JP2009196978A - アミド化合物とその植物病害防除用途 - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、アミド化合物とその植物病害防除用途に関する。
植物病害防除剤の有効成分として多くの化合物が開発され、実用に供されている。しかしながら、これらの化合物は必ずしも十分な防除効力を示さない場合もある。
本発明は、植物病害に対して優れた防除効力を有する化合物を提供する。
本発明者らは、植物病害に対して優れた防除効力を有する化合物を提供すべく検討の結果、下記式(I)
〔式中、R1は水素原子またはフッ素原子を表し、R2は直鎖C1−C6アルキル基または直鎖(C1−C2アルコキシ)C2−C5アルキル基を表す。〕
で示されるアミド化合物(以下、本発明化合物と記す場合もある。)が植物病害に対して優れた防除効力を有することを見出し、本発明に至った。
すなわち本発明は以下の〔1〕〜〔12〕の通りである。
〔1〕 式(I)
〔式中、R1は水素原子またはフッ素原子を表し、R2は直鎖C1−C6アルキル基または直鎖(C1−C2アルコキシ)C2−C5アルキル基を表す。〕
で示されるアミド化合物。
〔2〕 R1がフッ素原子である〔1〕記載のアミド化合物。
〔3〕 R1が水素原子である〔1〕記載のアミド化合物。
〔4〕 R2が直鎖C1−C6アルキル基である〔1〕〜〔3〕いずれか一項記載のアミド化合物。
〔5〕 R2が直鎖C1−C5アルキル基である〔1〕〜〔3〕いずれか一項記載のアミド化合物。
〔6〕 R2がメチル基又はエチル基である〔1〕〜〔3〕いずれか一項記載のアミド化合物。
〔7〕 R2がメチル基又はペンチル基である〔1〕〜〔3〕いずれか一項記載のアミド化合物。
〔8〕 R2が直鎖(C1−C2アルコキシ)C3−C4アルキル基である〔1〕〜〔3〕いずれか一項記載のアミド化合物。
〔9〕 〔1〕〜〔8〕いずれか一項記載のアミド化合物と担体とを含有する植物病害防除剤(以下、本発明防除剤と記す場合もある。)。
〔10〕 〔1〕〜〔8〕いずれか一項記載のアミド化合物の有効量を植物又は土壌に処理する工程を有する植物病害の防除方法。(以下、本発明防除方法と記す場合もある。)
〔11〕 植物病害を防除するための〔1〕〜〔8〕いずれか一項記載のアミド化合物の使用。
〔12〕 式(V)
〔式中、R1は水素原子またはフッ素原子を表す。〕
で示されるアミド化合物。
〔式中、R1は水素原子またはフッ素原子を表し、R2は直鎖C1−C6アルキル基または直鎖(C1−C2アルコキシ)C2−C5アルキル基を表す。〕
で示されるアミド化合物(以下、本発明化合物と記す場合もある。)が植物病害に対して優れた防除効力を有することを見出し、本発明に至った。
すなわち本発明は以下の〔1〕〜〔12〕の通りである。
〔1〕 式(I)
〔式中、R1は水素原子またはフッ素原子を表し、R2は直鎖C1−C6アルキル基または直鎖(C1−C2アルコキシ)C2−C5アルキル基を表す。〕
で示されるアミド化合物。
〔2〕 R1がフッ素原子である〔1〕記載のアミド化合物。
〔3〕 R1が水素原子である〔1〕記載のアミド化合物。
〔4〕 R2が直鎖C1−C6アルキル基である〔1〕〜〔3〕いずれか一項記載のアミド化合物。
〔5〕 R2が直鎖C1−C5アルキル基である〔1〕〜〔3〕いずれか一項記載のアミド化合物。
〔6〕 R2がメチル基又はエチル基である〔1〕〜〔3〕いずれか一項記載のアミド化合物。
〔7〕 R2がメチル基又はペンチル基である〔1〕〜〔3〕いずれか一項記載のアミド化合物。
〔8〕 R2が直鎖(C1−C2アルコキシ)C3−C4アルキル基である〔1〕〜〔3〕いずれか一項記載のアミド化合物。
〔9〕 〔1〕〜〔8〕いずれか一項記載のアミド化合物と担体とを含有する植物病害防除剤(以下、本発明防除剤と記す場合もある。)。
〔10〕 〔1〕〜〔8〕いずれか一項記載のアミド化合物の有効量を植物又は土壌に処理する工程を有する植物病害の防除方法。(以下、本発明防除方法と記す場合もある。)
〔11〕 植物病害を防除するための〔1〕〜〔8〕いずれか一項記載のアミド化合物の使用。
〔12〕 式(V)
〔式中、R1は水素原子またはフッ素原子を表す。〕
で示されるアミド化合物。
本発明により、植物病害を防除することができる。
本発明化合物において、R2で示される直鎖(C1−C2アルコキシ)C2−C5アルキル基とは、炭素鎖に枝分かれがない(C1−C2アルコキシ)C2−C5アルキル基を意味する。
R2で示される直鎖C1−C6アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基が挙げられ、
直鎖(C1−C2アルコキシ)C2−C5アルキル基としては、2−メトキシエチル基、2−エトキシエチル基、3−メトキシプロピル基、3−エトキシプロピル基、4−メトキシブチル基、4−エトキシブチル基、5−メトキシペンチル基及び5−エトキシペンチル基が挙げられる。
R2で示される直鎖C1−C6アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基が挙げられ、
直鎖(C1−C2アルコキシ)C2−C5アルキル基としては、2−メトキシエチル基、2−エトキシエチル基、3−メトキシプロピル基、3−エトキシプロピル基、4−メトキシブチル基、4−エトキシブチル基、5−メトキシペンチル基及び5−エトキシペンチル基が挙げられる。
本発明化合物の態様としては、例えば以下のものが挙げられる。
式(I)において、R1がフッ素原子であるアミド化合物;
式(I)において、R1が水素原子であるアミド化合物;
式(I)において、R1がフッ素原子であり、R2がメチル基又はエチル基であるアミド化合物;
式(I)において、R1がフッ素原子であり、R2が直鎖C1−C5アルキル基であるアミド化合物;
式(I)において、R1が水素原子であり、R2がメチル基又はペンチル基であるアミド化合物;
式(I)において、R2が直鎖メトキシC2−C5アルキル基であるアミド化合物;
式(I)において、R2が3−(C1−C2アルコキシ)プロピル基であるアミド化合物;
式(I)において、R2が4−(C1−C2アルコキシ)ブチル基であるアミド化合物;
式(I)において、R1がフッ素原子であり、R2が直鎖メトキシC2−C5アルキル基であるアミド化合物;
式(I)において、R1がフッ素原子であり、R2が3−(C1−C2アルコキシ)プロピル基であるアミド化合物;及び
式(I)において、R1がフッ素原子であり、R2が4−(C1−C2アルコキシ)ブチル基であるアミド化合物。
式(I)において、R1がフッ素原子であるアミド化合物;
式(I)において、R1が水素原子であるアミド化合物;
式(I)において、R1がフッ素原子であり、R2がメチル基又はエチル基であるアミド化合物;
式(I)において、R1がフッ素原子であり、R2が直鎖C1−C5アルキル基であるアミド化合物;
式(I)において、R1が水素原子であり、R2がメチル基又はペンチル基であるアミド化合物;
式(I)において、R2が直鎖メトキシC2−C5アルキル基であるアミド化合物;
式(I)において、R2が3−(C1−C2アルコキシ)プロピル基であるアミド化合物;
式(I)において、R2が4−(C1−C2アルコキシ)ブチル基であるアミド化合物;
式(I)において、R1がフッ素原子であり、R2が直鎖メトキシC2−C5アルキル基であるアミド化合物;
式(I)において、R1がフッ素原子であり、R2が3−(C1−C2アルコキシ)プロピル基であるアミド化合物;及び
式(I)において、R1がフッ素原子であり、R2が4−(C1−C2アルコキシ)ブチル基であるアミド化合物。
本発明化合物は、例えば以下の(製造法1)、(製造法2)又は(製造法3)により製造することができる。
(製造法1)
本発明化合物は、化合物(II)、化合物(III)又はその塩(例えば、塩酸塩及び臭化水素酸塩が挙げられる。)及び縮合剤を反応させることにより製造することができる。
〔式中、R1およびR2は前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
該反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン(以下、THFと記す。)、エチレングリコールジメチルエーテル、tert−ブチルメチルエーテル(以下、MTBEと記す。)等のエーテル類、ヘキサン、へプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸ブチル、酢酸エチル等のエステル類、アセトニトリル等のニトリル類、N,N−ジメチルホルムアミド(以下、DMFと記す。)等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド(以下、DMSOと記す。)等のスルホキシド類、ピリジン等の含窒素芳香族化合物類等及びこれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる縮合剤としては、1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩(以下、WSCと記す。)及び1,3−ジシクロヘキシルカルボジイミド等のカルボジイミド類、(ベンゾトリアゾール−1−イルオキシ)トリス(ジメチルアミノ)ホスホニウムヘキサフルオロホスフェート(以下、BOP試薬と記す。)等が挙げられる。
該反応では化合物(II)1モルに対して化合物(III)が通常0.5〜3モルの割合、化合物(II)1モルに対して縮合剤が通常1〜5モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は、通常−20℃〜140℃の範囲である。該反応の反応時間は通常1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物に水を加えた際、固体が析出した場合は、濾過することにより本発明化合物を単離することができる。反応混合物に水を加えた際に固体が析出しない場合は、反応混合物と水との混合物を有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮することにより、本発明化合物を単離することができる。単離された本発明化合物をクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
本発明化合物は、化合物(II)、化合物(III)又はその塩(例えば、塩酸塩及び臭化水素酸塩が挙げられる。)及び縮合剤を反応させることにより製造することができる。
〔式中、R1およびR2は前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
該反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン(以下、THFと記す。)、エチレングリコールジメチルエーテル、tert−ブチルメチルエーテル(以下、MTBEと記す。)等のエーテル類、ヘキサン、へプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸ブチル、酢酸エチル等のエステル類、アセトニトリル等のニトリル類、N,N−ジメチルホルムアミド(以下、DMFと記す。)等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド(以下、DMSOと記す。)等のスルホキシド類、ピリジン等の含窒素芳香族化合物類等及びこれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる縮合剤としては、1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩(以下、WSCと記す。)及び1,3−ジシクロヘキシルカルボジイミド等のカルボジイミド類、(ベンゾトリアゾール−1−イルオキシ)トリス(ジメチルアミノ)ホスホニウムヘキサフルオロホスフェート(以下、BOP試薬と記す。)等が挙げられる。
該反応では化合物(II)1モルに対して化合物(III)が通常0.5〜3モルの割合、化合物(II)1モルに対して縮合剤が通常1〜5モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は、通常−20℃〜140℃の範囲である。該反応の反応時間は通常1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物に水を加えた際、固体が析出した場合は、濾過することにより本発明化合物を単離することができる。反応混合物に水を加えた際に固体が析出しない場合は、反応混合物と水との混合物を有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮することにより、本発明化合物を単離することができる。単離された本発明化合物をクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
(製造法2)
本発明化合物は、化合物(IV)又はその塩酸塩と化合物(III)又はその塩(例えば、塩酸塩及び臭化水素酸塩が挙げられる。)とを、塩基の存在下に反応させることにより製造することができる。
〔式中、R1およびR2は前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
該反応に用いられる溶媒としては、例えばTHF、エチレングリコールジメチルエーテル、MTBE等のエーテル類、ヘキサン、へプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸ブチル、酢酸エチル等のエステル類、アセトニトリル等のニトリル類及びこれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる塩基としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩類、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の第3級アミン類及びピリジン、4−ジメチルアミノピリジン等の含窒素芳香族化合物類等が挙げられる。
該反応では化合物(IV)1モルに対して化合物(III)が通常0.5〜3モルの割合、化合物(IV)1モルに対して塩基が通常1〜5モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は通常−20℃〜100℃の範囲である。該反応の反応時間は通常0.1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物に水を加えた際、固体が析出した場合は、濾過することにより本発明化合物を単離することができる。反応混合物に水を加えた際に固体が析出しない場合は、反応混合物と水との混合物を有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮することにより、本発明化合物を単離することができる。単離された本発明化合物を、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
本発明化合物は、化合物(IV)又はその塩酸塩と化合物(III)又はその塩(例えば、塩酸塩及び臭化水素酸塩が挙げられる。)とを、塩基の存在下に反応させることにより製造することができる。
〔式中、R1およびR2は前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
該反応に用いられる溶媒としては、例えばTHF、エチレングリコールジメチルエーテル、MTBE等のエーテル類、ヘキサン、へプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸ブチル、酢酸エチル等のエステル類、アセトニトリル等のニトリル類及びこれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる塩基としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩類、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の第3級アミン類及びピリジン、4−ジメチルアミノピリジン等の含窒素芳香族化合物類等が挙げられる。
該反応では化合物(IV)1モルに対して化合物(III)が通常0.5〜3モルの割合、化合物(IV)1モルに対して塩基が通常1〜5モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は通常−20℃〜100℃の範囲である。該反応の反応時間は通常0.1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物に水を加えた際、固体が析出した場合は、濾過することにより本発明化合物を単離することができる。反応混合物に水を加えた際に固体が析出しない場合は、反応混合物と水との混合物を有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮することにより、本発明化合物を単離することができる。単離された本発明化合物を、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
(製造法3)
本発明化合物は、化合物(V)と化合物(VI)とを塩基の存在下に反応させることにより製造することができる。
〔式中、R1およびR2は前記と同じ意味を表し、Lは塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メタンスルホニルオキシ基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基又はp−トルエンスルホニルオキシ基を表す。〕
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
該反応に用いられる溶媒としては、例えばTHF、エチレングリコールジメチルエーテル、MTBE等のエーテル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、アセトニトリル等のニトリル類、DMF等の酸アミド類、DMSO等のスルホキシド類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、水及びこれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる塩基としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム等のアルカリ金属炭酸塩類、水酸化ナトリウム等のアルカリ金属水酸化物類、水素化ナトリウム等のアルカリ金属水素化物類等が挙げられる。
該反応では化合物(V)1モルに対して化合物(VI)が通常1〜10モルの割合、化合物(V)1モルに対して塩基が通常1〜5モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は通常−20℃〜100℃の範囲である。該反応の反応時間は通常0.1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物に水を加えた際、固体が析出した場合は、濾過することにより本発明化合物を単離することができる。反応混合物に水を加えた際に固体が析出しない場合は、反応混合物と水との混合物を有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮することにより、本発明化合物を単離することができる。単離された本発明化合物を、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
本発明化合物は、化合物(V)と化合物(VI)とを塩基の存在下に反応させることにより製造することができる。
〔式中、R1およびR2は前記と同じ意味を表し、Lは塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メタンスルホニルオキシ基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基又はp−トルエンスルホニルオキシ基を表す。〕
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
該反応に用いられる溶媒としては、例えばTHF、エチレングリコールジメチルエーテル、MTBE等のエーテル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、アセトニトリル等のニトリル類、DMF等の酸アミド類、DMSO等のスルホキシド類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、水及びこれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる塩基としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム等のアルカリ金属炭酸塩類、水酸化ナトリウム等のアルカリ金属水酸化物類、水素化ナトリウム等のアルカリ金属水素化物類等が挙げられる。
