JP2006083889A - Tandem type dry contact shaft seal device - Google Patents
Tandem type dry contact shaft seal device Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006083889A JP2006083889A JP2004266756A JP2004266756A JP2006083889A JP 2006083889 A JP2006083889 A JP 2006083889A JP 2004266756 A JP2004266756 A JP 2004266756A JP 2004266756 A JP2004266756 A JP 2004266756A JP 2006083889 A JP2006083889 A JP 2006083889A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- seal
- region
- sealing ring
- ring
- stationary
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Mechanical Sealing (AREA)
Abstract
Description
本発明は、2組のメカニカルシールが回転軸の軸方向に沿って並列配置されており、ポンプやミキサー等の回転機器に使用されるタンデム型ドライコンタクト軸封装置に関する。 The present invention relates to a tandem dry contact shaft seal device in which two sets of mechanical seals are arranged in parallel along the axial direction of a rotation shaft, and used for a rotary device such as a pump or a mixer.
従来より、揮発性の液体を扱う産業用プロセスポンプやミキサー等の回転機器の軸封装置として、2組のメカニカルシールが前記回転機器の回転軸の軸方向に沿って並列配置されたタンデム型軸封装置が用いられている。このような軸封装置では、プロセス液が気化することにより発生した気体が大気側に漏れるのを抑制するために、例えば両メカニカルシール間に画成された軸封空間に潤滑油等のサーキュレーション液を充填し、このサーキュレーション液を、大気側のメカニカルシールに設けられたパーシャルインペラによって、軸封装置の外周に配設されたリザーバタンクとの間で強制循環させることが行われている(例えば、特許文献1参照)。
しかしながら、サーキュレーション液を強制循環させる方式では、リザーバタンクを別途設ける必要があり、そのためのスペースを要するのでシステムのコンパクト化を図ることができず、またコストアップの要因となっていた。さらに、良好なシール効果を得るためには、サーキュレーション液の品質劣化等を常時管理する必要があり、また、使用済のサーキュレーション液を処分しなければならず、手間がかかっていた。
Conventionally, as a shaft seal device for rotating equipment such as industrial process pumps and mixers that handle volatile liquids, two sets of mechanical seals are arranged in parallel along the axial direction of the rotating shaft of the rotating equipment. A sealing device is used. In such a shaft seal device, in order to prevent the gas generated by the vaporization of the process liquid from leaking to the atmosphere side, for example, in the shaft seal space defined between the two mechanical seals, circulation of lubricating oil or the like is performed. The liquid is filled, and this circulation liquid is forcibly circulated between a reservoir tank provided on the outer periphery of the shaft seal device by a partial impeller provided on a mechanical seal on the atmosphere side ( For example, see Patent Document 1).
However, in the method of forcibly circulating the circulation liquid, it is necessary to separately provide a reservoir tank, and a space for that is required, so that the system cannot be made compact and the cost is increased. Furthermore, in order to obtain a good sealing effect, it is necessary to always manage the deterioration of the quality of the circulation liquid, and the used circulation liquid must be disposed of, which is troublesome.
そこで、このようなサーキュレーション液循環方式における問題点を解決するために、二次側(大気側)にドライコンタクトシールを配置したタンデム型軸封装置が提案されている。この軸封装置では、図3に示されるように、回転機器の回転軸50の廻りに配設された軸封部ケーシング51に形成された供給路52を介してパージガスが二次側シール53の外周の領域Fに供給される。このパージガスは、前記軸封ケーシング51の内周面に形成された環状凸部55の先端面55aと、二次側シール53の回転密封環60が固定されるスリーブ50aの環状鍔部62の外周面62aとの間の狭路56を通って回転密封環60の背部の領域Gに至り、ついで軸封ケーシング51に形成された排出路58を通って装置外に排出される。その際、前記狭路56を高速で通過するパージガスの流れによって、プロセス液が気化することにより発生した気体が大気側領域Hに漏れるのを抑制している。
Therefore, in order to solve such problems in the circulation liquid circulation system, a tandem shaft seal device in which a dry contact seal is arranged on the secondary side (atmosphere side) has been proposed. In this shaft seal device, as shown in FIG. 3, the purge gas passes through the
しかしながら、パージガスの供給口は1箇所であるため、前記二次側シール53の外周全体において均一なガスの流れを作ることは困難であり、そのため前記回転密封環60の密封端面と静止密封環59の密封端面とで形成されるシール面から、前記気化した気体とパージガスとの混合ガスが大気側領域Hに漏れる惧れがある。プロセス液が気化した気体の中には、有害なものがあり、かかる気体の大気中への漏れは好ましくない。
However, since there is only one purge gas supply port, it is difficult to create a uniform gas flow over the entire outer periphery of the
本発明は、このような従来技術の有する問題点を解消するためになされたものであり、プロセス液が気化した気体の大気中への漏れを抑制することができるタンデム型ドライコンタクト軸封装置を提供することを目的としている。 The present invention has been made to solve such problems of the prior art, and a tandem dry contact shaft seal device capable of suppressing leakage of gas, which is vaporized process liquid, into the atmosphere. It is intended to provide.
