JP2009522561A - 周期構造の光学検査方法及びシステム - Google Patents

Abstract

【課題】周期構造中の欠陥を確実に検出することが可能となる、広い領域上の小さな周期構造を検査するための単純かつ低コストなオプションを提供する。
【解決手段】画素構造（２）を有する光学画像記録装置により、周期構造（１）を検査する検査方法及び検査システムが開示される。前記検査方法及び前記検査システムにおいて、周期構造（１）の記録画像（６）が前記周期構造（１）の欠陥のない基準画像（４）と比較される。簡単な手段で欠陥を確実に検知するため、前記基準画像（４）の少なくとも１つの位置（Ｘ、Ｙ）において、前記光学画像記録装置の前記画素構造（２）に対する前記周期構造（１）の位相角（フェーズＸ、フェーズＹ）が決定される。前記記録画像（６）は、検査領域（７）に分割される。各検査領域（７）毎に、前記画像記録装置の前記画素構造（２）に対する前記周期構造（１）の前記位相角（フェーズＸ、フェーズＹ）が決定される。検査領域（７）と前記基準画像（４）とを比較するため、前記検査領域（７）に対応する位相角（フェーズＸ、フェーズＹ）を有する基準画像領域（８）が選択される。
【選択図】図４

Description

本発明は、画素構造を有する光学画像記録装置を用いて周期構造の検査を行う方法及びシステムに関し、例えば記録画像上の周期構造上の欠陥を判定するため、特にその記録画像と、欠陥のない周期構造の基準画像とが、それ自体として公知の画像評価によって比較される。

本発明は、検査表面の全面積に比べ非常に小さな周期を有する非常に微細な周期構造の検査に利用可能である。この一例は、液晶ディスプレイ画面用のカラーフィルタの検査であり、そこでは赤、黄及び緑のフィルタ素子が相互に周期的な順序で配列され、これを選択的に背後から照射することによりカラー画像を視聴者に対して生成することができる。

このような構造に対しては、製造工程中に、欠陥の検査を頻繁に行う必要がある。この点に関する公知の方法は、検査対象となる構造を記録すること、及び適切な画像処理によりこれらの構造のうち欠陥のない基準画像と比較することで構成される。

画像記録に用いられる光学画像記録装置、例えばＣＣＤカメラはその構造上、自身で周期的画素構造を有し、この上に記録対象となる画像がその周期構造とともに撮像され、画素に分割された上でデジタル化される。記録対象となる周期構造が光学画像記録装置の画素分解能と比較して十分に大きい場合、それら周期構造の推移は記録画像中で容易に識別することができる。というのは、記録中に同一のものとして現れる領域は記録対象となる構造の周期内で、画像記録装置の多数の画素上に撮像されることとなる上、周期構造の推移はこれと比較して少数の画素内で生じるからである。したがって、周期構造は高分解能で記録される。

しかし、当該領域の寸法に対して小さな周期構造を有する広い領域を記録しようとする場合、光学画像評価のために必要とされる高分解能の光学画像記録装置は、高額の支出を伴う技術的装備によってのみ達成可能であり、このコストは多くの場合所望の検査作業に見合うものではない。

したがって、実際に大きな面積かつ小さな周期構造を有するパターンを検査するには、一台の記録装置で検査対象となるパターンの大部分が一度に検査できるように、通常、低い分解能の光学記録装置が複数用いられる。しかしながら、これにより検査対象となる周期構造の一つの構造要素が記録装置の同じくらいの数の画素上、例えば一つの構造要素が３個から４個の画素上に撮像されることとなる。検査対象となる構造が同様に周期的な画素構造上に重畳されることにより、検査対象となる周期構造と画素構造との周期比が、正確に整数でなくかつ位相角が完全に一定でない場合には、サブピクセルずれ（ｓｕｂ−ｐｉｘｅｌ ｓｈｉｆｔｓ）により記録画像中にアーチファクト（ａｒｔｅｆａｃｔｓ）が生じることになる。このような条件は実際にはほとんど達成できないか、莫大な経費をかけた場合にのみ起こるので、記録画像中の画素の値は記録時の位相角に大きく依存することになる。したがって、基準画像とそのまま比較しても検査対象となる周期構造中の欠陥の有無について十分に正確な結論を得ることはできない。