該反応では化合物(V)1モルに対して化合物(VI)が通常1〜10モルの割合、化合物(V)1モルに対して塩基が通常1〜5モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は通常−20℃〜100℃の範囲である。該反応の反応時間は通常0.1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物に水を加えた際、固体が析出した場合は、濾過することにより本発明化合物を単離することができる。反応混合物に水を加えた際に固体が析出しない場合は、反応混合物と水との混合物を有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮することにより、本発明化合物を単離することができる。単離された本発明化合物を、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
化合物(V)は例えば以下の(合成法1)又は(合成法2)により製造することができる。
(合成法1)
化合物(V)は、化合物(II)、化合物(VII)又はその塩(例えば、塩酸塩及び臭化水素酸塩が挙げられる。)及び縮合剤を反応させることにより製造することができる。
〔式中、R1は前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
該反応に用いられる溶媒としては、例えばTHF、エチレングリコールジメチルエーテル、MTBE等のエーテル類、ヘキサン、へプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸ブチル、酢酸エチル等のエステル類、アセトニトリル等のニトリル類、DMF等の酸アミド類、DMSO等のスルホキシド類、ピリジン等の含窒素芳香族化合物類等及びこれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる脱水縮合剤としては、WSC及び1,3−ジシクロヘキシルカルボジイミド等のカルボジイミド類、BOP試薬等が挙げられる。
該反応では化合物(II)1モルに対して化合物(VII)が通常0.5〜3モルの割合、化合物(II)1モルに対して縮合剤が通常1〜5モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は通常−20℃〜140℃の範囲である。該反応の反応時間は通常1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物に水を加えた際、固体が析出した場合は、濾過することにより化合物(V)を単離することができる。反応混合物に水を加えた際に固体が析出しない場合は、反応混合物と水との混合物を有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮することにより、化合物(V)を単離することができる。単離された化合物(V)を、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
化合物(V)は、化合物(II)、化合物(VII)又はその塩(例えば、塩酸塩及び臭化水素酸塩が挙げられる。)及び縮合剤を反応させることにより製造することができる。
〔式中、R1は前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
該反応に用いられる溶媒としては、例えばTHF、エチレングリコールジメチルエーテル、MTBE等のエーテル類、ヘキサン、へプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸ブチル、酢酸エチル等のエステル類、アセトニトリル等のニトリル類、DMF等の酸アミド類、DMSO等のスルホキシド類、ピリジン等の含窒素芳香族化合物類等及びこれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる脱水縮合剤としては、WSC及び1,3−ジシクロヘキシルカルボジイミド等のカルボジイミド類、BOP試薬等が挙げられる。
該反応では化合物(II)1モルに対して化合物(VII)が通常0.5〜3モルの割合、化合物(II)1モルに対して縮合剤が通常1〜5モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は通常−20℃〜140℃の範囲である。該反応の反応時間は通常1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物に水を加えた際、固体が析出した場合は、濾過することにより化合物(V)を単離することができる。反応混合物に水を加えた際に固体が析出しない場合は、反応混合物と水との混合物を有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮することにより、化合物(V)を単離することができる。単離された化合物(V)を、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
(合成法2)
化合物(V)は、化合物(IV)又はその塩酸塩と化合物(VII)又はその塩(例えば、塩酸塩及び臭化水素酸塩が挙げられる。)とを、塩基の存在下に反応させることにより製造することもできる。
〔式中、R1は前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
該反応に用いられる溶媒としては、例えばTHF、エチレングリコールジメチルエーテル、MTBE等のエーテル類、ヘキサン、へプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸ブチル、酢酸エチル等のエステル類、アセトニトリル等のニトリル類及びこれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる塩基としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩類、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の第3級アミン類及びピリジン、4−ジメチルアミノピリジン等の含窒素芳香族化合物類等が挙げられる。
該反応では化合物(IV)1モルに対して化合物(VII)が通常0.5〜1モルの割合、化合物(IV)1モルに対して塩基が通常1〜5モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は通常−20℃〜100℃の範囲である。該反応の反応時間は通常0.1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物に水を加えた際、固体が析出した場合は、濾過することにより化合物(V)を単離することができる。反応混合物に水を加えた際に固体が析出しない場合は、反応混合物と水との混合物を有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮することにより、化合物(V)を単離することができる。単離された化合物(V)を、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
化合物(V)は、化合物(IV)又はその塩酸塩と化合物(VII)又はその塩(例えば、塩酸塩及び臭化水素酸塩が挙げられる。)とを、塩基の存在下に反応させることにより製造することもできる。
〔式中、R1は前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
該反応に用いられる溶媒としては、例えばTHF、エチレングリコールジメチルエーテル、MTBE等のエーテル類、ヘキサン、へプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸ブチル、酢酸エチル等のエステル類、アセトニトリル等のニトリル類及びこれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる塩基としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩類、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の第3級アミン類及びピリジン、4−ジメチルアミノピリジン等の含窒素芳香族化合物類等が挙げられる。
該反応では化合物(IV)1モルに対して化合物(VII)が通常0.5〜1モルの割合、化合物(IV)1モルに対して塩基が通常1〜5モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は通常−20℃〜100℃の範囲である。該反応の反応時間は通常0.1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物に水を加えた際、固体が析出した場合は、濾過することにより化合物(V)を単離することができる。反応混合物に水を加えた際に固体が析出しない場合は、反応混合物と水との混合物を有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮することにより、化合物(V)を単離することができる。単離された化合物(V)を、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
本発明化合物としては、具体的には以下の化合物が挙げられる。
N−(3−メトキシフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド、
N−(3−エトキシフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド、
N−(3−プロポキシフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド、
N−(3−ブトキシフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド、
N−(3−ペンチルオキシフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド、
N−(3−へキシルオキシフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド、
N−(2−フルオロ−3−メトキシフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド、
N−(3−エトキシ−2−フルオロフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド、
N−(2−フルオロ−3−プロポキシフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド、
N−(3−ブトキシ−2−フルオロフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド、
N−(2−フルオロ−3−ペンチルオキシフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド、
N−(2−フルオロ−3−ヘキシルオキシフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド、
N−[3−(2−メトキシエトキシ)フェニル]メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド、
N−[2−フルオロ−3−(2−メトキシエトキシ)フェニル]メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド、
N−[3−(3−メトキシプロポキシ)フェニル]メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド、
N−[2−フルオロ−3−(3−メトキシプロポキシ)フェニル]メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド、
N−[3−(4−メトキシブトキシ)フェニル]メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド、
N−[2−フルオロ−3−(4−メトキシブトキシ)フェニル]メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド、
N−[3−(5−メトキシペンチルオキシ)フェニル]メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド、
N−[2−フルオロ−3−(5−メトキシペンチルオキシ)フェニル]メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド、
N−[3−(2−エトキシエトキシ)フェニル]メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド、
N−[3−(2−エトキシエトキシ)−2−フルオロフェニル]メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド、
N−[3−(3−エトキシプロポキシ)フェニル]メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド、
N−[3−(3−エトキシプロポキシ)−2−フルオロフェニル]メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド、
N−[3−(4−エトキシブトキシ)フェニル]メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド、
N−[3−(4−エトキシブトキシ)−2−フルオロフェニル]メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド、
N−[3−(5−エトキシペンチルオキシ)フェニル]メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド、及び、
N−[3−(5−エトキシペンチルオキシ)−2−フルオロフェニル]メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド。
N−(3−メトキシフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド、
N−(3−エトキシフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド、
N−(3−プロポキシフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド、
N−(3−ブトキシフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド、
N−(3−ペンチルオキシフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド、
N−(3−へキシルオキシフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド、
N−(2−フルオロ−3−メトキシフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド、
N−(3−エトキシ−2−フルオロフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド、
N−(2−フルオロ−3−プロポキシフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド、
N−(3−ブトキシ−2−フルオロフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド、
N−(2−フルオロ−3−ペンチルオキシフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド、
N−(2−フルオロ−3−ヘキシルオキシフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド、
N−[3−(2−メトキシエトキシ)フェニル]メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド、
N−[2−フルオロ−3−(2−メトキシエトキシ)フェニル]メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド、
N−[3−(3−メトキシプロポキシ)フェニル]メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド、
N−[2−フルオロ−3−(3−メトキシプロポキシ)フェニル]メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド、
N−[3−(4−メトキシブトキシ)フェニル]メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド、
N−[2−フルオロ−3−(4−メトキシブトキシ)フェニル]メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド、
N−[3−(5−メトキシペンチルオキシ)フェニル]メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド、
N−[2−フルオロ−3−(5−メトキシペンチルオキシ)フェニル]メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド、
N−[3−(2−エトキシエトキシ)フェニル]メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド、
N−[3−(2−エトキシエトキシ)−2−フルオロフェニル]メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド、
N−[3−(3−エトキシプロポキシ)フェニル]メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド、
N−[3−(3−エトキシプロポキシ)−2−フルオロフェニル]メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド、
N−[3−(4−エトキシブトキシ)フェニル]メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド、
N−[3−(4−エトキシブトキシ)−2−フルオロフェニル]メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド、
N−[3−(5−エトキシペンチルオキシ)フェニル]メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド、及び、
N−[3−(5−エトキシペンチルオキシ)−2−フルオロフェニル]メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド。
本発明防除剤は、本発明化合物と担体とを含有する。担体としては、固体担体、液体担体及びガス担体が挙げられる。本発明防除剤は通常さらに界面活性剤、固着剤、分散剤、安定剤等の製剤用補助剤が加えられ、水和剤、顆粒水和剤、フロアブル剤、粒剤、ドライフロアブル剤、乳剤、水性液剤、油剤、くん煙剤、エアゾール剤、マイクロカプセル剤等に製剤化されている。本発明防除剤には本発明化合物が重量比で通常0.1〜99%、好ましくは0.2〜90%含有される。
固体担体としては、例えば、粘土類(例えば、カオリン、珪藻土、合成含水酸化珪素、ろう石クレー、ベントナイト、酸性白土、タルク)、その他の無機鉱物(例えば、セリサイト、石英粉末、硫黄粉末、活性炭、炭酸カルシウム、水和シリカ)等の微粉末あるいは粒状物が挙げられる。液体担体としては、例えば、水、アルコール類(例えば、メタノール、エタノール)、ケトン類(例えば、アセトン、メチルエチルケトン)、芳香族炭化水素類(例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、メチルナフタレン)、脂肪族又は脂環式炭化水素類(例えば、n−ヘキサン、シクロヘキサノン、灯油)、エステル類(例えば、酢酸エチル、酢酸ブチル)、ニトリル類(例えば、アセトニトリル、イソブチルロニトリル)、エーテル類(例えば、ジオキサン、ジイソプロピルエーテル)、酸アミド類(例えば、DMF、ジメチルアセトアミド)、ハロゲン化炭化水素類(例えば、ジクロロエタン、トリクロロエチレン、四塩化炭素)が挙げられる。
界面活性剤としては、例えばアルキル硫酸エステル類、アルキルスルホン酸塩、アルキルアリールスルホン酸塩、アルキルアリールエーテル類及びそのポリオキシエチレン化物、ポリオキシエチレングリコールエーテル類、多価アルコールエステル類、糖アルコール誘導体等が挙げられる。
その他の製剤用補助剤としては、例えば固着剤、分散剤、増粘剤、濡れ剤、増量剤、酸化防止剤、具体的にはカゼイン、ゼラチン、多糖類(例えば、デンプン、アラビヤガム、セルロース誘導体、アルギン酸)、リグニン誘導体、ベントナイト、糖類、合成水溶性高分子(例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸類)、PAP(酸性りん酸イソプロピル)、BHT(2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノール)、BHA(2−tert−ブチル−4−メトキシフェノールと3−tert−ブチル−4−メトキシフェノールとの混合物)、植物油、鉱物油、脂肪酸又はそのエステル等が挙げられる。
植物病害を防除するために本発明防除剤を施用する方法としては、例えば茎葉散布等の生育した植物への処理、土壌処理等の植物の栽培地への処理、種子消毒等の種子への処理等が挙げられる。