本発明のタンデム型ドライコンタクト軸封装置は、回転機器の機内領域と機外領域とを区画する軸封部ケーシングと、この軸封部ケーシングを洞貫する回転軸との間に、当該回転軸の軸線方向に並列する、機内側の第1メカニカルシール及び機外側の第2メカニカルシールが配置されているタンデム型ドライコンタクト軸封装置であって、
前記第1及び第2メカニカルシールは、それぞれ、前記回転軸に設けられた回転密封環と、前記軸封部ケーシングに設けられた静止密封環と、一方の密封環を他方の密封環へと押圧付勢するスプリングとを備えており、
前記第2メカニカルシールの静止密封環の背部には、当該静止密封環の背面にパージガスを供給する複数の供給ポートが周方向に所定間隔で配設されており、
前記第2メカニカルシールの静止密封環は、この静止密封環の背部領域と、当該静止密封環の密封端面に形成された環状凹溝とを連通する連通路を有しており、且つ
前記パージガスが供給される第2メカニカルシールの静止密封環の背部領域と、当該第2メカニカルシールの静止密封環の密封端面の外周外方領域とを連通する流路に第1絞り部が形成されていることを特徴としている。
The tandem dry contact shaft sealing device of the present invention includes a rotating shaft between a shaft sealing casing that divides an in-machine region and an out-of-machine region of a rotating device, and a rotating shaft that penetrates the shaft sealing portion casing. A tandem dry contact shaft seal device in which a first mechanical seal inside the machine and a second mechanical seal outside the machine are arranged in parallel in the axial direction of
The first mechanical seal and the second mechanical seal respectively press a rotary seal ring provided on the rotary shaft, a stationary seal ring provided on the shaft seal casing, and one seal ring to the other seal ring. With a spring to bias,
On the back of the stationary seal ring of the second mechanical seal, a plurality of supply ports for supplying purge gas to the back surface of the stationary seal ring are arranged at predetermined intervals in the circumferential direction.
The stationary sealing ring of the second mechanical seal has a communication path that communicates the back region of the stationary sealing ring and an annular groove formed in the sealing end surface of the stationary sealing ring, and the purge gas is The first throttle portion is formed in a flow path that communicates the back region of the stationary seal ring of the second mechanical seal to be supplied and the outer peripheral region of the sealing end surface of the stationary seal ring of the second mechanical seal. It is characterized by.