ドイツ特許第１０１６１７３７Ｃ１号において公知の周期的表面構造の欠陥検出方法では、ある周期の少なくとも一つのカレントセグメントの測定されたオリジナル値が、検査対象となる構造の別の周期の各セグメントの少なくとも更に二つの測定されたオリジナル値と比較される。ここで、分析されたオリジナル値の中央値が決定され、カレントセグメントに対応する周期構造のセグメントの値として画像再生に用いられる。このようにして、画像のセグメント比較により周期構造が再生されるが、これは、理想的な周期構造にほぼ対応する。というのは、同じものを有するセグメントを欠陥のない構造に対応するセグメントと置き換えることで、潜在的な欠陥がマスクされるからである。このようにして生成される理想画像及び記録画像のオリジナル値から、構造中の欠陥を識別するため差分画像（ｄｉｆｆｅｒｅｎｔｉａｌ ｉｍａｇｅ）が生成される。

中央値をとることで、位相角決定による問題は部分的に取り除かれる。しかしながら、周期構造と記録時の画素構造との間の位相関係のみにより、実際の構造には存在しない推定欠陥が、実際には特定されることになる。

米国特許第５５１３２７５Ａ号には、記録画像と基準画像とを比較するにあたり光学記録装置によって記録される基準画像が用いられるのではなく、パターン検出後にその周期構造が数学的に決定されることが記載される。しかしながら、これは非常に大きな計算コストを要する。

本発明の目的は、広い領域上の小さな周期構造を検査するための単純かつ低コストなオプションを提供することであり、これにより周期構造中の欠陥を確実に検出することが可能となる。

この目的は請求項１及び１１に記載の方法及びシステムによって達成される。本発明の方法では、基準画像中少なくとも一つないし好ましくはより多くの位置で、前記基準画像中に撮像された前記周期構造の位相角が前記光学記録装置の画素構造に対して決定され、好ましくは前記基準画像とともに記憶される。検査対象となる表面の記録画像は、その後検査領域に分割される。各検査領域毎に、検査領域中に撮像された周期構造の位相角が光学画像記録装置の画素構造に対して決定され、これにより特に基準画像も比較可能な構成で記録することができる。検査領域と基準画像とを比較するため、その位相角が検査領域の位相角に対応する各基準画像が選択される。基準画像領域のサイズは検査領域のサイズに調整されることが好ましい。

検査領域中に撮像された周期構造の位相角を光学画像記録装置の画素構造に対して決定することは、当業者にとって公知の方法により実行可能であり、これにより同一又は少なくとも極めて類似する位相角を有する基準画像中の基準画像領域を選択することが可能となる。このようにして、画素構造と検査対象となる周期構造との間の異なる位相角の影響が、基準画像と記録画像とを比較する際、簡易な方法でかつ多大なコストを伴わずに除去され、欠陥が高い信頼性をもって検出可能となる。

本発明の方法を実行するにあたり、基準画像領域を選択するため、検査領域の位相角に対する位相差が最小となる位相角を有する基準画像の位置が選択されることが好ましい。ここで、検査対象となる構造の状態に応じて、特に、画素評価に大きな影響を有する位相方向に鋭い輪郭がある場合、異なる位相方向、例えばＸ方向及びＹ方向が異なる形で重み付けられてもよい。しかしながら、基本的には、異なる位相方向も同様に重み付けられてよい。

検査領域及び基準画像領域が常に同一サイズで選択される場合、周期構造の位相角が基準画像中で決定されるそれぞれの位置において、対応する基準画像領域が、画像として及び/又は画像中の位置として記憶されてよく、かつ対応する位相角が記憶されてよい。この情報がメモリ中でアクセス可能であれば、比較のために必要な時間を低減可能であり、したがって検査速度を向上できる。

基準画像領域と位相角とを記憶する際、異なる位相方向における位相角と基準画像領域の所定の点の位置、例えば所定の角部とが記憶されたテーブルを記憶するのが特に好ましい。このテーブルは、異なる位相方向、特にＸ及びＹ方向に最小の位相差を有するテーブル項目の検索が最小の検索時間で実行できるように検索最適化されてよい。このような離散テーブルにより、適切な基準画像領域を検査領域に特に迅速に割り当てることができる。