また、本発明防除剤は他の殺菌剤、殺虫剤、殺ダニ剤、殺線虫剤、植物生長調節剤、肥料または土壌改良剤と混用又は併用することができる。
かかる他の殺菌剤としては、例えば、プロピコナゾール、プロチオコナゾール、トリアジメノール、プロクロラズ、ペンコナゾール、テブコナゾール、フルシラゾール、ジニコナゾール、ブロムコナゾール、エポキシコナゾール、ジフェノコナゾール、シプロコナゾール、メトコナゾール、トリフルミゾール、テトラコナゾール、マイクロブタニル、フェンブコナゾール、ヘキサコナゾール、フルキンコナゾール、トリティコナゾール、ビテルタノール、イマザリル、フルトリアホール等のアゾール系殺菌化合物;フェンプロピモルフ、トリデモルフ、フェンプロピジン等の環状アミン系殺菌化合物;カルベンダジム、ベノミル、チアベンダゾール、チオファネートメチル等のベンズイミダゾール系殺菌化合物;プロシミドン;シプロディニル;ピリメタニル;ジエトフェンカルブ;チウラム;フルアジナム;マンコゼブ;イプロジオン;ビンクロゾリン;クロロタロニル;キャプタン;メパニピリム;フェンピクロニル;フルジオキソニル;ジクロフルアニド;フォルペット;クレソキシムメチル;アゾキシストロビン;トリフロキシストロビン;フルオキサストロビン;ピコキシストロビン;ピラクロストロビン;ジモキシストロビン;ピリベンカルブ;スピロキサミン;キノキシフェン;フェンヘキサミド;ファモキサドン;フェナミドン;ゾキサミド;エタボキサム;アミスルブロム;イプロヴァリカルブ;ベンチアバリカルブ;シアゾファミド;マンジプロパミド;ボスカリド;ペンチオピラド;メトラフェノン;フルオピラン;ビキサフェン;シフルフェナミド及びプロキナジドが挙げられる。
本発明防除方法は本発明化合物の有効量を植物又は土壌に処理する工程を有する。本発明防除方法は通常本発明防除剤を植物又は土壌に処理することで行われる。
本発明防除剤を本発明防除方法に使用する際の量は、気象条件、製剤形態、施用時期、施用方法、施用場所、対象病害、対象作物等によっても異なるが、本発明防除剤中の本発明化合物量で1000m2あたり、通常1〜500g、好ましくは2〜200gである。乳剤、水和剤、懸濁剤等は通常水で希釈して施用されるが、その場合の希釈後の本発明化合物濃度は、通常0.0005〜2重量%、好ましくは0.005〜1重量%である。粉剤、粒剤等は通常希釈することなくそのまま施用される。種子への処理においては、本発明防除剤中の本発明化合物量で種子1kgあたり通常0.001〜100g、好ましくは0.01〜50gの範囲で施用される。
本発明防除剤は、畑、水田、芝生、果樹園等の農耕地における植物病害の防除剤として使用することができる。本発明防除剤は、以下に挙げられる「作物」等を栽培する農耕地等において、当該農耕地の病害を防除することができる。
農作物;トウモロコシ、イネ、コムギ、オオムギ、ライムギ、エンバク、ソルガム、ワタ、ダイズ、ピーナッツ、ソバ、テンサイ、ナタネ、ヒマワリ、サトウキビ、タバコ等、野菜;ナス科野菜(ナス、トマト、ピーマン、トウガラシ、ジャガイモ等)、ウリ科野菜(キュウリ、カボチャ、ズッキーニ、スイカ、メロン等)、アブラナ科野菜(ダイコン、カブ、セイヨウワサビ、コールラビ、ハクサイ、キャベツ、カラシナ、ブロッコリー、カリフラワー等)、キク科野菜(ゴボウ、シュンギク、アーティチョーク、レタス等)、ユリ科野菜(ネギ、タマネギ、ニンニク、アスパラガス)、セリ科野菜(ニンジン、パセリ、セロリ、アメリカボウフウ等)、アカザ科野菜(ホウレンソウ、フダンソウ等)、シソ科野菜(シソ、ミント、バジル等)、イチゴ、サツマイモ、ヤマノイモ、サトイモ等、
花卉、
観葉植物、
果樹;仁果類(リンゴ、セイヨウナシ、ニホンナシ、カリン、マルメロ等)、核果類(モモ、スモモ、ネクタリン、ウメ、オウトウ、アンズ、プルーン等)、カンキツ類(ウンシュウミカン、オレンジ、レモン、ライム、グレープフルーツ等)、堅果類(クリ、クルミ、ハシバミ、アーモンド、ピスタチオ、カシューナッツ、マカダミアナッツ等)、液果類(ブルーベリー、クランベリー、ブラックベリー、ラズベリー等)、ブドウ、カキ、オリーブ、ビワ、バナナ、コーヒー、ナツメヤシ、ココヤシ等、
果樹以外の樹;チャ、クワ、花木、街路樹(トネリコ、カバノキ、ハナミズキ、ユーカリ、イチョウ、ライラック、カエデ、カシ、ポプラ、ハナズオウ、フウ、プラタナス、ケヤキ、クロベ、モミノキ、ツガ、ネズ、マツ、トウヒ、イチイ)等。
花卉、
観葉植物、
果樹;仁果類(リンゴ、セイヨウナシ、ニホンナシ、カリン、マルメロ等)、核果類(モモ、スモモ、ネクタリン、ウメ、オウトウ、アンズ、プルーン等)、カンキツ類(ウンシュウミカン、オレンジ、レモン、ライム、グレープフルーツ等)、堅果類(クリ、クルミ、ハシバミ、アーモンド、ピスタチオ、カシューナッツ、マカダミアナッツ等)、液果類(ブルーベリー、クランベリー、ブラックベリー、ラズベリー等)、ブドウ、カキ、オリーブ、ビワ、バナナ、コーヒー、ナツメヤシ、ココヤシ等、
果樹以外の樹;チャ、クワ、花木、街路樹(トネリコ、カバノキ、ハナミズキ、ユーカリ、イチョウ、ライラック、カエデ、カシ、ポプラ、ハナズオウ、フウ、プラタナス、ケヤキ、クロベ、モミノキ、ツガ、ネズ、マツ、トウヒ、イチイ)等。
本発明化合物は、畑、水田、芝生、果樹園等の農耕地又は非農耕地用における有害生物防除剤として使用することができる。本発明化合物は、以下に挙げられる「作物」等を栽培する農耕地等において、該作物等に対して薬害を与えることなく、当該農耕地の害虫を防除することができる場合がある。
農作物:トウモロコシ、イネ、コムギ、オオムギ、ライムギ、エンバク、ソルガム、ワタ、ダイズ、ピーナッツ、ソバ、テンサイ、ナタネ、ヒマワリ、サトウキビ、タバコ等。
野菜;ナス科野菜(ナス、トマト、ピーマン、トウガラシ、ジャガイモ等)、ウリ科野菜(キュウリ、カボチャ、ズッキーニ、スイカ、メロン等)、アブラナ科野菜(ダイコン、カブ、セイヨウワサビ、コールラビ、ハクサイ、キャベツ、カラシナ、ブロッコリー、カリフラワー等)、キク科野菜(ゴボウ、シュンギク、アーティチョーク、レタス等)、ユリ科野菜(ネギ、タマネギ、ニンニク、アスパラガス)、セリ科野菜(ニンジン、パセリ、セロリ、アメリカボウフウ等)、アカザ科野菜(ホウレンソウ、フダンソウ等)、シソ科野菜(シソ、ミント、バジル等)、イチゴ、サツマイモ、ヤマノイモ、サトイモ等。
果樹:仁果類(リンゴ、セイヨウナシ、ニホンナシ、カリン、マルメロ等)、核果類(モモ、スモモ、ネクタリン、ウメ、オウトウ、アンズ、プルーン等)、カンキツ類(ウンシュウミカン、オレンジ、レモン、ライム、グレープフルーツ等)、堅果類(クリ、クルミ、ハシバミ、アーモンド、ピスタチオ、カシューナッツ、マカダミアナッツ等)、液果類(ブルーベリー、クランベリー、ブラックベリー、ラズベリー等)、ブドウ、カキ、オリーブ、ビワ、バナナ、コーヒー、ナツメヤシ、ココヤシ、アブラヤシ等。
果樹以外の樹木:チャ、クワ、花木類、街路樹(トネリコ、カバノキ、ハナミズキ、ユーカリ、イチョウ、ライラック、カエデ、カシ、ポプラ、ハナズオウ、フウ、プラタナス、ケヤキ、クロベ、モミノキ、ツガ、ネズ、マツ、トウヒ、イチイ)、ヤトロファ等。
芝生:シバ類(ノシバ、コウライシバ等)、バミューダグラス類(ギョウギシバ等)、ベントグラス類(コヌカグサ、ハイコヌカグサ、イトコヌカグサ等)、ブルーグラス類(ナガハグサ、オオスズメノカタビラ等)、フェスク類(オニウシノケグサ、イトウシノケグサ、ハイウシノケグサ等)、ライグラス類(ネズミムギ、ホソムギ等)、カモガヤ、オオアワガエリ等。
その他:花卉、観葉植物等。
野菜;ナス科野菜(ナス、トマト、ピーマン、トウガラシ、ジャガイモ等)、ウリ科野菜(キュウリ、カボチャ、ズッキーニ、スイカ、メロン等)、アブラナ科野菜(ダイコン、カブ、セイヨウワサビ、コールラビ、ハクサイ、キャベツ、カラシナ、ブロッコリー、カリフラワー等)、キク科野菜(ゴボウ、シュンギク、アーティチョーク、レタス等)、ユリ科野菜(ネギ、タマネギ、ニンニク、アスパラガス)、セリ科野菜(ニンジン、パセリ、セロリ、アメリカボウフウ等)、アカザ科野菜(ホウレンソウ、フダンソウ等)、シソ科野菜(シソ、ミント、バジル等)、イチゴ、サツマイモ、ヤマノイモ、サトイモ等。
果樹:仁果類(リンゴ、セイヨウナシ、ニホンナシ、カリン、マルメロ等)、核果類(モモ、スモモ、ネクタリン、ウメ、オウトウ、アンズ、プルーン等)、カンキツ類(ウンシュウミカン、オレンジ、レモン、ライム、グレープフルーツ等)、堅果類(クリ、クルミ、ハシバミ、アーモンド、ピスタチオ、カシューナッツ、マカダミアナッツ等)、液果類(ブルーベリー、クランベリー、ブラックベリー、ラズベリー等)、ブドウ、カキ、オリーブ、ビワ、バナナ、コーヒー、ナツメヤシ、ココヤシ、アブラヤシ等。
果樹以外の樹木:チャ、クワ、花木類、街路樹(トネリコ、カバノキ、ハナミズキ、ユーカリ、イチョウ、ライラック、カエデ、カシ、ポプラ、ハナズオウ、フウ、プラタナス、ケヤキ、クロベ、モミノキ、ツガ、ネズ、マツ、トウヒ、イチイ)、ヤトロファ等。
芝生:シバ類(ノシバ、コウライシバ等)、バミューダグラス類(ギョウギシバ等)、ベントグラス類(コヌカグサ、ハイコヌカグサ、イトコヌカグサ等)、ブルーグラス類(ナガハグサ、オオスズメノカタビラ等)、フェスク類(オニウシノケグサ、イトウシノケグサ、ハイウシノケグサ等)、ライグラス類(ネズミムギ、ホソムギ等)、カモガヤ、オオアワガエリ等。
その他:花卉、観葉植物等。
上記「植物」とは、イソキサフルトール等のHPPD阻害剤、イマゼタピル、チフェンスルフロンメチル等のALS阻害剤、グリホサート等のEPSP合成酵素阻害剤、グルホシネート等のグルタミン合成酵素阻害剤、セトキシジム等のアセチルCoAカルボキシラーゼ阻害剤、フルミオキサジン等のPPO阻害剤、ブロモキシニル、ジカンバ、2,4−D等の除草剤に対する耐性を古典的な育種法、もしくは遺伝子組換え技術により付与された植物も含まれる。
古典的な育種法により耐性を付与された「植物」の例として、イマゼタピル等のイミダゾリノン系ALS阻害型除草剤に耐性のナタネ、コムギ、ヒマワリ、イネがありClearfield(登録商標)の商品名で既に販売されている。同様に古典的な育種法によるチフェンスルフロンメチル等のスルホニルウレア系ALS阻害型除草剤に耐性のダイズがあり、STSダイズの商品名で既に販売されている。同様に古典的な育種法によりトリオンオキシム系、アリールオキシフェノキシプロピオン酸系除草剤などのアセチルCoAカルボキシラーゼ阻害剤に耐性が付与された植物の例としてSRコーン等がある。アセチルCoAカルボキシラーゼ阻害剤に耐性が付与された植物はプロシーディングズ・オブ・ザ・ナショナル・アカデミー・オブ・サイエンシーズ・オブ・ザ・ユナイテッド・ステーツ・オブ・アメリカ(Proc.Natl.Acad.Sci.USA)87巻、7175〜7179頁(1990年)等に記載されている。またアセチルCoAカルボキシラーゼ阻害剤に耐性の変異アセチルCoAカルボキシラーゼがウィード・サイエンス(Weed Science)53巻、728〜746頁(2005年)等に報告されており、こうした変異アセチルCoAカルボキシラーゼ遺伝子を遺伝子組換え技術により植物に導入するかもしくは抵抗性付与に関わる変異を植物アセチルCoAカルボキシラーゼに導入する事により、アセチルCoAカルボキシラーゼ阻害剤に耐性の植物を作出することができる。さらに、キメラプラスティ技術(Gura T. 1999. Repairing the Genome’s Spelling Mistakes. Science 285: 316−318.)に代表される塩基置換変異導入核酸を植物細胞内に導入して植物のアセチルCoAカルボキシラーゼ遺伝子またはALS遺伝子等に部位特異的アミノ酸置換変異を導入することにより、アセチルCoAカルボキシラーゼ阻害剤またはALS阻害剤等に耐性の植物を作出することができる。
遺伝子組換え技術により耐性を付与された植物の例として、グリホサート耐性のトウモロコシ、ダイズ、ワタ、ナタネ、テンサイ品種があり、ラウンドアップアップレディ(RoundupReady(登録商標))、AgrisureGT等の商品名で既に販売されている。同様に遺伝子組換え技術によるグルホシネート耐性のトウモロコシ、ダイズ、ワタ、ナタネ品種があり、リバティーリンク(LibertyLink(登録商標))等の商品名ですでに販売されている。同様に遺伝子組換え技術によるブロモキシニル耐性のワタはBXNの商品名で既に販売されている。
上記「植物」とは、遺伝子組換え技術を用いて、例えば、バチルス属で知られている選択的毒素等を合成する事が可能となった植物も含まれる。
この様な遺伝子組換え植物で発現される毒素として、バチルス・セレウスやバチルス・ポピリエ由来の殺虫性タンパク;バチルス・チューリンゲンシス由来のCry1Ab、Cry1Ac、Cry1F、Cry1Fa2、Cry2Ab、Cry3A、Cry3Bb1またはCry9C等のδ−エンドトキシン、VIP1、VIP2、VIP3またはVIP3A等の殺虫タンパク;線虫由来の殺虫タンパク;さそり毒素、クモ毒素、ハチ毒素または昆虫特異的神経毒素等動物によって産生される毒素;糸状菌類毒素;植物レクチン;アグルチニン;トリプシン阻害剤、セリンプロテアーゼ阻害剤、パタチン、シスタチン、パパイン阻害剤等のプロテアーゼ阻害剤;リシン、トウモロコシ−RIP、アブリン、ルフィン、サポリン、ブリオジン等のリボゾーム不活性化タンパク(RIP);3−ヒドロキシステロイドオキシダーゼ、エクジステロイド−UDP−グルコシルトランスフェラーゼ、コレステロールオキシダーゼ等のステロイド代謝酵素;エクダイソン阻害剤;HMG−CoAリダクターゼ;ナトリウムチャネル、カルシウムチャネル阻害剤等のイオンチャネル阻害剤;幼若ホルモンエステラーゼ;利尿ホルモン受容体;スチルベンシンターゼ;ビベンジルシンターゼ;キチナーゼ;グルカナーゼ等が挙げられる。
またこの様な遺伝子組換え植物で発現される毒素として、Cry1Ab、Cry1Ac、Cry1F、Cry1Fa2、Cry2Ab、Cry3A、Cry3Bb1、Cry9C、Cry34AbまたはCry35Ab等のδ−エンドトキシンタンパク、VIP1、VIP2、VIP3またはVIP3A等の殺虫タンパクのハイブリッド毒素、一部を欠損した毒素、修飾された毒素も含まれる。ハイブリッド毒素は組換え技術を用いて、これらタンパクの異なるドメインの新しい組み合わせによって作り出される。一部を欠損した毒素としては、アミノ酸配列の一部を欠損したCry1Abが知られている。修飾された毒素としては、天然型の毒素のアミノ酸の1つまたは複数が置換されている。
これら毒素の例およびこれら毒素を合成する事ができる組換え植物は、EP−A−0374753、WO93/07278、WO95/34656、EP−A−0427529、EP−A−451878、WO03/052073等に記載されている。
これらの組換え植物に含まれる毒素は、特に、甲虫目害虫、半翅目害虫、双翅目害虫、鱗翅目害虫、線虫類への耐性を植物へ付与する。
また、1つもしくは複数の殺虫性の害虫抵抗性遺伝子を含み、1つまたは複数の毒素を発現する遺伝子組換え植物は既に知られており、いくつかのものは市販されている。これら遺伝子組換え植物の例として、YieldGard(登録商標)(Cry1Ab毒素を発現するトウモロコシ品種)、YieldGard Rootworm(登録商標)(Cry3Bb1毒素を発現するトウモロコシ品種)、YieldGard Plus(登録商標)(Cry1AbとCry3Bb1毒素を発現するトウモロコシ品種)、Herculex I(登録商標)(Cry1Fa2毒素とグルホシネートへの耐性を付与する為にホスフィノトリシン N−アセチルトランスフェラーゼ(PAT)を発現するトウモロコシ品種)、NuCOTN33B(登録商標)(Cry1Ac毒素を発現するワタ品種)、Bollgard I(登録商標)(Cry1Ac毒素を発現するワタ品種)、Bollgard II(登録商標)(Cry1AcとCry2Ab毒素とを発現するワタ品種)、VIPCOT(登録商標)(VIP毒素を発現するワタ品種)、NewLeaf(登録商標)(Cry3A毒素を発現するジャガイモ品種)、NatureGard(登録商標)Agrisure(登録商標)GT Advantage(GA21 グリホサート耐性形質)、Agrisure(登録商標) CB Advantage(Bt11コーンボーラー(CB)形質)、Protecta(登録商標)等が挙げられる。
上記「植物」とは、遺伝子組換え技術を用いて、選択的な作用を有する抗病原性物質を産生する能力を付与されたものも含まれる。
抗病原性物質の例として、PRタンパク等が知られている(PRPs、EP−A−0392225)。このような抗病原性物質とそれを産生する遺伝子組換え植物は、EP−A−0392225、WO95/33818、EP−A−0353191等に記載されている。
抗病原性物質の例として、PRタンパク等が知られている(PRPs、EP−A−0392225)。このような抗病原性物質とそれを産生する遺伝子組換え植物は、EP−A−0392225、WO95/33818、EP−A−0353191等に記載されている。
こうした遺伝子組換え植物で発現される抗病原性物質の例として、例えば、ナトリウムチャネル阻害剤、カルシウムチャネル阻害剤(ウイルスが産生するKP1、KP4、KP6毒素等が知られている。)等のイオンチャネル阻害剤;スチルベンシンターゼ;ビベンジルシンターゼ;キチナーゼ;グルカナーゼ;PRタンパク;ペプチド抗生物質、ヘテロ環を有する抗生物質、植物病害抵抗性に関与するタンパク因子(植物病害抵抗性遺伝子と呼ばれ、WO03/000906に記載されている。)等の微生物が産生する抗病原性物質等が挙げられる。このような抗病原性物質とそれを産生する遺伝子組換え植物は、EP−A−0392225、WO95/33818、EP−A−0353191等に記載されている。
上記「植物」とは、遺伝子組換え技術を用いて、油糧成分改質やアミノ酸含量増強形質などの有用形質を付与した植物も含まれる。例として、VISTIVE(登録商標)(リノレン含量を低減させた低リノレン大豆)あるいは、high−lysine(high−oil) corn(リジンあるいはオイル含有量を増量したコーン)等が挙げられる。
さらに、上記の古典的な除草剤形質あるいは除草剤耐性遺伝子、殺虫性害虫抵抗性遺伝子、抗病原性物質産生遺伝子、油糧成分改質やアミノ酸含量増強形質などの有用形質について、これらを複数組み合わせたスタック品種も含まれる。
本発明化合物により防除することができる植物病害としては、例えば糸状菌類病害が挙げられる。具体的には以下の植物病害を挙げることができる。
イネのいもち病(Magnaporthe grisea)、ごま葉枯病(Cochliobolus miyabeanus)、紋枯病(Rhizoctonia solani)、馬鹿苗病(Gibberella fujikuroi);
ムギ類のうどんこ病(Erysiphe graminis)、赤かび病(Fusarium graminearum, F. avenacerum, F. culmorum, Microdochium nivale)、さび病(Puccinia striiformis, P. graminis, P. recondita, P. hordei)、雪腐病(Typhula sp.,Micronectriella nivalis)、裸黒穂病(Ustilago tritici, U. nuda)、なまぐさ黒穂病(Tilletia caries)、眼紋病(Pseudocercosporella herpotrichoides)、雲形病(Rhynchosporium secalis)、葉枯病(Septoria tritici)、ふ枯病(Leptosphaeria nodorum)、網斑病(Pyrenophora teres Drechsler)、立枯れ病(Gaeumannomyces graminis);
カンキツ類の黒点病(Diaporthe citri)、そうか病(Elsinoe fawcetti)、果実腐敗病(Penicillium digitatum, P. italicum);
リンゴのモニリア病(Monilinia mali)、腐らん病(Valsa ceratosperma)、うどんこ病(Podosphaera leucotricha)、斑点落葉病(Alternaria alternata apple pathotype)、黒星病(Venturia inaequalis)、炭そ病(Glomerella cingulata);
ナシの黒星病(Venturia nashicola, V. pirina)、黒斑病(Alternaria alternata Japanese pear pathotype)、赤星病(Gymnosporangium haraeanum);
モモの灰星病(Monilinia fructicola)、黒星病(Cladosporium carpophilum)、フォモプシス腐敗病(Phomopsis sp.);
ムギ類のうどんこ病(Erysiphe graminis)、赤かび病(Fusarium graminearum, F. avenacerum, F. culmorum, Microdochium nivale)、さび病(Puccinia striiformis, P. graminis, P. recondita, P. hordei)、雪腐病(Typhula sp.,Micronectriella nivalis)、裸黒穂病(Ustilago tritici, U. nuda)、なまぐさ黒穂病(Tilletia caries)、眼紋病(Pseudocercosporella herpotrichoides)、雲形病(Rhynchosporium secalis)、葉枯病(Septoria tritici)、ふ枯病(Leptosphaeria nodorum)、網斑病(Pyrenophora teres Drechsler)、立枯れ病(Gaeumannomyces graminis);
