸が内部に配置してある保護ケーシングと、を有する噴霧乾燥装置であって、
前記回転ディスクが、
前記回転軸に固定してあるボス部と、
前記ボス部と一体に形成された下板と、
上部開口部を持ち、前記下板に対して所定隙間で略平行に固定され、前記回転軸の軸芯方向に沿って上側に位置する上板と、を有し、
前記吐出ノズルの吐出口が、前記上板の上部開口部から前記上板と下板との間の所定隙間内に位置し、
前記ボス部が前記上板の上部開口部から前記回転軸に沿って前記上板の上面から飛び出しており、
前記上板と下板との間の隙間を分散隙間αとし、前記上板の上面から飛び出している前記ボス部の突出高さをγとした場合に、
0.5×α<γ<2.5×αの関係にあることを特徴とする噴霧乾燥装置。 - 少なくとも前記吐出口から前記吐出ノズルを保持する保持部材までの間で、前記吐出ノズルが、二重管構造を有している請求項1に記載の噴霧乾燥装置。
- 前記保護ケーシングの内部には、前記回転軸を回転自在に保持する軸受けと、前記吐出ノズルにスラリーを送り込むスラリーチューブとが配置してあり、
前記保持部材よりも下側に位置する前記回転ディスクが乾燥筒体の内部上方に位置するように、前記保護ケーシングが、前記乾燥筒体の上部に取り付けられている請求項1または2に記載の噴霧乾燥装置。 - 前記保護ケーシングは、当該保護ケーシングの下端に向けて外径が小さくなる形状を有し、当該保護ケーシングの下端外周は、前記回転ディスクの外径よりも小さい外径を有する請求項1〜3のいずれかに記載の噴霧乾燥装置。
- 前記保護ケーシングの下端外周は、前記上部開口部の内径よりも大きな外径を有する請求項4に記載の噴霧乾燥装置。
- 前記下板と上板とは、前記回転ディスクの外周位置に周方向に沿って所定間隔で配置された分散ピンにより一体化されている請求項1〜5のいずれかに記載の噴霧乾燥装置。
- 請求項1〜6のいずれかに記載の噴霧乾燥装置を用い、
前記回転ディスクを回転させながら、前記吐出ノズルから前記回転ディスクの下板へ向けてスラリーを吐出し、前記スラリーを回転ディスクの外周に位置する乾燥雰囲気中へ吹き飛ばして顆粒を製造することを特徴とする顆粒の製造方法。
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JP2009179701A JP2011033269A (ja) | 2009-07-31 | 2009-07-31 | 噴霧乾燥装置および顆粒の製造方法 |
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2009
- 2009-07-31 JP JP2009179701A patent/JP2011033269A/ja active Pending
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