JP2003050185A - 干渉計の絶対校正のための方法 - Google Patents

干渉計の絶対校正のための方法

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JP2003050185A
JP2003050185A JP2002150811A JP2002150811A JP2003050185A JP 2003050185 A JP2003050185 A JP 2003050185A JP 2002150811 A JP2002150811 A JP 2002150811A JP 2002150811 A JP2002150811 A JP 2002150811A JP 2003050185 A JP2003050185 A JP 2003050185A
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Rolf Freimann
ロルフ・フライマン
Stephan Reichelt
ステファン・ライヒェルト
Maximilian Mayer
マキシミリアン・マイヤー
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Carl Zeiss SMT GmbH
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Abstract

(57)【要約】 【課題】干渉計の絶対校正のための方法を提供する。 【解決手段】入射球面波をそれ自体で又は鏡を介して反
転する光学部材を具備している、出力球面波を用いる干
渉計の絶対校正のための方法の場合、少なくとも４つの
測定手順が、波面収差Ｗを測定するようなされている。
この光学部材は、焦点位置内及び焦点位置外において、
少なくとも２つの異なった回転角の位置において、すな
わち少なくとも４つの測定位置で測定される。加えて、
鏡を介する絞り位置（焦点３）での測定をなすことも可
能である。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、出力球面波を用い
る干渉計の絶対校正の方法に関する。本発明は、回折光
学部材のための記録装置の測定精度の決定の方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】２種類の方法が、球表面の適合を検査す
る目的で干渉計の測定誤差の絶対決定に実際に使用され
ており、具体的に言うと、古典的な３位置試験（ｔｈｒ
ｅｅ−ｐｏｓｉｔｉｏｎ ｔｅｓｔ）及び回転ディスク
法（ｒｏｔａｔｉｎｇ−ｄｉｓｃ ｍｅｔｈｏｄ）であ
る。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】これら従来の方法の主
な欠点は、出力球面波を用いる干渉計についての、絶対
校正の回数が少ないことにある。これらの各々の方法
は、誤差に左右されやすく、そのため、より厳密な決定
のためには、比較のための更なる絶対校正法を行うこと
が非常に有利である。
【０００４】
【課題を解決するための手段】出力球面波を用いる干渉
計の新奇な絶対校正方法の提供が、本発明の目的であ
り、この方法は、少なくとも従来知られている方法で可
能な精度と同様な精度での測定に使用されることが可能
であり、さらに、絶対校正の精度のより効果的な評価の
可能性が与えられる。
【０００５】この目的は、本発明に係る、出力球面波を
用いる干渉計の絶対校正方法によって達成されており、
この方法は、入射球面波をそれ自体で又は鏡を介して反
転する光学部材を備えており、少なくとも４つの測定手
順が、波面収差Ｗの測定について約束されており、この
光学部材は、少なくとも２つの異なった回転角の位置に
おいて、焦点位置内（ｉｎｔｒａｆｏｃａｌｌｙ）及び
焦点位置外（ｅｘｔｒａｆｏｃａｌｌｙ）の少なくとも
４つの測定位置で測定されている。
【０００６】本発明の本質的な特徴は、この場合、入射
球面波をそれ自体で又は鏡を介して反転する光学部材に
よって形成されている。有利な微細な区別として、鏡を
用いる反射型又は透過型の回転対称な回折光学部材が、
この目的のために使用されている。この場合、光学部材
又は回折光学部材は、２つの位置の場合に、干渉計の最
初の収束出力球面波が、反射型回折光学部材（以下、Ｄ
ＯＥという）の場合にそれ自体で反転されるように配置
