JP2007090251A - 薄膜形成方法および形成装置 - Google Patents
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Abstract
本発明は、第1電極層を形成した素子用基板に、必要な箇所に所望する膜厚で均一に、且つ、容易にパターン形成可能な塗布方法および塗布装置を提供することを課題とする。
【解決手段】
第1電極層が予め所定の回路状にパターンが形成された素子用基板に塗布する装置であって、上部には超音波スプレーノズルを備え、前記素子用基板の表面を覆うパターンマスクを備え、かつ、素子用基板、あるいは該素子用基板設置側には電場形機構を設けることにより解決した。
【選択図】図1
Description
ITO薄膜に傷を付けたり、塵付着させると、洗浄工程やリペア工程がないため、不良が発生していた。また、正孔輸送層一層の塗膜を形成するにあたり、塗布工程と除去工程が存在し、生産工程が多く、生産効率に影響を及ぼしていた。
前記提案はいずれも正孔輸送材料の使用量の低減を主目的とした改善である。
例えば、スクリーン印刷法で正孔輸送層を形成すると、スクリーン版の網目が転写され、膜厚が不均一となり、発光が不均一になってしまう不具合があった。
また、インクジェット法は、正孔輸送層のパターン精度の問題はないが、ノズルから吐出する吐出液によるノズルつまりによる問題を解消しなければならなかった。
また、本発明は、第1電極層が予め所定の回路状にパターンが形成された素子用基板に薄膜を形成する装置であって、上部には超音波スプレーノズルを備え、前記素子用基板の表面を覆うパターンマスクを備え、かつ、前記素子用基板、あるいは該素子用基板設置側には電場形成機構を設けたことを特徴とする薄膜形成装置である。
また、超音波受信端子、塗布液注入口、および圧縮ガス注入口を備えた超音波スプレーノズルを装着することで、圧縮ガス注入口より、乾燥圧縮空気や不活性ガスを注入することができ、変質し難い塗布液には乾燥圧縮空気を、変質し易い塗布液には不活性ガスを選択することができる。
なお、圧縮ガス注入口より注入するガスは、乾燥圧縮空気や不活性ガスが挙げられ、変質し難い塗布液には乾燥圧縮空気を、変質し易い塗布液には不活性ガスを選択することができる。
また、霧化された塗布液が偏りなく塗布したい基板上に降るようにガス流量を設定すれば良い。
超音波スプレーノズルの先端で塗布液を良好に霧化するために良好な超音波の波長は、15〜130KHzの範囲であり、塗布液の粘度や分子量等の液性と超音波スプレーノズルの関係に波長を合わせて調整することが望ましい。
ただし、15〜130KHzの波長領域に含まれない波長の場合は、良好な霧化が形成できないこともある。なお、超音波発信器は固定周波数型または周波数可変型の何れを用いても良く、超音波スプレーノズルの特性に最適化されたメーカー推奨の超音波発信器を使用しても良い。
ここで、精密な流量の調整可能な送液ポンプ(以下、精密流量送液ポンプという)を備えることで、前記塗布液を安定供給することが可能となる。
ここで使用できるポンプの形式は、一定速度で一定量の薬液を送ることが目的であって、ピストン、プランジャー、隔膜ポンプなどの往復ポンプ、歯車、仕切板、スクリュー、ロープポンプなどの回転ポンプ、タービン、ボリュートポンプなどの遠心ポンプやシリンジポンプなどが挙げられる。
また、少量の塗布液を脈流無く定量送液する場合は、シリンジポンプが挙げられ、ある程度の量を定量送液する場合は、脈流を少なくするように運転する2台以上のプランジャーポンプを組み合わせたシステムを用いる。
この基板ホルダーとは、素子用基板の大きさにあった金属板等の剛性を有する素材から構成されている。
また、超音波スプレーノズル1台を装着した場合とは異なり、ロボットアームに超音波スプレーノズル数台が、等間隔に搭載され、そのロボットアームが前後に移動して、霧化した塗布液を安定的に所望の厚さの成膜が出来るように噴霧できる。
その際、精密流量送液ポンプの送液流速を5.0mL/分に設定した。
また、乾燥圧縮空気の配管よりレギュレータを介して超音波スプレーノズルに配管した。
その際、レギュレータの圧力を0.01MPaに設定した。超音波スプレーノズルが取り付けてあるロボットアーム6の稼動スピードを200mL/minに設定し、超音波スプレーピッチを30mm、基板から超音波スプレーノズル距離を40mmに設定した。
前記超音波スプレーノズルからの塗布液の霧化が安定した時点で、ロボットアームを、図2に示すような軌道を描くように稼動して正孔輸送材をコーティングした。
そして、前記パターンマスクと素子用基板の全面がコーティングされた後、素子用基板のみをオーブンに入れ、120℃、10分間の乾燥を行った。素子用基板上に膜厚が400±20オングストロームの正孔輸送材層を所望したパターンが得られた。
固形分を0.4%に調整した正孔輸送材溶液を塗布液タンクに入れ、塗布液タンクより精密流量送液ポンプを介して2流体スプレーノズルに配管した。その際、精密流量送液ポンプの送液流速を8.0mL/分に設定した。
また、乾燥圧縮空気の配管よりレギュレータを介して2流体スプレーノズルに配管した。
その際、レギュレータの圧力を2.00MPaに設定した。超音波スプレーノズルが取り付けてあるロボットアームの稼動スピードを200mL/minに設定し、2流体スプレーピッチを25mm、基板から2流体スプレーノズル距離を40mmに設定した。
パターンマスクと基板の全面がコーティングされた後、基板のみをオーブンに入れ、120℃、10分間の乾燥を行った。膜厚が400±70オングストロームの正孔輸送材層を所望したパターンで得た。
スピンコータにて200mm×200mmのITO電極と絶縁膜パターンが形成された基板上に正孔輸送材をコーティングした。スピンコートした基板をオーブンに入れ、120℃、5分間の乾燥を行った。膜厚が400±15オングストロームの正孔輸送材層を得た。形成した正孔輸送材層の不要な部分にレーザを照射、除去し、所望したパターンで得た。
2・・・超音波スプレーノズル
3・・・超音波発信機
4・・・排気ダクト
5・・・塗布液ポンプ
6・・・ロボットアーム
7・・・ホルダー
8・・・素子用基板
9・・・精密流量送液ポンプ
Claims (8)