本発明のタンデム型ドライコンタクト軸封装置は、第2メカニカルシールの静止密封環の背部において周方向に所定間隔で配設された複数の供給ポートから当該静止密封環の背部領域にパージガスが供給されるので、第2メカニカルシールの外周全体において均一なガスの流れを作ることができる。そして、このガスは第1絞り部を通って第2メカニカルシールの静止密封環の密封端面の外周外方領域へと流れるが、第1絞り部を通ることで圧力損失が発生するため、前記静止密封環の密封端面の外周外方領域におけるパージガスの圧力は当該静止密封環の背部領域におけるパージガスの圧力よりも小さくなる。また、第2メカニカルシールの静止密封環には、この静止密封環の背部領域と、当該静止密封環の密封端面に形成された環状凹溝とを連通する連通路が形成されており、しかも前記環状凹溝からのガスの漏れは僅かであるので当該連通路内のガスの流れはほとんどなく、そのため静止密封環の背部領域におけるパージガスの圧力と、前記環状凹溝内のパージガスの圧力は略等しくなる。その結果、この環状凹溝内の圧力を、静止密封環の密封端面の外周外方領域の圧力よりも大きく保つことができ、プロセス液が気化した気体とパージガスとの混合ガスが前記環状凹溝内に、すなわち第2メカニカルシールのシール面に浸入して大気領域へ漏れるのを抑制することができる。 In the tandem dry contact shaft seal device of the present invention, purge gas is supplied to the back region of the stationary seal ring from a plurality of supply ports arranged at predetermined intervals in the circumferential direction at the back portion of the stationary seal ring of the second mechanical seal. Thus, a uniform gas flow can be created over the entire outer periphery of the second mechanical seal. This gas flows through the first throttle part to the outer peripheral outer region of the sealing end face of the stationary seal ring of the second mechanical seal, but pressure loss is generated by passing through the first throttle part. The purge gas pressure in the outer peripheral region of the sealing end face of the sealing ring is smaller than the purge gas pressure in the back region of the stationary sealing ring. Further, the stationary sealing ring of the second mechanical seal is formed with a communication path that communicates the back region of the stationary sealing ring and the annular concave groove formed on the sealing end surface of the stationary sealing ring, and Since there is little gas leakage from the annular groove, there is almost no gas flow in the communication path, so that the pressure of the purge gas in the back region of the stationary seal ring and the pressure of the purge gas in the annular groove are substantially equal. Become. As a result, the pressure in the annular groove can be kept larger than the pressure in the outer peripheral region of the sealing end face of the stationary seal ring, and the mixed gas of the gas vaporized from the process liquid and the purge gas is the annular groove. It is possible to suppress intrusion into the inside, that is, the seal surface of the second mechanical seal and leak into the atmosphere region.
前記第2メカニカルシールの静止密封環の密封端面の外周外方領域と、当該第2メカニカルシールの回転密封環の背部領域であって前記パージガスの排出口が開口している領域とを連通する流路に第2絞り部が形成されているのが好ましい。この第2絞り部を通るパージガスの流れによって、プロセス液が気化することにより発生した気体が、静止密封環の密封端面の外周外方領域に漏れるのを抑制することができる。 A flow that communicates between the outer peripheral outer region of the sealing end surface of the stationary sealing ring of the second mechanical seal and the region that is the back region of the rotary sealing ring of the second mechanical seal and that is open to the purge gas discharge port. It is preferable that a second throttle portion is formed in the path. The flow of the purge gas passing through the second throttle portion can suppress the gas generated by the vaporization of the process liquid from leaking to the outer peripheral area of the sealing end face of the stationary sealing ring.
また、前記パージガスの供給路が前記軸封部ケーシングに形成されており、この供給路に連通するように環状のガスヘッダーが当該軸封部ケーシングの内周部に設けられており、且つ、前記ガスヘッダーが、前記供給路に連通して接続される広路と、この広路と連通しており、当該広路よりも前記回転軸を基準とした半径方向の寸法が小さい狭路とで構成されているのが好ましい。このように広路と狭路とからなるガスヘッダーを設けると、供給路からガスヘッダーの広路に供給されたパージガスは、広路のほうが狭路よりも圧力損失が小さいので、その多くが前記広路を周方向に流れる。その結果、ガスヘッダーの全周に均等にパージガスを供給することができる。 The purge gas supply path is formed in the shaft seal casing, and an annular gas header is provided in the inner periphery of the shaft seal casing so as to communicate with the supply path. A gas header is configured by a wide path connected to the supply path and a narrow path that is in communication with the wide path and has a smaller radial dimension with respect to the rotation axis than the wide path. Is preferred. When a gas header composed of a wide path and a narrow path is provided in this way, the purge gas supplied from the supply path to the wide path of the gas header has a smaller pressure loss in the wide path than in the narrow path. Flow in the direction. As a result, the purge gas can be evenly supplied to the entire circumference of the gas header.