されているか、又は、その下流に配置されている鏡と組
み合わされて、透過型ＤＯＥとなっている。透過型ＤＯ
Ｅは、ちょうど前記ＤＯＥのように、個々の回転位置で
回転されなければならない。
【０００７】後者の変形として、ＤＯＥは、線形搬送波
（ｌｉｎｅａｒ ｃａｒｒｉｅｒ）（空間的に一様な搬
送波周波数）を用いた離軸（ｏｆｆ−ａｘｉｓ）ＤＯＥ
としても設計され得る。前記鏡は、線形搬送波のため
に、適切に傾けられなけらばならない。傾き角の符号
が、焦点位置内と焦点位置外との間で変化する一方で、
その絶対値は、同じに保たれる。本発明に係る絶対項で
測定され得る複数のＤＯＥのスペクトルに、可能性が広
がる。
【０００８】発明者は、ＤＯＥが、ある位置で、＋１次
の、又は、完全に一般的に＋ｍ次の回折で、そして、他
の位置で、−１次の、又は、完全に一般的に−ｍ次の回
折で作動することを発見したことからこの場合に進ん
だ。この方法において、ＤＯＥ収差の符号が反転する一
方で、他の全てのシステム誤差の符号は、同じに保たれ
る。
【０００９】本発明の有利な一実施形態において、測定
が、さらに絞り位置（ｃａｔ’ｓｅｙｅ ｐｏｓｉｔｉ
ｏｎ）（焦点位置）においても行われる。この目的に必
ずしもＤＯＥを使う必要はなく、ここでは、一般的な平
面鏡による単純な鏡の方法を用いることも可能である。
高度に平坦なＤＯＥ基盤が使用され、そして、そのフィ
ッティング（ｆｉｔｔｉｎｇ）誤差が、干渉計を用いる
仕方や触知的な仕方で分離して計測される場合に、前記
絞り位置はなしで済まし得る。この場合、ＤＯＥをプロ
ットする時に、ＤＯＥ基板（ｓａｂｓｔｒａｔｅ）が、
フィッティング誤差を変化させないことが確実なパスを
選択することが可能である。
【００１０】本発明に係る測定方法は、絶対項の干渉計
誤差と、ＤＯＥのフィッティング誤差と、絶対項のＤＯ
Ｅ収差とを与えている。
【００１１】本発明の基礎となる思想は、回折光学部材
（ＤＯＥ）の記録装置の測定精度の決定にも使用され得
る。記録装置の性質は、この場合絶対項で測定され得
る。ＤＯＥの波面収差は、焦点位置内の波面収差から焦
点位置外の波面収差を引いた絶対項から決定され、ＤＯ
Ｅ誤差は絶対項から与えられる。
【００１２】有利な工夫と発展が、特許請求の範囲と、
図面を用いておおむね示される一実施形態とから明らか
になる。
【００１３】
【発明の実施の形態】図１に従う一実施形態に係わっ
て、５つの測定が、参照表面に対する干渉計１の絶対校
正のためになされる。この目的のため、前記干渉計の出
力球面波が、レンズ２を通り、このレンズ２の下流で収
束する。波が、焦点３を過ぎると再び発散し、ＤＯＥ４
が、ビームが焦点３の下流で進む方向に配置される。こ
のＤＯＥ４は、反射型光学部材として機能し、入射球面
波を入射球面波へと反転する。第１の測定が、この位置
で行われる。第２の測定において、前記ＤＯＥ４は、光
軸５を中心として１８０°回転される。
【００１４】前記ＤＯＥ４は、次に、上述した焦点外の
位置から、図１に破線で示されている焦点内の位置に移
動され、このＤＯＥは４’で参照されている。この位置
で、第３の測定が、０°の位置で行われ、この後に、前
記ＤＯＥ４’は、前記光軸５を中心として１８０°回転
され、そして、第４の測定が行われる。さらに、前記Ｄ
ＯＥ４’を除去した後に、平面鏡６が、絞り位置、即ち
焦点の位置（ここで焦点とは焦点３を言う）に矢印の方
向へと挿入され、そして、第５の測定が行われる。
【００１５】この焦点内の位置において、前記ＤＯＥ
４’は、＋１次のオーダーの回折で動作し、また、焦点
外の位置では、前記ＤＯＥ４は、−１次のオーダーの回
折で動作する。しかしながら、この各々の場合、全ての
入射ビームは、自身へと反転される。この場合、ビーム
は、自身へと反転するために、ＤＯＥに垂直である必要
はない。
【００１６】透過型ＤＯＥ４が選択される場合、垂直に
入射するビームを反射する平面鏡７が、前記ＤＯＥ４の
下流に配置される。この配置は、図２において詳細に示
されている。ここで同様に、２度の２つの測定が、焦点
内の位置及び焦点外の位置で、２つの回転角の位置にお
いて、前記平面鏡７が各々の場合でその後ろに配置され
た状態で、ＤＯＥを用いて夫々行われる。平面鏡６を用
いる絞り位置での測定も、同じ方法で行われる。
【００１７】この目的のために、基板の背面を選択する
のが有利である。しかしながら、平面鏡７を離して配置