基準画像中において、画素構造に対する周期構造の位相角は、周期構造の各繰返し周期毎に決定されるのが特に好ましい。このようにすれば、ほぼ全ての実際上生ずる位相角を決定でき、かつ基準画像領域と検査領域間の位相角の非常に良好な相関関係が得られるようになって、基準画像全体がカバーされる。基本的には、基準画像中で位相角を一旦決定した後、周期構造の各周期で位相角を計算することも可能である。しかしながら、実際には、例えば画像取得中の転送システムの不正確さから生ずる周期的でない位相変化もありうることから、各周期での位相角を別々に決定することが好ましい。

例えば、光学画像記録装置の画像欠陥を最小にするため、検査領域と比較するための以下のような基準画像領域を用いてもよい。すなわち、これは、特に画像記録装置によって記録される画像全体の画像部分に関して検査領域の空間的近傍に配される。この選択は、検査領域に対し、比較的良好な位相角を有する複数の基準画像領域が得られる場合には効果的である。全体画像内で基準画像領域と検査領域とが空間的に近傍に配されることが好ましいという基本的に有利な要求は、本発明によれば、位相精度に対してより低い重要性が与えられる。位相相関と二次的な考量要素である比較対象となる領域の空間的近傍性との合同評価は、品質関数の定義によって行うことができる。

検査領域が記録画像全体をカバーせず、記録画像の一部を選択することが基本的に有利である。というのは、より小さな画像部分においては、画像記録装置ないし、例えば転送システムの精度の低さに起因する周期的でない位相変化による光学画像の欠陥は大きな影響を持たず、これらの検査領域において一定の条件を仮定することができるからである。

検査領域が記録画像の一部よりも相当程度小さい場合、本発明によれば、基準画像領域及び検査領域は同一の記録画像に由来してよい。

基準画像領域に確実に欠陥がないようにするため、本発明では、特定の方法により基準画像領域を他の基準画像領域と比較することで欠陥がないことを検査してもよい。これは、上述の方法によれば、記録された基準画像も局部的な欠陥なしとはできないことから特に有利である。この検査は、基準位相テーブルを記憶された基準画像領域により生成した後、各基準画像の自己検査を通常の検査と同様に行うことにより、例えば実行可能である。部分的にディフェクトがある場合、この部分的なディフェクトの正確な位置が更なる比較により決定可能であり、したがってこの部分的ディフェクトを含む基準画像の部分を基準位相テーブルから消去することができる。このようにして、使用された基準画像領域に欠陥をなくすことができる。

基準画像領域を動的に管理するため、本発明では、欠陥なしとして検出された検査領域を、その後基準画像領域として用いてもよく、特に、例えば基準位相テーブル中に位相角とともに記憶されてもよい。好ましくは現在の基準画像領域を比較に用いるため、この管理は、現在の検査工程を実行中に古い基準画像領域が連続的に消去されると同時に補充されるように先入れ先出しメモリ（ＦＩＦＯ）の形で構成されてもよい。動的な基準画像管理により、本発明によれば少数の記憶された基準画像領域と自己学習システムだけで検査システムを開始することも可能となる。

これに代えて、あるいは基準画像の記録に加えて、基準画像を特定の記録された複数の基準画像領域から計算してもよい。これは、複数の記録された基準画像及び基準画像領域から、位相角を変化させて、位相角及び対応する画像の関係の数学的モデルが演算される形で実行可能である。その後、基準画像領域と検査領域との間で比較可能な位相角を得るため、各実際に生じる位相角毎に、基準画像を検査中に計算可能である。この場合、基準画像中で、ある位置での光学画像記録装置の画素構造に対する光学構造の位相角を演算によって決定し、検査領域との比較に用いることが可能である。

基準画像領域と検査領域との実際の画像比較は、本発明によれば、それらの位相角において相関がある同一サイズの領域の減算ないし除算によって行われるのが好ましい。この場合、この結果は、局部的なディフェクトがある場合のみにずれを示す同一の強度を有する画像となり、これは容易に検出可能であり、公知の画像処理方法により処理可能である。

本発明は、周期構造を、画素構造を有しこの周期構造の画像を記録する光学画像記録装置とメモリによる画像処理とによって検査するシステムに関する。本発明では、この画像処理は、特に、記録された基準画像中で、少なくとも一つ以上の位置において、光学記録装置の画素構造に対する光学構造の位相角が決定され、記録された画像が検査領域に分割され、各検査領域において光学画像記録装置の画素構造に対する周期構造の位相角が決定され、検査領域と基準画像との比較のため、その位相角が検査領域の位相角に対応する基準画像領域が選択されるように行われる。本発明では、画像処理中において上述の方法に対する別の方法工程及びオプションが実行可能であることはいうまでもない。