さらに、前記環状のガスヘッダーが、前記軸封部ケーシングの内周面に形成された環状の深溝と、この深溝と並設された環状の浅溝と、両溝を覆うように前記軸封部ケーシングの内周面に当接して固定された短円筒体とで形成されており、且つ、前記短円筒体における、前記浅溝を覆う部分にパージガスを供給する複数の供給ポートが形成されているのが好ましい。このようにして、軸封部ケーシングに形成した溝とこの溝を覆う短円筒体とでガスヘッダーを構成することで、部品数を減らして構造を簡略化することができる。 Further, the annular gas header covers the annular seal groove so as to cover the annular deep groove formed on the inner peripheral surface of the shaft seal casing, the annular shallow groove arranged in parallel with the deep groove, and both grooves. And a plurality of supply ports for supplying purge gas to a portion of the short cylinder that covers the shallow groove. Is preferred. In this way, by forming the gas header with the groove formed in the shaft seal casing and the short cylindrical body covering the groove, the number of parts can be reduced and the structure can be simplified.
本発明のタンデム型ドライコンタクト軸封装置は、第2メカニカルシールの静止密封環の密封端面に形成された環状凹溝内におけるパージガスの圧力を、静止密封環の密封端面の外周外方領域におけるパージガスの圧力よりも大きく保つことができるので、プロセス液が気化した気体とパージガスとの混合ガスが前記環状凹溝内に、すなわち第2メカニカルシールのシール面に浸入して大気側へ漏れるのを抑制することができる。 The tandem dry contact shaft seal device according to the present invention is configured so that the pressure of the purge gas in the annular groove formed in the sealing end surface of the stationary sealing ring of the second mechanical seal is changed to the purge gas in the outer peripheral region of the sealing end surface of the stationary sealing ring. Therefore, it is possible to prevent the gas mixture of the process liquid and purge gas from entering the annular groove, that is, entering the sealing surface of the second mechanical seal and leaking to the atmosphere side. can do.
以下、添付図面に基づいて、本発明のタンデム型ドライコンタクト軸封装置の実施の形態を詳細に説明する。
図1は、本発明の一実施の形態に係るタンデム型ドライコンタクト軸封装置T(以下、単に軸封装置ともいう)の断面説明図である。この軸封装置Tは、ポンプやミキサー等の回転機器の機内領域と機外領域とを区画する軸封部ケーシング1と、この軸封部ケーシング1を洞貫する回転軸2との間に、当該回転軸2の軸線方向に並列する、機内側の第1メカニカルシール3及び機外側の第2メカニカルシール4が配置されているタンデム型ドライコンタクト軸封装置である。なお、図1において、左が機外側、右が機内側である。
Embodiments of a tandem dry contact shaft sealing device according to the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings.