することが可能である。平面鏡７を傾け得るように、Ｄ
ＯＥが、線形搬送波を用いた離軸ＤＯＥとして設計され
ている場合、特に、これが必要である。
【００１８】５つの測定の全ては、独立な測定として使
用されることが可能であり、そして、絶対項のＤＯＥ収
差ＷＤＯＥは、記録誤差（ｒｅｃｏｒｉｎｇ ｅｒｒｏ
ｒ）、基板フィッティング誤差ＷＰａｓｓｅ、干渉計誤
差Ｗｉｎｔによって生じる。透過型ＤＯＥの場合におい
て、基板の被均質性と平面鏡のフィッティング誤差は、
共に基板フィッティング誤差ＷＰａｓｓｅ、を特徴づ
け、分離して決定することができない。試験サンプルの
フィッティング誤差のみではなくＤＯＥ収差も決定する
必要があるために、球状試験サンプルの古典的な３点試
験の場合での２つの測定よりも多い５つの測定が必要で
ある。
【００１９】測定方法は 測定１：焦点位置内のＤＯＥ、空間の参照点に対して０
°の回転角、測定量Ｗ Ｉ０ 測定２：焦点位置内のＤＯＥ、空間の参照点に対して１
８０°の回転角、測定量ＷＩ１８０ 測定３：絞り位置、測定量ＷＣＡＴ 測定４：焦点位置外のＤＯＥ、空間の参照点に対して０
°の回転角、測定量Ｗ Ｅ０ 測定５：焦点位置外のＤＯＥ、空間の参照点に対して１
８０°の回転角、測定量ＷＥ１８０ である。
【００２０】この場合、Ｗは、前記干渉計１を用いて２
重の光路において測定される波面収差Ｗを夫々示してお
り、波面が、ビームの方向にみられる参照波面を導く
時、はっきりと算出される。
【００２１】厳密に言えば、入射ビームが、異なった方
向から当たるため、ＤＯＥ基板のフィッティング誤差
は、焦点内及び焦点外の位置で僅かに異なった特徴を持
つ。しかしながら、光学的なコンピュータプログラムを
用いる数値シミュレーションにおいて、この違いは、普
通、焦点はずれのような長波フィッティング誤差、球面
収差、又は波長ｐ−ｖのサイズまでの同様なゼルニケ誤
差の場合の１０００分の１よりも小さいことが確かめら
れた。実際に、フィッティング誤差は、充分小さく、こ
れが原因の測定誤差は、無視できるほど小さい。ＤＯＥ
収差の符号は、焦点内の位置と比較すると、焦点外の位
置で回転する。
【００２２】次の等式が、計算に必要である。
【数１】 ここで、 ＷＲ：参照表面誤差が原因の測定される波面収差 ＷＡＰＬ：干渉計光学システムにおける、例えば、浮遊
干渉計レンズにおける誤差が、又は、空間的な参照表面
配置の場合に、光路において働く参照表面誤差を基礎と
する誤差が原因の測定される波面収差 ＷＤＯＥ：ＤＯＥ記録誤差によって生じる測定される波
面収差 ＷＰＡＳＳＥ：透過型ＤＯＥの場合で、平面鏡のフィッ
ティング誤差を含めることが適切な場合に、ＤＯＥ基板
のフィッティング誤差から生じる測定される波面収差 ＷＩＮＴ：ＷＲとＷＡＰＬの合計である干渉計誤差
【数２】 上述した計算式に従って、次の２つの中間の値が、（１
ａ…１ｅ）から形成され、２つの焦点内及び焦点外の位
置は、絞り位置と組み合わせで各々もたらされる。
【数３】 求められる全ての３つの値は、今や、以下の絶対項によ
ってすぐに特徴づけられ得る。
【数４】 干渉計誤差は、（７）に従って２つの方法で決定される
ことが可能であり、計算方法の２つの結果を用いること
は、改良された測定精度を考慮するのに有効である。
【００２３】ＤＯＥ収差のみに興味が集中する場合、絞
り位置をなしですますことが可能であり、（１ａ、１
ｂ、１ｄ、１ｅ）のみからＷＤＯＥを計算することが可
能でもある。
【数５】 ここで示されるように、少なくとも２つの測定で、この
目的に充分である。しかしながら、高い測定精度を考慮
すると、２つの結果の方法を用いるのが、ここで再び賢
明でもあり、これは４つの測定を用意するということで
ある。
【００２４】この単純化された計算は、例えば、ＤＯＥ
記録装置の測定精度を決定する目的に適切である。
【００２５】もし適切ならば、絞り位置を無しですませ
ることも可能である。高度に平坦なＤＯＥ装置が製作さ
れ、フィッティング誤差が、干渉計によって分離して、
又は、触知できる仕方で決定される時、絞り位置は、時
々、実際に不正確さを示すことがある。この場合、ＤＯ
Ｅをプロットする時、ＤＯＥが基板フィッティング誤差
を変化させないことが確実なパスを選択することが可能
である。これは、例えば、厚い基板や、小さい応力（ｓ
ｔｒｅｓｓ）を及ぼすＤＯＥ材料、例えば、フォトレジ
