JP2003045786A - ステンシルマスクのレイアウト図形データ分割処理装置、ステンシルマスクのレイアウト図形データ分割処理方法、コンピュータにステンシルマスクのレイアウト図形データ分割処理を行わせるためのプログラム - Google Patents
ステンシルマスクのレイアウト図形データ分割処理装置、ステンシルマスクのレイアウト図形データ分割処理方法、コンピュータにステンシルマスクのレイアウト図形データ分割処理を行わせるためのプログラムInfo
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- JP2003045786A JP2003045786A JP2001234094A JP2001234094A JP2003045786A JP 2003045786 A JP2003045786 A JP 2003045786A JP 2001234094 A JP2001234094 A JP 2001234094A JP 2001234094 A JP2001234094 A JP 2001234094A JP 2003045786 A JP2003045786 A JP 2003045786A
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/20—Masks or mask blanks for imaging by charged particle beam [CPB] radiation, e.g. by electron beam; Preparation thereof
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
- H01J37/302—Controlling tubes by external information, e.g. programme control
- H01J37/3023—Programme control
- H01J37/3026—Patterning strategy
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- Analytical Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Processing Or Creating Images (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 複雑なレイアウト図形の場合でも、最適な分
割処理を行い得るようにすること。 【解決手段】 レイアウト図形情報記憶部107に記憶
したステンシルマスクのレイアウト図形データを読み込
み、前記レイアウト図形データを横方向及び縦方向の線
分で分割することによって複数の分割レイアウト図形デ
ータを生成し、前記複数の分割レイアウト図形データを
複数の相補マスクデータに振り分けることによって複数
の相補マスクデータを生成して相補マスクデータ記憶部
108に記憶する。
割処理を行い得るようにすること。 【解決手段】 レイアウト図形情報記憶部107に記憶
したステンシルマスクのレイアウト図形データを読み込
み、前記レイアウト図形データを横方向及び縦方向の線
分で分割することによって複数の分割レイアウト図形デ
ータを生成し、前記複数の分割レイアウト図形データを
複数の相補マスクデータに振り分けることによって複数
の相補マスクデータを生成して相補マスクデータ記憶部
108に記憶する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、集積回路の製造に
使用するステンシルマスクのレイアウト図形分割処理装
置、ステンシルマスクのレイアウト図形分割処理方法、
ステンシルマスクのレイアウト図形分割処理をコンピュ
ータに実行させるためのプログラムに関する。
使用するステンシルマスクのレイアウト図形分割処理装
置、ステンシルマスクのレイアウト図形分割処理方法、
ステンシルマスクのレイアウト図形分割処理をコンピュ
ータに実行させるためのプログラムに関する。
【0002】
【従来の技術】従来から、電子ビーム露光等を用いてV
LSI(Very Large Scale Integration)等の半導体集
積回路を製造するために、ステンシルマスクが開発され
ている。ステンシルマスクは、シリコン板等の薄板に、
露光すべきレイアウト図形に対応する孔を物理的に形成
した構成となっている。このように、ステンシルマスク
は物理的に孔(開口部)を設けた構成であるため、半導
体集積回路のレイアウト図形が閉ループを構成する配線
の図形(ドーナツ状の図形(閉図形))を有する場合、
開口部が閉ループを形成するため、1枚のステンシルマ
スクでは前記ドーナツ状図形の中枠を保持することがで
きず、したがって、1枚のステンシルマスクでは構成す
ることができない。よって、前記ドーナツ状図形は2枚
のマスクに分割し、該2枚のマスクを用いて露光せざる
を得ない。そのために、レイアウト図形を分割して2枚
の相補マスクに振り分けるという手法が採用されてい
る。また、前記相補マスクは、マスクの強度上の問題か
ら、2枚の相補マスクにレイアウト図形を振り分ける必
要性の生じる場合がある。
LSI(Very Large Scale Integration)等の半導体集
積回路を製造するために、ステンシルマスクが開発され
ている。ステンシルマスクは、シリコン板等の薄板に、
露光すべきレイアウト図形に対応する孔を物理的に形成
した構成となっている。このように、ステンシルマスク
は物理的に孔(開口部)を設けた構成であるため、半導
体集積回路のレイアウト図形が閉ループを構成する配線
の図形(ドーナツ状の図形(閉図形))を有する場合、
開口部が閉ループを形成するため、1枚のステンシルマ
スクでは前記ドーナツ状図形の中枠を保持することがで
きず、したがって、1枚のステンシルマスクでは構成す
ることができない。よって、前記ドーナツ状図形は2枚
のマスクに分割し、該2枚のマスクを用いて露光せざる
を得ない。そのために、レイアウト図形を分割して2枚
の相補マスクに振り分けるという手法が採用されてい
る。また、前記相補マスクは、マスクの強度上の問題か
ら、2枚の相補マスクにレイアウト図形を振り分ける必
要性の生じる場合がある。
【0003】図12及び図13は、レイアウト図形を分
割処理する場合の一般的な例を示す図である。レイアウ
ト図形がL字型のラインの場合、2本の線分の連結点の
うちの凹部側の部分(窪み部分)を起点として隣接する
辺に垂線を形成し、該垂線にそって切断して分割するこ
とにより、2枚の相補ステンシルマスクに振り分ける。
また、図13に示すように、レイアウト図形が1本のラ
インの場合でも所定長以上の場合には、中央部分等で分
割して2枚の相補マスクに振り分けて、ライン長が所定
値以下になるようにする。
割処理する場合の一般的な例を示す図である。レイアウ
ト図形がL字型のラインの場合、2本の線分の連結点の
うちの凹部側の部分(窪み部分)を起点として隣接する
辺に垂線を形成し、該垂線にそって切断して分割するこ
とにより、2枚の相補ステンシルマスクに振り分ける。
また、図13に示すように、レイアウト図形が1本のラ
インの場合でも所定長以上の場合には、中央部分等で分
割して2枚の相補マスクに振り分けて、ライン長が所定
値以下になるようにする。
【0004】図14及び図15は、従来から用いられて
いるレイアウト図形の分割処理方法を説明するための図
である。図14及び図15において、図14に示すレイ
アウト図形を分割する場合、各窪み部分を基準として単
純に横方向に分割する方法(図15(a))、あるい
は、各窪み部分を基準として単純に縦方向に分割する方
法(図15(b))が採用されている。前記従来の分割
方法によれば、単純に、横方向あるいは縦方向の一方向
に分割するため、複雑なレイアウト図形の場合にも、比
較的簡単に分割処理することが可能になる。
いるレイアウト図形の分割処理方法を説明するための図
である。図14及び図15において、図14に示すレイ
アウト図形を分割する場合、各窪み部分を基準として単
純に横方向に分割する方法(図15(a))、あるい
は、各窪み部分を基準として単純に縦方向に分割する方
法(図15(b))が採用されている。前記従来の分割
方法によれば、単純に、横方向あるいは縦方向の一方向
に分割するため、複雑なレイアウト図形の場合にも、比
較的簡単に分割処理することが可能になる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】レイアウト図形を分割
する場合、マスクの精度や利便性等のマスク作成の観点
から、分割する切断辺は必要以上に長くならないこと、
また、分割後に微少な図形(微少片)が生じないことが
必要である。しかしながら、前記従来の分割処理方法で
は、図15に示すように、単純に、横方向あるいは縦方
向の一方向に分割しているため、必要以上に長い切断片
や微少片が生じてしまうという問題があった。
する場合、マスクの精度や利便性等のマスク作成の観点
から、分割する切断辺は必要以上に長くならないこと、
また、分割後に微少な図形(微少片)が生じないことが
必要である。しかしながら、前記従来の分割処理方法で
は、図15に示すように、単純に、横方向あるいは縦方
向の一方向に分割しているため、必要以上に長い切断片
や微少片が生じてしまうという問題があった。
【0006】本発明は、複雑なレイアウト図形の場合で
も、最適な分割処理を行い得るようにすることを課題と
している。
も、最適な分割処理を行い得るようにすることを課題と
している。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、ステン
シルマスクのレイアウト図形データを記憶したレイアウ
ト図形情報記憶手段と、前記レイアウト図形情報記憶手
段からレイアウト図形データを読み込むレイアウト図形
データ読み込み手段と、相補マスクデータを記憶するた
めの相補マスクデータ記憶手段と、前記レイアウト図形
データ読み込み手段で読み込んだ前記レイアウト図形デ
ータを異なる複数の方向に分割することによって複数の
分割レイアウト図形データを生成し、前記複数の分割レ
イアウト図形データを複数の相補マスクデータに振り分
けることによって複数の相補マスクデータを生成して前
記相補マスクデータ記憶手段に記憶する相補マスクデー
タ生成手段とを備えて成ることを特徴とするステンシル
マスクのレイアウト図形分割処理装置が提供される。相
補マスクデータ生成手段は、レイアウト図形データ読み
込み手段で読み込んだレイアウト図形データを異なる複
数の方向に分割することによって複数の分割レイアウト
図形データを生成し、前記複数の分割レイアウト図形デ
ータを複数の相補マスクデータに振り分けることによっ
て複数の相補マスクデータを生成して相補マスクデータ
記憶手段に記憶する。
シルマスクのレイアウト図形データを記憶したレイアウ
ト図形情報記憶手段と、前記レイアウト図形情報記憶手
段からレイアウト図形データを読み込むレイアウト図形
データ読み込み手段と、相補マスクデータを記憶するた
めの相補マスクデータ記憶手段と、前記レイアウト図形
データ読み込み手段で読み込んだ前記レイアウト図形デ
ータを異なる複数の方向に分割することによって複数の
分割レイアウト図形データを生成し、前記複数の分割レ
イアウト図形データを複数の相補マスクデータに振り分
けることによって複数の相補マスクデータを生成して前
記相補マスクデータ記憶手段に記憶する相補マスクデー
タ生成手段とを備えて成ることを特徴とするステンシル
マスクのレイアウト図形分割処理装置が提供される。相
補マスクデータ生成手段は、レイアウト図形データ読み
