JP2002031526A - 測距装置 - Google Patents
測距装置Info
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- JP2002031526A JP2002031526A JP2000216189A JP2000216189A JP2002031526A JP 2002031526 A JP2002031526 A JP 2002031526A JP 2000216189 A JP2000216189 A JP 2000216189A JP 2000216189 A JP2000216189 A JP 2000216189A JP 2002031526 A JP2002031526 A JP 2002031526A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】本発明は、低コスト化及び小型化が可能で、か
つ高性能な測距を行うことが可能な測距装置を提供す
る。 【解決手段】本発明の一態様によると、測距用光を投光
する投光手段と、上記測距用光を複数方向に分割投光す
るための光分割手段と、上記光分割手段を介して分割投
光された上記測距用光の測距対象からの反射光を受光す
る受光手段と、上記受光手段の出力に基づいて上記測距
対象の距離を検出する検出手段とを具備する測距装置に
おいて、上記光分割手段は、電気的に制御可能な複数に
分割された回折または反射光学素子であることを特徴と
する測距装置が提供される。
つ高性能な測距を行うことが可能な測距装置を提供す
る。 【解決手段】本発明の一態様によると、測距用光を投光
する投光手段と、上記測距用光を複数方向に分割投光す
るための光分割手段と、上記光分割手段を介して分割投
光された上記測距用光の測距対象からの反射光を受光す
る受光手段と、上記受光手段の出力に基づいて上記測距
対象の距離を検出する検出手段とを具備する測距装置に
おいて、上記光分割手段は、電気的に制御可能な複数に
分割された回折または反射光学素子であることを特徴と
する測距装置が提供される。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、測距装置に係り、
特に、カメラ等のAF用として搭載可能な多点測距装置
に関する。
特に、カメラ等のAF用として搭載可能な多点測距装置
に関する。
【0002】
【従来の技術】従来から、撮影画面内の複数のエリアに
おいて測距が可能なアクティブ方式の測距装置が知られ
ている。
おいて測距が可能なアクティブ方式の測距装置が知られ
ている。
【0003】このようなアクティブ方式の測距装置とし
て、複数の測距エリアにそれぞれ対応する複数の投光素
子を設けて、それらを順次発光させて複数エリアの測距
を行う測距装置は公知である。
て、複数の測距エリアにそれぞれ対応する複数の投光素
子を設けて、それらを順次発光させて複数エリアの測距
を行う測距装置は公知である。
【0004】また、特開平6−242368号公報に開
示の測距装置は、投光素子を機械的にスキャンして投光
することにより、複数の測距エリアについて測距を行う
ようにしている。
示の測距装置は、投光素子を機械的にスキャンして投光
することにより、複数の測距エリアについて測距を行う
ようにしている。
【0005】さらに、この特開平6−242368号公
報には、固定された投光素子の投光光路中に回動可能な
回折格子を有し、この回折格子を機械的にスキャンして
投光することにより、複数の測距エリアについて測距を
行うようにした測距装置も開示されている。
報には、固定された投光素子の投光光路中に回動可能な
回折格子を有し、この回折格子を機械的にスキャンして
投光することにより、複数の測距エリアについて測距を
行うようにした測距装置も開示されている。
【0006】また、特開平9−54242号公報に開示
の測距装置は、投光光学系を複数に分割し、一個の投光
素子による投光光束を複数に分割して投光し、複数の測
距エリアに対応させて照明する補助光を使用するように
している。
の測距装置は、投光光学系を複数に分割し、一個の投光
素子による投光光束を複数に分割して投光し、複数の測
距エリアに対応させて照明する補助光を使用するように
している。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】撮影画面における複数
の測距エリアを測距する場合に、複数のエリアに対して
個々に投光素子を設けることは、測距エリアの数だけ投
光素子が必要となるので、コストアップを招くという問
題がある。
の測距エリアを測距する場合に、複数のエリアに対して
個々に投光素子を設けることは、測距エリアの数だけ投
光素子が必要となるので、コストアップを招くという問
題がある。
【0008】上記特開平6−242368号公報に開示