カンキツ類の黒点病(Diaporthe citri)、そうか病(Elsinoe fawcetti)、果実腐敗病(Penicillium digitatum, P. italicum);
リンゴのモニリア病(Monilinia mali)、腐らん病(Valsa ceratosperma)、うどんこ病(Podosphaera leucotricha)、斑点落葉病(Alternaria alternata apple pathotype)、黒星病(Venturia inaequalis)、炭そ病(Glomerella cingulata);
ナシの黒星病(Venturia nashicola, V. pirina)、黒斑病(Alternaria alternata Japanese pear pathotype)、赤星病(Gymnosporangium haraeanum);
モモの灰星病(Monilinia fructicola)、黒星病(Cladosporium carpophilum)、フォモプシス腐敗病(Phomopsis sp.);
ブドウの黒とう病(Elsinoe ampelina)、晩腐病(Glomerella cingulata)、うどんこ病(Uncinula necator)、さび病(Phakopsora ampelopsidis)、ブラックロット病(Guignardia bidwellii)、べと病(Plasmopara viticola);
カキの炭そ病(Gloeosporium kaki)、落葉病(Cercospora kaki, Mycosphaerella nawae);
ウリ類の炭そ病(Colletotrichum lagenarium)、うどんこ病(Sphaerotheca fuliginea)、つる枯病(Mycosphaerella melonis)、つる割病(Fusarium oxysporum)、べと病(Pseudoperonospora cubensis)、疫病(Phytophthora sp.)、苗立枯病(Pythium sp.);
トマトの輪紋病(Alternaria solani)、葉かび病(Cladosporium fulvum)、疫病(Phytophthora infestans);
ナスの褐紋病(Phomopsis vexans)、うどんこ病(Erysiphe cichoracearum);
アブラナ科野菜の黒斑病(Alternaria japonica)、白斑病(Cercosporella brassicae);
ネギのさび病(Puccinia allii)、ダイズの紫斑病(Cercospora kikuchii)、黒とう病(Elsinoe glycines)、黒点病(Diaporthe phaseolorum var. sojae)、さび病( Phakopsora pachyrhizi)
インゲンの炭そ病(Colletotrichum lindemthianum)
ラッカセイの黒渋病(Cercospora personata)、褐斑病(Cercospora arachidicola)、白絹病(Sclerotium rolfsii);
エンドウのうどんこ病(Erysiphe pisi);
ジャガイモの夏疫病(Alternaria solani)、疫病(Phytophthora infestans)、半身萎凋病(Verticillium albo-atrum, V. dahliae, V. nigrescens);
イチゴのうどんこ病(Sphaerotheca humuli);
チャの網もち病(Exobasidium reticulatum);白星病(Elsinoe leucospila)、輪斑病(Pestalotiopsis sp.)、炭そ病(Colletotrichum theae-sinensis)
タバコの赤星病(Alternaria longipes)、うどんこ病(Erysiphe cichoracearum)、炭そ病(Colletotrichum tabacum)、べと病(Peronospora tabacina)、疫病(Phytophthora nicotianae);
カキの炭そ病(Gloeosporium kaki)、落葉病(Cercospora kaki, Mycosphaerella nawae);
ウリ類の炭そ病(Colletotrichum lagenarium)、うどんこ病(Sphaerotheca fuliginea)、つる枯病(Mycosphaerella melonis)、つる割病(Fusarium oxysporum)、べと病(Pseudoperonospora cubensis)、疫病(Phytophthora sp.)、苗立枯病(Pythium sp.);
トマトの輪紋病(Alternaria solani)、葉かび病(Cladosporium fulvum)、疫病(Phytophthora infestans);
ナスの褐紋病(Phomopsis vexans)、うどんこ病(Erysiphe cichoracearum);
アブラナ科野菜の黒斑病(Alternaria japonica)、白斑病(Cercosporella brassicae);
ネギのさび病(Puccinia allii)、ダイズの紫斑病(Cercospora kikuchii)、黒とう病(Elsinoe glycines)、黒点病(Diaporthe phaseolorum var. sojae)、さび病( Phakopsora pachyrhizi)
インゲンの炭そ病(Colletotrichum lindemthianum)
ラッカセイの黒渋病(Cercospora personata)、褐斑病(Cercospora arachidicola)、白絹病(Sclerotium rolfsii);
エンドウのうどんこ病(Erysiphe pisi);
ジャガイモの夏疫病(Alternaria solani)、疫病(Phytophthora infestans)、半身萎凋病(Verticillium albo-atrum, V. dahliae, V. nigrescens);
イチゴのうどんこ病(Sphaerotheca humuli);
チャの網もち病(Exobasidium reticulatum);白星病(Elsinoe leucospila)、輪斑病(Pestalotiopsis sp.)、炭そ病(Colletotrichum theae-sinensis)
タバコの赤星病(Alternaria longipes)、うどんこ病(Erysiphe cichoracearum)、炭そ病(Colletotrichum tabacum)、べと病(Peronospora tabacina)、疫病(Phytophthora nicotianae);
テンサイの褐斑病(Cercospora beticola)、葉腐病(Thanatephorus cucumeris)、根腐病(Thanatephorus cucumeris);
バラの黒星病(Diplocarpon rosae)、うどんこ病(Sphaerotheca pannosa);
キクの褐斑病(Septoria chrysanthemi−indici)、白さび病(Puccinia horiana);
タマネギの白斑葉枯病(Botrytis cinerea, B. byssoidea, B. squamosa)、灰色腐敗病(Botrytis alli)、小菌核性腐敗病(Botrytis squamosa);
種々の作物の灰色かび病(Botrytis cinerea)、菌核病(Sclerotinia sclerotiorum);ダイコンの黒すす病(Alternaria brassicicola);
シバのダラースポット病(Sclerotinia homeocarpa)、シバのブラウンパッチ病およびラージパッチ病(Rhizoctonia solani);並びに
バナナのシガトカ病(Mycosphaerella fijiensis、Mycosphaerella musicola、Pseudocercospora musae)。
バラの黒星病(Diplocarpon rosae)、うどんこ病(Sphaerotheca pannosa);
キクの褐斑病(Septoria chrysanthemi−indici)、白さび病(Puccinia horiana);
タマネギの白斑葉枯病(Botrytis cinerea, B. byssoidea, B. squamosa)、灰色腐敗病(Botrytis alli)、小菌核性腐敗病(Botrytis squamosa);
種々の作物の灰色かび病(Botrytis cinerea)、菌核病(Sclerotinia sclerotiorum);ダイコンの黒すす病(Alternaria brassicicola);
シバのダラースポット病(Sclerotinia homeocarpa)、シバのブラウンパッチ病およびラージパッチ病(Rhizoctonia solani);並びに
バナナのシガトカ病(Mycosphaerella fijiensis、Mycosphaerella musicola、Pseudocercospora musae)。
次に、製造例、製剤例及び試験例等の実施例を示す。なお、部は重量部を表す。
製造例1
[1,5]ナフチリジン−2−カルボン酸0.50g、3−メトキシベンジルアミン0.39g、トリエチルアミン0.58g、DMF11mlの混合物にBOP試薬1.52gを加え、室温で1時間攪拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を食塩水で洗浄後、減圧下濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、N−(3−メトキシフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド(以下、本発明化合物(1)と記す。)0.82gを得た。
本発明化合物(1)
1H-NMR (CDCl3) δ: 3.81 (3H, s), 4.73 (2H, d, J = 6.0 Hz), 6.85 (1H, ddd, J = 8.3, 2.6, 0.8 Hz), 6.95-6.96 (1H, m), 6.99-7.02 (1H, m), 7.29 (1H, dd, J = 8.1, 7.7 Hz), 7.68 (1H, dd, J = 8.7, 4.0 Hz), 8.37 (1H, ddd, J = 8.7, 1.7, 0.7 Hz), 8.51 (1H, br s), 8.55 (1H, dd, J = 8.7, 0.7 Hz), 8.59 (1H, d, J = 8.7 Hz), 9.05 (1H, dd, J = 4.0, 1.7 Hz).
[1,5]ナフチリジン−2−カルボン酸0.50g、3−メトキシベンジルアミン0.39g、トリエチルアミン0.58g、DMF11mlの混合物にBOP試薬1.52gを加え、室温で1時間攪拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を食塩水で洗浄後、減圧下濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、N−(3−メトキシフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド(以下、本発明化合物(1)と記す。)0.82gを得た。
本発明化合物(1)
1H-NMR (CDCl3) δ: 3.81 (3H, s), 4.73 (2H, d, J = 6.0 Hz), 6.85 (1H, ddd, J = 8.3, 2.6, 0.8 Hz), 6.95-6.96 (1H, m), 6.99-7.02 (1H, m), 7.29 (1H, dd, J = 8.1, 7.7 Hz), 7.68 (1H, dd, J = 8.7, 4.0 Hz), 8.37 (1H, ddd, J = 8.7, 1.7, 0.7 Hz), 8.51 (1H, br s), 8.55 (1H, dd, J = 8.7, 0.7 Hz), 8.59 (1H, d, J = 8.7 Hz), 9.05 (1H, dd, J = 4.0, 1.7 Hz).
製造例2
N−(3−ヒドロキシフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド0.13g及びDMF3mlの混合物に、ヨードエタン0.1g及び炭酸セシウム0.19gを順次加えて室温で12時間攪拌した。反応混合物に15%水酸化ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、N−(3−エトキシフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド(以下、本発明化合物(2)と記す。)0.15gを得た。
本発明化合物(2)
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.40 (3H, t, J = 7.3 Hz), 4.03 (2H, q, J = 7.3 Hz), 4.71 (2H, d, J = 6.0 Hz), 6.84 (1H, dd, J = 8.1, 2.1 Hz), 6.95-7.00 (2H, m), 7.25-7.30 (1H, m), 7.68 (1H, dd, J = 8.5, 4.1 Hz), 8.36-8.41 (1H, m), 8.44-8.65 (3H, m), 9.04-9.05 (1H, m).
N−(3−ヒドロキシフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド0.13g及びDMF3mlの混合物に、ヨードエタン0.1g及び炭酸セシウム0.19gを順次加えて室温で12時間攪拌した。反応混合物に15%水酸化ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、N−(3−エトキシフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド(以下、本発明化合物(2)と記す。)0.15gを得た。
本発明化合物(2)
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.40 (3H, t, J = 7.3 Hz), 4.03 (2H, q, J = 7.3 Hz), 4.71 (2H, d, J = 6.0 Hz), 6.84 (1H, dd, J = 8.1, 2.1 Hz), 6.95-7.00 (2H, m), 7.25-7.30 (1H, m), 7.68 (1H, dd, J = 8.5, 4.1 Hz), 8.36-8.41 (1H, m), 8.44-8.65 (3H, m), 9.04-9.05 (1H, m).
製造例3
N−(3−ヒドロキシフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド0.17g、1−ヨードプロパン0.13g及びDMF3mlの混合物に、炭酸セシウム0.23gを加え、室温で12時間攪拌した。反応混合物に水を加え、析出した固体を濾過により集め、15%水酸化ナトリウム水溶液、水及びヘキサンで順次洗浄し、減圧下乾燥してN−(3−プロポキシフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド(以下、本発明化合物(3)と記す。)0.05gを得た。
本発明化合物(3)
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.02 (3H, t, J = 7.2 Hz), 1.75-1.84 (2H, m), 3.92 (2H, t, J = 6.4 Hz), 4.72 (2H, d, J = 5.8 Hz), 6.85 (1H, d, J = 7.5 Hz), 6.96-7.00 (2H, m), 7.26-7.30 (1H, m), 7.69 (1H, dd, J = 8.5, 4.1 Hz), 8.38 (1H, d, J = 8.2 Hz), 8.49 (1H, br s), 8.55-8.60 (2H, m), 9.05 (1H, d, J = 2.2 Hz).
N−(3−ヒドロキシフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド0.17g、1−ヨードプロパン0.13g及びDMF3mlの混合物に、炭酸セシウム0.23gを加え、室温で12時間攪拌した。反応混合物に水を加え、析出した固体を濾過により集め、15%水酸化ナトリウム水溶液、水及びヘキサンで順次洗浄し、減圧下乾燥してN−(3−プロポキシフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド(以下、本発明化合物(3)と記す。)0.05gを得た。
本発明化合物(3)
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.02 (3H, t, J = 7.2 Hz), 1.75-1.84 (2H, m), 3.92 (2H, t, J = 6.4 Hz), 4.72 (2H, d, J = 5.8 Hz), 6.85 (1H, d, J = 7.5 Hz), 6.96-7.00 (2H, m), 7.26-7.30 (1H, m), 7.69 (1H, dd, J = 8.5, 4.1 Hz), 8.38 (1H, d, J = 8.2 Hz), 8.49 (1H, br s), 8.55-8.60 (2H, m), 9.05 (1H, d, J = 2.2 Hz).
製造例4
N−(3−ヒドロキシフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド0.17g、1−ブロモブタン0.1g及びDMF3mlの混合物に、炭酸セシウム0.23gを加え、室温で12時間攪拌した。反応混合物に水を加え、析出した固体を濾過により集め、15%水酸化ナトリウム水溶液、水及びヘキサンで順次洗浄し、減圧下乾燥してN−(3−ブトキシフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド(以下、本発明化合物(4)と記す。)0.05gを得た。
本発明化合物(4)
1H-NMR (CDCl3) δ: 0.96 (3H, t, J = 7.4 Hz), 1.44-1.52 (2H, m), 1.71-1.79 (2H, m), 3.97 (2H, t, J = 6.3 Hz), 4.71 (2H, d, J = 6.0 Hz), 6.85 (1H, d, J = 8.0 Hz), 6.95-7.00 (2H, m), 7.26-7.30 (1H, m), 7.69 (1H, dd, J = 8.6, 4.2 Hz), 8.39 (1H, d, J = 8.9 Hz), 8.48 (1H, br s), 8.55-8.60 (2H, m), 9.05 (1H, d, J = 2.7 Hz).
N−(3−ヒドロキシフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド0.17g、1−ブロモブタン0.1g及びDMF3mlの混合物に、炭酸セシウム0.23gを加え、室温で12時間攪拌した。反応混合物に水を加え、析出した固体を濾過により集め、15%水酸化ナトリウム水溶液、水及びヘキサンで順次洗浄し、減圧下乾燥してN−(3−ブトキシフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド(以下、本発明化合物(4)と記す。)0.05gを得た。
本発明化合物(4)
1H-NMR (CDCl3) δ: 0.96 (3H, t, J = 7.4 Hz), 1.44-1.52 (2H, m), 1.71-1.79 (2H, m), 3.97 (2H, t, J = 6.3 Hz), 4.71 (2H, d, J = 6.0 Hz), 6.85 (1H, d, J = 8.0 Hz), 6.95-7.00 (2H, m), 7.26-7.30 (1H, m), 7.69 (1H, dd, J = 8.6, 4.2 Hz), 8.39 (1H, d, J = 8.9 Hz), 8.48 (1H, br s), 8.55-8.60 (2H, m), 9.05 (1H, d, J = 2.7 Hz).
製造例5
N−(3−ヒドロキシフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド0.15g、1−ヨードペンタン0.2g及びDMF3mlの混合物に、炭酸セシウム0.2gを加え、室温で12時間攪拌した。反応混合物に水を加え、析出した固体を濾過により集め、15%水酸化ナトリウム水溶液、水及びヘキサンで順次洗浄し、減圧下乾燥してN−(3−ペンチルオキシフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド(以下、本発明化合物(5)と記す。)0.07gを得た。
本発明化合物(5)
1H-NMR (CDCl3) δ: 0.90-0.94 (3H, m), 1.34-1.46 (4H, m), 1.74-1.81 (2H, m), 3.94-3.98 (2H, m), 4.71-4.72 (2H, m), 6.83-7.02 (3H, m), 7.25-7.29 (1H, m), 7.68-7.72 (1H, m), 8.39 (1H, d, J = 8.7 Hz), 8.48 (1H, br s), 8.55-8.61 (2H, m), 9.04-9.07 (1H, m).