込み手段で読み込んだレイアウト図形データを異なる複
数の方向に分割することによって複数の分割レイアウト
図形データを生成し、前記複数の分割レイアウト図形デ
ータを複数の相補マスクデータに振り分けることによっ
て複数の相補マスクデータを生成して相補マスクデータ
記憶手段に記憶する。
【0008】ここで、複数の分割レイアウト図形データ
を記憶するための分割データ記憶手段を有すると共に、
前記相補マスクデータ生成手段は前記レイアウト図形デ
ータを異なる複数の方向に分割することによって複数の
分割レイアウト図形データを生成する分割データ生成手
段を有して成り、前記相補マスクデータ生成手段は、前
記分割データ生成手段で生成した前記複数の分割レイア
ウト図形データを前記分割データ記憶手段に記憶し、前
記分割データ記憶手段に記憶した図形データを複数の相
補マスクデータに振り分けることにより前記相補マスク
データを生成するように構成してもよい。また、前記分
割データ生成手段は、前記レイアウト図形データの窪み
部分から隣接する辺に形成した最短の垂線にそって分割
するように構成してもよい。また、前記分割データ生成
手段は、前記最短の垂線が複数存在する場合、各垂線の
足と該垂線の足を挟む複数の頂点とによって構成される
複数の辺のうち、最長の短辺を生成するように前記レイ
アウト図形を分割するように構成してもよい。また、前
記分割データ生成手段は、前記最長の短辺が複数存在す
る場合、各垂線の足と該垂線の足を挟む複数の頂点とに
よって構成される複数の辺のうち、最長の長辺を生成す
るように前記レイアウト図形を分割するように構成して
もよい。
を記憶するための分割データ記憶手段を有すると共に、
前記相補マスクデータ生成手段は前記レイアウト図形デ
ータを異なる複数の方向に分割することによって複数の
分割レイアウト図形データを生成する分割データ生成手
段を有して成り、前記相補マスクデータ生成手段は、前
記分割データ生成手段で生成した前記複数の分割レイア
ウト図形データを前記分割データ記憶手段に記憶し、前
記分割データ記憶手段に記憶した図形データを複数の相
補マスクデータに振り分けることにより前記相補マスク
データを生成するように構成してもよい。また、前記分
割データ生成手段は、前記レイアウト図形データの窪み
部分から隣接する辺に形成した最短の垂線にそって分割
するように構成してもよい。また、前記分割データ生成
手段は、前記最短の垂線が複数存在する場合、各垂線の
足と該垂線の足を挟む複数の頂点とによって構成される
複数の辺のうち、最長の短辺を生成するように前記レイ
アウト図形を分割するように構成してもよい。また、前
記分割データ生成手段は、前記最長の短辺が複数存在す
る場合、各垂線の足と該垂線の足を挟む複数の頂点とに
よって構成される複数の辺のうち、最長の長辺を生成す
るように前記レイアウト図形を分割するように構成して
もよい。
【0009】また、前記分割データ生成手段は、前記最
短の垂線が複数存在する場合、各垂線の足と該垂線の足
を挟む複数の頂点とによって構成される複数の辺のう
ち、最長の長辺を生成するように前記レイアウト図形を
分割するように構成してもよい。また、前記分割データ
生成手段は、前記最長の長辺が複数存在する場合、各垂
線の足と該垂線の足を挟む複数の頂点とによって構成さ
れる複数の辺のうち、最長の短辺を生成するように前記
レイアウト図形を分割するように構成してもよい。ま
た、前記分割データ生成手段は、分割後の図形の辺の長
さが所定長以下になる場合には分割しないように構成し
てもよい。また、前記分割データ生成手段は、前記レイ
アウト図形の長さが所定長以上のときは窪み部分の有無
に拘わらず所定位置で分割するように構成してもよい。
また、前記分割データ生成手段は、垂線の足が、既に切
断した辺上に位置するようになる場合には、前記垂線に
そっては切断しないように構成してもよい。
短の垂線が複数存在する場合、各垂線の足と該垂線の足
を挟む複数の頂点とによって構成される複数の辺のう
ち、最長の長辺を生成するように前記レイアウト図形を
分割するように構成してもよい。また、前記分割データ
生成手段は、前記最長の長辺が複数存在する場合、各垂
線の足と該垂線の足を挟む複数の頂点とによって構成さ
れる複数の辺のうち、最長の短辺を生成するように前記
レイアウト図形を分割するように構成してもよい。ま
た、前記分割データ生成手段は、分割後の図形の辺の長
さが所定長以下になる場合には分割しないように構成し
てもよい。また、前記分割データ生成手段は、前記レイ
アウト図形の長さが所定長以上のときは窪み部分の有無
に拘わらず所定位置で分割するように構成してもよい。
また、前記分割データ生成手段は、垂線の足が、既に切
断した辺上に位置するようになる場合には、前記垂線に
そっては切断しないように構成してもよい。
【0010】また、相接する2つのレイアウト図形が一
の相補マスクに属する場合、前記分割データ生成手段は
一方のレイアウト図形を複数のレイアウト図形に分割
し、前記相補マスクデータ生成手段は、前記分割によっ
て得られる複数のレイアウト図形のうち、他方のレイア
ウト図形に接するレイアウト図形を他の相補マスクに属
するように振り分けるように構成してもよい。また、分
割条件を予め記憶した分割条件記憶手段を備え、前記分
割データ生成手段は、前記分割条件記憶手段に記憶した
分割条件を満足するように、前記レイアウト図形データ
を異なる複数の方向に分割することにより前記複数の分
割レイアウト図形データを生成するように構成してもよ
い。また、前記分割条件を前記分割条件記憶手段に設定
するための分割条件設定手段を備えて成るように構成し
てもよい。
の相補マスクに属する場合、前記分割データ生成手段は
一方のレイアウト図形を複数のレイアウト図形に分割
し、前記相補マスクデータ生成手段は、前記分割によっ
て得られる複数のレイアウト図形のうち、他方のレイア
ウト図形に接するレイアウト図形を他の相補マスクに属
するように振り分けるように構成してもよい。また、分
割条件を予め記憶した分割条件記憶手段を備え、前記分
割データ生成手段は、前記分割条件記憶手段に記憶した
分割条件を満足するように、前記レイアウト図形データ
を異なる複数の方向に分割することにより前記複数の分
割レイアウト図形データを生成するように構成してもよ
い。また、前記分割条件を前記分割条件記憶手段に設定
するための分割条件設定手段を備えて成るように構成し
てもよい。
【0011】また、本発明によれば、レイアウト図形デ
ータ読み込み手段が、ステンシルマスクのレイアウト図
形データを記憶したレイアウト図形情報記憶手段からレ
イアウト図形データを読み込み、相補マスクデータ生成
手段が、前記レイアウト図形データ読み込み手段で読み
込んだレイアウト図形データを異なる複数の方向に分割
することによって複数の分割レイアウト図形データを生
成し、前記複数の分割レイアウト図形データを複数の相
補マスクデータに振り分けることによって複数の相補マ
スクデータを生成して相補マスクデータ記憶手段に記憶
することを特徴とするステンシルマスクのレイアウト図
形分割処理方法が提供される。相補マスクデータ生成手
段が、レイアウト図形データ読み込み手段で読み込んだ
レイアウト図形データを異なる複数の方向に分割するこ
とによって複数の分割レイアウト図形データを生成し、
前記複数の分割レイアウト図形データを複数の相補マス
クデータに振り分けることによって複数の相補マスクデ
ータを生成して相補マスクデータ記憶手段に記憶する。
ータ読み込み手段が、ステンシルマスクのレイアウト図
形データを記憶したレイアウト図形情報記憶手段からレ
イアウト図形データを読み込み、相補マスクデータ生成
手段が、前記レイアウト図形データ読み込み手段で読み
込んだレイアウト図形データを異なる複数の方向に分割
することによって複数の分割レイアウト図形データを生
成し、前記複数の分割レイアウト図形データを複数の相
補マスクデータに振り分けることによって複数の相補マ
スクデータを生成して相補マスクデータ記憶手段に記憶
することを特徴とするステンシルマスクのレイアウト図
形分割処理方法が提供される。相補マスクデータ生成手
段が、レイアウト図形データ読み込み手段で読み込んだ
レイアウト図形データを異なる複数の方向に分割するこ
とによって複数の分割レイアウト図形データを生成し、
前記複数の分割レイアウト図形データを複数の相補マス
クデータに振り分けることによって複数の相補マスクデ
ータを生成して相補マスクデータ記憶手段に記憶する。
【0012】ここで、前記相補マスクデータ生成手段は
前記レイアウト図形データを異なる複数の方向に分割す
ることによって複数の分割レイアウト図形データを生成
する分割データ生成手段を有し、前記相補マスクデータ
生成手段が、前記分割データ生成手段で生成した前記複
数の分割レイアウト図形データを分割データ記憶手段に
記憶し、前記分割データ記憶手段に記憶した図形データ
を複数の相補マスクデータに振り分けることにより前記
相補マスクデータを生成するようにしてもよい。また、
前記分割データ生成手段は、前記レイアウト図形データ
の窪み部分から隣接する辺に形成した最短の垂線にそっ
て分割するようにしてもよい。また、前記分割データ生
成手段は、前記最短の垂線が複数存在する場合、各垂線
の足と該垂線の足を挟む複数の頂点とによって構成され
る複数の辺のうち、最長の短辺を生成するように前記レ
イアウト図形を分割するようにしてもよい。また、前記
分割データ生成手段は、前記最長の短辺が複数存在する
場合、各垂線の足と該垂線の足を挟む複数の頂点とによ
って構成される複数の辺のうち、最長の長辺を生成する
ように前記レイアウト図形を分割するようにしてもよ
い。
前記レイアウト図形データを異なる複数の方向に分割す
ることによって複数の分割レイアウト図形データを生成
する分割データ生成手段を有し、前記相補マスクデータ
生成手段が、前記分割データ生成手段で生成した前記複
数の分割レイアウト図形データを分割データ記憶手段に
記憶し、前記分割データ記憶手段に記憶した図形データ
を複数の相補マスクデータに振り分けることにより前記
相補マスクデータを生成するようにしてもよい。また、
前記分割データ生成手段は、前記レイアウト図形データ
の窪み部分から隣接する辺に形成した最短の垂線にそっ
て分割するようにしてもよい。また、前記分割データ生
成手段は、前記最短の垂線が複数存在する場合、各垂線
の足と該垂線の足を挟む複数の頂点とによって構成され
る複数の辺のうち、最長の短辺を生成するように前記レ
イアウト図形を分割するようにしてもよい。また、前記
分割データ生成手段は、前記最長の短辺が複数存在する
場合、各垂線の足と該垂線の足を挟む複数の頂点とによ
って構成される複数の辺のうち、最長の長辺を生成する
ように前記レイアウト図形を分割するようにしてもよ
い。
【0013】また、前記分割データ生成手段は、前記最
短の垂線が複数存在する場合、各垂線の足と該垂線の足
を挟む複数の頂点とによって構成される複数の辺のう
ち、最長の長辺を生成するように前記レイアウト図形を
分割するようにしてもよい。また、前記分割データ生成
手段は、前記最長の長辺が複数存在する場合、各垂線の
足と該垂線の足を挟む複数の頂点とによって構成される
複数の辺のうち、最長の短辺を生成するように前記レイ
アウト図形を分割するようにしてもよい。また、前記分
割データ生成手段は、分割後の図形の辺の長さが所定長
以下になる場合には分割しないようにしてもよい。ま
た、前記分割データ生成手段は、前記レイアウト図形の
長さが所定長以上のときは窪み部分の有無に拘わらず所
定位置で分割するようにしてもよい。また、前記分割デ
ータ生成手段は、垂線の足が、既に切断した辺上に位置
するようになる場合には、前記垂線にそっては切断しな
いようにしてもよい。