されている測距装置は、投光素子や回折格子を機械的に
走査するために、駆動機構やスペースが必要となるの
で、小型化が困難になるという問題がある。
されている測距装置は、投光素子や回折格子を機械的に
走査するために、駆動機構やスペースが必要となるの
で、小型化が困難になるという問題がある。
【0009】上記特開平9−54242号公報に開示さ
れている測距装置では、分割投光レンズを作成するため
にコストアップを招くという問題がある。
れている測距装置では、分割投光レンズを作成するため
にコストアップを招くという問題がある。
【0010】また、この測距装置では、一個の投光素子
の投光光束を複数に分割するので、投光光量が低下して
測距性能が低下するという問題がある。
の投光光束を複数に分割するので、投光光量が低下して
測距性能が低下するという問題がある。
【0011】本発明の目的は、以上述べたような問題点
を解決するためになされたもので、低コスト化及び小型
化が可能で、かつ高性能な測距を行うことが可能な測距
装置を提供することにある。
を解決するためになされたもので、低コスト化及び小型
化が可能で、かつ高性能な測距を行うことが可能な測距
装置を提供することにある。
【0012】
【課題を解決するための手段】本発明によると、上記課
題を解決するために、(1) 測距用光を投光する投光
手段と、上記測距用光を複数方向に分割投光するための
光分割手段と、上記光分割手段を介して分割投光された
上記測距用光の測距対象からの反射光を受光する受光手
段と、上記受光手段の出力に基づいて上記測距対象の距
離を検出する検出手段と、を具備する測距装置におい
て、上記光分割手段は、電気的に制御可能な複数に分割
された回折または反射光学素子であることを特徴とする
測距装置が提供される。
題を解決するために、(1) 測距用光を投光する投光
手段と、上記測距用光を複数方向に分割投光するための
光分割手段と、上記光分割手段を介して分割投光された
上記測距用光の測距対象からの反射光を受光する受光手
段と、上記受光手段の出力に基づいて上記測距対象の距
離を検出する検出手段と、を具備する測距装置におい
て、上記光分割手段は、電気的に制御可能な複数に分割
された回折または反射光学素子であることを特徴とする
測距装置が提供される。
【0013】また、本発明によると、上記課題を解決す
るために、(2) 上記複数に分割された回折または反
射光学素子は、上記測距用光を所定の投光領域に対して
選択的に投光するように独立して制御可能であることを
特徴とする(1)に記載の測距装置が提供される。
るために、(2) 上記複数に分割された回折または反
射光学素子は、上記測距用光を所定の投光領域に対して
選択的に投光するように独立して制御可能であることを
特徴とする(1)に記載の測距装置が提供される。
【0014】また、本発明によると、上記課題を解決す
るために、(3) 上記光分割手段は、上記回折または
反射光学素子を複数個積層してなり、それぞれを独立し
て電気的に制御することによって、上記測距用光を所定
の領域に対して選択的に投光可能であることを特徴とす
る(1)または(2)に記載の測距装置が提供される。
るために、(3) 上記光分割手段は、上記回折または
反射光学素子を複数個積層してなり、それぞれを独立し
て電気的に制御することによって、上記測距用光を所定
の領域に対して選択的に投光可能であることを特徴とす
る(1)または(2)に記載の測距装置が提供される。
【0015】また、本発明によると、上記課題を解決す
るために、(4) 上記回折または反射光学素子は、高
分子液晶により形成された回折格子に電気信号を入力し
て消失させることを特徴とする(1)に記載の測距装置
が提供される。
るために、(4) 上記回折または反射光学素子は、高
分子液晶により形成された回折格子に電気信号を入力し
て消失させることを特徴とする(1)に記載の測距装置
が提供される。
【0016】
【発明の実施の形態】以下図面を参照して本発明の実施
の形態について説明する前に、本発明による測距装置の
概念的構成について説明する。
の形態について説明する前に、本発明による測距装置の
概念的構成について説明する。
【0017】図1は、本発明による測距装置の概念的構
成を示すブロック図である。
成を示すブロック図である。
【0018】すなわち、本発明による測距装置は、図1
に示すように、被写体に向けて投光する投光手段を有す
る投光部1と、被写体からの反射光を受光する受光手段
を有する受光部2と、前記投光部1からの投光光を電気
的にスイッチング可能でかつ複数に分割された回折光学
素子3a、3b、3c…と、この回折光学素子3a、3
b、3c…を介して前記投光部1からの投光光を投光さ
せるとき、前記回折光学素子3a、3b、3c…を電気
的に制御することにより前記被写体の複数点に同時に投
