JP2005026192A - 荷電粒子ビーム装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 画像データから抽出した2つの輝度値と、その画像データを得たときの検出器パラメーター値及びバイアス値の値から、検出器11の特性を反映した検出器パラメーター推定式と普遍的なバイアス推定式によって検出器パラメーターの適正値とバイアス適正値を算出し、自動的にそれらを検出器パラメータ調整電源14とバイアス調整電源15の新たな設定値とする。
【選択図】 図1
Description
Pn=P−Ap・(p-po) (1a)
Bn=B−Ab・(b-bo) (1b)
i=α・I・f(P)+β・B (2)
p=α・Ip・f(P)+β・B (3a)
b=α・Ib・f(P)+β・B (3b)
Ip=(p-β・B)/[α・f(P)] (4a)
Ib=(b-β・B)/[α・f(P)] (4b)
po=(p-β・B)[f(Po)/f(P)]+β・B (5a)
bo=(b-β・B)[f(Po)/f(P)]+β・B (5b)
Po=φ[[(po-bo)/(p-b)]f(P)] (6a)
Bo=[(po-bo)/(p-b)]B+(p・bo-po・b)/[β(p-b)] (6b)
m=<I>・α・f(P)+β・B (7a)
s=σ[I]・α・f(P) (7b)
<I>=(m−β・B)/[α・f(P)] (8a)
σ[I]=s/[α・f(P)] (8b)
mo=(m-β・B)[f(Po)/f(P)]+β・Bo (9a)
so=s[f(Po)/f(P)] (9b)
Po=φ[(so/s)f(P)] (10a)
Bo=(so/s)B+(mo・s-m・so)/(β・s) (10b)
従って、輝度平均と輝度標準偏差を基準値mo、soに調整する調整手法を採用する場合には、これらの式を(6a)及び(6b)の代わりに適用すればよい。
Claims (9)
- 荷電粒子ビームを試料上に走査する手段と、
荷電粒子ビーム照射によって試料から発生する電子を検出する検出器と、
前記検出器の入出力比に影響を与えるパラメーターPを制御する手段と、
前記検出器の出力値とバイアス値Bを線形結合した値を輝度データとして明暗画像データ化する手段と、
画像全体もしくはその一部の輝度データから、輝度の最大値もしくはその近傍の数値である第1の輝度値pと、最小値もしくはその近傍の数値である第2の輝度値bを抽出する手段と、
poを予め設定されている第1の輝度値の基準値、boを予め設定されている第2の輝度値の基準値、f(x)とφ[x]を互いに逆関数の関係にある関数、βを定数とするとき、現在の前記パラメーター値P及び前記バイアス値Bを次式を満たす新たな設定値Po及びBoに設定し直すブライトネス・コントラスト調整部とを備えることを特徴とする荷電粒子ビーム装置。
Po=φ[[(po-bo)/(p-b)]f(P)]
Bo=[(po-bo)/(p-b)]B+(p・bo-po・b)/[β(p-b)] - 荷電粒子ビームを試料上に走査する手段と、
荷電粒子ビーム照射によって試料から発生する電子を検出する検出器と、
前記検出器の入出力比に影響を与えるパラメーターPを制御する手段と、
前記検出器の出力値とバイアス値Bを線形結合した値を輝度データとして明暗画像データ化する手段と、
画像全体もしくはその一部の輝度データから、輝度平均値mと、輝度の標準偏差あるいはその定数倍にあたる輝度偏差値sを抽出する手段と、
moを予め設定されている輝度平均基準値、soを予め設定されている輝度偏差基準値、f(x)とφ[x]を互いに逆関数の関係にある関数、βを定数とするとき、現在の前記パラメーター値P及び前記バイアス値Bを次式を満たす新たな設定値Po及びBoに設定し直すブライトネス・コントラスト調整部とを備えることを特徴とする荷電粒子ビーム装置。
Po=φ[(so/s)f(P)]
Bo=(so/s)B+(mo・s-m・so)/(β・s) - 請求項1又は2記載の荷電粒子ビーム装置において、前記ブライトネス・コントラスト調整部は、前記パラメーター値及び前記バイアス値をそれぞれ1回変更することで、コントラストとブライトネスの調整を完了することを特徴とする荷電粒子ビーム装置。
- 前記請求項1又は2記載の荷電粒子ビーム装置において、前記検出器はシンチレーターと光電子増倍管を備え、前記パラメーターとして光電子増倍管電圧値を用いることを特徴とする荷電粒子ビーム装置。
- 請求項1又は2記載の荷電粒子ビーム装置において、前記ブライトネス・コントラスト調整部は、前記パラメーター値及び前記バイアス値を一定時間間隔で繰り返し設定し直すことを特徴とする荷電粒子ビーム装置。