短の垂線が複数存在する場合、各垂線の足と該垂線の足
を挟む複数の頂点とによって構成される複数の辺のう
ち、最長の長辺を生成するように前記レイアウト図形を
分割するようにしてもよい。また、前記分割データ生成
手段は、前記最長の長辺が複数存在する場合、各垂線の
足と該垂線の足を挟む複数の頂点とによって構成される
複数の辺のうち、最長の短辺を生成するように前記レイ
アウト図形を分割するようにしてもよい。また、前記分
割データ生成手段は、分割後の図形の辺の長さが所定長
以下になる場合には分割しないようにしてもよい。ま
た、前記分割データ生成手段は、前記レイアウト図形の
長さが所定長以上のときは窪み部分の有無に拘わらず所
定位置で分割するようにしてもよい。また、前記分割デ
ータ生成手段は、垂線の足が、既に切断した辺上に位置
するようになる場合には、前記垂線にそっては切断しな
いようにしてもよい。
【0014】また、相接する2つのレイアウト図形が一
の相補マスクに属する場合、前記分割データ生成手段は
一方のレイアウト図形を複数のレイアウト図形に分割
し、前記相補マスクデータ生成手段は、前記分割によっ
て得られる複数のレイアウト図形のうち、他方のレイア
ウト図形に接するレイアウト図形を他の相補マスクに属
するように振り分けるようにしてもよい。また、前記分
割データ生成手段は、分割条件記憶手段に記憶した分割
条件を満足するように、前記レイアウト図形データを異
なる複数の方向に分割することにより前記複数の分割レ
イアウト図形データを生成するようにしてもよい。ま
た、分割条件設定手段から前記分割条件記憶手段に前記
分割条件を設定するようにしてもよい。
の相補マスクに属する場合、前記分割データ生成手段は
一方のレイアウト図形を複数のレイアウト図形に分割
し、前記相補マスクデータ生成手段は、前記分割によっ
て得られる複数のレイアウト図形のうち、他方のレイア
ウト図形に接するレイアウト図形を他の相補マスクに属
するように振り分けるようにしてもよい。また、前記分
割データ生成手段は、分割条件記憶手段に記憶した分割
条件を満足するように、前記レイアウト図形データを異
なる複数の方向に分割することにより前記複数の分割レ
イアウト図形データを生成するようにしてもよい。ま
た、分割条件設定手段から前記分割条件記憶手段に前記
分割条件を設定するようにしてもよい。
【0015】また、本発明によれば、コンピュータを、
ステンシルマスクのレイアウト図形データを記憶したレ
イアウト図形情報記憶手段からレイアウト図形データを
読み込むレイアウト図形データ読み込み手段と、前記レ
イアウト図形データ読み込み手段で読み込んだ前記レイ
アウト図形データを異なる複数の方向に分割することに
よって複数の分割レイアウト図形データを生成し、前記
複数の分割レイアウト図形データを複数の相補マスクデ
ータに振り分けることによって複数の相補マスクデータ
を生成して相補マスクデータ記憶手段に記憶する相補マ
スクデータ生成手段として機能させることを特徴とする
プログラムが提供される。本発明のプログラムをコンピ
ュータで実行することにより、前記コンピュータは、ス
テンシルマスクのレイアウト図形データを記憶したレイ
アウト図形情報記憶手段からレイアウト図形データを読
み込むレイアウト図形データ読み込み手段と、前記レイ
アウト図形データ読み込み手段で読み込んだ前記レイア
ウト図形データを異なる複数の方向に分割することによ
って複数の分割レイアウト図形データを生成し、前記複
数の分割レイアウト図形データを複数の相補マスクデー
タに振り分けることによって複数の相補マスクデータを
生成して相補マスクデータ記憶手段に記憶する相補マス
クデータ生成手段として機能する。
ステンシルマスクのレイアウト図形データを記憶したレ
イアウト図形情報記憶手段からレイアウト図形データを
読み込むレイアウト図形データ読み込み手段と、前記レ
イアウト図形データ読み込み手段で読み込んだ前記レイ
アウト図形データを異なる複数の方向に分割することに
よって複数の分割レイアウト図形データを生成し、前記
複数の分割レイアウト図形データを複数の相補マスクデ
ータに振り分けることによって複数の相補マスクデータ
を生成して相補マスクデータ記憶手段に記憶する相補マ
スクデータ生成手段として機能させることを特徴とする
プログラムが提供される。本発明のプログラムをコンピ
ュータで実行することにより、前記コンピュータは、ス
テンシルマスクのレイアウト図形データを記憶したレイ
アウト図形情報記憶手段からレイアウト図形データを読
み込むレイアウト図形データ読み込み手段と、前記レイ
アウト図形データ読み込み手段で読み込んだ前記レイア
ウト図形データを異なる複数の方向に分割することによ
って複数の分割レイアウト図形データを生成し、前記複
数の分割レイアウト図形データを複数の相補マスクデー
タに振り分けることによって複数の相補マスクデータを
生成して相補マスクデータ記憶手段に記憶する相補マス
クデータ生成手段として機能する。
【0016】ここで、前記相補マスクデータ生成手段が
前記レイアウト図形データを異なる複数の方向に分割す
ることによって複数の分割レイアウト図形データを生成
する分割データ生成手段としての機能を有し、前記相補
マスクデータ生成手段が、前記分割データ生成手段で生
成した前記複数の分割レイアウト図形データを分割デー
タ記憶手段に記憶し、前記分割データ記憶手段に記憶し
た図形データを複数の相補マスクデータに振り分けるこ
とにより前記相補マスクデータを生成するように、前記
コンピュータを機能させるようにプログラムを構成して
もよい。また、前記分割データ生成手段は、前記レイア
ウト図形データの窪み部分から隣接する辺に形成した最
短の垂線にそって分割するように、前記コンピュータを
機能させるようにプログラムを構成してもよい。また、
前記分割データ生成手段は、前記最短の垂線が複数存在
する場合、各垂線の足と該垂線の足を挟む複数の頂点と
によって構成される複数の辺のうち、最長の短辺を生成
するように前記レイアウト図形を分割するように、前記
コンピュータを機能させるようにプログラムを構成して
もよい。
前記レイアウト図形データを異なる複数の方向に分割す
ることによって複数の分割レイアウト図形データを生成
する分割データ生成手段としての機能を有し、前記相補
マスクデータ生成手段が、前記分割データ生成手段で生
成した前記複数の分割レイアウト図形データを分割デー
タ記憶手段に記憶し、前記分割データ記憶手段に記憶し
た図形データを複数の相補マスクデータに振り分けるこ
とにより前記相補マスクデータを生成するように、前記
コンピュータを機能させるようにプログラムを構成して
もよい。また、前記分割データ生成手段は、前記レイア
ウト図形データの窪み部分から隣接する辺に形成した最
短の垂線にそって分割するように、前記コンピュータを
機能させるようにプログラムを構成してもよい。また、
前記分割データ生成手段は、前記最短の垂線が複数存在
する場合、各垂線の足と該垂線の足を挟む複数の頂点と
によって構成される複数の辺のうち、最長の短辺を生成
するように前記レイアウト図形を分割するように、前記
コンピュータを機能させるようにプログラムを構成して
もよい。
【0017】また、前記分割データ生成手段は、前記最
長の短辺が複数存在する場合、各垂線の足と該垂線の足
を挟む複数の頂点とによって構成される複数の辺のう
ち、最長の長辺を生成するように前記レイアウト図形を
分割するように、前記コンピュータを機能させるように
プログラムを構成してもよい。また、前記分割データ生
成手段は、前記最短の垂線が複数存在する場合、各垂線
の足と該垂線の足を挟む複数の頂点とによって構成され
る複数の辺のうち、最長の長辺を生成するように前記レ
イアウト図形を分割するように、前記コンピュータを機
能させるようにプログラムを構成してもよい。また、前
記分割データ生成手段は、前記最長の長辺が複数存在す
る場合、各垂線の足と該垂線の足を挟む複数の頂点とに
よって構成される複数の辺のうち、最長の短辺を生成す
るように前記レイアウト図形を分割するように、前記コ
ンピュータを機能させるようにプログラムを構成しても
よい。また、前記分割データ生成手段は、分割後の図形
の辺の長さが所定長以下になる場合には分割しないよう
に、前記コンピュータを機能させるようにプログラムを
構成してもよい。
長の短辺が複数存在する場合、各垂線の足と該垂線の足
を挟む複数の頂点とによって構成される複数の辺のう
ち、最長の長辺を生成するように前記レイアウト図形を
分割するように、前記コンピュータを機能させるように
プログラムを構成してもよい。また、前記分割データ生
成手段は、前記最短の垂線が複数存在する場合、各垂線
の足と該垂線の足を挟む複数の頂点とによって構成され
る複数の辺のうち、最長の長辺を生成するように前記レ
イアウト図形を分割するように、前記コンピュータを機
能させるようにプログラムを構成してもよい。また、前
記分割データ生成手段は、前記最長の長辺が複数存在す
る場合、各垂線の足と該垂線の足を挟む複数の頂点とに
よって構成される複数の辺のうち、最長の短辺を生成す
るように前記レイアウト図形を分割するように、前記コ
ンピュータを機能させるようにプログラムを構成しても
よい。また、前記分割データ生成手段は、分割後の図形
の辺の長さが所定長以下になる場合には分割しないよう
に、前記コンピュータを機能させるようにプログラムを
構成してもよい。
【0018】また、前記分割データ生成手段は、前記レ
イアウト図形の長さが所定長以上のときは窪み部分の有
無に拘わらず所定位置で分割するように、前記コンピュ
ータを機能させるようにプログラムを構成してもよい。
また、前記分割データ生成手段は、垂線の足が、既に切
断した辺上に位置するようになる場合には、前記垂線に
そっては切断しないように、前記コンピュータを機能さ
せるようにプログラムを構成してもよい。また、相接す
る2つのレイアウト図形が一の相補マスクに属する場
合、前記分割データ生成手段は一方のレイアウト図形を
複数のレイアウト図形に分割し、前記相補マスクデータ
生成手段は、前記分割によって得られる複数のレイアウ
ト図形のうち、他方のレイアウト図形に接するレイアウ
ト図形を他の相補マスクに属するように振り分けるよう
に、前記コンピュータを機能させるようにプログラムを
構成してもよい。また、前記分割データ生成手段は、前
記分割条件記憶手段に予め記憶した分割条件を満足する
ように、前記レイアウト図形データを異なる複数の方向
に分割することにより前記複数の分割レイアウト図形デ
ータを生成するように、前記コンピュータを機能させる
ようにプログラムを構成してもよい。また、前記分割条
件を前記分割条件記憶手段に設定するための分割条件設
定手段を備えて成るように、前記コンピュータを機能さ
せるようにプログラムを構成してもよい。
イアウト図形の長さが所定長以上のときは窪み部分の有
無に拘わらず所定位置で分割するように、前記コンピュ
ータを機能させるようにプログラムを構成してもよい。
また、前記分割データ生成手段は、垂線の足が、既に切
断した辺上に位置するようになる場合には、前記垂線に
そっては切断しないように、前記コンピュータを機能さ
せるようにプログラムを構成してもよい。また、相接す
る2つのレイアウト図形が一の相補マスクに属する場
合、前記分割データ生成手段は一方のレイアウト図形を
複数のレイアウト図形に分割し、前記相補マスクデータ
生成手段は、前記分割によって得られる複数のレイアウ
ト図形のうち、他方のレイアウト図形に接するレイアウ
ト図形を他の相補マスクに属するように振り分けるよう
に、前記コンピュータを機能させるようにプログラムを
構成してもよい。また、前記分割データ生成手段は、前
記分割条件記憶手段に予め記憶した分割条件を満足する
ように、前記レイアウト図形データを異なる複数の方向