N−(3−ヒドロキシフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド0.15g、1−ヨードペンタン0.2g及びDMF3mlの混合物に、炭酸セシウム0.2gを加え、室温で12時間攪拌した。反応混合物に水を加え、析出した固体を濾過により集め、15%水酸化ナトリウム水溶液、水及びヘキサンで順次洗浄し、減圧下乾燥してN−(3−ペンチルオキシフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド(以下、本発明化合物(5)と記す。)0.07gを得た。
本発明化合物(5)
1H-NMR (CDCl3) δ: 0.90-0.94 (3H, m), 1.34-1.46 (4H, m), 1.74-1.81 (2H, m), 3.94-3.98 (2H, m), 4.71-4.72 (2H, m), 6.83-7.02 (3H, m), 7.25-7.29 (1H, m), 7.68-7.72 (1H, m), 8.39 (1H, d, J = 8.7 Hz), 8.48 (1H, br s), 8.55-8.61 (2H, m), 9.04-9.07 (1H, m).
製造例6
N−(3−ヒドロキシフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド0.15g、1−ヨードヘキサン0.16g及びDMF3mlの混合物に、炭酸セシウム0.2gを加え、室温で12時間攪拌した。反応混合物に水を加え、析出した固体を濾過により集め、15%水酸化ナトリウム水溶液、水及びヘキサンで順次洗浄し、減圧下乾燥してN−(3−ヘキシルオキシフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド(以下、本発明化合物(6)と記す。)0.07gを得た。
本発明化合物(6)
1H-NMR (CDCl3) δ: 0.89 (3H, t, J = 6.5 Hz), 1.32-1.48 (6H, m), 1.75-1.80 (2H, m), 3.96 (2H, t, J = 6.6 Hz), 4.72 (2H, d, J = 5.6 Hz), 6.85 (1H, d, J = 7.7 Hz), 6.95-7.00 (2H, m), 7.27-7.29 (1H, m), 7.69 (1H, dd, J = 8.3, 4.2 Hz), 8.39 (1H, d, J = 8.2 Hz), 8.48 (1H, br s), 8.56-8.59 (2H, m), 9.04-9.06 (1H, m).
N−(3−ヒドロキシフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド0.15g、1−ヨードヘキサン0.16g及びDMF3mlの混合物に、炭酸セシウム0.2gを加え、室温で12時間攪拌した。反応混合物に水を加え、析出した固体を濾過により集め、15%水酸化ナトリウム水溶液、水及びヘキサンで順次洗浄し、減圧下乾燥してN−(3−ヘキシルオキシフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド(以下、本発明化合物(6)と記す。)0.07gを得た。
本発明化合物(6)
1H-NMR (CDCl3) δ: 0.89 (3H, t, J = 6.5 Hz), 1.32-1.48 (6H, m), 1.75-1.80 (2H, m), 3.96 (2H, t, J = 6.6 Hz), 4.72 (2H, d, J = 5.6 Hz), 6.85 (1H, d, J = 7.7 Hz), 6.95-7.00 (2H, m), 7.27-7.29 (1H, m), 7.69 (1H, dd, J = 8.3, 4.2 Hz), 8.39 (1H, d, J = 8.2 Hz), 8.48 (1H, br s), 8.56-8.59 (2H, m), 9.04-9.06 (1H, m).
製造例7
[1,5]ナフチリジン−2−カルボン酸0.50g、2−フルオロ−3−メトキシベンジルアミン塩酸塩0.55g、トリエチルアミン0.58g、DMF12mlの混合物にBOP試薬1.52gを加え、室温で1時間攪拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を食塩水で洗浄後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、N−(2−フルオロ−3−メトキシフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド(以下、本発明化合物(7)と記す。)0.80gを得た。
本発明化合物(7)
1H-NMR (CDCl3) δ: 3.90 (3H, s), 4.80 (2H, d, J = 5.6 Hz), 6.90-6.96 (1H, m), 7.04-7.08 (2H, m), 7.69 (1H, dd, J= 8.1, 4.0 Hz), 8.40 (1H, d, J= 8.1 Hz), 8.53-8.58 (1H, brs), 8.55 (2H, s), 9.05 (1H, d, J = 4.0 Hz).
[1,5]ナフチリジン−2−カルボン酸0.50g、2−フルオロ−3−メトキシベンジルアミン塩酸塩0.55g、トリエチルアミン0.58g、DMF12mlの混合物にBOP試薬1.52gを加え、室温で1時間攪拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を食塩水で洗浄後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、N−(2−フルオロ−3−メトキシフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド(以下、本発明化合物(7)と記す。)0.80gを得た。
本発明化合物(7)
1H-NMR (CDCl3) δ: 3.90 (3H, s), 4.80 (2H, d, J = 5.6 Hz), 6.90-6.96 (1H, m), 7.04-7.08 (2H, m), 7.69 (1H, dd, J= 8.1, 4.0 Hz), 8.40 (1H, d, J= 8.1 Hz), 8.53-8.58 (1H, brs), 8.55 (2H, s), 9.05 (1H, d, J = 4.0 Hz).
製造例8
N−(2−フルオロ−3−ヒドロキシフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド0.15g、ヨードエタン0.1g及びDMF3mlの混合物に、炭酸セシウム0.19gを加え、室温で12時間攪拌した。反応混合物に15%水酸化ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、N−(3−エトキシ−2−フルオロフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド(以下、本発明化合物(8)と記す。)0.15gを得た。
本発明化合物(8)
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.46 (3H, t, J = 6.9 Hz), 4.12 (2H, q, J = 6.9 Hz), 4.79 (2H, d, J = 6.0 Hz), 6.89-6.94 (1H, m), 7.00-7.06 (2H, m), 7.70 (1H, dd, J = 8.6, 4.2 Hz), 8.41 (1H, dd, J = 8.5, 1.2 Hz), 8.52-8.58 (3H, m), 9.05 (1H, dd, J = 4.2, 1.6 Hz).
N−(2−フルオロ−3−ヒドロキシフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド0.15g、ヨードエタン0.1g及びDMF3mlの混合物に、炭酸セシウム0.19gを加え、室温で12時間攪拌した。反応混合物に15%水酸化ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、N−(3−エトキシ−2−フルオロフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド(以下、本発明化合物(8)と記す。)0.15gを得た。
本発明化合物(8)
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.46 (3H, t, J = 6.9 Hz), 4.12 (2H, q, J = 6.9 Hz), 4.79 (2H, d, J = 6.0 Hz), 6.89-6.94 (1H, m), 7.00-7.06 (2H, m), 7.70 (1H, dd, J = 8.6, 4.2 Hz), 8.41 (1H, dd, J = 8.5, 1.2 Hz), 8.52-8.58 (3H, m), 9.05 (1H, dd, J = 4.2, 1.6 Hz).
製造例9
N−(2−フルオロ−3−ヒドロキシフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド0.20g、1−ヨードプロパン0.15g及びDMF3mlの混合物に、炭酸セシウム0.26gを加え、室温で12時間攪拌した。反応混合物に水を加え、析出した固体を濾過により集め、15%水酸化ナトリウム水溶液、水及びヘキサンで順次洗浄し、減圧下乾燥してN−(2−フルオロ−3−プロポキシフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド(以下、本発明化合物(9)と記す。)0.16gを得た。
本発明化合物(9)
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.06 (3H, t, J = 7.5 Hz), 1.83-1.88 (2H, m), 4.00 (2H, t, J = 6.5 Hz), 4.79 (2H, d, J = 6.3 Hz), 6.90-6.94 (1H, m), 7.01-7.04 (2H, m), 7.70 (1H, dd, J = 8.7, 4.1 Hz), 8.41 (1H, d, J = 8.7 Hz), 8.53-8.56 (3H, m), 9.04-9.06 (1H, m).
N−(2−フルオロ−3−ヒドロキシフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド0.20g、1−ヨードプロパン0.15g及びDMF3mlの混合物に、炭酸セシウム0.26gを加え、室温で12時間攪拌した。反応混合物に水を加え、析出した固体を濾過により集め、15%水酸化ナトリウム水溶液、水及びヘキサンで順次洗浄し、減圧下乾燥してN−(2−フルオロ−3−プロポキシフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド(以下、本発明化合物(9)と記す。)0.16gを得た。
本発明化合物(9)
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.06 (3H, t, J = 7.5 Hz), 1.83-1.88 (2H, m), 4.00 (2H, t, J = 6.5 Hz), 4.79 (2H, d, J = 6.3 Hz), 6.90-6.94 (1H, m), 7.01-7.04 (2H, m), 7.70 (1H, dd, J = 8.7, 4.1 Hz), 8.41 (1H, d, J = 8.7 Hz), 8.53-8.56 (3H, m), 9.04-9.06 (1H, m).
製造例10
N−(2−フルオロ−3−ヒドロキシフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド0.20g、1−ブロモブタン0.11g及びDMF3mlの混合物に、炭酸セシウム0.26gを加え、室温で12時間攪拌した。反応混合物に水を加え、析出した固体を濾過により集め、15%水酸化ナトリウム水溶液、水及びヘキサンで順次洗浄し、減圧下乾燥してN−(3−ブトキシ−2−フルオロフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド(以下、本発明化合物(10)と記す。)0.090gを得た。
本発明化合物(10)
1H-NMR (CDCl3) δ: 0.99 (3H, t, J = 7.5 Hz), 1.47-1.55 (2H, m), 1.78-1.85 (2H, m), 4.04 (2H, t, J = 6.5 Hz), 4.79 (2H, d, J = 6.3 Hz), 6.90-6.94 (1H, m), 7.01-7.06 (2H, m), 7.70 (1H, dd, J = 8.5, 4.1 Hz), 8.41 (1H, dd, J = 8.6, 1.1 Hz), 8.51-8.58 (3H, m), 9.05 (1H, dd, J = 4.1, 1.4 Hz).
N−(2−フルオロ−3−ヒドロキシフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド0.20g、1−ブロモブタン0.11g及びDMF3mlの混合物に、炭酸セシウム0.26gを加え、室温で12時間攪拌した。反応混合物に水を加え、析出した固体を濾過により集め、15%水酸化ナトリウム水溶液、水及びヘキサンで順次洗浄し、減圧下乾燥してN−(3−ブトキシ−2−フルオロフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド(以下、本発明化合物(10)と記す。)0.090gを得た。
本発明化合物(10)
1H-NMR (CDCl3) δ: 0.99 (3H, t, J = 7.5 Hz), 1.47-1.55 (2H, m), 1.78-1.85 (2H, m), 4.04 (2H, t, J = 6.5 Hz), 4.79 (2H, d, J = 6.3 Hz), 6.90-6.94 (1H, m), 7.01-7.06 (2H, m), 7.70 (1H, dd, J = 8.5, 4.1 Hz), 8.41 (1H, dd, J = 8.6, 1.1 Hz), 8.51-8.58 (3H, m), 9.05 (1H, dd, J = 4.1, 1.4 Hz).
製造例11
N−(2−フルオロ−3−ヒドロキシフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド0.20g、1−ヨードペンタン0.17g及びDMF3mlの混合物に、炭酸セシウム0.26gを加え、室温で12時間攪拌した。反応混合物に水を加え、析出した固体を濾過により集め、15%水酸化ナトリウム水溶液、水及びヘキサンで順次洗浄し、減圧下乾燥してN−(2−フルオロ−3−ペンチルオキシフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド(以下、本発明化合物(11)と記す。)0.14gを得た。
本発明化合物(11)
1H-NMR (CDCl3) δ: 0.94 (3H, t, J = 5.4 Hz), 1.38-1.59 (4H, m), 1.80-1.87 (2H, m), 4.04 (2H, t, J = 5.2 Hz), 4.78-4.81(2H, m), 6.91-6.95 (1H, m), 7.01-7.05 (2H, m), 7.67-7.72 (1H, m), 8.41 (1H, d, J = 7.2 Hz), 8.51-8.60 (3H, m), 9.03-9.07 (1H, m).
N−(2−フルオロ−3−ヒドロキシフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド0.20g、1−ヨードペンタン0.17g及びDMF3mlの混合物に、炭酸セシウム0.26gを加え、室温で12時間攪拌した。反応混合物に水を加え、析出した固体を濾過により集め、15%水酸化ナトリウム水溶液、水及びヘキサンで順次洗浄し、減圧下乾燥してN−(2−フルオロ−3−ペンチルオキシフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド(以下、本発明化合物(11)と記す。)0.14gを得た。
本発明化合物(11)
1H-NMR (CDCl3) δ: 0.94 (3H, t, J = 5.4 Hz), 1.38-1.59 (4H, m), 1.80-1.87 (2H, m), 4.04 (2H, t, J = 5.2 Hz), 4.78-4.81(2H, m), 6.91-6.95 (1H, m), 7.01-7.05 (2H, m), 7.67-7.72 (1H, m), 8.41 (1H, d, J = 7.2 Hz), 8.51-8.60 (3H, m), 9.03-9.07 (1H, m).
製造例12
N−(2−フルオロ−3−ヒドロキシフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド0.17g、1−ヨードヘキサン0.18g及びDMF3mlの混合物に、炭酸セシウム0.26gを加え、室温で12時間攪拌した。反応混合物に水を加え、析出した固体を濾過により集め、15%水酸化ナトリウム水溶液、水及びヘキサンで順次洗浄し、減圧下乾燥してN−(2−フルオロ−3−ヘキシルオキシフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド(以下、本発明化合物(12)と記す。)0.05gを得た。
本発明化合物(12)
1H-NMR (CDCl3) δ: 0.89 (3H, t, J = 6.5 Hz), 1.32-1.48 (6H, m), 1.75-1.80 (2H, m), 3.96 (2H, t, J = 6.6 Hz), 4.72 (2H, d, J = 5.6 Hz), 6.85 (1H, d, J = 7.7 Hz), 6.95-7.00 (2H, m), 7.27-7.29 (1H, m), 7.69 (1H, dd, J = 8.3, 4.2 Hz), 8.39 (1H, d, J = 8.2 Hz)
N−(2−フルオロ−3−ヒドロキシフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド0.17g、1−ヨードヘキサン0.18g及びDMF3mlの混合物に、炭酸セシウム0.26gを加え、室温で12時間攪拌した。反応混合物に水を加え、析出した固体を濾過により集め、15%水酸化ナトリウム水溶液、水及びヘキサンで順次洗浄し、減圧下乾燥してN−(2−フルオロ−3−ヘキシルオキシフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド(以下、本発明化合物(12)と記す。)0.05gを得た。
本発明化合物(12)
1H-NMR (CDCl3) δ: 0.89 (3H, t, J = 6.5 Hz), 1.32-1.48 (6H, m), 1.75-1.80 (2H, m), 3.96 (2H, t, J = 6.6 Hz), 4.72 (2H, d, J = 5.6 Hz), 6.85 (1H, d, J = 7.7 Hz), 6.95-7.00 (2H, m), 7.27-7.29 (1H, m), 7.69 (1H, dd, J = 8.3, 4.2 Hz), 8.39 (1H, d, J = 8.2 Hz)
製造例13
N−(3−ヒドロキシフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド0.2g、1−ブロモ−3−メトキシプロパン0.15g及びDMF2mlの混合物に、炭酸セシウム0.27gを加え、室温で12時間攪拌した。反応混合物に15%水酸化ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、N−[3−(3−メトキシプロポキシ)フェニル]メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド(以下、本発明化合物(13)と記す。)0.11gを得た。
本発明化合物(13)
1H-NMR (CDCl3) δ: 2.01-2.07 (2H, m), 3.34 (3H, s), 3.55 (2H, t, J = 6.2 Hz), 4.06 (2H, t, J = 6.3 Hz), 4.71 (2H, d, J = 6.1 Hz), 6.85 (1H, dd, J = 8.2, 2.1 Hz), 6.95-7.00 (2H, m), 7.26-7.30 (1H, m), 7.69 (1H, dd, J = 8.5, 4.1 Hz), 8.38 (1H, dd, J = 8.5, 1.0 Hz), 8.49 (1H, br s), 8.55-8.60 (2H, m), 9.05 (1H, dd, J = 4.1, 1.7 Hz).
N−(3−ヒドロキシフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド0.2g、1−ブロモ−3−メトキシプロパン0.15g及びDMF2mlの混合物に、炭酸セシウム0.27gを加え、室温で12時間攪拌した。反応混合物に15%水酸化ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、N−[3−(3−メトキシプロポキシ)フェニル]メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド(以下、本発明化合物(13)と記す。)0.11gを得た。
本発明化合物(13)
1H-NMR (CDCl3) δ: 2.01-2.07 (2H, m), 3.34 (3H, s), 3.55 (2H, t, J = 6.2 Hz), 4.06 (2H, t, J = 6.3 Hz), 4.71 (2H, d, J = 6.1 Hz), 6.85 (1H, dd, J = 8.2, 2.1 Hz), 6.95-7.00 (2H, m), 7.26-7.30 (1H, m), 7.69 (1H, dd, J = 8.5, 4.1 Hz), 8.38 (1H, dd, J = 8.5, 1.0 Hz), 8.49 (1H, br s), 8.55-8.60 (2H, m), 9.05 (1H, dd, J = 4.1, 1.7 Hz).