- 請求項1記載の荷電粒子ビーム装置において、前記ブライトネス・コントラスト調整部は、ユーザーが特定の操作をしたときに、前記パラメーター値及び前記バイアス値を設定し直す動作を、前記第1の輝度値pと前記第1基準値poの差、及び前記第2の輝度値bと前記第2基準値boの差が、規定の値以下になるまで反復し、その後、ユーザーが再び前記操作をするまで、設定された前記パラメーター値及び前記バイアス値を保持することを特徴とする荷電粒子ビーム装置。
- 請求項2記載の荷電粒子ビーム装置において、前記ブライトネス・コントラスト調整部は、ユーザーが特定の操作をしたときに、前記パラメーター値及び前記バイアス値を設定し直す動作を、前記輝度平均値mと前記輝度平均基準値moの差、及び前記輝度偏差値sと前記輝度偏差基準値soの差が、それぞれの規定の値以下になるまで反復し、その後、ユーザーが再び前記操作をするまで、設定されたパラメーター値及び前記バイアス値を保持することを特徴とする荷電粒子ビーム装置。
- 請求項1〜7のいずれか1項記載の荷電粒子ビーム装置において、前記画像データから試料上の構造の寸法を測定する機能を有することを特徴とする荷電粒子ビーム装置。
- 請求項1〜7のいずれか1項記載の荷電粒子ビーム装置において、前記荷電粒子ビームはイオンビームであり、試料を加工する機能を有することを特徴とする荷電粒子ビーム装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003270733A JP4317396B2 (ja) | 2003-07-03 | 2003-07-03 | 荷電粒子ビーム装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003270733A JP4317396B2 (ja) | 2003-07-03 | 2003-07-03 | 荷電粒子ビーム装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005026192A true JP2005026192A (ja) | 2005-01-27 |
JP4317396B2 JP4317396B2 (ja) | 2009-08-19 |
Family
ID=34190618
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003270733A Expired - Fee Related JP4317396B2 (ja) | 2003-07-03 | 2003-07-03 | 荷電粒子ビーム装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4317396B2 (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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2003
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JPWO2021156976A1 (ja) * | 2020-02-05 | 2021-08-12 | ||
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TWI765483B (zh) * | 2020-02-05 | 2022-05-21 | 日商日立全球先端科技股份有限公司 | 計測系統及帶電粒子線裝置之參數設定方法 |
JP7329081B2 (ja) | 2020-02-05 | 2023-08-17 | 株式会社日立ハイテク | 計測システム、および荷電粒子線装置のパラメータ設定方法 |
JP2023046640A (ja) * | 2021-09-24 | 2023-04-05 | 日本電子株式会社 | 荷電粒子線装置および画像調整方法 |
JP7369747B2 (ja) | 2021-09-24 | 2023-10-26 | 日本電子株式会社 | 荷電粒子線装置および画像調整方法 |
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JP4317396B2 (ja) | 2009-08-19 |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120529 Year of fee payment: 3 |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130529 Year of fee payment: 4 |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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