に分割することにより前記複数の分割レイアウト図形デ
ータを生成するように、前記コンピュータを機能させる
ようにプログラムを構成してもよい。また、前記分割条
件を前記分割条件記憶手段に設定するための分割条件設
定手段を備えて成るように、前記コンピュータを機能さ
せるようにプログラムを構成してもよい。
【0019】
【発明の実施の形態】以下、添付図面を参照して、本発
明の実施の形態に係るステンシルマスクのレイアウト図
形データ分割処理装置、ステンシルマスクのレイアウト
図形データ分割処理方法、コンピュータにステンシルマ
スクのレイアウト図形データ分割処理を行わせるための
プログラムについて説明する。図1は、本発明の実施の
形態に係るステンシルマスクのレイアウト図形データ分
割処理装置のブロック図である。
明の実施の形態に係るステンシルマスクのレイアウト図
形データ分割処理装置、ステンシルマスクのレイアウト
図形データ分割処理方法、コンピュータにステンシルマ
スクのレイアウト図形データ分割処理を行わせるための
プログラムについて説明する。図1は、本発明の実施の
形態に係るステンシルマスクのレイアウト図形データ分
割処理装置のブロック図である。
【0020】図1において、コンピュータによって構成
されたレイアウト図形分割処理装置100は、各種演算
処理を行い処理手段を構成する中央処理装置(CPU)
101、CRT等によって構成され表示手段を構成する
表示装置102、キーボードやマウス等によって構成さ
れ操作手段や分割条件設定手段を構成する入力装置10
3、CPU101が実行するプログラムや集積回路のレ
イアウト図形データ等が記憶されると共に磁気ディスク
等によって構成された外部記憶装置105、前記プログ
ラムが一時記憶されると共に前記レイアウト図形データ
の少なくとも一部や処理過程にある情報が一時記憶され
る主記憶装置104を備えている。
されたレイアウト図形分割処理装置100は、各種演算
処理を行い処理手段を構成する中央処理装置(CPU)
101、CRT等によって構成され表示手段を構成する
表示装置102、キーボードやマウス等によって構成さ
れ操作手段や分割条件設定手段を構成する入力装置10
3、CPU101が実行するプログラムや集積回路のレ
イアウト図形データ等が記憶されると共に磁気ディスク
等によって構成された外部記憶装置105、前記プログ
ラムが一時記憶されると共に前記レイアウト図形データ
の少なくとも一部や処理過程にある情報が一時記憶され
る主記憶装置104を備えている。
【0021】外部記憶装置105は、レイアウト図形情
報記憶手段を構成するレイアウト図形情報記憶部107
及び相補マスクデータ記憶手段を構成する相補マスクデ
ータ記憶手段108を備えている。レイアウト図形情報
記憶部107は、集積回路のレイアウト図形データを予
め記憶している。また、相補マスクデータ記憶部108
は、前記レイアウト図形データの分割処理を行い、前記
分割レイアウト図形データを2枚の相補ステンシルマス
クに振り分けることによって得られる相補マスクデータ
を記憶する。主記憶装置104は、レイアウト図形を分
割した分割レイアウト図形を一時記憶するための分割デ
ータ記憶部106を有し又、仮想メモリ空間が形成され
るように構成されており、レイアウト図形分割処理装置
100が前記レイアウト図形データを利用してレイアウ
ト図形の分割処理、相補マスクの生成処理を行う際に
は、前記仮想メモリ空間を利用して処理を行う。尚、外
部記憶装置105及び主記憶装置104は記憶手段を構
成している。
報記憶手段を構成するレイアウト図形情報記憶部107
及び相補マスクデータ記憶手段を構成する相補マスクデ
ータ記憶手段108を備えている。レイアウト図形情報
記憶部107は、集積回路のレイアウト図形データを予
め記憶している。また、相補マスクデータ記憶部108
は、前記レイアウト図形データの分割処理を行い、前記
分割レイアウト図形データを2枚の相補ステンシルマス
クに振り分けることによって得られる相補マスクデータ
を記憶する。主記憶装置104は、レイアウト図形を分
割した分割レイアウト図形を一時記憶するための分割デ
ータ記憶部106を有し又、仮想メモリ空間が形成され
るように構成されており、レイアウト図形分割処理装置
100が前記レイアウト図形データを利用してレイアウ
ト図形の分割処理、相補マスクの生成処理を行う際に
は、前記仮想メモリ空間を利用して処理を行う。尚、外
部記憶装置105及び主記憶装置104は記憶手段を構
成している。
【0022】図2及び図3は、本発明の実施の形態に係
るステンシルマスクのレイアウト図形データ分割処理装
置100の処理を示すフローチャートで、外部記憶装置
105にインストールされたプログラムを主記憶装置1
04に記憶し、CPU101で処理することにより実行
される。図4〜図11は、本発明の実施の形態における
処理を説明するための図で、半導体集積回路のレイアウ
ト図形を示す図である。尚、図4〜図11のレイアウト
図形は表示装置102に表示するようにしてもよい。
るステンシルマスクのレイアウト図形データ分割処理装
置100の処理を示すフローチャートで、外部記憶装置
105にインストールされたプログラムを主記憶装置1
04に記憶し、CPU101で処理することにより実行
される。図4〜図11は、本発明の実施の形態における
処理を説明するための図で、半導体集積回路のレイアウ
ト図形を示す図である。尚、図4〜図11のレイアウト
図形は表示装置102に表示するようにしてもよい。
【0023】以下、図1〜図11を用いて、本発明の実
施の形態に係るステンシルマスクのレイアウト図形デー
タ分割処理装置、ステンシルマスクのレイアウト図形デ
ータ分割処理方法、コンピュータにステンシルマスクの
レイアウト図形データ分割処理を行わせるためのプログ
ラムについて詳細に説明する。入力装置103による操
作に応答して、先ず、レイアウト図形情報記憶部107
から半導体集積回路のレイアウト図形データ読み出す
(ステップS201)。ここで、ステップS201はレ
イアウト図形データ読み出し手段を構成している。次
に、読み出したレイアウト図形データに含まれる窪み部
分のうち、最も幅狭の部分を検出する(ステップS20
2)。ここで、窪み部分とは、レイアウト図形の開口部
を構成する複数の辺の連結点であって開口部分の凹部側
を意味している。
施の形態に係るステンシルマスクのレイアウト図形デー
タ分割処理装置、ステンシルマスクのレイアウト図形デ
ータ分割処理方法、コンピュータにステンシルマスクの
レイアウト図形データ分割処理を行わせるためのプログ
ラムについて詳細に説明する。入力装置103による操
作に応答して、先ず、レイアウト図形情報記憶部107
から半導体集積回路のレイアウト図形データ読み出す
(ステップS201)。ここで、ステップS201はレ
イアウト図形データ読み出し手段を構成している。次
に、読み出したレイアウト図形データに含まれる窪み部
分のうち、最も幅狭の部分を検出する(ステップS20
2)。ここで、窪み部分とは、レイアウト図形の開口部
を構成する複数の辺の連結点であって開口部分の凹部側
を意味している。
【0024】ステップS202では、各窪み部分を起点
として、隣接する辺に垂線を形成し、該垂線が最も短い
部分(換言すれば開口部分が最も幅狭の部分)を検出す
る。前記垂線は、横方向又は縦方向の一方向のみなら
ず、垂線を形成できる方向であれば、横方向、縦方向の
いずれの方向にも形成される。次に、前記窪み部分のう
ち、最も幅狭の開口部分、換言すれば、最も長さの短い
垂線が複数存在するか否かを判断する(ステップS20
3)。ステップS203において、最も幅狭の開口部分
が一つしか存在しないと判断した場合には、該最も幅狭
の開口部分に形成した垂線を切断候補に決定し(ステッ
プS204)、ステップS209に移行する。
として、隣接する辺に垂線を形成し、該垂線が最も短い
部分(換言すれば開口部分が最も幅狭の部分)を検出す
る。前記垂線は、横方向又は縦方向の一方向のみなら
ず、垂線を形成できる方向であれば、横方向、縦方向の
いずれの方向にも形成される。次に、前記窪み部分のう
ち、最も幅狭の開口部分、換言すれば、最も長さの短い
垂線が複数存在するか否かを判断する(ステップS20
3)。ステップS203において、最も幅狭の開口部分
が一つしか存在しないと判断した場合には、該最も幅狭
の開口部分に形成した垂線を切断候補に決定し(ステッ
プS204)、ステップS209に移行する。
【0025】ここで、ステップS203、S204にお
ける切断候補の決定処理について、図4を用いて説明す
る。ステップS203、S204におけるレイアウト図
形の切断候補の決定処理は、基本的に、先ずレイアウト
図形の窪み部分から隣接する辺に対して垂線を形成し、
該垂線のうちの最短の垂線を切断候補とするものであ
る。図4において、開口部分301は略コの字状に形成
されており、点A及び点Bが窪み部分である。窪み部分
Aから、隣接する辺302へは点SにX方向(横方向)
の垂線ASが形成され又、隣接する辺303へは点Tに
Y方向(縦方向)の垂線ATが形成される。同様に、窪
み部分Bからは、隣接する辺303へは点UにY方向の
垂線BUが形成され又、隣接する辺304へは点VにX
方向の垂線BVが形成される。垂線AS、AT、BU、
BVのうち、垂線ASが最も短いため、即ち、開口部分
301の中で垂線AS部分が最も幅狭であるため、垂線
ASを切断候補として決定する。更に、垂線ASにそっ
てレイアウト図形を2分割した場合には、分割後に生じ
た2つの各レイアウト図形についても前記同様にして切
断候補を決定して分割処理を行うことにより全ての窪み
部分についての処理を行う(後述するステップS21
4)。
ける切断候補の決定処理について、図4を用いて説明す
る。ステップS203、S204におけるレイアウト図
形の切断候補の決定処理は、基本的に、先ずレイアウト
図形の窪み部分から隣接する辺に対して垂線を形成し、
該垂線のうちの最短の垂線を切断候補とするものであ
る。図4において、開口部分301は略コの字状に形成
されており、点A及び点Bが窪み部分である。窪み部分
Aから、隣接する辺302へは点SにX方向(横方向)
の垂線ASが形成され又、隣接する辺303へは点Tに
Y方向(縦方向)の垂線ATが形成される。同様に、窪
み部分Bからは、隣接する辺303へは点UにY方向の
垂線BUが形成され又、隣接する辺304へは点VにX
方向の垂線BVが形成される。垂線AS、AT、BU、
BVのうち、垂線ASが最も短いため、即ち、開口部分
301の中で垂線AS部分が最も幅狭であるため、垂線
ASを切断候補として決定する。更に、垂線ASにそっ
てレイアウト図形を2分割した場合には、分割後に生じ
た2つの各レイアウト図形についても前記同様にして切
断候補を決定して分割処理を行うことにより全ての窪み
部分についての処理を行う(後述するステップS21
4)。
【0026】一方、ステップS203において、最も幅
狭の開口部分が複数存在すると判断した場合には、前記
最も幅狭の部分について、窪み部分から隣接する辺に形
成した垂線の足と該垂線の足を挟む2つの頂点との距離
が短い方の線分(短辺)の長さを比較する(ステップS
205)。次に、最長の前記短辺が複数存在するか否か
を判断し(ステップS206)、最長の前記短辺が一つ
しか存在しない場合には該短辺が生成される垂線を切断
候補として決定し(ステップS207)、ステップS2
09に移行する。ステップS206において、最長の前
記短辺が複数存在すると判断した場合には、前記短辺が
最長のものについて、窪み部分から隣接する辺に形成し
た垂線の足と該垂線の足を挟む2つの頂点との距離が長
い方の線分(長辺)の長さが最も長いものが生成される