ストの場合である。ＤＯＥ収差が、式（８）を用いる絞
り位置のない、絶対項によるこの方法で決定される場
合、ＤＯＥの全ての収差は、正確に知られ、絞り位置
は、顧慮されない。
【００２６】式（８）は、絞り位置が、干渉計誤差から
フィッティング誤差を分離するためにのみ必要である事
を示している。フィッテング誤差が、分離して決定され
る場合に、絞り位置は必要ない。
【００２７】上述した測定は、改良された、絶対校正の
精度の見積もりを与える。これは、とりわけ、従来の技
術のように３つの測定のみを用いるのではなく、異なっ
た方法で行われる５つの測定を用い、この測定によって
より効果的に誤差の平均を出すことが可能であることが
理由である。
【００２８】ＤＯＥの収差及び基板フィッティング誤差
は、絶対項で測定される。この目的のための方法が、こ
こで示されたように設計されるＤＯＥの絶対校正の方法
である。これにより、ＤＯＥの記録精度を評価すること
が可能である。これは、記録プロセスを特徴づけるのに
重要である。特に、異なったＤＯＥ記録装置を比較する
ために、絶対項でＤＯＥを測定するような全ての記録装
置に記録する、上述した測定方法に適切なＤＯＥを用い
ることが可能であり、このため、これら記録装置を評価
することが可能である。
【００２９】ＤＯＥの絶対測定の後には、このＤＯＥ
が、ビームを屈折させる性質に関して正確に知られてい
なくとも、他の光学的な装置において、例えば、他の干
渉計において、測定に使われるのではなくて標準部材と
して用いられることが可能であり、そして、これら他の
装置を校正する。
【００３０】一旦非常に精密な仕方でＤＯＥを測定し、
測定に用いられる干渉計を再校正するために、後でこの
ＤＯＥを用いることも可能である。
【００３１】収差への回転対称な寄与を特に考慮して、
絞り位置から始めて、高い精度で他の２つの位置にアプ
ローチすることが可能であり、これによって測定の精度
が改良される。特に、ＤＯＥ収差としての絶対項の焦点
はずしの測定も可能になる。適切な高い変位精度は、例
えば、システムを測定するレーザパスの長さを用いるこ
とによって、可能にされるだろう。装置を測定する他の
パスも、考えられる。このような正確な変位が不可能な
場合、ＤＯＥは、手動で焦点位置内及び焦点位置外にス
トレートストリップ（ｓｔｒａｉｇｈｔ ｓｔｒｉｐ
ｓ）（焦点はずれゼロ）に、又、干渉図形において可能
な限り収差が小さくなるように調整されるだろう。
【００３２】±１次ではなく、より高次の±ｍ次のオー
ダーの回折において手順が行われる時、観察されるＤＯ
Ｅの収差にファクターｍを乗じることにより、同じＤＯ
Ｅ記録誤差が得られる。別の言葉で言えば、ＤＯＥ記録
誤差の測定感度は、このファクターによって生じる。こ
のような比較的高次の回折は、干渉計のレンズが非常に
強く開かれるが、Ｆ／０．５まで下がる開口数は適切で
あり、現状では問題ないことを意味するだろう。このよ
うな配置は、高感度のＤＯＥ記録誤差の測定の可能性を
与える。
【００３３】さらによい制度のために、２より多い回転
位置が、導入され得る。例えば、１２の回転位置の場合
には、反対向きの２つの位置の各々の場合が、上述した
関係式を用いて計算され、そして、測定結果は、適切に
もどされるだろう。そして、より多くの別個の測定が得
られ、より精密な測定を行ない得る。
【００３４】ＤＯＥは、平らな表面に置かれているの
で、回折はアプラナティックではない。非対称収差の計
算が必要となり得る。従って、機械的に正確に調整され
得るように、ＤＯＥホルダを設計することは有利であ
る。特に、回転の機械的な軸は、可能な限り正確にＤＯ
Ｅ中心に一致させるべきである。
【００３５】ＤＯＥの高レベルの安定性のために、ＤＯ
Ｅが、ゼロダ（Ｚｅｒｏｄｕｒ）、又は０に近い小さな
熱膨張係数をもつ同様な基板材料に記録するような反射
ＤＯＥとして設計される時、適切であり得ることが証明
されている。伝導型ＤＯＥとしての設計の場合には、石
英ガラスが、小さい熱膨張係数と高い透明度を有するた
め有利だろう。背面に平面鏡を備える最も簡単な方法
は、背面をアルミニウムで処理することである。
【００３６】振動数が安定しているレーザの使用は、特
に、空気の圧力、湿度、温度が同時に記録される時に、
測定精度を増大し得る。そして、空気中のレーザの波長
は、非常に正確に知られている。前記波長が、光学校正
に用いられる波長からはずれる場合、機械的な訂正が、