光するとともに、前記回折光学素子3a、3b、3c…
を通った投光光に対応する前記被写体からの反射光を受
光する前記受光部2からの出力に基づいて前記被写体ま
での測距演算を行う制御部4とを有することを特徴とす
る多点測距装置として構成されている。
に示すように、被写体に向けて投光する投光手段を有す
る投光部1と、被写体からの反射光を受光する受光手段
を有する受光部2と、前記投光部1からの投光光を電気
的にスイッチング可能でかつ複数に分割された回折光学
素子3a、3b、3c…と、この回折光学素子3a、3
b、3c…を介して前記投光部1からの投光光を投光さ
せるとき、前記回折光学素子3a、3b、3c…を電気
的に制御することにより前記被写体の複数点に同時に投
光するとともに、前記回折光学素子3a、3b、3c…
を通った投光光に対応する前記被写体からの反射光を受
光する前記受光部2からの出力に基づいて前記被写体ま
での測距演算を行う制御部4とを有することを特徴とす
る多点測距装置として構成されている。
【0019】そして、このような本発明では、新規な素
子を使用しているので、最初に、この素子についての説
明を行う。
子を使用しているので、最初に、この素子についての説
明を行う。
【0020】まず、一般的な回折光学素子について説明
する。
する。
【0021】(回折光学素子の説明)一般的な回折光学
素子(Diffractive Optical El
ement)は、DOEと呼ばれ、回折現象に基づく光
学素子である。
素子(Diffractive Optical El
ement)は、DOEと呼ばれ、回折現象に基づく光
学素子である。
【0022】この一般的な回折光学素子は、図2に示す
ように、入射角をθ、射出角をθ′、回折次数をm、回
折格子のピッチをdとするとき、次式(1)に従う回折
現象が起きる。
ように、入射角をθ、射出角をθ′、回折次数をm、回
折格子のピッチをdとするとき、次式(1)に従う回折
現象が起きる。
【0023】 sinθ−sinθ′=mλ/d …(1) ひとつの回折次数に注目したとき、例えば、図3に示す
ように回折格子のピッチdを連続的に変化させると、m
次の回折光に集光させるレンズなどの作用を持たせるこ
とができる。
ように回折格子のピッチdを連続的に変化させると、m
次の回折光に集光させるレンズなどの作用を持たせるこ
とができる。
【0024】次に、本発明に使用される機械的な機構を
使用せずに電気的にスイッチングが可能な回折光学素子
であるESHOE(Electrically Swi
tchable Holographic Optic
al Element)について説明する。
使用せずに電気的にスイッチングが可能な回折光学素子
であるESHOE(Electrically Swi
tchable Holographic Optic
al Element)について説明する。
【0025】このESHOEは、原理的には、上記回折
光学素子と同様である。
光学素子と同様である。
【0026】このESHOEは、位相型の体積ホログラ
ムによるものであり、ホログラム媒体はポリマ一と液晶
の混合物からなる高分子分散型液晶であるPDLC(p
olymer Dipersed Liquid Cr
ystal)で、空間的な強度分布を有する光を照射す
ると、その強度分布に応じた液晶の配光分布が生じるこ
とにより、ホログラムが形成される。
ムによるものであり、ホログラム媒体はポリマ一と液晶
の混合物からなる高分子分散型液晶であるPDLC(p
olymer Dipersed Liquid Cr
ystal)で、空間的な強度分布を有する光を照射す
ると、その強度分布に応じた液晶の配光分布が生じるこ
とにより、ホログラムが形成される。
【0027】これに電界を印加すると、屈折率変調が減
少してホログラムが消去される。
少してホログラムが消去される。
【0028】液晶の配光は可逆的で、電界を取り除くと
ホログラムが再び復元される。
ホログラムが再び復元される。
【0029】このように一度ホログラムを記録しておけ
ば、電界をオン、オフすることにより、ホログラムのス
イッチングが可能となる。
ば、電界をオン、オフすることにより、ホログラムのス
イッチングが可能となる。
【0030】(1)セル構造(図4の(a)) セルは、透明導電膜を内側にコーティングしたガラスま
たはプラスチックの基板の間に、液晶とモノマーの混合
物を挟んだ構造である。
たはプラスチックの基板の間に、液晶とモノマーの混合
物を挟んだ構造である。
【0031】(2)ホログラム作成1 レーザー露光(図4の(b)) セルを干渉縞が発生する2個のレーザー光の交差点に配
置される。
置される。
【0032】光線の縞パターンは、コンピュータにより
生成された回折素子を物体光の中に配置して作成したレ
ーザー物体光とレーザー参照光との2個の光の位相差に
依存する。