垂線を切断候補に決定し(ステップS208)、ステッ
プ209に移行する。
狭の開口部分が複数存在すると判断した場合には、前記
最も幅狭の部分について、窪み部分から隣接する辺に形
成した垂線の足と該垂線の足を挟む2つの頂点との距離
が短い方の線分(短辺)の長さを比較する(ステップS
205)。次に、最長の前記短辺が複数存在するか否か
を判断し(ステップS206)、最長の前記短辺が一つ
しか存在しない場合には該短辺が生成される垂線を切断
候補として決定し(ステップS207)、ステップS2
09に移行する。ステップS206において、最長の前
記短辺が複数存在すると判断した場合には、前記短辺が
最長のものについて、窪み部分から隣接する辺に形成し
た垂線の足と該垂線の足を挟む2つの頂点との距離が長
い方の線分(長辺)の長さが最も長いものが生成される
垂線を切断候補に決定し(ステップS208)、ステッ
プ209に移行する。
【0027】ここで、ステップS203において最も幅
狭の開口部分が複数存在すると判断した場合に、ステッ
プS205〜S208における処理を、図5を用いて具
体的に説明する。ステップS205〜S208における
レイアウト図形切断候補の決定処理は、基本的に、複数
の窪み部分から隣接する辺に対して形成した垂線の足か
ら、前記垂線の足を挟む両側の頂点までの距離を算出
し、長さが最も余裕のある候補を切断候補として決定す
るようにしている。例えば、先ず、各切断候補の垂線の
足と該垂線の足を挟む2つの頂点とによって形成される
線分のうち短辺について長さを比較し、短辺が最も長い
レイアウト図形を生成するような垂線を切断候補として
決定する。短辺が最長のものが複数存在する場合には、
前記短辺が最長のものについて、窪み部分から隣接する
辺に対して形成した垂線の足と該垂線の足を挟む2つの
頂点とによって形成される線分のうち長辺について長さ
を比較し、長辺が最長のレイアウト図形を生成するよう
な垂線を切断候補として決定する。
狭の開口部分が複数存在すると判断した場合に、ステッ
プS205〜S208における処理を、図5を用いて具
体的に説明する。ステップS205〜S208における
レイアウト図形切断候補の決定処理は、基本的に、複数
の窪み部分から隣接する辺に対して形成した垂線の足か
ら、前記垂線の足を挟む両側の頂点までの距離を算出
し、長さが最も余裕のある候補を切断候補として決定す
るようにしている。例えば、先ず、各切断候補の垂線の
足と該垂線の足を挟む2つの頂点とによって形成される
線分のうち短辺について長さを比較し、短辺が最も長い
レイアウト図形を生成するような垂線を切断候補として
決定する。短辺が最長のものが複数存在する場合には、
前記短辺が最長のものについて、窪み部分から隣接する
辺に対して形成した垂線の足と該垂線の足を挟む2つの
頂点とによって形成される線分のうち長辺について長さ
を比較し、長辺が最長のレイアウト図形を生成するよう
な垂線を切断候補として決定する。
【0028】図5を用いて前記処理の例を具体的に説明
する。図5において、開口部分501は略コの字状に形
成されており、点F及び点Gが窪み部分である。窪み部
分Fから、隣接する辺502へは点VにX方向(横方
向)の垂線FVが形成され又、隣接する辺503へは点
UにY方向(縦方向)の垂線FUが形成される。同様
に、窪み部分Gからは、隣接する辺503へは点TにY
方向の垂線GTが形成され又、隣接する辺504へは点
SにX方向の垂線GSが形成される。そこで先ず、垂線
GS、GT、FU、FVのうち、最も短いものが切断候
補として決定される(ステップS202)。もし、垂線
GS、GT、FU、FVの長さが全て同一の場合には、
ステップS203において、最も幅狭の開口部分が複数
存在すると判断し、ステップS205へ移行して各短辺
の長さを比較する。ここで、短辺は、短辺SB、短辺T
B、短辺UC、短辺VCの4つであるため、各短辺S
B、短辺TB、短辺UC、短辺VCの長さを比較して最
長の短辺が1つ存在する場合には、該最長の短辺が生成
するような垂線を切断候補として決定する(ステップS
206、S207)。もし、各短辺SB、短辺TB、短
辺UC、短辺VCの長さが全て同一の場合には、ステッ
プS206において最長の短辺が複数存在すると判断し
て、長辺SA、TC、UB、VDのうち、最長のものを
生成するような垂線を切断候補として決定する(ステッ
プS208)。図5の例では、長辺SAが最長であるた
め、垂線GSを切断候補として決定する。
する。図5において、開口部分501は略コの字状に形
成されており、点F及び点Gが窪み部分である。窪み部
分Fから、隣接する辺502へは点VにX方向(横方
向)の垂線FVが形成され又、隣接する辺503へは点
UにY方向(縦方向)の垂線FUが形成される。同様
に、窪み部分Gからは、隣接する辺503へは点TにY
方向の垂線GTが形成され又、隣接する辺504へは点
SにX方向の垂線GSが形成される。そこで先ず、垂線
GS、GT、FU、FVのうち、最も短いものが切断候
補として決定される(ステップS202)。もし、垂線
GS、GT、FU、FVの長さが全て同一の場合には、
ステップS203において、最も幅狭の開口部分が複数
存在すると判断し、ステップS205へ移行して各短辺
の長さを比較する。ここで、短辺は、短辺SB、短辺T
B、短辺UC、短辺VCの4つであるため、各短辺S
B、短辺TB、短辺UC、短辺VCの長さを比較して最
長の短辺が1つ存在する場合には、該最長の短辺が生成
するような垂線を切断候補として決定する(ステップS
206、S207)。もし、各短辺SB、短辺TB、短
辺UC、短辺VCの長さが全て同一の場合には、ステッ
プS206において最長の短辺が複数存在すると判断し
て、長辺SA、TC、UB、VDのうち、最長のものを
生成するような垂線を切断候補として決定する(ステッ
プS208)。図5の例では、長辺SAが最長であるた
め、垂線GSを切断候補として決定する。
【0029】次に、レイアウト図形データを前記切断候
補で切断して分割した場合に、所定長以下の辺を有する
微小片が生成されないか否かを判断する(ステップS2
09)。図6は、ステップS209における切断候補の
決定処理を説明するための図である。図6において、開
口部分601は大きな長方形状部分に小さな長方形部分
が一体となった形状に形成されており、点Aが窪み部分
である。窪み部分Aから隣接する辺602上の点Sに、
Y方向の垂線ASが形成される。したがって、垂線AS
で切断した場合、小さな四角形ASCBが生成すること
になる。この場合、辺AB及び辺SCのいずれか一方の
長さが所定値以下の場合には、微少片が生成されること
になる。そこで、辺AB及び辺SCの少なくとも一方の
辺の長さが予め定めた所定値以下の場合には、辺ASを
切断候補とはしないようにする。ステップS209で
は、この様にして、ステップS204、S207、S2
08で決定した切断候補を有効な切断候補にするか否か
を判断する。これにより、レイアウト図形切断時の微小
片図形の発生を抑えることができる。ステップS209
において、微小片が生成されると判断した場合には切断
候補を取り消して(ステップS210)ステップS21
4へ移行し、微小片が生成されないと判断した場合に
は、切断候補である垂線の足が、既に切断された辺上に
位置しないか否かを判断する(ステップS211)。
補で切断して分割した場合に、所定長以下の辺を有する
微小片が生成されないか否かを判断する(ステップS2
09)。図6は、ステップS209における切断候補の
決定処理を説明するための図である。図6において、開
口部分601は大きな長方形状部分に小さな長方形部分
が一体となった形状に形成されており、点Aが窪み部分
である。窪み部分Aから隣接する辺602上の点Sに、
Y方向の垂線ASが形成される。したがって、垂線AS
で切断した場合、小さな四角形ASCBが生成すること
になる。この場合、辺AB及び辺SCのいずれか一方の
長さが所定値以下の場合には、微少片が生成されること
になる。そこで、辺AB及び辺SCの少なくとも一方の
辺の長さが予め定めた所定値以下の場合には、辺ASを
切断候補とはしないようにする。ステップS209で
は、この様にして、ステップS204、S207、S2
08で決定した切断候補を有効な切断候補にするか否か
を判断する。これにより、レイアウト図形切断時の微小
片図形の発生を抑えることができる。ステップS209
において、微小片が生成されると判断した場合には切断
候補を取り消して(ステップS210)ステップS21
4へ移行し、微小片が生成されないと判断した場合に
は、切断候補である垂線の足が、既に切断された辺上に
位置しないか否かを判断する(ステップS211)。
【0030】図7及び図8は、前記ステップS211に
おける切断候補の決定処理を説明するための図である。
切断された3つ以上のレイアウト図形が隣接すると共
に、隣接するレイアウト図形が同一の相補マスクに属す
る場合には、マスク作成上問題が生じる。即ち、図7に
示すように、先ず窪み部分Aから隣接する辺701に対
して垂線ASを形成して垂線ASを切断候補として決定
し、その後、窪み部分Bから隣接する辺702に対して
垂線BTを形成し、垂線BTを2つ目の切断候補とした
場合、3つのレイアウト図形703〜705が互いに接
しているため、2つの相補マスク1、2へのレイアウト
図形の割り振りが不可能になる。そこで、既に切断処理
されているレイアウト図形に関して、垂線の足が既存の
切断辺上に位置するようになる場合には、該垂線は切断
候補とはしないようにする。この処理により、3つ以上
の図形がお互いに接し合うことが無くなるので、相補マ
スクへのレイアウト図形の割り振りが保証される。
おける切断候補の決定処理を説明するための図である。
切断された3つ以上のレイアウト図形が隣接すると共
に、隣接するレイアウト図形が同一の相補マスクに属す
る場合には、マスク作成上問題が生じる。即ち、図7に
示すように、先ず窪み部分Aから隣接する辺701に対
して垂線ASを形成して垂線ASを切断候補として決定
し、その後、窪み部分Bから隣接する辺702に対して
垂線BTを形成し、垂線BTを2つ目の切断候補とした
場合、3つのレイアウト図形703〜705が互いに接
しているため、2つの相補マスク1、2へのレイアウト
図形の割り振りが不可能になる。そこで、既に切断処理
されているレイアウト図形に関して、垂線の足が既存の
切断辺上に位置するようになる場合には、該垂線は切断
候補とはしないようにする。この処理により、3つ以上
の図形がお互いに接し合うことが無くなるので、相補マ
スクへのレイアウト図形の割り振りが保証される。
【0031】これを図8を用いてさらに説明すると、ス
テップS211では、レイアウト図形が線分ASで切断
された後、次の切断候補を決定する際に、窪み部分Bか
らの垂線の足Tは既存の切断辺AS上に位置するので、
垂線の足Tは切断候補点とはされず、その代わり、ステ
ップS212において、窪み部分Bから隣接する辺70
2に対してY方向に形成した垂線BUを切断候補に変更
して、該決定した切断候補BUでレイアウト図形を切断
し分割し、前記分割処理で得られた複数のレイアウト図
形データを分割データ記憶部106に記憶する(ステッ
プS213)。分割後のレイアウト図形データ(分割図
形データ)も含めて、全ての窪み部分について前記処理
を行い、得られた分割レイアウト図形データを分割デー
タ記憶部106に記憶する(ステップS214)。次
に、得られた複数の分割図形データの長さが、予め定め
た所定長以上のものが存在する場合には、該分割図形デ
ータを更に切断して分割し、前記所定長以上の分割図形
データが存在しないようにする(ステップS215)。
前記処理によって得られた分割図形データも分割データ