同時に実行され得る。これは、収差への回転対称な寄与
の場合に、特に有利となり得る。
【００３７】クロムのマスク（ｍａｓｋ）が、反射ＤＯ
Ｅに用いられ得る。
【００３８】入射球面波を、反射及び回折によって、又
は、下流の平面鏡を用いる透過型回折によって、非球面
状波に変えるＤＯＥの収差の絶対測定のためにも、上述
した測定方法を用いることが可能である。２つの異なっ
た回転位置における、夫々の焦点位置内及び焦点位置外
での４回の測定が、この場合も同様に行われ、測定結果
としてＷI０、ＷI１８０、ＷＲE０、ＷE１８０が得られ
る。
【００３９】欠点のない（ｎｏｎｄｅｆｅｃｔｉｖｅ）
ＤＯＥの焦点内及び焦点外の位置に生じる非球面状波面
は、光学校正によって決定され得る。この場合、波面
は、回転対称であり、そして、一般的に、Ｗ
Ｉ＿ａｓｈｐ≠ＷＥ＿ａｓｈｐが成り立つ。
【００４０】これら非球面状態は、４回の測定結果から
次のように導かれる。
【数６】 ＤＯＥ収差は、与えられた値を用いることよって、式
（５）又は（８）からの類推により計算され得る。
【００４１】本発明に係る方法は、ＤＯＥ記録装置の記
録プロセス校正を達成するのに使用されることも可能で
ある。この場合の目的は、あらゆるＤＯＥ記録装置は、
残存誤差を有するため、測定結果から電流（ｃｕｒｒｅ
ｎｔ）記録プロセス誤差を排除することが可能なよう
に、これら電流記録プロセス誤差を決定することであ
る。
【００４２】この目的のために、記録装置が、後に試験
サンプルを測定するのに用いられる測定ＤＯＥをプロッ
トする。この目的のために、図３は、ＤＯＥの半径ｒに
対する溝（ｇｒｏｏｖｅ）密度Ｎの変化を光学設計（ｏ
ｐｔｉｃａｌ ｄｅｓｉｇｎ）に従って示している。図
５は、ここで考慮する、測定ＤＯＥのリングの原理図を
示している。
【００４３】測定ＤＯＥでは、残存誤差が必ず問題にな
る。これらシステマティックな記録誤差は、ここで、校
正によって決定される。第２のＤＯＥが、この目的のた
めにプロットされる。第２のＤＯＥのエッジにおける溝
密度プロファイル（ｐｒｏｆｉｌｅ）は、広い範囲で同
一の状態を得るために、測定ＤＯＥの溝密度プロファイ
ルに対応するように意図されている。しかしながら、こ
の場合、溝密度プロファイルは、球面波が自身へと再び
確実に反転するように選択されている。校正ＤＯＥの溝
密度の概要Ｎは、図４に示されている。図６が、校正Ｄ
ＯＥのリングの原理図を示している。
【００４４】測定ＤＯＥのプロットにすぐに続いて、校
正ＤＯＥが、同じ記録装置、又は、記録装置８に、図４
に従ってプロットされる。この場合、プロットプロセス
は変化していないと仮定される。同時に、校正ＤＯＥ
は、上に示した方法を用いる絶対項で測定されるので、
ＤＯＥ誤差は絶対項で得られる。上に示した測定ＤＯＥ
は、同じ設計を有しており、従って、本質的に同じ誤差
を有している。これは、この誤差が、同時に取り去られ
ることが可能であることを意味し、よって、記録プロセ
スを校正する。試験サンプルを伴なう測定ＤＯＥの方向
の矢印が、記録プロセス誤差が、除去されることを示す
ことが、図７から明らかである。
【００４５】ＤＯＥ記録装置８の性質を決定すること
は、焦点位置内及び焦点位置外の測定である少なくとも
２つの測定位置のみを要求する。絞り位置での測定を必
要としない。
【図面の簡単な説明】
【図１】図１は、反射ＤＯＥの本発明に従う方法の原理
図を示している。
【図２】図２は、平面鏡及び伝導におけるＤＯＥの、図
１に従う詳細な原理図を示している。
【図３】図３は、測定ＤＯＥの場合の、曲線の密度の変
化のグラフを示している。
【図４】図４は、校正ＤＯＥの場合の、曲線の密度の変
化のグラフを示している。
【図５】図５は、原理図における、測定ＤＯＥの様子を
示している。
【図６】図５は、原理図における、校正ＤＯＥの様子を
示している。
【図７】図７は、試験サンプルを伴なう測定ＤＯＥの場
合の、校正ＤＯＥの絶対測定による記録プロセス誤差の
除去に関する原理図を示している。
【符号の説明】
１…干渉計、２…レンズ、３…焦点、４…ＤＯＥ、５…
光軸、６…平面鏡
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ステファン・ライヒェルト ドイツ連邦共和国、デー−70771 ライン フェルデン−エハテルディンゲン、ブザー ドベーク ６ (72)発明者 マキシミリアン・マイヤー ドイツ連邦共和国、デー−73434 アーレ ン−デバンゲン、スピッツバルトベーク ４ Ｆターム(参考） 2F064 AA15 BB03 DD09 FF01 GG12 GG49 2G086 EE07 HH06