製造例14
N−(2−フルオロ−3−ヒドロキシフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド0.2g、1−ブロモ−3−メトキシプロパン0.13g及びDMF3mlの混合物に、炭酸セシウム0.26gを加え、室温で12時間攪拌した。反応混合物に15%水酸化ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、N−[2−フルオロ−3−(3−メトキシプロポキシ)フェニル]メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド(以下、本発明化合物(14)と記す。)0.17gを得た。
本発明化合物(14)
1H-NMR (CDCl3) δ: 2.06-2.12 (2H, m), 3.36 (3H, s), 3.58 (2H, t, J = 6.2 Hz), 4.14 (2H, t, J = 6.3 Hz), 4.79 (2H, dd, J = 6.3, 1.2 Hz), 6.92-6.96 (1H, m), 7.02-7.05 (2H, m), 7.70 (1H, dd, J = 8.7, 4.1 Hz), 8.41 (1H, dd, J = 8.7, 1.7 Hz), 8.54-8.58 (3H, m), 9.05 (1H, dd, J = 4.1, 1.7 Hz).
N−(2−フルオロ−3−ヒドロキシフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド0.2g、1−ブロモ−3−メトキシプロパン0.13g及びDMF3mlの混合物に、炭酸セシウム0.26gを加え、室温で12時間攪拌した。反応混合物に15%水酸化ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、N−[2−フルオロ−3−(3−メトキシプロポキシ)フェニル]メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド(以下、本発明化合物(14)と記す。)0.17gを得た。
本発明化合物(14)
1H-NMR (CDCl3) δ: 2.06-2.12 (2H, m), 3.36 (3H, s), 3.58 (2H, t, J = 6.2 Hz), 4.14 (2H, t, J = 6.3 Hz), 4.79 (2H, dd, J = 6.3, 1.2 Hz), 6.92-6.96 (1H, m), 7.02-7.05 (2H, m), 7.70 (1H, dd, J = 8.7, 4.1 Hz), 8.41 (1H, dd, J = 8.7, 1.7 Hz), 8.54-8.58 (3H, m), 9.05 (1H, dd, J = 4.1, 1.7 Hz).
製造例15
N−(3−ヒドロキシフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド0.2g、4−メトキシブチル メタンスルホネート0.18g及びDMF2mlの混合物に、炭酸セシウム0.27gを加え、室温で12時間攪拌した。反応混合物に15%水酸化ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、N−[3−(4−メトキシブトキシ)フェニル]メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド(以下、本発明化合物(15)と記す。)0.16gを得た。
本発明化合物(15)
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.68-1.77 (2H, m), 1.82-1.86 (2H, m), 3.33 (3H, s), 3.40-3.45 (2H, m), 3.96-4.00 (2H, m), 4.71 (2H, d, J = 5.6 Hz), 6.82-6.85 (1H, m), 6.93-7.00 (2H, m), 7.24-7.30 (1H, m), 7.66-7.71 (1H, m), 8.36-8.40 (1H, m), 8.50 (1H, br s), 8.54-8.60 (2H, m), 9.03-9.06 (1H, m).
N−(3−ヒドロキシフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド0.2g、4−メトキシブチル メタンスルホネート0.18g及びDMF2mlの混合物に、炭酸セシウム0.27gを加え、室温で12時間攪拌した。反応混合物に15%水酸化ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、N−[3−(4−メトキシブトキシ)フェニル]メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド(以下、本発明化合物(15)と記す。)0.16gを得た。
本発明化合物(15)
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.68-1.77 (2H, m), 1.82-1.86 (2H, m), 3.33 (3H, s), 3.40-3.45 (2H, m), 3.96-4.00 (2H, m), 4.71 (2H, d, J = 5.6 Hz), 6.82-6.85 (1H, m), 6.93-7.00 (2H, m), 7.24-7.30 (1H, m), 7.66-7.71 (1H, m), 8.36-8.40 (1H, m), 8.50 (1H, br s), 8.54-8.60 (2H, m), 9.03-9.06 (1H, m).
製造例16
N−(2−フルオロ−3−ヒドロキシフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド0.2g、4−メトキシブチル メタンスルホネート0.15g及びDMF3mlの混合物に、炭酸セシウム0.26gを加え、室温で12時間攪拌した。反応混合物に15%水酸化ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、N−[2−フルオロ−3−(4−メトキシブトキシ)フェニル]メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド(以下、本発明化合物(16)と記す。)0.11gを得た。
本発明化合物(16)
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.73-1.80 (2H, m), 1.87-1.93 (2H, m), 3.35 (3H, s), 3.46 (2H, t, J = 6.2 Hz), 4.06 (2H, t, J = 6.2 Hz), 4.79 (2H, d, J = 6.0 Hz), 6.89-6.94 (1H, m), 6.99-7.04 (2H, m), 7.70 (1H, dd, J = 8.5, 4.1 Hz), 8.41 (1H, d, J = 8.5 Hz), 8.51-8.55 (3H, m), 9.03-9.06 (1H, m).
N−(2−フルオロ−3−ヒドロキシフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド0.2g、4−メトキシブチル メタンスルホネート0.15g及びDMF3mlの混合物に、炭酸セシウム0.26gを加え、室温で12時間攪拌した。反応混合物に15%水酸化ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、N−[2−フルオロ−3−(4−メトキシブトキシ)フェニル]メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド(以下、本発明化合物(16)と記す。)0.11gを得た。
本発明化合物(16)
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.73-1.80 (2H, m), 1.87-1.93 (2H, m), 3.35 (3H, s), 3.46 (2H, t, J = 6.2 Hz), 4.06 (2H, t, J = 6.2 Hz), 4.79 (2H, d, J = 6.0 Hz), 6.89-6.94 (1H, m), 6.99-7.04 (2H, m), 7.70 (1H, dd, J = 8.5, 4.1 Hz), 8.41 (1H, d, J = 8.5 Hz), 8.51-8.55 (3H, m), 9.03-9.06 (1H, m).
製造例17
N−(3−ヒドロキシフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド0.2g、1−ブロモ−5−メトキシペンタン0.18g及びDMF2mlの混合物に、炭酸セシウム0.27gを加え、室温で12時間攪拌した。反応混合物に15%水酸化ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、N−[3−(5−メトキシペンチルオキシ)フェニル]メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド(以下、本発明化合物(17)と記す。)0.2gを得た。
本発明化合物(17)
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.49-1.69 (4H, m), 1.76-1.83 (2H, m), 3.32 (3H, s), 3.39 (2H, t, J = 6.5 Hz), 3.96 (2H, t, J = 6.5 Hz), 4.71 (2H, d, J = 6.1 Hz), 6.84 (1H, ddd, J = 8.2, 2.6, 0.7 Hz), 6.94-6.95 (1H, m), 6.97-7.00 (1H, m), 7.26-7.30 (1H, m), 7.69 (1H, dd, J = 8.5, 4.1 Hz), 8.37-8.40 (1H, m), 8.49 (1H, br s), 8.55-8.60 (2H, m), 9.05 (1H, dd, J = 4.1, 1.7 Hz).
N−(3−ヒドロキシフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド0.2g、1−ブロモ−5−メトキシペンタン0.18g及びDMF2mlの混合物に、炭酸セシウム0.27gを加え、室温で12時間攪拌した。反応混合物に15%水酸化ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、N−[3−(5−メトキシペンチルオキシ)フェニル]メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド(以下、本発明化合物(17)と記す。)0.2gを得た。
本発明化合物(17)
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.49-1.69 (4H, m), 1.76-1.83 (2H, m), 3.32 (3H, s), 3.39 (2H, t, J = 6.5 Hz), 3.96 (2H, t, J = 6.5 Hz), 4.71 (2H, d, J = 6.1 Hz), 6.84 (1H, ddd, J = 8.2, 2.6, 0.7 Hz), 6.94-6.95 (1H, m), 6.97-7.00 (1H, m), 7.26-7.30 (1H, m), 7.69 (1H, dd, J = 8.5, 4.1 Hz), 8.37-8.40 (1H, m), 8.49 (1H, br s), 8.55-8.60 (2H, m), 9.05 (1H, dd, J = 4.1, 1.7 Hz).
製造例18
N−(3−ヒドロキシフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド0.2g、3−エトキシプロピル メタンスルホネート0.19g及びDMF3mlの混合物に、炭酸セシウム0.27gを加え、室温で12時間攪拌した。反応混合物に15%水酸化ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、N−[3−(3−エトキシプロポキシ)フェニル]メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド(以下、本発明化合物(18)と記す。)0.25gを得た。
本発明化合物(18)
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.16-1.22 (3H, m), 1.98-2.07 (2H, m), 3.45-3.54 (2H, m), 3.58 (2H, t, J = 6.2 Hz), 4.07 (2H, t, J = 6.2 Hz), 4.71 (2H, d, J = 6.0 Hz), 6.84-6.86 (1H, m), 6.96-7.00 (2H, m), 7.26-7.30 (1H, m), 7.69 (1H, dd, J = 8.3, 3.7 Hz), 8.38 (1H, d, J = 8.9 Hz), 8.50 (1H, br s), 8.55-8.60 (2H, m), 9.05 (1H, d, J = 4.1 Hz).
N−(3−ヒドロキシフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド0.2g、3−エトキシプロピル メタンスルホネート0.19g及びDMF3mlの混合物に、炭酸セシウム0.27gを加え、室温で12時間攪拌した。反応混合物に15%水酸化ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、N−[3−(3−エトキシプロポキシ)フェニル]メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド(以下、本発明化合物(18)と記す。)0.25gを得た。
本発明化合物(18)
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.16-1.22 (3H, m), 1.98-2.07 (2H, m), 3.45-3.54 (2H, m), 3.58 (2H, t, J = 6.2 Hz), 4.07 (2H, t, J = 6.2 Hz), 4.71 (2H, d, J = 6.0 Hz), 6.84-6.86 (1H, m), 6.96-7.00 (2H, m), 7.26-7.30 (1H, m), 7.69 (1H, dd, J = 8.3, 3.7 Hz), 8.38 (1H, d, J = 8.9 Hz), 8.50 (1H, br s), 8.55-8.60 (2H, m), 9.05 (1H, d, J = 4.1 Hz).
製造例19
N−(2−フルオロ−3−ヒドロキシフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド0.2g、3−エトキシプロピル メタンスルホネート0.15g及びDMF3mlの混合物に、炭酸セシウム0.27gを加え、室温で12時間攪拌した。反応混合物に15%水酸化ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、N−[3−(3−エトキシプロポキシ)−2−フルオロフェニル]メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド(以下、本発明化合物(19)と記す。)0.13gを得た。
本発明化合物(19)
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.20 (3H, t, J = 7.0 Hz), 2.06-2.12 (2H, m), 3.50 (2H, q, J = 7.0 Hz), 3.62 (2H, t, J = 6.2 Hz), 4.15 (2H, t, J = 6.3 Hz), 4.79 (2H, dd, J = 6.3, 1.0 Hz), 6.92-6.98 (1H, m), 6.99-7.06 (2H, m), 7.70 (1H, dd, J = 8.7, 4.1 Hz), 8.41 (1H, dd, J = 8.6, 1.6 Hz), 8.52-8.58 (3H, m), 9.05 (1H, dd, J = 4.2, 1.6 Hz).
N−(2−フルオロ−3−ヒドロキシフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド0.2g、3−エトキシプロピル メタンスルホネート0.15g及びDMF3mlの混合物に、炭酸セシウム0.27gを加え、室温で12時間攪拌した。反応混合物に15%水酸化ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、N−[3−(3−エトキシプロポキシ)−2−フルオロフェニル]メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド(以下、本発明化合物(19)と記す。)0.13gを得た。
本発明化合物(19)
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.20 (3H, t, J = 7.0 Hz), 2.06-2.12 (2H, m), 3.50 (2H, q, J = 7.0 Hz), 3.62 (2H, t, J = 6.2 Hz), 4.15 (2H, t, J = 6.3 Hz), 4.79 (2H, dd, J = 6.3, 1.0 Hz), 6.92-6.98 (1H, m), 6.99-7.06 (2H, m), 7.70 (1H, dd, J = 8.7, 4.1 Hz), 8.41 (1H, dd, J = 8.6, 1.6 Hz), 8.52-8.58 (3H, m), 9.05 (1H, dd, J = 4.2, 1.6 Hz).
製造例20
N−(3−ヒドロキシフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド0.2g、4−エトキシブチル−p−トルエンスルホネート0.24g及びDMF3mlの混合物に、炭酸セシウム0.27gを加え、室温で12時間攪拌した。反応混合物に15%水酸化ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、N−[3−(4−エトキシブトキシ)フェニル]メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド(以下、本発明化合物(20)と記す。)0.25gを得た。
本発明化合物(20)
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.19 (3H, t, J = 7.0 Hz), 1.70-1.78 (2H, m), 1.81-1.89 (2H, m), 3.44-3.50 (4H, m), 3.99 (2H, t, J = 6.3 Hz), 4.71 (2H, d, J = 6.3 Hz), 6.84 (1H, dd, J = 8.2, 2.2 Hz), 6.94-6.95 (1H, m), 6.97-7.00 (1H, m), 7.26-7.30 (1H, m), 7.69 (1H, dd, J = 8.5, 4.1 Hz), 8.38 (1H, dd, J = 8.5, 1.7 Hz), 8.49 (1H, br s), 8.55-8.60 (2H, m), 9.05 (1H, dd, J = 4.2, 1.6 Hz).
N−(3−ヒドロキシフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド0.2g、4−エトキシブチル−p−トルエンスルホネート0.24g及びDMF3mlの混合物に、炭酸セシウム0.27gを加え、室温で12時間攪拌した。反応混合物に15%水酸化ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、N−[3−(4−エトキシブトキシ)フェニル]メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド(以下、本発明化合物(20)と記す。)0.25gを得た。
本発明化合物(20)
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.19 (3H, t, J = 7.0 Hz), 1.70-1.78 (2H, m), 1.81-1.89 (2H, m), 3.44-3.50 (4H, m), 3.99 (2H, t, J = 6.3 Hz), 4.71 (2H, d, J = 6.3 Hz), 6.84 (1H, dd, J = 8.2, 2.2 Hz), 6.94-6.95 (1H, m), 6.97-7.00 (1H, m), 7.26-7.30 (1H, m), 7.69 (1H, dd, J = 8.5, 4.1 Hz), 8.38 (1H, dd, J = 8.5, 1.7 Hz), 8.49 (1H, br s), 8.55-8.60 (2H, m), 9.05 (1H, dd, J = 4.2, 1.6 Hz).
製造例21
N−(2−フルオロ−3−ヒドロキシフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド0.2g、4−エトキシブチル−p−トルエンスルホネート0.23g及びDMF3mlの混合物に、炭酸セシウム0.27gを加え、室温で12時間攪拌した。反応混合物に15%水酸化ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、N−[3−(4−エトキシブトキシ)−2−フルオロフェニル]メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド(以下、本発明化合物(21)と記す。)0.2gを得た。
本発明化合物(21)
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.20 (3H, t, J = 7.0 Hz), 1.74-1.81 (2H, m), 1.88-1.95 (2H, m), 3.46-3.51 (4H, m), 4.07 (2H, t, J = 6.4 Hz), 4.79 (2H, d, J = 6.0 Hz), 6.90-6.95 (1H, m), 7.01-7.06 (2H, m), 7.70 (1H, dd, J = 8.5, 4.1 Hz), 8.41 (1H, dd, J = 8.6, 1.1 Hz), 8.53-8.57 (3H, m), 9.05 (1H, dd, J = 4.1, 1.4 Hz).
N−(2−フルオロ−3−ヒドロキシフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド0.2g、4−エトキシブチル−p−トルエンスルホネート0.23g及びDMF3mlの混合物に、炭酸セシウム0.27gを加え、室温で12時間攪拌した。反応混合物に15%水酸化ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、N−[3−(4−エトキシブトキシ)−2−フルオロフェニル]メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド(以下、本発明化合物(21)と記す。)0.2gを得た。
本発明化合物(21)
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.20 (3H, t, J = 7.0 Hz), 1.74-1.81 (2H, m), 1.88-1.95 (2H, m), 3.46-3.51 (4H, m), 4.07 (2H, t, J = 6.4 Hz), 4.79 (2H, d, J = 6.0 Hz), 6.90-6.95 (1H, m), 7.01-7.06 (2H, m), 7.70 (1H, dd, J = 8.5, 4.1 Hz), 8.41 (1H, dd, J = 8.6, 1.1 Hz), 8.53-8.57 (3H, m), 9.05 (1H, dd, J = 4.1, 1.4 Hz).