加えて、この画像処理は、各方法工程が演算されるフィールド・プログラマブル・ゲートアレイ(ＦＰＧＡ)を有してもよい。基準画像及び／又は基準画像領域は、例えばフィールド・プログラマブル・ゲートアレイに直接接続されるメモリに記録されてもよい。基準画像及び/又は基準画像領域を関連する位相角とともにフィールド・プログラマブル・ゲートアレイに記憶することで、全体としてのアクセスタイムが短縮され、処理速度の増加が達成することができる。ここで、基準画像の画像データが一度だけ正確に記憶され、基準画像中の画素と相関された位置（Ｘ、Ｙ）を示すことで、基準画像領域が記憶される場合には特にスペースが削減できる。この領域の位置（Ｘ、Ｙ）及び所望のサイズから、基準画像領域を、記憶された基準画像において容易に選択することができる。

したがって、本発明の特に有利な点は、基準画像領域中及び検査領域中の異なる位相角が、周期構造の推定された欠陥を誤って示すアーチファクトとならないように、記録された検査領域及び基準画像領域との比較により、検査対象となる周期構造と画像記録装置の画素構造との間の位相角を考慮することである。

本発明のその他の特徴、利点及び可能な用途は、以下の好ましい実施形態及び図面の説明から了解されるであろう。ここで、全ての記載された及び／又は図示された特徴は、それらの請求項における組み合わせないしその関係とは関わりなく、それ自体ないし組み合わせにおいて本発明の主題を構成する。

図１に光学画像記録装置によって検査されるべき周期構造１が示される。この周期構造は、水平方向に周期構造１を有する検査対象となるパターンの全面積に比較して小さな周期Ｐ１からＰｎを有する。この周期構造１を記録する光学画像記録装置は、その部分にその分解能に対応する画素構造２を有する。画素はこの画素構造２におけるエントリ（ｅｎｔｒｙ）の幅によって規定される。図示される画素構造２は周期構造１における水平画像線３に対応する。

この周期構造１は異なる輝度を有する三つの隣接する領域であるＢ１、Ｂ２及びＢ３からなり、これが周期Ｐｉ（ｉ＝１〜ｎ）で繰り返される。これら領域Ｂ１、Ｂ２及びＢ３は、強度図として異なる高さのピークにより示されるように画素構造中に現れ、略周期的に繰り返される。

このような構造１の公知である従来の検査方法は、記憶された規格（ｎｏｍｉｎａｌ）パターンとの比較によるものである。しかしながら、これは、例えば数μｍのサイズの微細構造が比較的広い１〜２ｍ²の領域に適用される場合には極めて実現困難である。というのは、この場合きわめて大量のデータが記憶される必要があるからである。したがって、全体パターンを基準画像として記録する必要がなくなるように、隣接する構造要素が検査対象となる構造要素のパターンとして用いられる周期構造のための方法が開発された。

この検査用の従来のアルゴリズムにおいては、各個々の画素が、それぞれ前後の周期の周期距離Ｐに対応する二つの画素の平均値と比較される。ここで、例えば検査される画素がこの平均値から大きくずれる場合には欠陥が推定される。

図１中の画素構造２をより詳しく見ると、個々の周期Ｐ１からＰｎ中、領域Ｂ１、Ｂ２及びＢ３に対応するピーク構造に差があることがわかる。これらは検査対象となる周期構造Ｐ１と画素構造２との位相角が各周期Ｐ１からＰｎで異なることに起因するものである。画素構造２は光学画像記録装置の分解能により決定され、強度分布中の最小の水平エントリの長さにより画素構造２中で読み取ることができる。

領域Ｂ１から領域Ｂ２への移行に際しての画素の強度は、それぞれ画素構造２の内の一つの画素が各領域に割り当て可能な程度、ないし既に中間領域に配される程度による。位相の正しい記録画像が基準画像として存在する場合、ないし正しい位相角への変換がなされる場合には、検査は、基準画像と記録画像との単純な比較によって達成可能であろう。これが、本発明により提案される方法及び対応するシステム中でそれぞれ実行され、図２及び３によって以下に説明される。