Claims (17)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 入射球面波を自身で又は鏡を介して反転
    する光学部材を具備しており、少なくとも４つの測定手
    順が、波面収差Ｗを測定するためになされ、この光学部
    材は、焦点位置内及び焦点位置外において、夫々少なく
    とも２つの異なった回転角の位置において、少なくとも
    ４つの測定位置で測定される、出力球面波を用いる干渉
    計の絶対校正のための方法。
  2. 【請求項２】 さらに、少なくとも１つの５番目の測定
    手順が、鏡を介して絞り位置でなされていることを特徴
    とする請求項１の方法。
  3. 【請求項３】 前記測定は、絞り位置で平面鏡を用いて
    なされていることを特徴とする請求項２の方法。
  4. 【請求項４】 前記光学部材は、反射するように用いら
    れる回折光学部材であることを特徴とする請求項１の方
    法。
  5. 【請求項５】 透過型回折光学部材が、光学部材として
    設けられており、前記入射球面波の反射は、鏡によって
    なされることを特徴とする請求項１の方法。
  6. 【請求項６】 少なくとも２つの異なった回転角が、光
    学部材の０°の位置とその位置から１８０°回転される
    位置とによってなされることを特徴とする請求項１の方
    法。
  7. 【請求項７】 ２より多い回転角の位置が、測定に使用
    されることを特徴とする請求項１の方法。
  8. 【請求項８】 平均化が、測定精度を増大するために、
    焦点位置内の測定手順と焦点位置外の測定手順との間で
    なされることを特徴とする請求項１の方法。
  9. 【請求項９】 前記測定が、１次のオーダーの回折より
    も高次のオーダーの回折でなされていることを特徴とす
    る請求項１の方法。
  10. 【請求項１０】 回折光学部材の機械的な回転軸が、回
    折光学部材の中心と少なくともほぼ一致していることを
    特徴とする請求項４の方法。
  11. 【請求項１１】 回折光学部材の機械的な回転軸が、回
    折光学部材の中心と少なくともほぼ一致していることを
    特徴とする請求項５の方法。
  12. 【請求項１２】 非常に小さい膨張係数を有している回
    折光学部材が、使用されることを特徴とする請求項４の
    方法。
  13. 【請求項１３】 非常に小さい膨張係数を有している回
    折光学部材が、使用されることを特徴とする請求項５の
    方法。
  14. 【請求項１４】 ゼロダが、反射の場合の回折部材とし
    て使用され、また、石英ガラスが、透過する場合の回折
    部材として使用されることを特徴とする請求項１２の方
    法。
  15. 【請求項１５】 ゼロダが、反射する場合の回折部材と
    して使用され、石英ガラスが、透過する場合の回折部材
    として使用されることを特徴とする請求項１３の方法。
  16. 【請求項１６】 周波数の安定したレーザが、放射源と
    して使用されることを特徴とする請求項１の方法。
  17. 【請求項１７】 入射球面波をそれ自体で又は鏡を介し
    て反転する回折光学部材を具備しており、少なくとも２
    つの測定手順が、回折光学部材を用いてなされており、
    少なくともこの各々の場合に、１８０°と異なる回転角
    で、焦点位置内で１つ、焦点位置外で１つがなされてい
    る、出力球面波を生成する干渉計を用いる回折光学部材
    の記録装置の測定誤差を決定するための方法。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006106000A (ja) * 2004-10-07 2006-04-20 Samsung Electronics Co Ltd 変位測定のための干渉計システム及びこれを利用した露光装置