生成された回折素子を物体光の中に配置して作成したレ
ーザー物体光とレーザー参照光との2個の光の位相差に
依存する。
【0033】このようにして、比較的簡単な格子から、
かなりの数の屈折レンズに代わる複雑な光学列まで変化
させることができる。
かなりの数の屈折レンズに代わる複雑な光学列まで変化
させることができる。
【0034】(3)ホログラム作成2 重合と分離(図4の(c)) 干渉パターンが、セルのギャップ内に規則的に配列する
明るい面と暗い面を作成する。
明るい面と暗い面を作成する。
【0035】このような露光中に、液晶が微少粒を形成
し、より暗い領域に拡散することにより、モノマ一は最
初に明るい領域で重合し始める。
し、より暗い領域に拡散することにより、モノマ一は最
初に明るい領域で重合し始める。
【0036】露光が進むと、暗い領域のモノマーもまた
重合し、粒を固定しさらに縞パターンを固定する。
重合し、粒を固定しさらに縞パターンを固定する。
【0037】(4)回折格子動作(図4の(d)) 重合プロセスは、比較的純粋なポリマーの面と液晶の小
粒の稠密な面との交互な固定構造を結果的に生み出す。
粒の稠密な面との交互な固定構造を結果的に生み出す。
【0038】後者の領域はポリマーに対して異なる屈折
率(np≠nLCM)を有するので、記録プロセスによ
り、定義された複雑な光学特性を有する体積ホログラム
が発生する。
率(np≠nLCM)を有するので、記録プロセスによ
り、定義された複雑な光学特性を有する体積ホログラム
が発生する。
【0039】(5)スイッチング状態(透明状態)(図
4の(e) AC電圧を印加することにより、ポリマー屈折率(n
p)に一致する実行屈折率 effnLCMを発生させるよ
うに、小粒内の液晶の光軸を偏向させて透明セルが形成
される。
4の(e) AC電圧を印加することにより、ポリマー屈折率(n
p)に一致する実行屈折率 effnLCMを発生させるよ
うに、小粒内の液晶の光軸を偏向させて透明セルが形成
される。
【0040】なお、以上は透過型の回折光学素子ESH
OEについて説明しているが、反射型の回折光学素子に
ついても同様な作成方法及び動作原理である。
OEについて説明しているが、反射型の回折光学素子に
ついても同様な作成方法及び動作原理である。
【0041】(第1の実施の形態)次に、本発明の測距
装置を具体的にカメラに適用した場合の第1の実施の形
態について説明する。
装置を具体的にカメラに適用した場合の第1の実施の形
態について説明する。
【0042】図5は、本発明の測距装置を具体的にカメ
ラに適用した場合の第1の実施の形態として、撮影画面
内の3点を測距するアクティブ式測距装置を搭載したカ
メラの構成を示すブロック図である。
ラに適用した場合の第1の実施の形態として、撮影画面
内の3点を測距するアクティブ式測距装置を搭載したカ
メラの構成を示すブロック図である。
【0043】すなわち、この実施の形態によるカメラで
は、図5に示すように、まず、投光素子である発光ダイ
オード(LED)10がLED駆動回路11によって駆
動されるようになされている。
は、図5に示すように、まず、投光素子である発光ダイ
オード(LED)10がLED駆動回路11によって駆
動されるようになされている。
【0044】このLED10からの投光光束は、後述す
る図6の(a)に示すように、投光レンズ12及び複数
に分割されたESHOE14、15及びこのESHOE
14、15の上部にある透明部分13を通過して図示し
ない被写体に対してこの場合3つの投光光束32、3
3、31として投光されるようになされている。
る図6の(a)に示すように、投光レンズ12及び複数
に分割されたESHOE14、15及びこのESHOE
14、15の上部にある透明部分13を通過して図示し
ない被写体に対してこの場合3つの投光光束32、3
3、31として投光されるようになされている。
【0045】なお、ESHOE14、15の上部にある
透明部分13は、投光光束31が透過する部分である。
透明部分13は、投光光束31が透過する部分である。
【0046】図6の(b)に示すように、ESHOE1
4、15は、ガラス基板120、121内に部分的に形
成されている。
4、15は、ガラス基板120、121内に部分的に形
成されている。
【0047】そして、このESHOE14、15は、そ
の製造工程の途上で、予め、所定の回折光学特性が記録
されている。
の製造工程の途上で、予め、所定の回折光学特性が記録
されている。
【0048】透明部分13に対応するガラス基板12
0、121間には、透明樹脂等の透明材料が充填されて
いる。
0、121間には、透明樹脂等の透明材料が充填されて
いる。
【0049】図5に戻って、ESHOE14、15は、
ESHOE駆動回路16によって駆動されるようになさ
れている。
ESHOE駆動回路16によって駆動されるようになさ
れている。