記憶部106に記憶する。次に、得られた全ての分割図
形データを2枚の相補ステンシルに振り分ける(ステッ
プS216)。
テップS211では、レイアウト図形が線分ASで切断
された後、次の切断候補を決定する際に、窪み部分Bか
らの垂線の足Tは既存の切断辺AS上に位置するので、
垂線の足Tは切断候補点とはされず、その代わり、ステ
ップS212において、窪み部分Bから隣接する辺70
2に対してY方向に形成した垂線BUを切断候補に変更
して、該決定した切断候補BUでレイアウト図形を切断
し分割し、前記分割処理で得られた複数のレイアウト図
形データを分割データ記憶部106に記憶する(ステッ
プS213)。分割後のレイアウト図形データ(分割図
形データ)も含めて、全ての窪み部分について前記処理
を行い、得られた分割レイアウト図形データを分割デー
タ記憶部106に記憶する(ステップS214)。次
に、得られた複数の分割図形データの長さが、予め定め
た所定長以上のものが存在する場合には、該分割図形デ
ータを更に切断して分割し、前記所定長以上の分割図形
データが存在しないようにする(ステップS215)。
前記処理によって得られた分割図形データも分割データ
記憶部106に記憶する。次に、得られた全ての分割図
形データを2枚の相補ステンシルに振り分ける(ステッ
プS216)。
【0032】次に、隣接する分割図形が同一の相補マス
クに属するか否かを判断する(図3のステップS21
7)。例えば、図9に示すように、閉図形を分割処理す
る場合、単純に分割を行うと、隣接するレイアウト図形
同士が同一の相補マスクに属するようになる場合が生
じ、マスク作成上問題となる。即ち、図9において、閉
図形の開口部分を、複数の開口部分601〜605に分
割し、開口部分601、603は第1の相補マスク1に
属し、開口部分602、604、605は第2の相補マ
スク2に属するように振り分けた場合、同一の相補マス
クに属する開口部分604、605が相互に接してい
る。そのため、相補マスク2では開口部分604、60
5が分割されず、マスク作成上問題となる。
クに属するか否かを判断する(図3のステップS21
7)。例えば、図9に示すように、閉図形を分割処理す
る場合、単純に分割を行うと、隣接するレイアウト図形
同士が同一の相補マスクに属するようになる場合が生
じ、マスク作成上問題となる。即ち、図9において、閉
図形の開口部分を、複数の開口部分601〜605に分
割し、開口部分601、603は第1の相補マスク1に
属し、開口部分602、604、605は第2の相補マ
スク2に属するように振り分けた場合、同一の相補マス
クに属する開口部分604、605が相互に接してい
る。そのため、相補マスク2では開口部分604、60
5が分割されず、マスク作成上問題となる。
【0033】ステップS217〜S220では、係る問
題が生じないようにしている。即ち、ステップ217
で、隣接する図形が同一の相補マスクに属すると判断し
た場合、隣接するレイアウト図形の一方を切断し(ステ
ップS218)、該切断して得られた2つのレイアウト
図形のうち、他方のレイアウト図形に接するレイアウト
図形を、他方の相補マスクに移動する(ステップS21
9)。即ち、図10及び図11に示すように、ステンシ
ルマスク2に属する図形604をX軸方向で2分割し、
得られた2つのレイアウト図形1001、1002のう
ち、レイアウト図形605に接する図形1001をマス
ク1に属するように変更する。これにより、図11に示
すように、相互に接する図形が同一の相補マスクに属す
るような事態の発生を防止でき、レイアウト図形の分
割、振り分け処理が正しく行われることになる。上記処
理を全てのレイアウト図形に対して行い、得られたレイ
アウト図形データは全て分割データ記憶部106に記憶
する(ステップS220)。
題が生じないようにしている。即ち、ステップ217
で、隣接する図形が同一の相補マスクに属すると判断し
た場合、隣接するレイアウト図形の一方を切断し(ステ
ップS218)、該切断して得られた2つのレイアウト
図形のうち、他方のレイアウト図形に接するレイアウト
図形を、他方の相補マスクに移動する(ステップS21
9)。即ち、図10及び図11に示すように、ステンシ
ルマスク2に属する図形604をX軸方向で2分割し、
得られた2つのレイアウト図形1001、1002のう
ち、レイアウト図形605に接する図形1001をマス
ク1に属するように変更する。これにより、図11に示
すように、相互に接する図形が同一の相補マスクに属す
るような事態の発生を防止でき、レイアウト図形の分
割、振り分け処理が正しく行われることになる。上記処
理を全てのレイアウト図形に対して行い、得られたレイ
アウト図形データは全て分割データ記憶部106に記憶
する(ステップS220)。
【0034】分割データ記憶部106に記憶した複数の
分割レイアウト図形データを、複数の相補マスクに割り
振り、これによって得られた相補マスクデータを相補マ
スクデータ記憶部108に記憶して処理を終了する(ス
テップS221)。尚、前記処理において、ステップS
202〜S221は相補マスクデータ生成手段を構成し
又、ステップS202〜S215、S217〜S220
は分割データ生成手段を構成している。
分割レイアウト図形データを、複数の相補マスクに割り
振り、これによって得られた相補マスクデータを相補マ
スクデータ記憶部108に記憶して処理を終了する(ス
テップS221)。尚、前記処理において、ステップS
202〜S221は相補マスクデータ生成手段を構成し
又、ステップS202〜S215、S217〜S220
は分割データ生成手段を構成している。
【0035】以上述べたように、本発明の実施の形態に
係るステンシルマスクのレイアウト図形分割処理装置
は、特に、ステンシルマスクのレイアウト図形データを
記憶したレイアウト図形情報記憶手段と、前記レイアウ
ト図形情報記憶手段からレイアウト図形データを読み込
むレイアウト図形データ読み込み手段と、相補マスクデ
ータを記憶するための相補マスクデータ記憶手段と、前
記レイアウト図形データ読み込み手段で読み込んだ前記
レイアウト図形データを異なる複数の方向に分割するこ
とによって複数の分割レイアウト図形データを生成し、
前記複数の分割レイアウト図形データを複数の相補マス
クデータに振り分けることによって複数の相補マスクデ
ータを生成して前記相補マスクデータ記憶手段に記憶す
る相補マスクデータ生成手段とを備えて成ることを特徴
としている。したがって、複雑なレイアウト図形の場合
でも、最適な分割処理を行うことが可能になる。
係るステンシルマスクのレイアウト図形分割処理装置
は、特に、ステンシルマスクのレイアウト図形データを
記憶したレイアウト図形情報記憶手段と、前記レイアウ
ト図形情報記憶手段からレイアウト図形データを読み込
むレイアウト図形データ読み込み手段と、相補マスクデ
ータを記憶するための相補マスクデータ記憶手段と、前
記レイアウト図形データ読み込み手段で読み込んだ前記
レイアウト図形データを異なる複数の方向に分割するこ
とによって複数の分割レイアウト図形データを生成し、
前記複数の分割レイアウト図形データを複数の相補マス
クデータに振り分けることによって複数の相補マスクデ
ータを生成して前記相補マスクデータ記憶手段に記憶す
る相補マスクデータ生成手段とを備えて成ることを特徴
としている。したがって、複雑なレイアウト図形の場合
でも、最適な分割処理を行うことが可能になる。
【0036】また、本発明の実施の形態に係るステンシ
ルマスクのレイアウト図形分割処理方法は、特に、レイ
アウト図形データ読み込み手段が、ステンシルマスクの
レイアウト図形データを記憶したレイアウト図形情報記
憶手段からレイアウト図形データを読み込み、相補マス
クデータ生成手段が、前記レイアウト図形データ読み込
み手段で読み込んだレイアウト図形データを異なる複数
の方向に分割することによって複数の分割レイアウト図
形データを生成し、前記複数の分割レイアウト図形デー
タを複数の相補マスクデータに振り分けることによって
複数の相補マスクデータを生成して相補マスクデータ記
憶手段に記憶することを特徴としている。したがって、
複雑なレイアウト図形の場合でも、最適な分割処理を行
うことが可能になる。
ルマスクのレイアウト図形分割処理方法は、特に、レイ
アウト図形データ読み込み手段が、ステンシルマスクの
レイアウト図形データを記憶したレイアウト図形情報記
憶手段からレイアウト図形データを読み込み、相補マス
クデータ生成手段が、前記レイアウト図形データ読み込
み手段で読み込んだレイアウト図形データを異なる複数
の方向に分割することによって複数の分割レイアウト図
形データを生成し、前記複数の分割レイアウト図形デー
タを複数の相補マスクデータに振り分けることによって
複数の相補マスクデータを生成して相補マスクデータ記
憶手段に記憶することを特徴としている。したがって、
複雑なレイアウト図形の場合でも、最適な分割処理を行
うことが可能になる。
【0037】また、本発明のプログラムは、特に、コン
ピュータを、ステンシルマスクのレイアウト図形データ
を記憶したレイアウト図形情報記憶手段からレイアウト
図形データを読み込むレイアウト図形データ読み込み手
段と、前記レイアウト図形データ読み込み手段で読み込
んだ前記レイアウト図形データを異なる複数の方向に分
割することによって複数の分割レイアウト図形データを
生成し、前記複数の分割レイアウト図形データを複数の
相補マスクデータに振り分けることによって複数の相補
マスクデータを生成して相補マスクデータ記憶手段に記
憶する相補マスクデータ生成手段として機能させること
を特徴としている。したがって、コンピュータに本プロ
グラムを実行させることにより、複雑なレイアウト図形
の場合でも、最適な分割処理を行うことが可能になる。
ピュータを、ステンシルマスクのレイアウト図形データ
を記憶したレイアウト図形情報記憶手段からレイアウト
図形データを読み込むレイアウト図形データ読み込み手
段と、前記レイアウト図形データ読み込み手段で読み込
んだ前記レイアウト図形データを異なる複数の方向に分
割することによって複数の分割レイアウト図形データを
生成し、前記複数の分割レイアウト図形データを複数の
相補マスクデータに振り分けることによって複数の相補
マスクデータを生成して相補マスクデータ記憶手段に記
憶する相補マスクデータ生成手段として機能させること
を特徴としている。したがって、コンピュータに本プロ
グラムを実行させることにより、複雑なレイアウト図形
の場合でも、最適な分割処理を行うことが可能になる。
【0038】尚、図2及び図3に示した各種処理を必要
に応じて前後させることは可能である。例えば、ステッ
プS206で、最短の垂線が複数存在する場合、各垂線
の足と該垂線の足を挟む複数の頂点とによって構成され
る複数の辺のうち、最長の長辺を生成するように前記レ
イアウト図形を分割し、更に、前記最長の長辺が複数存
在する場合には、各垂線の足と該垂線の足を挟む複数の
頂点とによって構成される複数の辺のうち、最長の短辺
を生成するように前記レイアウト図形を分割するように
構成してもよい。また、微小片が生成するか否かの判断
処理(ステップ209)等は、いずれかの処理を行う毎
に実行する等、複数回行うようにしてもよい。また、外
部記憶装置105内に、レイアウト図形の分割条件を予
め記憶した分割条件記憶手段を設け、前記分割データ生
成手段は、前記分割条件記憶手段に記憶した分割条件を
満足するように、前記レイアウト図形データを異なる複
数の方向に分割することにより前記複数の分割レイアウ
ト図形データを生成するように構成してもよい。この場
合、入力装置103を操作することにより前記分割条件
を入力し、前記分割条件記憶手段に記憶するようにして
もよい。