JP2013504762A (ja) * 2009-09-18 2013-02-07 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー 光学表面の形状を測定する方法及び干渉測定デバイス

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10224317A1 (de) * 2002-05-31 2003-12-11 Zeiss Carl Smt Ag Verfahren zur Kalibrierung eines Radienprüfplatzes
AU2002358025A1 (en) * 2002-11-21 2004-06-15 Carl Zeiss Smt Ag Method for calibrating an interferometer, method for qualifying an object, and method for producing an object
WO2004086148A1 (de) * 2003-03-26 2004-10-07 Carl Zeiss Smt Ag Vorrichtung zur deformationsarmen austauschbaren lagerung eines optischen elements
US7123365B1 (en) * 2004-03-05 2006-10-17 Carl Zeiss Smt Ag Method of calibrating an interferometer optics and method of processing an optical element having an aspherical surface
DE102006035022A1 (de) 2006-07-28 2008-01-31 Carl Zeiss Smt Ag Verfahren zum Herstellen einer optischen Komponente, Interferometeranordnung und Beugungsgitter
WO2009006919A1 (en) 2007-07-09 2009-01-15 Carl Zeiss Smt Ag Method of measuring a deviation an optical surface from a target shape
JP2009139151A (ja) * 2007-12-04 2009-06-25 Fujinon Corp 干渉計装置のシステム誤差較正方法
DE102009019140B4 (de) 2009-04-29 2017-03-02 Carl Zeiss Smt Gmbh Verfahren zum Kalibrieren einer Positionsmessvorrichtung und Verfahren zum Vermessen einer Maske
DE102010053726B4 (de) * 2010-11-30 2012-11-29 Technische Universität Dresden Vorrichtung zur nicht-inkrementellen Positions- und Formvermessung bewegter Festkörper
CN106706271B (zh) * 2016-12-28 2018-12-11 大连鉴影光学科技有限公司 一种光学***的自动检测检测与性能分析优化设备及方法
DE102018111466B4 (de) * 2018-05-14 2024-07-25 Carl Mahr Holding Gmbh Verfahren zur justage einer messvorrichtung mittels eines justagekörpers, justagekörper und verfahren zur justage eines justagekörpers

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4865454A (en) * 1987-11-24 1989-09-12 Kaman Aerospace Corporation Adaptive optical system with synchronous detection of wavefront phase
JP2631134B2 (ja) * 1988-07-13 1997-07-16 株式会社トプコン 計算機ホログラムを利用した非球面形状測定用干渉計