FIG. 1 is a cross-sectional explanatory view of a tandem dry contact shaft seal device T (hereinafter also simply referred to as a shaft seal device) according to an embodiment of the present invention. The shaft seal device T is provided between a
機内側の第1メカニカルシール3は、回転軸2のスリーブ2aにOリング5でシールした状態でホロセットボルト8により固定されたリテーナ35に、Oリング6でシールし
た状態で軸線方向摺動可能に且つ相対回転不能に保持された回転密封環7と、前記軸封部ケーシング1にOリング9でシールした状態でピン10により固定された静止密封環11と、前記回転密封環7を静止密封環11へと押圧付勢するスプリング12とを備えている。この第1メカニカルシール3では、両密封環7、11の対向端面である密封端面7a、11aの相対回転摺接作用により、被密封流体領域Aと、後述するパージガスの排出領域Bとをシール(一次シール)している。なお、静止密封環11はセラミックスや超硬合金等の硬質材で作製され、一方、回転密封環7は静止密封環11より比較的軟質の材料、例えばカーボン等で作製されている。
The first
二次シールとして機能する機外側の第2メカニカルシール4は、前記第1メカニカルシール3の前方位置(機外側)に配置されており、当該第1メカニカルシール3と同様に、回転軸2のスリーブ2aにOリング13でシールした状態でピン14により固定された回転密封環15と、前記軸封部ケーシング1にOリング16でシールした状態で軸線方向摺動可能に且つ相対回転不能に固定された静止密封環17と、この静止密封環17を前記回転密封環15へと押圧付勢するスプリング18とを備えている。この第2メカニカルシール4では、両密封環15、17の対向端面である密封端面15a、17aの相対回転摺接作用により、パージガスの排出領域Bと、大気領域Cとをシール(二次シール)している。なお、回転密封環15はセラミックスや超硬合金等の硬質材で作製され、一方、静止密封環17は回転密封環15より比較的軟質の材料、例えばカーボン等で作製されている。
A second
前記第2メカニカルシール4の静止密封環17の密封端面17aには環状凹溝30が形成されており、また当該静止密封環17には、この静止密封環17の背部領域Dと前記環状凹溝30とを連通する連通路31が形成されている。この連通路31の数は、本発明において特に限定されるものではないが、通常、3〜16本程度である。
An
前記軸封部ケーシング1には、第2メカニカルシール4の静止密封環17の背部領域Dにパージガスを供給する供給路19、及びパージガスの排出領域Bからパージガスを排出する排出路20が形成されている。パージガスとしては、被密封流体領域A又は大気領域Cに漏洩しても支障のないガスが使用されるが、通常、被密封流体と不活性であり且つ無害な窒素ガスが使用される。
The shaft
前記供給路19は、軸封部ケーシング1の内周部に形成された環状のガスヘッダー21に開口しており、このガスヘッダー21によりパージガスを第2メカニカルシール4の静止密封環17の外周全体に均一に行き渡らせることができる。前記ガスヘッダー21は、パージガスの供給路19が連通して開口する広路21aと、この広路21aよりも半径方向(回転軸2を基準として半径方向のことであり、図1〜2においては上下方向である)の寸法が小さい狭路21bとで構成されており、前記広路21aと狭路21bは互いに連通するように回転軸2の軸方向に沿って並設されている。本実施の形態では、前記広路21a及び狭路21bは、軸封部ケーシング1の内周面1aに形成された環状の深溝と、この深溝と並設された環状の浅溝と、両溝を覆うように前記軸封部ケーシング1の内周面1aに当接して固定された短円筒体24とで形成されている。前記狭路21bは広路21aよりも半径方向の寸法が小さいので、パージガスが通過する際の抵抗、すなわち圧力損失は広路21aを通過する際のものよりも大きくなる。したがって、供給路19から広路21aに供給されたパージガスは、その多くが圧力損失の小さい広路21aを周方向に流れようとし、その結果、環状のガスヘッダー21の全周において均等にパージガスを供給することができる。
The
パージガスは、前記短円筒体24において、前記浅溝を覆う部分に形成された複数の供給ポート22から静止密封環17の背部の領域Dに供給される。この供給ポート22は、短円筒体24の周方向に沿って所定間隔で配列されており、その形状は、本発明において特に限定されるものではなく、丸孔、長孔、矩形の孔等適宜の形状を採用することができる。また、図1〜2に示される実施の形態のように、短円筒体24の縁部に半円形や矩形の切欠を形成し、この切欠を供給ポート22とすることもできる。図1〜2に示される実施の形態では、短円筒体24の縁部を第2メカニカルシール4の静止密封環17のリテーナ34に当接させて、前記切欠とリテーナ34の表面とで供給ポート22を構成している。