次に、本発明化合物の中間体の製造を参考製造例として示す。
参考製造例1
[1,5]ナフチリジン−2−カルボン酸0.30g、2−フルオロ−3−ヒドロキシベンジルアミン臭化水素酸塩0.46g、ピリジン0.5mlおよびDMF5mlの混合物にWSC0.43gを加え、室温で8時間攪拌した。反応混合物に水を加え、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付してN−(2−フルオロ−3−ヒドロキシフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド0.25gを得た。
N−(2−フルオロ−3−ヒドロキシフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド
1H-NMR (CDCl3) δ: 4.80 (2H, d, J = 6.6 Hz), 5.47 (1H, s), 6.94-7.04 (3H, m), 7.70 (1H, dd, J = 8.5, 4.1 Hz), 8.41 (1H, dd, J = 8.7, 1.6 Hz), 8.51 (1H, s), 8.57 (2H, s), 9.06 (1H, dd, J = 4.1, 1.7 Hz).
[1,5]ナフチリジン−2−カルボン酸0.30g、2−フルオロ−3−ヒドロキシベンジルアミン臭化水素酸塩0.46g、ピリジン0.5mlおよびDMF5mlの混合物にWSC0.43gを加え、室温で8時間攪拌した。反応混合物に水を加え、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付してN−(2−フルオロ−3−ヒドロキシフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド0.25gを得た。
N−(2−フルオロ−3−ヒドロキシフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド
1H-NMR (CDCl3) δ: 4.80 (2H, d, J = 6.6 Hz), 5.47 (1H, s), 6.94-7.04 (3H, m), 7.70 (1H, dd, J = 8.5, 4.1 Hz), 8.41 (1H, dd, J = 8.7, 1.6 Hz), 8.51 (1H, s), 8.57 (2H, s), 9.06 (1H, dd, J = 4.1, 1.7 Hz).
参考製造例2
3−ヒドロキシベンジルアミン塩酸塩0.42g、[1,5]ナフチリジン−2−カルボン酸0.3g、WSC0.43g、ピリジン0.5ml及びDMF5mlの混合物を室温で3時間撹拌した。反応混合物に水を加え、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付してN−(3−ヒドロキシフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド0.29gを得た。
N−(3−ヒドロキシフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド
1H-NMR (CDCl3) δ: 4.70 (2H, d, J = 6.3 Hz), 5.19 (1H, s), 6.79 (1H, dd, J = 7.8, 2.5 Hz), 6.92 (1H, s), 6.97 (1H, d, J = 7.5 Hz), 7.25 (1H, t, J = 7.8 Hz), 7.70 (1H, dd, J = 8.5, 4.1 Hz), 8.38 (1H, dd, J = 8.6, 1.6 Hz), 8.51 (1H, s), 8.55 (2H, s), 9.05 (1H, dd, J = 4.1, 1.7 Hz).
3−ヒドロキシベンジルアミン塩酸塩0.42g、[1,5]ナフチリジン−2−カルボン酸0.3g、WSC0.43g、ピリジン0.5ml及びDMF5mlの混合物を室温で3時間撹拌した。反応混合物に水を加え、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付してN−(3−ヒドロキシフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド0.29gを得た。
N−(3−ヒドロキシフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド
1H-NMR (CDCl3) δ: 4.70 (2H, d, J = 6.3 Hz), 5.19 (1H, s), 6.79 (1H, dd, J = 7.8, 2.5 Hz), 6.92 (1H, s), 6.97 (1H, d, J = 7.5 Hz), 7.25 (1H, t, J = 7.8 Hz), 7.70 (1H, dd, J = 8.5, 4.1 Hz), 8.38 (1H, dd, J = 8.6, 1.6 Hz), 8.51 (1H, s), 8.55 (2H, s), 9.05 (1H, dd, J = 4.1, 1.7 Hz).
参考製造例3
3−ヒドロキシベンズアルデヒド20g、2−プロパノール200ml、ピリジン16g及びヒドロキシルアミン塩酸塩15gの混合物を室温で3時間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮した。残渣に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を5%塩酸、水及び飽和食塩水で順次洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下濃縮し、3−ヒドロキシベンズアルデヒドオキシム26gを得た。
3−ヒドロキシベンズアルデヒドオキシム25g、5%パラジウム炭素1.3g及びエタノール300mlの混合物を約1気圧の水素雰囲気下、室温で3時間撹拌した。反応混合物をセライト(登録商標)を通して濾過した。濾液を減圧下濃縮した。得られた残渣、アセトニトリル200ml及び濃塩酸28gを0℃で混合し、生成した固体を濾過により集めた。その固体をアセトニトリルで洗浄し、減圧下で乾燥して3−ヒドロキシベンジルアミン塩酸塩20gを得た。
3−ヒドロキシベンジルアミン塩酸塩
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 3.89 (2H, q, J = 5.6 Hz), 6.79-6.82 (1H, m), 6.88-6.91 (2H, m), 7.18 (1H, t, J = 7.7 Hz), 8.51 (3H, s), 9.72 (1H, s).
3−ヒドロキシベンズアルデヒド20g、2−プロパノール200ml、ピリジン16g及びヒドロキシルアミン塩酸塩15gの混合物を室温で3時間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮した。残渣に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を5%塩酸、水及び飽和食塩水で順次洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下濃縮し、3−ヒドロキシベンズアルデヒドオキシム26gを得た。
3−ヒドロキシベンズアルデヒドオキシム25g、5%パラジウム炭素1.3g及びエタノール300mlの混合物を約1気圧の水素雰囲気下、室温で3時間撹拌した。反応混合物をセライト(登録商標)を通して濾過した。濾液を減圧下濃縮した。得られた残渣、アセトニトリル200ml及び濃塩酸28gを0℃で混合し、生成した固体を濾過により集めた。その固体をアセトニトリルで洗浄し、減圧下で乾燥して3−ヒドロキシベンジルアミン塩酸塩20gを得た。
3−ヒドロキシベンジルアミン塩酸塩
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 3.89 (2H, q, J = 5.6 Hz), 6.79-6.82 (1H, m), 6.88-6.91 (2H, m), 7.18 (1H, t, J = 7.7 Hz), 8.51 (3H, s), 9.72 (1H, s).
参考製造例4
2−フルオロ−3−メトキシベンジルアルコール4.5gと塩化メタンスルホニル2.9ml及びTHF50mlを混合し、0℃で攪拌した。その混合物にトリエチルアミン6.0mlを加え、0℃で30分間、次いで室温で2時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチルを加えた後、セライト(登録商標)を通して濾過した。ろ液に水を加え酢酸エチルで抽出した。有機層を水及び飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下で濃縮し、(2−フルオロ−3−メトキシフェニル)メチルメタンスルホネート6.9gを得た。
(2−フルオロ−3−メトキシフェニル)メチルメタンスルホネート
1H-NMR (CDCl3) δ: 3.00 (3H, s), 3.91 (3H, s), 5.30 (2H, s), 6.96-7.14 (3H, m).
2−フルオロ−3−メトキシベンジルアルコール4.5gと塩化メタンスルホニル2.9ml及びTHF50mlを混合し、0℃で攪拌した。その混合物にトリエチルアミン6.0mlを加え、0℃で30分間、次いで室温で2時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチルを加えた後、セライト(登録商標)を通して濾過した。ろ液に水を加え酢酸エチルで抽出した。有機層を水及び飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下で濃縮し、(2−フルオロ−3−メトキシフェニル)メチルメタンスルホネート6.9gを得た。
(2−フルオロ−3−メトキシフェニル)メチルメタンスルホネート
1H-NMR (CDCl3) δ: 3.00 (3H, s), 3.91 (3H, s), 5.30 (2H, s), 6.96-7.14 (3H, m).
参考製造例5
(2−フルオロ−3−メトキシフェニル)メチルメタンスルホネート6.7g及びフタルイミドカリウム5.3g及びDMF60mlを混合し、70℃で4時間攪拌した。その後、反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、希塩酸及び飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下濃縮した。得られた残渣をヘキサンで洗浄してN−(2−フルオロ−3−メトキシフェニル)メチルフタルイミド5.8gを得た。
N−(2−フルオロ−3−メトキシフェニル)メチルフタルイミド
1H-NMR (CDCl3) δ: 3.87 (3H, s), 4.94 (2H, s), 6.86-6.90 (2H, m), 6.98-7.02 (1H, m), 7.73 (2H, dd, J = 5.4, 3.0 Hz), 7.86 (2H, dd, J = 5.4, 3.0 Hz).
(2−フルオロ−3−メトキシフェニル)メチルメタンスルホネート6.7g及びフタルイミドカリウム5.3g及びDMF60mlを混合し、70℃で4時間攪拌した。その後、反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、希塩酸及び飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下濃縮した。得られた残渣をヘキサンで洗浄してN−(2−フルオロ−3−メトキシフェニル)メチルフタルイミド5.8gを得た。
N−(2−フルオロ−3−メトキシフェニル)メチルフタルイミド
1H-NMR (CDCl3) δ: 3.87 (3H, s), 4.94 (2H, s), 6.86-6.90 (2H, m), 6.98-7.02 (1H, m), 7.73 (2H, dd, J = 5.4, 3.0 Hz), 7.86 (2H, dd, J = 5.4, 3.0 Hz).
参考製造例6
N−(2−フルオロ−3−メトキシフェニル)メチルフタルイミド7.7gとエタノール30mlとの混合物にヒドラジン1水和物1.63gを滴下し、4時間加熱還流した。その後、反応混合物を室温まで冷却した。反応混合物に水を加え、減圧下濃縮した。残渣に希塩酸を加え、濾過した。得られた濾液に酢酸エチルを加え、該混合液の水層のpHが11になるまで15%水酸化ナトリウム水溶液を加え、2層に分液した。有機層に濃塩酸を加え、減圧下濃縮し、2−フルオロ−3−メトキシベンジルアミン塩酸塩4.5gを得た。
2−フルオロ−3−メトキシベンジルアミン塩酸塩
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 3.85 (3H, s), 4.03 (2H, q, J = 5.3 Hz), 7.13-7.23 (3H, m), 8.60 (3H, br s).
N−(2−フルオロ−3−メトキシフェニル)メチルフタルイミド7.7gとエタノール30mlとの混合物にヒドラジン1水和物1.63gを滴下し、4時間加熱還流した。その後、反応混合物を室温まで冷却した。反応混合物に水を加え、減圧下濃縮した。残渣に希塩酸を加え、濾過した。得られた濾液に酢酸エチルを加え、該混合液の水層のpHが11になるまで15%水酸化ナトリウム水溶液を加え、2層に分液した。有機層に濃塩酸を加え、減圧下濃縮し、2−フルオロ−3−メトキシベンジルアミン塩酸塩4.5gを得た。
2−フルオロ−3−メトキシベンジルアミン塩酸塩
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 3.85 (3H, s), 4.03 (2H, q, J = 5.3 Hz), 7.13-7.23 (3H, m), 8.60 (3H, br s).
参考製造例7
2−フルオロ−3−メトキシベンズアルデヒド15.4g、THF30ml及び水3mlの混合溶液に、ピリジン24mlを滴下し、氷冷下でヒドロキシルアミン塩酸塩13.8を加えた。室温で30分間撹拌した。反応混合物を全体の容量が半分程度となるまで減圧下濃縮した。この混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を希塩酸及び飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下濃縮し、2−フルオロ−3−メトキシベンズアルデヒドオキシム16gを得た。
2−フルオロ−3−メトキシベンズアルデヒドオキシム
1H-NMR (CDCl3) δ: 3.90 (3H, s), 6.96-7.00 (1H, m), 7.03-7.12 (1H, m), 7.30-7.33 (1H, m), 7.64-7.78 (1H, m), 8.39 (1H, s).
2−フルオロ−3−メトキシベンズアルデヒド15.4g、THF30ml及び水3mlの混合溶液に、ピリジン24mlを滴下し、氷冷下でヒドロキシルアミン塩酸塩13.8を加えた。室温で30分間撹拌した。反応混合物を全体の容量が半分程度となるまで減圧下濃縮した。この混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を希塩酸及び飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下濃縮し、2−フルオロ−3−メトキシベンズアルデヒドオキシム16gを得た。
2−フルオロ−3−メトキシベンズアルデヒドオキシム
1H-NMR (CDCl3) δ: 3.90 (3H, s), 6.96-7.00 (1H, m), 7.03-7.12 (1H, m), 7.30-7.33 (1H, m), 7.64-7.78 (1H, m), 8.39 (1H, s).
参考製造例8
10%パラジウム炭素2.4g、10N塩酸8.3ml及びエタノール200mlの混合溶液に、2−フルオロ−3−メトキシベンズアルデヒドオキシム12.8gを加え、約1気圧の水素雰囲気下、室温で3時間攪拌した。反応混合物をセライト(登録商標)を通して濾過した。濾液を減圧下濃縮し、2−フルオロ−3−メトキシベンジルアミン塩酸塩8.2gを得た。
10%パラジウム炭素2.4g、10N塩酸8.3ml及びエタノール200mlの混合溶液に、2−フルオロ−3−メトキシベンズアルデヒドオキシム12.8gを加え、約1気圧の水素雰囲気下、室温で3時間攪拌した。反応混合物をセライト(登録商標)を通して濾過した。濾液を減圧下濃縮し、2−フルオロ−3−メトキシベンジルアミン塩酸塩8.2gを得た。
参考製造例9
10%パラジウム炭素1.8g、水10ml、10N塩酸6.5ml及びエタノール50mlの混合溶液に、2−フルオロ−3−メトキシベンズアルデヒド10g及びエタノール80mlの混合溶液を加え、次いでヒドロキシルアミン塩酸塩5.4gを加えた。室温で2時間攪拌した。この混合物を約1気圧の水素雰囲気下、室温で3時間攪拌した。反応混合物をセライト(登録商標)を通して濾過し、濾液を減圧下濃縮した。残渣に水を加えて、クロロホルムで抽出した。得られた水層のpHが11になるまで15%水酸化ナトリウム水溶液を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を炭酸カリウムで乾燥後、減圧下濃縮し、2−フルオロ−3−メトキシベンジルアミン8.0gを得た。
2−フルオロ−3−メトキシベンジルアミン
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.55 (2H, br s), 3.89 (3H, s), 3.90 (2H, br s), 6.86-6.91 (2H, m), 7.02-7.06 (1H, m).
10%パラジウム炭素1.8g、水10ml、10N塩酸6.5ml及びエタノール50mlの混合溶液に、2−フルオロ−3−メトキシベンズアルデヒド10g及びエタノール80mlの混合溶液を加え、次いでヒドロキシルアミン塩酸塩5.4gを加えた。室温で2時間攪拌した。この混合物を約1気圧の水素雰囲気下、室温で3時間攪拌した。反応混合物をセライト(登録商標)を通して濾過し、濾液を減圧下濃縮した。残渣に水を加えて、クロロホルムで抽出した。得られた水層のpHが11になるまで15%水酸化ナトリウム水溶液を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を炭酸カリウムで乾燥後、減圧下濃縮し、2−フルオロ−3−メトキシベンジルアミン8.0gを得た。
2−フルオロ−3−メトキシベンジルアミン
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.55 (2H, br s), 3.89 (3H, s), 3.90 (2H, br s), 6.86-6.91 (2H, m), 7.02-7.06 (1H, m).
参考製造例10
2−フルオロ−3−メトキシベンジルアミンの塩酸塩4gに48%臭化水素酸15mlを加え、5時間加熱還流した。室温付近まで放冷した反応混合物を減圧下濃縮し、2−フルオロ−3−ヒドロキシベンジルアミン臭化水素酸塩4.0gを得た。
2−フルオロ−3−ヒドロキシベンジルアミン臭化水素酸塩
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 4.04 (2H, q, J = 5.5 Hz), 6.90-6.94 (1H, m), 6.97-7.06 (2H, m), 8.23 (3H, br s), 10.05 (1H, br s).
2−フルオロ−3−メトキシベンジルアミンの塩酸塩4gに48%臭化水素酸15mlを加え、5時間加熱還流した。室温付近まで放冷した反応混合物を減圧下濃縮し、2−フルオロ−3−ヒドロキシベンジルアミン臭化水素酸塩4.0gを得た。
2−フルオロ−3−ヒドロキシベンジルアミン臭化水素酸塩
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 4.04 (2H, q, J = 5.5 Hz), 6.90-6.94 (1H, m), 6.97-7.06 (2H, m), 8.23 (3H, br s), 10.05 (1H, br s).