図２では、周期構造１を有する基準画像４が示され、複数の位置Ｘ、Ｙにおいて周期構造１の位相角フェーズＸ、フェーズＹが光学画像記録装置の画素構造２に対して決定される。画像として得られる構造に対する画像の位相角を決定することは当業者がそれ自体として公知の現行の方法によって行うことが可能であり、これらは詳細に説明される必要はない。ここで、位置Ｘ、Ｙは、周期構造１の位相角が各周期Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３等におけるＸ方向において決定されるように選択される。同様のことはＹ方向の位相角にもあてはまる。

決定された値は、Ｘ及びＹ方向における関連する位相であるフェーズＸ、フェーズＹとともに基準画像４中の位置Ｘ、Ｙを含む基準位相テーブル５に入力され、各周期Ｐｉでの基準画像４について、実際に起こるＸ及びＹ方向のサブピクセル位相ずれが検査される。全ての決定された位相ずれは基準位相テーブルに記憶され、画像処理のメモリに追加的に記憶された基準画像４により、テーブル中にリストされる位置Ｘ及びＹにおいて、任意の大きさの基準画像領域が既知の位相角を有する基準画像４から抽出することができる。

これは、図３に示されるように周期構造１の実際の検査に用いられる。図３では、検査対象となる周期構造１を有する記録画像６が示される。記録画像６において、検査領域７はわずかに重畳されて規定され、これらはそれぞれ個別に順次検査される。検査領域７の大きさは、検査領域７の大きさに対して一定の光学条件となるように調整される。

検査実行時、まず、各検査領域７のそれぞれにつき、検査領域７において撮像された周期構造１の位相角（フェーズＸ、フェーズＹ）が光学画像記録装置の画素構造２に対して決定される。この位相角に応じて、検査領域７と基準画像４とを比較するため、検査領域７と同じサイズを有し、その位相角が検査領域７の位相角に対応する基準画像領域８が、基準位相テーブル５において選択される。このため、検査領域７の位相角フェーズＸ、フェーズＹに対して最も小さな位相差を有する位相の対であるフェーズＸ、フェーズＹが基準位相テーブル５から選択される。個別の基準画像領域８の各検査領域７への割り当てが図３に示される。

周期構造の検査のため、検査領域７及び基準画像領域８は互いに減算される。これら二つの領域７及び８がほぼ同一の位相角を有することから、比較画像はほぼ一定の強度で生起し、個々の欠陥が容易に識別可能となる。

画素値が先行位相Ｐ（ｉ−１）と後続位相Ｐ（ｉ＋１）の対応する画素の平均値と単純に比較される方法に対する上述の方法の利点が図４に示される。

図４ａは、図１で示された画素構造２の一部を画像線３に沿って示す。３０番画素の領域に、欠陥（ディフェクト）が印される。

図４ｂは差分画像であり、先行及び後続周期の画素の平均値が入力される画像再生から、図４ａが減算されている。周期構造１の各領域Ｂ１、Ｂ２、Ｂ３の推移において、異なる位相角により強度変化が記録画像６と基準画像４との間で生じることから、３０番画素の欠陥はほとんど識別できない。

これに比較して、３０番画素での欠陥は図４ｃに示される強度分布において明確に認識される。

この強度分布は上述のように記録画像６と基準画像４との減算による位相の正確な比較により、周期構造を検査したことにより生成された。したがって、本発明によれば、周期構造を確実に欠陥検査することが可能である。

図１は、検査対象となる周期構造の画像及び光学画像記録装置の対応する画像線を示す図である。 図２は、本発明の基準画像を示す図であり、検査対象となる周期構造及び画像記録装置の画素構造との間の位相角が決定された状態を示す図である。 図３ａは、基準画像領域を記録画像中の検査領域に割り当てた状態を示す図であり、図３ａ及び３ｂにおいて同一の符号ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅの線が連結される図である。 図３ｂは、基準画像領域を記録画像中の検査領域に割り当てた状態を示す図であり、図３ａ及び３ｂにおいて同一の符号ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅの線が連結される図である。 図４は、公知の評価方法と本発明の評価方法とで比較した周期構造の記録画像線を示す図である。

符号の説明

１…周期構造 ２…画素構造
３…画像線 ４…基準画像
５…基準位相テーブル ６…記録画像
７…検査領域 ８…基準画像領域
Ｐ１〜Ｐｎ…周期 Ｂ１、Ｂ２、Ｂ３…領域
Ｘ、Ｙ…位置

Claims (13)