The purge gas is supplied from the plurality of
供給ポート22は、短円筒体24の周方向において等ピッチで配置してもよいが、パージガスの供給路19から離れるにしたがい徐々にピッチを小さくすると、さらに均等にパージガスを静止密封環17の背部の領域Dに供給することができる。さらに、等しいピッチで供給ポート22を配置する場合、当該供給ポート22の大きさをすべて同一にしてもよいが、パージガスの供給路19から離れるにしたがい徐々にサイズを大きくすると、より均等にパージガスを静止密封環17の背部の領域Dに供給することができる。なお、供給ポート22のピッチとサイズは、両方とも変化させるようにしてもよい。
The
静止密封環17の背部の領域Dと、当該静止密封環7の密封端面17aの外周外方領域Eとを連通する流路には、第1絞り部23が形成されている。本実施の形態では、この第1絞り部23は、静止密封環17の外周面17bと、軸封部ケーシング1の内周面に当接して固定された前記短円筒体24の内周面24aとで構成されている。前記外周面17bと内周面24a間の距離、すなわち第1絞り部23の幅(図1〜2において上下方向の寸法)は、パージガスの流れの円滑性や後述する圧力損失の効果等を考慮して選定され、本発明において特に限定されるものではないが、通常、250〜25μm(内周面24aと外周面17bの直径の差で表すと500〜50μm)程度である。
A first restricting
複数の供給ポート22から静止密封環17の背部領域Dに供給されたパージガスは、前記第1絞り部23を通って静止密封環7の密封端面17aの外周外方領域Eへと流れるが、狭い第1絞り部23を通過する間に圧力損失が発生するため、領域Eにおけるパージガスの圧力PEは、領域Dにおけるパージガスの圧力PDよりも小さくなる。すなわち、PE<PDの関係が成立する。また、前記環状凹溝30から両密封端面15a、17a間の隙間を経由して周辺領域に漏れるパージガスの量は僅かであるので、前記連通路31内のパージガスの流れはほとんどなく、そのため静止密封環17の背部領域Dにおけるパージガスの圧力PDと、前記環状凹溝31内のパージガスの圧力Pは略等しくなる。すなわち、PD=Pの関係が成立する。その結果、この環状凹溝31内のパージガスの圧力Pを、静止密封環17の密封端面17aの外周外方領域Eの圧力PEよりも大きく保つことができ(PE<P)、たとえプロセス液が気化した気体が領域Eに流れ込んだとしても、かかる気体とパージガスとの混合ガスが前記環状凹溝31内に、すなわち第2メカニカルシール4のシール面に浸入して大気領域Cへ漏れるのを抑制することができる。
The purge gas supplied from the plurality of
本実施の形態では、前記第2メカニカルシール4の静止密封環17の密封端面17aの外周外方領域Eと、当該第2メカニカルシール4の回転密封環17の背部領域であって前記パージガスの排出口20aが開口している領域、すなわちパージガスの排出領域Bとを連通する流路に第2絞り部25が形成されている。この第2絞り部25は、回転密封環15が固定されるスリーブ2aの環状鍔部32の外周面32aと、軸封部ケーシング1の内周面に突出形成された環状リブ33の内周面33aとで構成されている。この第2絞り部25を通ることでパージガスに圧力損失が発生するため、前記第2メカニカルシール4の静止密封環17の密封端面17aの外周外方領域Eにおけるパージガスの圧力PEよりも排出領域Bにおけるパージガスの圧力PBが小さくなる(PB<PE)。この差圧とパージガスの流れによって、プロセス液が気化することにより発生した気体が、静止密封環17の密封端面17aの外周外方領域Eに漏れるのを抑制することができる。
In the present embodiment, the outer peripheral outer region E of the sealing
なお、前述した実施の形態では、溝と短円筒体を用いてパージガスを周方向に供給しているが、これ以外に、例えば前記供給路19に連通して接続された環状のダクト(このダクトの内周面には複数の供給ポートが形成されている)を用いることもできる。 In the above-described embodiment, the purge gas is supplied in the circumferential direction using the groove and the short cylindrical body. However, in addition to this, for example, an annular duct connected in communication with the supply path 19 (this duct) A plurality of supply ports are formed on the inner peripheral surface of the same.