US5018861A (en) * 1989-06-22 1991-05-28 Quantametrics Inc. Methods and means for full-surface interferometric testing of grazing incidence mirrors
US6015969A (en) * 1996-09-16 2000-01-18 The Regents Of The University Of California Multiple-wavelength spectroscopic quantitation of light-absorbing species in scattering media
JPH1090113A (ja) * 1996-09-18 1998-04-10 Sony Corp 干渉計
JP3613906B2 (ja) * 1996-09-20 2005-01-26 株式会社ニコン 波面収差測定装置
DE19822453A1 (de) * 1998-06-20 1999-12-23 Johannes Schwider Absolutprüfung von asphärischen Flächen unter Zuhilfenahme von diffraktiven Normalelementen und planen sowie sphärischen Referenzflächen
US6312373B1 (en) * 1998-09-22 2001-11-06 Nikon Corporation Method of manufacturing an optical system
GB9903638D0 (en) * 1999-02-17 1999-04-07 European Community A measurement method and measurement apparatus
US6359692B1 (en) * 1999-07-09 2002-03-19 Zygo Corporation Method and system for profiling objects having multiple reflective surfaces using wavelength-tuning phase-shifting interferometry
US6690846B2 (en) * 2001-03-01 2004-02-10 Chorum Technologies Lp Dispersion-compensated optical wavelength router
US6486961B1 (en) * 2001-05-08 2002-11-26 Agilent Technologies, Inc. System and method for measuring group delay based on zero-crossings

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006106000A (ja) * 2004-10-07 2006-04-20 Samsung Electronics Co Ltd 変位測定のための干渉計システム及びこれを利用した露光装置
JP2013504762A (ja) * 2009-09-18 2013-02-07 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー 光学表面の形状を測定する方法及び干渉測定デバイス
US8593642B2 (en) 2009-09-18 2013-11-26 Carl Zeiss Smt Gmbh Method of measuring a shape of an optical surface based on computationally combined surface region measurements and interferometric measuring device

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DE10125785A1 (de) 2002-11-28

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