1. 画素構造（２）を有する光学記録装置により、周期構造（１）を検査する検査方法において、前記周期構造（１）の記録画像（６）が前記周期構造（１）の欠陥のない基準画像（４）と比較される検査方法であって、前記基準画像（４）中、少なくとも一つの位置（Ｘ、Ｙ）において、前記光学記録装置の前記画素構造（２）に対する前記周期構造（１）の位相角（フェーズＸ、フェーズＹ）が決定され、前記記録画像（６）が検査領域（７）に分割され、各検査領域（７）毎に前記光学記録装置の前記画素構造（２）に対する前記周期構造（１）の前記位相角（フェーズＸ、フェーズＹ）が決定され、前記基準画像（４）と検査領域（７）とを比較するため、その位相角（フェーズＸ、フェーズＹ）が前記検査領域（７）に対応する基準画像領域（８）が選択されることを特徴とする検査方法。
2. 請求項１記載の検査方法であって、前記基準画像領域（８）を選択するため、前記検査領域（７）の前記位相角（フェーズＸ、フェーズＹ）に対する位相差が最小とされる位相角（フェーズＸ、フェーズＹ）を有する前記基準画像（４）の位置（Ｘ、Ｙ）が選択されることを特徴とする検査方法。
3. 請求項１又は２記載の検査方法であって、前記位相角（フェーズＸ、フェーズＹ）が前記基準画像（４）中で決定される各位置（Ｘ、Ｙ）毎に、基準画像領域（８）及び前記位相角（フェーズＸ、フェーズＹ）が記憶されることを特徴とする検査方法。
4. 請求項１〜３のいずれか１項に記載の検査方法であって、前記画素構造（２）に対する前記周期構造（１）の前記位相角（フェーズＸ、フェーズＹ）は、前記周期構造（１）の各周期（Ｐ）毎に決定されることを特徴とする検査方法。
5. 請求項１〜４のいずれか１項に記載の検査方法であって、前記検査領域（７）と比較するため、前記検査領域（７）と空間的に近い位置にある基準画像領域（８）が用いられることを特徴とする検査方法。
6. 請求項１〜５のいずれか１項に記載の検査方法であって、前記基準画像領域（８）は、前記記録画像（６）の一部であり、かつ前記検査領域（７）と異なることを特徴とする検査方法。
7. 請求項１〜６のいずれか１項に記載の検査方法であって、基準画像領域（８）は、他の基準画像領域（８）との比較により欠陥がないことが検査されることを特徴とする検査方法。
8. 請求項１〜７のいずれか１項に記載の検査方法であって、欠陥がないと検出された検査領域（７）が、基準画像領域（８）として用いられることを特徴とする検査方法。
9. 請求項１〜８のいずれか１項に記載の検査方法であって、基準画像（４）は複数の基準領域（８）から計算されることを特徴とする検査方法。
10. 請求項１〜９のいずれか１項に記載の検査方法であって、基準画像領域（８）と検査領域（７）との比較は、等しい大きさの前記領域（７、８）の減算ないし除算によって行われることを特徴とする検査方法。
11. 画素構造（２）を有し周期構造（１）の画像を記録する光学画像記録装置とメモリによる画像処理とを用いて前記周期構造（１）を検査する検査システムであって、前記画像処理においては、基準画像（４）中、少なくとも一つの位置（Ｘ、Ｙ）において、前記光学画像記録装置の前記画素構造（２）に対する前記周期構造（１）の位相角（フェーズＸ、フェーズＹ）が決定され、記録画像（６）が検査領域（７）に分割され、各検査領域（７）毎に、前記光学画像記録装置の前記画素構造（２）に対する前記周期構造（１）の前記位相角（フェーズＸ、フェーズＹ）が決定され、検査領域（７）と前記基準画像（４）とを比較するため、その位相角（フェーズＸ、フェーズＹ）が前記検査領域（７）に対応する基準画像領域（８）が選択されることを特徴とする検査システム。
12. 請求項１１記載の検査システムであって、前記画像処理は、前記各方法工程が演算されるフィールド・プログラマブル・ゲートアレイを有することを特徴とする検査システム。
13. 請求項１２記載の検査システムであって、前記基準画像（４）及び／又は前記基準画像領域（８）は関連付けられた位相角（フェーズＸ、フェーズＹ）とともに前記フィールド・プログラマブル・ゲートアレイに記憶されることを特徴とする検査システム。

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