1軸封部ケーシング
2回転軸
3第1メカニカルシール
4第2メカニカルシール
7回転密封環(第1メカニカルシール)
11静止密封環(第1メカニカルシール)
12スプリング(第1メカニカルシール)
15回転密封環(第2メカニカルシール)
17静止密封環(第2メカニカルシール)
18スプリング(第2メカニカルシール)
22供給ポート
23第1絞り部
25第2絞り部
A被密封流体領域
Bパージガスの排出領域
C大気領域
1-
11 stationary seal ring (first mechanical seal)
12 spring (first mechanical seal)
15 rotation seal ring (second mechanical seal)
17 stationary seal ring (second mechanical seal)
18 spring (second mechanical seal)
22
Claims (4)
前記第1及び第2メカニカルシールは、それぞれ、前記回転軸に設けられた回転密封環と、前記軸封部ケーシングに設けられた静止密封環と、一方の密封環を他方の密封環へと押圧付勢するスプリングとを備えており、
前記第2メカニカルシールの静止密封環の背部には、当該静止密封環の背面にパージガスを供給する複数の供給ポートが周方向に所定間隔で配設されており、
前記第2メカニカルシールの静止密封環は、この静止密封環の背部領域と、当該静止密封環の密封端面に形成された環状凹溝とを連通する連通路を有しており、且つ
前記パージガスが供給される第2メカニカルシールの静止密封環の背部領域と、当該第2メカニカルシールの静止密封環の密封端面の外周外方領域とを連通する流路に第1絞り部が形成されていることを特徴とするタンデム型ドライコンタクト軸封装置。 A first on the inside of the machine, which is parallel to the axial direction of the rotary shaft, between a shaft seal casing that divides the in-machine region and the outside region of the rotary device and a rotary shaft that penetrates the shaft seal casing. A tandem dry contact shaft seal device in which a mechanical seal and a second mechanical seal outside the machine are arranged,
The first mechanical seal and the second mechanical seal respectively press a rotary seal ring provided on the rotary shaft, a stationary seal ring provided on the shaft seal casing, and one seal ring to the other seal ring. With a spring to bias,
A plurality of supply ports for supplying purge gas to the back surface of the stationary sealing ring are arranged at predetermined intervals in the circumferential direction on the back of the stationary sealing ring of the second mechanical seal.
The stationary sealing ring of the second mechanical seal has a communication path that communicates the back region of the stationary sealing ring and an annular groove formed in the sealing end surface of the stationary sealing ring, and the purge gas is The first throttle portion is formed in a flow path that communicates the back region of the stationary seal ring of the second mechanical seal to be supplied and the outer peripheral region of the sealing end surface of the stationary seal ring of the second mechanical seal. A tandem type dry contact shaft seal device.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004266756A JP4000324B2 (en) | 2004-09-14 | 2004-09-14 | Tandem dry contact shaft seal device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004266756A JP4000324B2 (en) | 2004-09-14 | 2004-09-14 | Tandem dry contact shaft seal device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006083889A true JP2006083889A (en) | 2006-03-30 |
JP4000324B2 JP4000324B2 (en) | 2007-10-31 |
Family
ID=36162570
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004266756A Active JP4000324B2 (en) | 2004-09-14 | 2004-09-14 | Tandem dry contact shaft seal device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4000324B2 (en) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2009066664A1 (en) | 2007-11-20 | 2009-05-28 | Eagle Industry Co., Ltd. | Mechanical seal and tandem seal |
EP2169282A1 (en) * | 2008-09-25 | 2010-03-31 | Siemens Aktiengesellschaft | Assembly with a shaft seal |
JP2010209937A (en) * | 2009-03-06 | 2010-09-24 | Nippon Pillar Packing Co Ltd | Contact type mechanical seal |
WO2011135016A1 (en) * | 2010-04-30 | 2011-11-03 | Siemens Aktiengesellschaft | Assembly comprising a shaft seal |
DE102014218937A1 (en) | 2014-09-19 | 2016-03-24 | Siemens Aktiengesellschaft | Shaft seal, method of operation |
CN107747630A (en) * | 2017-09-27 | 2018-03-02 | 当涂县金龙机械有限公司 | A kind of squeezer bearing shell sealing structure |
JP2021081021A (en) * | 2019-11-21 | 2021-05-27 | 日本ピラー工業株式会社 | Shaft sealing device |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN105757256A (en) * | 2016-04-26 | 2016-07-13 | 成都通密封股份有限公司 | Dry-gas sealing device for can-type three-in-one equipment |
-
2004
- 2004-09-14 JP JP2004266756A patent/JP4000324B2/en active Active
Cited By (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5372772B2 (en) * | 2007-11-20 | 2013-12-18 | イーグル工業株式会社 | Tandem seal |