に応じて前後させることは可能である。例えば、ステッ
プS206で、最短の垂線が複数存在する場合、各垂線
の足と該垂線の足を挟む複数の頂点とによって構成され
る複数の辺のうち、最長の長辺を生成するように前記レ
イアウト図形を分割し、更に、前記最長の長辺が複数存
在する場合には、各垂線の足と該垂線の足を挟む複数の
頂点とによって構成される複数の辺のうち、最長の短辺
を生成するように前記レイアウト図形を分割するように
構成してもよい。また、微小片が生成するか否かの判断
処理(ステップ209)等は、いずれかの処理を行う毎
に実行する等、複数回行うようにしてもよい。また、外
部記憶装置105内に、レイアウト図形の分割条件を予
め記憶した分割条件記憶手段を設け、前記分割データ生
成手段は、前記分割条件記憶手段に記憶した分割条件を
満足するように、前記レイアウト図形データを異なる複
数の方向に分割することにより前記複数の分割レイアウ
ト図形データを生成するように構成してもよい。この場
合、入力装置103を操作することにより前記分割条件
を入力し、前記分割条件記憶手段に記憶するようにして
もよい。
【0039】
【発明の効果】本発明に係るステンシルマスクのレイア
ウト図形データ分割処理装置によれば、複雑なレイアウ
ト図形の場合でも、最適な分割処理を行うことが可能に
なる。また、本発明に係るステンシルマスクのレイアウ
ト図形データ分割処理方法によれば、複雑なレイアウト
図形の場合でも、最適な分割処理を行うことが可能にな
る。また、本発明に係るプログラムによれば、複雑なレ
イアウト図形の場合でも、コンピュータに最適な分割処
理を行わせることが可能になる。
ウト図形データ分割処理装置によれば、複雑なレイアウ
ト図形の場合でも、最適な分割処理を行うことが可能に
なる。また、本発明に係るステンシルマスクのレイアウ
ト図形データ分割処理方法によれば、複雑なレイアウト
図形の場合でも、最適な分割処理を行うことが可能にな
る。また、本発明に係るプログラムによれば、複雑なレ
イアウト図形の場合でも、コンピュータに最適な分割処
理を行わせることが可能になる。
【図1】本発明の実施の形態に係るステンシルマスクの
レイアウト図形データ分割処理装置のブロック図であ
る。
レイアウト図形データ分割処理装置のブロック図であ
る。
【図2】本発明の実施の形態に係る処理を示すフローチ
ャートである。
ャートである。
【図3】本発明の実施の形態に係る処理を示すフローチ
ャートである。
ャートである。
【図4】本発明の実施の形態におけるレイアウト図形の
分割処理を説明するための説明図である。
分割処理を説明するための説明図である。
【図5】本発明の実施の形態におけるレイアウト図形の
分割処理を説明するための説明図である。
分割処理を説明するための説明図である。
【図6】本発明の実施の形態におけるレイアウト図形の
分割処理を説明するための説明図である。
分割処理を説明するための説明図である。
【図7】本発明の実施の形態におけるレイアウト図形の
分割処理を説明するための説明図である。
分割処理を説明するための説明図である。
【図8】本発明の実施の形態におけるレイアウト図形の
分割処理を説明するための説明図である。
分割処理を説明するための説明図である。
【図9】本発明の実施の形態におけるレイアウト図形の
分割処理を説明するための説明図である。
分割処理を説明するための説明図である。
【図10】本発明の実施の形態におけるレイアウト図形
の分割処理を説明するための説明図である。
の分割処理を説明するための説明図である。
【図11】本発明の実施の形態におけるレイアウト図形
の分割処理を説明するための説明図である。
の分割処理を説明するための説明図である。
【図12】一般的なレイアウト図形の分割処理を説明す
るための説明図である。
るための説明図である。
【図13】一般的なレイアウト図形の分割処理を説明す
るための説明図である。
るための説明図である。
【図14】従来のレイアウト図形の分割処理を説明する
ための説明図である。
ための説明図である。
【図15】従来のレイアウト図形の分割処理を説明する
ための説明図である。
ための説明図である。
100・・・レイアウト図形データ分割処理装置
101・・・相補マスクデータ生成手段及び分割データ
生成手段を構成するCPU 102・・・表示手段を構成する表示装置 103・・・操作手段を構成する入力装置 104・・・記憶手段を構成する主記憶装置 105・・・記憶手段を構成する外部記憶装置 106・・・分割データ記憶手段を構成する分割データ
記憶部 107・・・レイアウト図形情報記憶手段を構成するレ
イアウト図形情報記憶部 108・・・相補マスクデータ記憶手段を構成する相補
マスクデータ記憶部
生成手段を構成するCPU 102・・・表示手段を構成する表示装置 103・・・操作手段を構成する入力装置 104・・・記憶手段を構成する主記憶装置 105・・・記憶手段を構成する外部記憶装置 106・・・分割データ記憶手段を構成する分割データ
記憶部 107・・・レイアウト図形情報記憶手段を構成するレ
イアウト図形情報記憶部 108・・・相補マスクデータ記憶手段を構成する相補
マスクデータ記憶部
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(54)【発明の名称】 ステンシルマスクのレイアウト図形データ分割処理装置、ステンシルマスクのレイアウト図形デ
ータ分割処理方法、コンピュータにステンシルマスクのレイアウト図形データ分割処理を行わせ
るためのプログラム
Claims (39)
- 【請求項1】 ステンシルマスクのレイアウト図形デー
タを記憶したレイアウト図形情報記憶手段と、 前記レイアウト図形情報記憶手段からレイアウト図形デ
ータを読み込むレイアウト図形データ読み込み手段と、 相補マスクデータを記憶するための相補マスクデータ記
憶手段と、 前記レイアウト図形データ読み込み手段で読み込んだ前
記レイアウト図形データを異なる複数の方向に分割する
ことによって複数の分割レイアウト図形データを生成
し、前記複数の分割レイアウト図形データを複数の相補
マスクデータに振り分けることによって複数の相補マス
クデータを生成して前記相補マスクデータ記憶手段に記
憶する相補マスクデータ生成手段とを備えて成ることを
特徴とするステンシルマスクのレイアウト図形分割処理
装置。 - 【請求項2】 複数の分割レイアウト図形データを記憶
するための分割データ記憶手段を有すると共に、前記相
補マスクデータ生成手段は前記レイアウト図形データを
異なる複数の方向に分割することによって複数の分割レ
イアウト図形データを生成する分割データ生成手段を有
して成り、 前記相補マスクデータ生成手段は、前記分割データ生成
手段で生成した前記複数の分割レイアウト図形データを
前記分割データ記憶手段に記憶し、前記分割データ記憶
手段に記憶した図形データを複数の相補マスクデータに
振り分けることにより前記相補マスクデータを生成する
ことを特徴とする請求項1記載のステンシルマスクのレ
イアウト図形分割処理装置。 - 【請求項3】 前記分割データ生成手段は、前記レイア
ウト図形データの窪み部分から隣接する辺に形成した最
短の垂線にそって分割することを特徴とする請求項2記
載のステンシルマスクのレイアウト図形分割処理装置。 - 【請求項4】 前記分割データ生成手段は、前記最短の
垂線が複数存在する場合、各垂線の足と該垂線の足を挟
む複数の頂点とによって構成される複数の辺のうち、最
長の短辺を生成するように前記レイアウト図形を分割す
ることを特徴とする請求項3記載のステンシルマスクの
レイアウト図形分割処理装置。 - 【請求項5】 前記分割データ生成手段は、前記最長の
短辺が複数存在する場合、各垂線の足と該垂線の足を挟
む複数の頂点とによって構成される複数の辺のうち、最
長の長辺を生成するように前記レイアウト図形を分割す
ることを特徴とする請求項4記載のステンシルマスクの
レイアウト図形分割処理装置。 - 【請求項6】 前記分割データ生成手段は、前記最短の
垂線が複数存在する場合、各垂線の足と該垂線の足を挟
む複数の頂点とによって構成される複数の辺のうち、最
長の長辺を生成するように前記レイアウト図形を分割す
ることを特徴とする請求項3記載のステンシルマスクの
レイアウト図形分割処理装置。 - 【請求項7】 前記分割データ生成手段は、前記最長の
長辺が複数存在する場合、各垂線の足と該垂線の足を挟
む複数の頂点とによって構成される複数の辺のうち、最
長の短辺を生成するように前記レイアウト図形を分割す
ることを特徴とする請求項6記載のステンシルマスクの
レイアウト図形分割処理装置。 - 【請求項8】 前記分割データ生成手段は、分割後の図
形の辺の長さが所定長以下になる場合には分割しないこ
とを特徴とする請求項2乃至7のいずれか一に記載のス
テンシルマスクのレイアウト図形分割処理装置。 - 【請求項9】 前記分割データ生成手段は、前記レイア
ウト図形の長さが所定長以上のときは窪み部分の有無に
拘わらず所定位置で分割することを特徴とする請求項2
乃至8のいずれか一に記載のステンシルマスクのレイア
ウト図形分割処理装置。 - 【請求項10】 前記分割データ生成手段は、垂線の足
が、既に切断した辺上に位置するようになる場合には、
前記垂線にそっては切断しないようにすることを特徴と
する請求項2乃至9のいずれか一に記載のステンシルマ
スクのレイアウト図形分割処理装置。 - 【請求項11】 相接する2つのレイアウト図形が一の
相補マスクに属する場合、前記分割データ生成手段は一
方のレイアウト図形を複数のレイアウト図形に分割し、
前記相補マスクデータ生成手段は、前記分割によって得
られる複数のレイアウト図形のうち、他方のレイアウト
図形に接するレイアウト図形を他の相補マスクに属する
ように振り分けることを特徴とする請求項2乃至10の
いずれか一に記載のステンシルマスクのレイアウト図形
分割処理装置。 - 【請求項12】 分割条件を予め記憶した分割条件記憶
手段を備え、 前記分割データ生成手段は、前記分割条件記憶手段に記
憶した分割条件を満足するように、前記レイアウト図形
データを異なる複数の方向に分割することにより前記複
数の分割レイアウト図形データを生成することを特徴と
する請求項2乃至11のいずれか一に記載のステンシル
マスクのレイアウト図形分割処理装置。 - 【請求項13】 前記分割条件を前記分割条件記憶手段
に設定するための分割条件設定手段を備えて成ることを
特徴とする請求項12記載のステンシルマスクのレイア
ウト図形分割処理装置。 - 【請求項14】 レイアウト図形データ読み込み手段
が、ステンシルマスクのレイアウト図形データを記憶し
たレイアウト図形情報記憶手段からレイアウト図形デー
タを読み込み、 相補マスクデータ生成手段が、前記レイアウト図形デー
タ読み込み手段で読み込んだレイアウト図形データを異
なる複数の方向に分割することによって複数の分割レイ
アウト図形データを生成し、前記複数の分割レイアウト
図形データを複数の相補マスクデータに振り分けること
によって複数の相補マスクデータを生成して相補マスク
データ記憶手段に記憶することを特徴とするステンシル
マスクのレイアウト図形分割処理方法。 - 【請求項15】 前記相補マスクデータ生成手段は前記
レイアウト図形データを異なる複数の方向に分割するこ
とによって複数の分割レイアウト図形データを生成する
分割データ生成手段を有し、 前記相補マスクデータ生成手段が、前記分割データ生成
手段で生成した前記複数の分割レイアウト図形データを
分割データ記憶手段に記憶し、前記分割データ記憶手段
に記憶した図形データを複数の相補マスクデータに振り
分けることにより前記相補マスクデータを生成すること
を特徴とする請求項14記載のステンシルマスクのレイ