参考製造例11
[1,5]ナフチリジン69.4gを700mlのクロロホルムに溶解し、120gのm−クロロ過安息香酸を室温で加え、2時間攪拌した。この混合物に12gのm−クロロ過安息香酸を加え、さらに室温で2時間攪拌した。反応混合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、[1,5]ナフチリジン N−オキサイド73gを得た。
[1,5]ナフチリジン N−オキサイド
1H-NMR (CDCl3) δ:7.53-7.57(1H, m), 7.68-7.71 (1H, m), 8.03 (1H, d, J = 8.0 Hz), 8.57 (1H, d, J = 8.0Hz), 9.05-9.06 (2H, m).
[1,5]ナフチリジン69.4gを700mlのクロロホルムに溶解し、120gのm−クロロ過安息香酸を室温で加え、2時間攪拌した。この混合物に12gのm−クロロ過安息香酸を加え、さらに室温で2時間攪拌した。反応混合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、[1,5]ナフチリジン N−オキサイド73gを得た。
[1,5]ナフチリジン N−オキサイド
1H-NMR (CDCl3) δ:7.53-7.57(1H, m), 7.68-7.71 (1H, m), 8.03 (1H, d, J = 8.0 Hz), 8.57 (1H, d, J = 8.0Hz), 9.05-9.06 (2H, m).
参考製造例12
[1,5]ナフチリジン N−オキサイド73g、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン76gを700mlのTHFに溶解し、52gのトリメチルシリルシアニドを氷冷下で1時間かけて滴下した。約2時間かけて室温に戻し、15時間攪拌した。反応混合物を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、2−シアノ[1,5]ナフチリジン38gを得た。
2−シアノ[1,5]ナフチリジン
1H-NMR (CDCl3) δ:7.80 (1H, dd, J = 4.0, 8.0 Hz), 7.96 (1H, d, J = 8.0 Hz), 8.49 (1H, d, J = 8.0 Hz), 8.58 (1H, d, J = 8.0 Hz), 9.14 (1H, d, J = 4.0 Hz).
[1,5]ナフチリジン N−オキサイド73g、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン76gを700mlのTHFに溶解し、52gのトリメチルシリルシアニドを氷冷下で1時間かけて滴下した。約2時間かけて室温に戻し、15時間攪拌した。反応混合物を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、2−シアノ[1,5]ナフチリジン38gを得た。
2−シアノ[1,5]ナフチリジン
1H-NMR (CDCl3) δ:7.80 (1H, dd, J = 4.0, 8.0 Hz), 7.96 (1H, d, J = 8.0 Hz), 8.49 (1H, d, J = 8.0 Hz), 8.58 (1H, d, J = 8.0 Hz), 9.14 (1H, d, J = 4.0 Hz).
参考製造例13
2−シアノ[1,5]ナフチリジン1.6gを40mlの50%硫酸水溶液に溶解し、加熱還流下で4時間攪拌した。反応混合物を氷冷してから、反応混合物に5N水酸化ナトリウム水溶液を少しづつ加えたところ、結晶が析出した。この結晶を濾過により集め、減圧下乾燥して、[1,5]ナフチリジン−2−カルボン酸1.5gを得た。
[1,5]ナフチリジン−2−カルボン酸
1H-NMR (DMSO-d6) δ:7.92 (1H, dd, J = 4.0, 8.0 Hz), 8.36 (1H, d, J = 8.0 Hz), 8.60 (1H, d, J = 8.0 Hz), 8.61 (1H, d, J = 8.0 Hz), 9.14 (1H, d, J = 8.0 Hz), 13.65 (1H, br s).
2−シアノ[1,5]ナフチリジン1.6gを40mlの50%硫酸水溶液に溶解し、加熱還流下で4時間攪拌した。反応混合物を氷冷してから、反応混合物に5N水酸化ナトリウム水溶液を少しづつ加えたところ、結晶が析出した。この結晶を濾過により集め、減圧下乾燥して、[1,5]ナフチリジン−2−カルボン酸1.5gを得た。
[1,5]ナフチリジン−2−カルボン酸
1H-NMR (DMSO-d6) δ:7.92 (1H, dd, J = 4.0, 8.0 Hz), 8.36 (1H, d, J = 8.0 Hz), 8.60 (1H, d, J = 8.0 Hz), 8.61 (1H, d, J = 8.0 Hz), 9.14 (1H, d, J = 8.0 Hz), 13.65 (1H, br s).
次に製剤例を示す。
製剤例1
本発明化合物(1)〜(21)のいずれか1種 50部、リグニンスルホン酸カルシウム 3部、ラウリル硫酸マグネシウム 2部及び合成含水酸化珪素 45部をよく粉砕混合することにより、水和剤を得る。
本発明化合物(1)〜(21)のいずれか1種 50部、リグニンスルホン酸カルシウム 3部、ラウリル硫酸マグネシウム 2部及び合成含水酸化珪素 45部をよく粉砕混合することにより、水和剤を得る。
製剤例2
本発明化合物(1)〜(21)のいずれか1種 20部とソルビタントリオレエ−ト 1.5部とを、ポリビニルアルコ−ル 2部を含む水溶液 28.5部と混合し、湿式粉砕法で微粉砕した後、この中に、キサンタンガム 0.05部及びアルミニウムマグネシウムシリケ−ト 0.1部を含む水溶液 40部を加え、さらにプロピレングリコ−ル 10部を加えて攪拌混合し、フロアブル製剤を得る。
本発明化合物(1)〜(21)のいずれか1種 20部とソルビタントリオレエ−ト 1.5部とを、ポリビニルアルコ−ル 2部を含む水溶液 28.5部と混合し、湿式粉砕法で微粉砕した後、この中に、キサンタンガム 0.05部及びアルミニウムマグネシウムシリケ−ト 0.1部を含む水溶液 40部を加え、さらにプロピレングリコ−ル 10部を加えて攪拌混合し、フロアブル製剤を得る。
製剤例3
本発明化合物(1)〜(21)のいずれか1種 2部、カオリンクレー 88部及びタルク 10部をよく粉砕混合することにより、粉剤を得る。
本発明化合物(1)〜(21)のいずれか1種 2部、カオリンクレー 88部及びタルク 10部をよく粉砕混合することにより、粉剤を得る。
製剤例4
本発明化合物(1)〜(21)のいずれか1種 5部、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエ−テル 14部、ドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム 6部及びキシレン 75部をよく混合することにより、乳剤を得る。
本発明化合物(1)〜(21)のいずれか1種 5部、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエ−テル 14部、ドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム 6部及びキシレン 75部をよく混合することにより、乳剤を得る。
製剤例5
本発明化合物(1)〜(21)のいずれか1種 2部、合成含水酸化珪素 1部、リグニンスルホン酸カルシウム 2部、ベントナイト 30部及びカオリンクレー 65部をよく粉砕混合した後、水を加えてよく練り合せ、造粒乾燥することにより、粒剤を得る。
本発明化合物(1)〜(21)のいずれか1種 2部、合成含水酸化珪素 1部、リグニンスルホン酸カルシウム 2部、ベントナイト 30部及びカオリンクレー 65部をよく粉砕混合した後、水を加えてよく練り合せ、造粒乾燥することにより、粒剤を得る。
製剤例6
本発明化合物(1)〜(21)のいずれか1種 10部、ポリオキシエチレンアルキルエーテルサルフェートアンモニウム塩 50部を含むホワイトカーボン 35部及び水 55部を混合し、湿式粉砕法で微粉砕することにより、フロアブル製剤を得る。
本発明化合物(1)〜(21)のいずれか1種 10部、ポリオキシエチレンアルキルエーテルサルフェートアンモニウム塩 50部を含むホワイトカーボン 35部及び水 55部を混合し、湿式粉砕法で微粉砕することにより、フロアブル製剤を得る。
次に、本発明化合物が植物病害の防除に有用であることを試験例で示す。
なお防除効果は、調査時の供試植物上の病斑の面積を目視観察し、本発明化合物を処理した植物の病斑の面積と、無処理の植物の病斑の面積を比較することにより評価した。
なお防除効果は、調査時の供試植物上の病斑の面積を目視観察し、本発明化合物を処理した植物の病斑の面積と、無処理の植物の病斑の面積を比較することにより評価した。
試験例1
プラスチックポットに砂壌土を詰め、キュウリ(品種;相模半白)を播種し、温室内で12日間生育させた。本発明化合物(1)、(2)、(5)〜(9)、(11)、(13)〜(16)及び(18)〜(21)の各々を製剤例6に準じてフロアブル製剤とした後、水で希釈し所定濃度(500ppm)にし、上記キュウリ葉面に充分付着するように茎葉散布した。散布後植物を風乾し、キュウリ灰色かび病菌(Botrytis cinerea)の胞子含有PDA培地をキュウリ葉面上に置いた。接種後12℃、多湿下に5日間置いた後、病斑面積を調査した。その結果、本発明化合物(1)、(2)、(5)〜(9)、(11)、(13)〜(16)及び(18)〜(21)を処理した植物における病斑面積は、無処理の植物における病斑面積の10%以下であった。
プラスチックポットに砂壌土を詰め、キュウリ(品種;相模半白)を播種し、温室内で12日間生育させた。本発明化合物(1)、(2)、(5)〜(9)、(11)、(13)〜(16)及び(18)〜(21)の各々を製剤例6に準じてフロアブル製剤とした後、水で希釈し所定濃度(500ppm)にし、上記キュウリ葉面に充分付着するように茎葉散布した。散布後植物を風乾し、キュウリ灰色かび病菌(Botrytis cinerea)の胞子含有PDA培地をキュウリ葉面上に置いた。接種後12℃、多湿下に5日間置いた後、病斑面積を調査した。その結果、本発明化合物(1)、(2)、(5)〜(9)、(11)、(13)〜(16)及び(18)〜(21)を処理した植物における病斑面積は、無処理の植物における病斑面積の10%以下であった。
試験例2
プラスチックポットに砂壌土を詰め、キュウリ(品種;相模半白)を播種し、温室内で12日間生育させた。本発明化合物(1)、(2)、(5)〜(9)、(11)及び(13)〜(21)の各々を製剤例6に準じてフロアブル製剤とした後、水で希釈し所定濃度(500ppm)にし、上記キュウリ葉面に充分付着するように茎葉散布した。散布後植物を風乾し、キュウリ菌核病菌(Sclerotinia sclerotiorum)の菌糸含有PDA培地をキュウリ葉面上に置いた。接種後18℃、多湿下に4日間置いた後、病斑面積を調査した。その結果、本発明化合物(1)、(2)、(5)〜(9)、(11)及び(13)〜(21)を処理した植物における病斑面積は、無処理の植物における病斑面積の10%以下であった。
また、本発明化合物の代わりにBioorganic & Medicinal Chemistry Letters, 9, p.2583(1999)に記載されたN−(2−メトキシフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド(以下、比較化合物(A)と記す。)を用いて同じ試験を行った。その結果、比較化合物(A)を処理した植物上の病斑面積は無処理区の病斑面積の76%以上であった。
N−(2−メトキシフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミドとは、下記式(A)で示される化合物である。
プラスチックポットに砂壌土を詰め、キュウリ(品種;相模半白)を播種し、温室内で12日間生育させた。本発明化合物(1)、(2)、(5)〜(9)、(11)及び(13)〜(21)の各々を製剤例6に準じてフロアブル製剤とした後、水で希釈し所定濃度(500ppm)にし、上記キュウリ葉面に充分付着するように茎葉散布した。散布後植物を風乾し、キュウリ菌核病菌(Sclerotinia sclerotiorum)の菌糸含有PDA培地をキュウリ葉面上に置いた。接種後18℃、多湿下に4日間置いた後、病斑面積を調査した。その結果、本発明化合物(1)、(2)、(5)〜(9)、(11)及び(13)〜(21)を処理した植物における病斑面積は、無処理の植物における病斑面積の10%以下であった。
また、本発明化合物の代わりにBioorganic & Medicinal Chemistry Letters, 9, p.2583(1999)に記載されたN−(2−メトキシフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド(以下、比較化合物(A)と記す。)を用いて同じ試験を行った。その結果、比較化合物(A)を処理した植物上の病斑面積は無処理区の病斑面積の76%以上であった。
N−(2−メトキシフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミドとは、下記式(A)で示される化合物である。
試験例3
プラスチックポットに砂壌土を詰め、キュウリ(相模半白)を播種し、温室内で12日間生育させた。その後、キュウリ灰色かび病菌(Botrytis cinerea)の胞子含有PDA培地をキュウリ葉面上に接種した後、本発明化合物(1)、(2)、(7)、(8)及び(13)〜(21)の水和剤をそれぞれ水で200ppmの濃度に希釈し、該散布液を前記キュウリの葉面に充分付着するように茎葉散布した。散布後植物を風乾し、12℃、多湿下に2日間置いた後、防除効果を調査した。その結果、本発明化合物(1)、(2)、(7)、(8)及び(13)〜(21)を処理した植物の病斑面積は、それぞれ無処理区の病斑面積の30%以下であった。
また、本発明化合物の代わりに国際公開第2005/033079号パンフレットに記載されたN−(3−フェノキシフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド(以下、比較化合物(B)と記す。)を用いて同じ試験を行った。その結果、比較化合物(B)を処理した植物上の病斑面積は無処理区の病斑面積の50%以上であった。
N−(3−フェノキシフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミドとは、下記式(B)で示される化合物である。
プラスチックポットに砂壌土を詰め、キュウリ(相模半白)を播種し、温室内で12日間生育させた。その後、キュウリ灰色かび病菌(Botrytis cinerea)の胞子含有PDA培地をキュウリ葉面上に接種した後、本発明化合物(1)、(2)、(7)、(8)及び(13)〜(21)の水和剤をそれぞれ水で200ppmの濃度に希釈し、該散布液を前記キュウリの葉面に充分付着するように茎葉散布した。散布後植物を風乾し、12℃、多湿下に2日間置いた後、防除効果を調査した。その結果、本発明化合物(1)、(2)、(7)、(8)及び(13)〜(21)を処理した植物の病斑面積は、それぞれ無処理区の病斑面積の30%以下であった。
また、本発明化合物の代わりに国際公開第2005/033079号パンフレットに記載されたN−(3−フェノキシフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミド(以下、比較化合物(B)と記す。)を用いて同じ試験を行った。その結果、比較化合物(B)を処理した植物上の病斑面積は無処理区の病斑面積の50%以上であった。
N−(3−フェノキシフェニル)メチル−2−[1,5]ナフチリジンカルボキサミドとは、下記式(B)で示される化合物である。
試験例4
プラスチックポットに床土を詰め、イネ(品種;日本晴)を播種し、温室内で12日間育成させた。本発明化合物(1)、(5)〜(7)、(9)、(13)及び(18)を製剤例6に準じてフロアブル製剤とした後、水で希釈し所定濃度(500ppm)にし、上記イネの葉面に充分付着するように茎葉散布した。散布後植物を風乾し、散布した植物の周囲にイネいもち病(Magnaporthe grisea)罹病葉を有するポットを静置した。全てのイネは夜間のみ多湿下におき、接種5日後、病斑面積を調査した。その結果、本発明化合物(1)、(5)〜(7)、(9)、(13)及び(18)を処理した植物における病斑面積は、無処理の植物における病斑面積の10%以下であった。
プラスチックポットに床土を詰め、イネ(品種;日本晴)を播種し、温室内で12日間育成させた。本発明化合物(1)、(5)〜(7)、(9)、(13)及び(18)を製剤例6に準じてフロアブル製剤とした後、水で希釈し所定濃度(500ppm)にし、上記イネの葉面に充分付着するように茎葉散布した。散布後植物を風乾し、散布した植物の周囲にイネいもち病(Magnaporthe grisea)罹病葉を有するポットを静置した。全てのイネは夜間のみ多湿下におき、接種5日後、病斑面積を調査した。その結果、本発明化合物(1)、(5)〜(7)、(9)、(13)及び(18)を処理した植物における病斑面積は、無処理の植物における病斑面積の10%以下であった。
Claims (12)
- R1がフッ素原子である請求項1記載のアミド化合物。
- R1が水素原子である請求項1記載のアミド化合物。
- R2が直鎖C1−C6アルキル基である請求項1〜3いずれか一項記載のアミド化合物。
- R2が直鎖C1−C5アルキル基である請求項1〜3いずれか一項記載のアミド化合物。
- R2がメチル基又はエチル基である請求項1〜3いずれか一項記載のアミド化合物。
- R2がメチル基又はペンチル基である請求項1〜3いずれか一項記載のアミド化合物。
- R2が直鎖(C1−C2アルコキシ)C3−C4アルキル基である請求項1〜3いずれか一項記載のアミド化合物。
- 請求項1〜8いずれか一項記載のアミド化合物と担体とを含有する植物病害防除剤。
- 請求項1〜8いずれか一項記載のアミド化合物の有効量を植物又は土壌に処理する工程を有する植物病害の防除方法。
- 植物病害を防除するための請求項1〜8いずれか一項記載のアミド化合物の使用。
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