- 第1電極層が予め所定の回路状にパターンが形成された素子用基板に、表面を覆うパターンマスクを介して、超音波スプレーノズルにより塗布液を霧化して塗布することにより機能性薄膜を形成することを特徴とする薄膜形成方法。
- 前記素子用基板側に電界場を形成することを特徴とする請求項1記載の薄膜形成方法。
- 第1電極層が予め所定の回路状にパターンが形成された素子用基板に塗布する装置であって、上部には超音波スプレーノズルを備え、前記素子用基板の表面を覆うパターンマスクを備え、かつ、前記素子用基板、あるいは該素子用基板設置側には電場形成機構を設けたことを特徴とする薄膜形成装置。
- 前記スプレーノズルは、ノズル本体に超音波発信器が接続されていることを特徴とする請求項3に記載の薄膜形成装置。
- 前記スプレーノズルが、超音波受信端子、塗布液注入口及び圧縮ガス注入口を備えたことを特徴とする請求項3はたは4記載の薄膜形成装置。
- さらに、前記素子用基板より下部に飛散した塗布液や溶剤を回収できるトラップ機構を備えたことを特徴とする請求項3ないし5のいずれかに記載の薄膜形成装置。
- 前記超音波スプレーノズルが、X−Yロボットに搭載されていることを特徴とする請求項3ないし6のいずれかに記載の薄膜形成装置。
- 前記超音波スプレーノズルが、X−Yロボットに複数台が一列に搭載されていることを特徴とする請求項7記載の薄膜形成装置。
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010096747A (ja) * | 2008-09-19 | 2010-04-30 | Nitto Denko Corp | センサ基板およびその製造方法 |
CN105261705A (zh) * | 2015-11-17 | 2016-01-20 | 武汉理工大学 | 一种有机太阳能电池制备方法 |
WO2019000823A1 (zh) * | 2017-06-28 | 2019-01-03 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 涂胶设备 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0561052A (ja) * | 1991-08-30 | 1993-03-12 | Stanley Electric Co Ltd | 液晶表示素子の製造方法 |
JPH10321465A (ja) * | 1997-05-01 | 1998-12-04 | Wilson Greatbatch Ltd | コンデンサーにおいて使用するための超音波コーティングされた基板およびその製法 |
JP2000061367A (ja) * | 1998-08-25 | 2000-02-29 | Showa Alum Corp | 大型材料のための塗装装置及びその塗装方法 |
JP2001297876A (ja) * | 2000-04-12 | 2001-10-26 | Tokki Corp | 有機el表示素子の製造方法および製造装置 |
JP2001345176A (ja) * | 2000-02-28 | 2001-12-14 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 薄膜形成装置およびその薄膜形成方法、及び自発光装置 |
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Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0561052A (ja) * | 1991-08-30 | 1993-03-12 | Stanley Electric Co Ltd | 液晶表示素子の製造方法 |
JPH10321465A (ja) * | 1997-05-01 | 1998-12-04 | Wilson Greatbatch Ltd | コンデンサーにおいて使用するための超音波コーティングされた基板およびその製法 |
JP2000061367A (ja) * | 1998-08-25 | 2000-02-29 | Showa Alum Corp | 大型材料のための塗装装置及びその塗装方法 |
JP2001345176A (ja) * | 2000-02-28 | 2001-12-14 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 薄膜形成装置およびその薄膜形成方法、及び自発光装置 |
JP2001297876A (ja) * | 2000-04-12 | 2001-10-26 | Tokki Corp | 有機el表示素子の製造方法および製造装置 |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010096747A (ja) * | 2008-09-19 | 2010-04-30 | Nitto Denko Corp | センサ基板およびその製造方法 |
US8522428B2 (en) | 2008-09-19 | 2013-09-03 | Nitto Denko Corporation | Method for producing a sensor board |
CN105261705A (zh) * | 2015-11-17 | 2016-01-20 | 武汉理工大学 | 一种有机太阳能电池制备方法 |
CN105261705B (zh) * | 2015-11-17 | 2019-01-25 | 武汉理工大学 | 一种有机太阳能电池制备方法 |
WO2019000823A1 (zh) * | 2017-06-28 | 2019-01-03 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 涂胶设备 |
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Publication number | Publication date |
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