アウト図形分割処理方法。 - 【請求項16】 前記分割データ生成手段は、前記レイ
アウト図形データの窪み部分から隣接する辺に形成した
最短の垂線にそって分割することを特徴とする請求項1
5記載のステンシルマスクのレイアウト図形分割処理方
法。 - 【請求項17】 前記分割データ生成手段は、前記最短
の垂線が複数存在する場合、各垂線の足と該垂線の足を
挟む複数の頂点とによって構成される複数の辺のうち、
最長の短辺を生成するように前記レイアウト図形を分割
することを特徴とする請求項16記載のステンシルマス
クのレイアウト図形分割処理方法。 - 【請求項18】 前記分割データ生成手段は、前記最長
の短辺が複数存在する場合、各垂線の足と該垂線の足を
挟む複数の頂点とによって構成される複数の辺のうち、
最長の長辺を生成するように前記レイアウト図形を分割
することを特徴とする請求項17記載のステンシルマス
クのレイアウト図形分割処理方法。 - 【請求項19】 前記分割データ生成手段は、前記最短
の垂線が複数存在する場合、各垂線の足と該垂線の足を
挟む複数の頂点とによって構成される複数の辺のうち、
最長の長辺を生成するように前記レイアウト図形を分割
することを特徴とする請求項16記載のステンシルマス
クのレイアウト図形分割処理方法。 - 【請求項20】 前記分割データ生成手段は、前記最長
の長辺が複数存在する場合、各垂線の足と該垂線の足を
挟む複数の頂点とによって構成される複数の辺のうち、
最長の短辺を生成するように前記レイアウト図形を分割
することを特徴とする請求項19記載のステンシルマス
クのレイアウト図形分割処理方法。 - 【請求項21】 前記分割データ生成手段は、分割後の
図形の辺の長さが所定長以下になる場合には分割しない
ことを特徴とする請求項15乃至20のいずれか一に記
載のステンシルマスクのレイアウト図形分割処理方法。 - 【請求項22】 前記分割データ生成手段は、前記レイ
アウト図形の長さが所定長以上のときは窪み部分の有無
に拘わらず所定位置で分割することを特徴とする請求項
15乃至21のいずれか一に記載のステンシルマスクの
レイアウト図形分割処理方法。 - 【請求項23】 前記分割データ生成手段は、垂線の足
が、既に切断した辺上に位置するようになる場合には、
前記垂線にそっては切断しないようにすることを特徴と
する請求項15乃至22のいずれか一に記載のステンシ
ルマスクのレイアウト図形分割処理方法。 - 【請求項24】 相接する2つのレイアウト図形が一の
相補マスクに属する場合、前記分割データ生成手段は一
方のレイアウト図形を複数のレイアウト図形に分割し、
前記相補マスクデータ生成手段は、前記分割によって得
られる複数のレイアウト図形のうち、他方のレイアウト
図形に接するレイアウト図形を他の相補マスクに属する
ように振り分けることを特徴とする請求項15乃至23
のいずれか一に記載のステンシルマスクのレイアウト図
形分割処理方法。 - 【請求項25】 前記分割データ生成手段は、分割条件
記憶手段に記憶した分割条件を満足するように、前記レ
イアウト図形データを異なる複数の方向に分割すること
により前記複数の分割レイアウト図形データを生成する
ことを特徴とする請求項15乃至24のいずれか一に記
載のステンシルマスクのレイアウト図形分割処理方法。 - 【請求項26】 分割条件設定手段から前記分割条件記
憶手段に前記分割条件を設定するようにしたことを特徴
とする請求項25記載のステンシルマスクのレイアウト
図形分割処理方法。 - 【請求項27】 コンピュータを、 ステンシルマスクのレイアウト図形データを記憶したレ
イアウト図形情報記憶手段からレイアウト図形データを
読み込むレイアウト図形データ読み込み手段と、 前記レイアウト図形データ読み込み手段で読み込んだ前
記レイアウト図形データを異なる複数の方向に分割する
ことによって複数の分割レイアウト図形データを生成
し、前記複数の分割レイアウト図形データを複数の相補
マスクデータに振り分けることによって複数の相補マス
クデータを生成して相補マスクデータ記憶手段に記憶す
る相補マスクデータ生成手段として機能させることを特
徴とするプログラム。 - 【請求項28】 前記相補マスクデータ生成手段が前記
レイアウト図形データを異なる複数の方向に分割するこ
とによって複数の分割レイアウト図形データを生成する
分割データ生成手段としての機能を有し、 前記相補マスクデータ生成手段が、前記分割データ生成
手段で生成した前記複数の分割レイアウト図形データを
分割データ記憶手段に記憶し、前記分割データ記憶手段
に記憶した図形データを複数の相補マスクデータに振り
分けることにより前記相補マスクデータを生成するよう
に、前記コンピュータを機能させることを特徴とする請
求項27記載のプログラム。 - 【請求項29】 前記分割データ生成手段は、前記レイ
アウト図形データの窪み部分から隣接する辺に形成した
最短の垂線にそって分割するように、前記コンピュータ
を機能させることを特徴とする請求項28記載のプログ
ラム。 - 【請求項30】 前記分割データ生成手段は、前記最短
の垂線が複数存在する場合、各垂線の足と該垂線の足を
挟む複数の頂点とによって構成される複数の辺のうち、
最長の短辺を生成するように前記レイアウト図形を分割
するように、前記コンピュータを機能させることを特徴
とする請求項29記載のプログラム。 - 【請求項31】 前記分割データ生成手段は、前記最長
の短辺が複数存在する場合、各垂線の足と該垂線の足を
挟む複数の頂点とによって構成される複数の辺のうち、
最長の長辺を生成するように前記レイアウト図形を分割
するように、前記コンピュータを機能させることを特徴
とする請求項30記載のプログラム。 - 【請求項32】 前記分割データ生成手段は、前記最短
の垂線が複数存在する場合、各垂線の足と該垂線の足を
挟む複数の頂点とによって構成される複数の辺のうち、
最長の長辺を生成するように前記レイアウト図形を分割
するように、前記コンピュータを機能させることを特徴
とする請求項29記載のプログラム。 - 【請求項33】 前記分割データ生成手段は、前記最長
の長辺が複数存在する場合、各垂線の足と該垂線の足を
挟む複数の頂点とによって構成される複数の辺のうち、
最長の短辺を生成するように前記レイアウト図形を分割
するように、前記コンピュータを機能させることを特徴
とする請求項32記載のプログラム。 - 【請求項34】 前記分割データ生成手段は、分割後の
図形の辺の長さが所定長以下になる場合には分割しない
ように、前記コンピュータを機能させることを特徴とす
る請求項28乃至33のいずれか一に記載のプログラ
ム。 - 【請求項35】 前記分割データ生成手段は、前記レイ
アウト図形の長さが所定長以上のときは窪み部分の有無
に拘わらず所定位置で分割するように、前記コンピュー
タを機能させることを特徴とする請求項28乃至34の
いずれか一に記載のプログラム。 - 【請求項36】 前記分割データ生成手段は、垂線の足
が、既に切断した辺上に位置するようになる場合には、
前記垂線にそっては切断しないように、前記コンピュー
タを機能させることを特徴とする請求項28乃至35の
いずれか一に記載のプログラム。 - 【請求項37】 相接する2つのレイアウト図形が一の
相補マスクに属する場合、前記分割データ生成手段は一
方のレイアウト図形を複数のレイアウト図形に分割し、
前記相補マスクデータ生成手段は、前記分割によって得
られる複数のレイアウト図形のうち、他方のレイアウト
図形に接するレイアウト図形を他の相補マスクに属する
ように振り分けるように、前記コンピュータを機能させ
ることを特徴とする請求項28乃至36のいずれか一に
記載のプログラム。 - 【請求項38】 前記分割データ生成手段は、前記分割
条件記憶手段に予め記憶した分割条件を満足するよう
に、前記レイアウト図形データを異なる複数の方向に分
割することにより前記複数の分割レイアウト図形データ
を生成するように、前記コンピュータを機能させること
を特徴とする請求項28乃至37のいずれか一に記載の
プログラム。 - 【請求項39】 前記分割条件を前記分割条件記憶手段
に設定するための分割条件設定手段を備えて成るよう
に、前記コンピュータを機能させることを特徴とする請
求項38記載のプログラム。
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US10/199,783 US20030027058A1 (en) | 2001-08-01 | 2002-07-19 | Stencil mask layout pattern data division processing system, stencil mask layout pattern data division processing method, and program read by computer to execute stencil mask layout pattern data dividing process |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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TWI296823B (en) * | 2002-03-26 | 2008-05-11 | Toppan Printing Co Ltd | Partition method of circuit pattern, manufacture method of stencil mask, stencil mask and exposure method for the same |
US8584060B1 (en) * | 2012-11-16 | 2013-11-12 | International Business Machines Corporation | Block mask decomposition for mitigating corner rounding |
CN105205277B (zh) * | 2015-10-09 | 2018-02-09 | 中国能源建设集团江苏省电力设计院有限公司 | 一种基于风向频率的风资源网格划分方法 |
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DE68923880T2 (de) * | 1989-12-18 | 1996-04-18 | Ibm | Verfahren zur Herstellung von komplementären Mustern zur Exposition von Halbleiterkörpern mit selbsttragenden Masken. |
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2001
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2002
- 2002-07-19 US US10/199,783 patent/US20030027058A1/en not_active Abandoned
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US7010434B2 (en) | 2003-04-16 | 2006-03-07 | Sony Corporation | Complementary division condition determining method and program and complementary division method |
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