WO2009066664A1 (en) | 2007-11-20 | 2009-05-28 | Eagle Industry Co., Ltd. | Mechanical seal and tandem seal |
US20100270749A1 (en) * | 2007-11-20 | 2010-10-28 | Eagle Industry Co., Ltd. | Mechanical seal device and tandem seal device |
US8585060B2 (en) | 2007-11-20 | 2013-11-19 | Eagle Industry Co., Ltd. | Tandem seal device |
EP2169282A1 (en) * | 2008-09-25 | 2010-03-31 | Siemens Aktiengesellschaft | Assembly with a shaft seal |
WO2010034605A1 (en) * | 2008-09-25 | 2010-04-01 | Siemens Aktiengesellschaft | Arrangement comprising a shaft seal |
WO2010034601A1 (en) | 2008-09-25 | 2010-04-01 | Siemens Aktiengesellschaft | Arrangement comprising a shaft seal |
US8714907B2 (en) | 2008-09-25 | 2014-05-06 | Siemens Aktiengesellschaft | Arrangement comprising a shaft seal |
US8647052B2 (en) | 2008-09-25 | 2014-02-11 | Siemens Aktiengesellschaft | Arrangement comprising a shaft seal |
JP2010209937A (en) * | 2009-03-06 | 2010-09-24 | Nippon Pillar Packing Co Ltd | Contact type mechanical seal |
CN102869907A (en) * | 2010-04-30 | 2013-01-09 | 西门子公司 | Assembly comprising a shaft seal |
WO2011135016A1 (en) * | 2010-04-30 | 2011-11-03 | Siemens Aktiengesellschaft | Assembly comprising a shaft seal |
RU2560971C2 (en) * | 2010-04-30 | 2015-08-20 | Сименс Акциенгезелльшафт | System including shaft seal |
US9341077B2 (en) | 2010-04-30 | 2016-05-17 | Siemens Aktiengesellschaft | Assembly comprising a shaft seal |
DE102014218937A1 (en) | 2014-09-19 | 2016-03-24 | Siemens Aktiengesellschaft | Shaft seal, method of operation |
CN107747630A (en) * | 2017-09-27 | 2018-03-02 | 当涂县金龙机械有限公司 | A kind of squeezer bearing shell sealing structure |
JP2021081021A (en) * | 2019-11-21 | 2021-05-27 | 日本ピラー工業株式会社 | Shaft sealing device |
JP7291064B2 (en) | 2019-11-21 | 2023-06-14 | 日本ピラー工業株式会社 | Shaft seal device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4000324B2 (en) | 2007-10-31 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6494460B2 (en) | Rotary barrier face seal | |
JP7214722B2 (en) | Seal ring | |
CN112088266B (en) | Sealing ring | |
JP5367423B2 (en) | Sealing device | |
CN111033066B (en) | Sliding component | |
JP4763920B2 (en) | Multistage shaft seal device | |
CN112334690B (en) | Sliding assembly | |
KR940007405A (en) | Seal array spiral seal system and how to seal against leaks in processing fluid | |
EP2233802B1 (en) | Shaft-seal device for a high-speed rotation apparatus | |
JPWO2009066664A1 (en) | Mechanical seal and tandem seal | |
GB2216964A (en) | Rotating shaft seal | |
JP4000324B2 (en) | Tandem dry contact shaft seal device | |
US6761359B2 (en) | Spacing element for centering components in a mechanical seal and for promoting circulation of a seal fluid therein | |
JP4001594B2 (en) | Tandem dry contact shaft seal device | |
JP2003074712A (en) | Mechanical seal device | |
JP6863857B2 (en) | Shaft sealing device | |
JP2903459B2 (en) | Shaft sealing device for pump | |
JP3008013B2 (en) | Shaft sealing device for fluid equipment | |
JP2003227570A (en) | Shaft sealing device | |
US5368313A (en) | Bushing for trapped bushing seal | |
JP6002537B2 (en) | Shaft seal device | |
JP2001074225A (en) | Regenerative treating device | |
JP2001140888A (en) | Bearing device and turbocharger provided therewith | |
JP2005249007A (en) | Rotary joint | |
JP2023135955A (en) | mechanical seal |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20070628 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20070724 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20070813 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 4000324 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100817 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100817 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110817 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110817 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120817 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120817 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130817 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140817 Year of fee payment: 7 |