【0050】ESHOE14、15が駆動されると、そ
の回折がそれぞれオンオフ制御されて投光角度を制御さ
れる。
の回折がそれぞれオンオフ制御されて投光角度を制御さ
れる。
【0051】図6の(d)は、ESHOE駆動回路16
についてより詳しく示している図である。
についてより詳しく示している図である。
【0052】すなわち、図6の(d)に示すように、E
SHOE14には、ESHOE駆動回路16内の交流電
源83と電気的スイッチ素子81とが接続されている。
SHOE14には、ESHOE駆動回路16内の交流電
源83と電気的スイッチ素子81とが接続されている。
【0053】この電気的スイッチ素子81は、マイクロ
コンピュータ(CPU)20によって、そのオンオフが
制御されるようになされている。
コンピュータ(CPU)20によって、そのオンオフが
制御されるようになされている。
【0054】これにより、ESHOE14に対して交流
電源83からの交流信号の印加、非印加が制御される。
電源83からの交流信号の印加、非印加が制御される。
【0055】同様に、ESHOE15には、ESHOE
駆動回路16内の交流電源84と電気的スイッチ素子8
2とが接続されている。
駆動回路16内の交流電源84と電気的スイッチ素子8
2とが接続されている。
【0056】この電気的スイッチ素子82のCPU20
によって、そのオンオフが制御されるようになされてい
る。
によって、そのオンオフが制御されるようになされてい
る。
【0057】これにより、ESHOE15に対して交流
電源84からの交流信号の印加、非印加が制御される。
電源84からの交流信号の印加、非印加が制御される。
【0058】図6の(a)は、光学系を含む投光系を示
す図である。
す図である。
【0059】ESHOE14は、回折光学素子として機
能するとき、LED10からの投光光束を投光光束32
に回折させるように回折光学特性が記録されている。
能するとき、LED10からの投光光束を投光光束32
に回折させるように回折光学特性が記録されている。
【0060】また、ESHOE15は回折光学素子とし
て機能するとき、LED10からの投光光束を投光光束
33に回折させるように回折光学特性が記録されてい
る。
て機能するとき、LED10からの投光光束を投光光束
33に回折させるように回折光学特性が記録されてい
る。
【0061】また、ESHOE14、15の上部にある
透明部分13を通過するLED10からの投光光束は、
投光光束31となる。
透明部分13を通過するLED10からの投光光束は、
投光光束31となる。
【0062】図6の(c)は、光学系を含む受光系を示
す図である。
す図である。
【0063】投光光束31による被写体からの反射光
は、受光レンズ18a、18bを介して受光素子である
測距センサ40の受光部41に入射する。
は、受光レンズ18a、18bを介して受光素子である
測距センサ40の受光部41に入射する。
【0064】同様に、投光光束32による被写体からの
反射光は、受光レンズ17a、17bを介して受光素子
である測距センサ40の受光部42に入射する。
反射光は、受光レンズ17a、17bを介して受光素子
である測距センサ40の受光部42に入射する。
【0065】さらに、投光光束32についても、同様
に、被写体からの反射光は、受光レンズ19a、19b
を介して受光素子である測距センサ40の受光部43に
入射する。
に、被写体からの反射光は、受光レンズ19a、19b
を介して受光素子である測距センサ40の受光部43に
入射する。
【0066】図5に戻って、この測距センサ40による
受光部41、42、43からの光電変換出力は、CPU
20に入力されるようになされている。
受光部41、42、43からの光電変換出力は、CPU
20に入力されるようになされている。
【0067】また、測距センサ40は定常光除去機能を
有しており、定常光成分を除去して、投光による被写体
からの反射光成分のみを検出して蓄積動作を行うように
なされている。
有しており、定常光成分を除去して、投光による被写体
からの反射光成分のみを検出して蓄積動作を行うように
なされている。
【0068】CPU20は、LED駆動回路11を介し
てLED10の投光制御、及びESHOE駆動回路16
を介してESHOE14、15の状態制御を行うととも
に、測距センサ40の積分動作に応じた光電変換出力に
基づく測距演算を行うようになされている。
てLED10の投光制御、及びESHOE駆動回路16
を介してESHOE14、15の状態制御を行うととも
に、測距センサ40の積分動作に応じた光電変換出力に
基づく測距演算を行うようになされている。
【0069】この測距演算のための測距原理は、公知の
三角測量及び位相差検出による方法であるので、ここで
はその説明を省略する。
三角測量及び位相差検出による方法であるので、ここで
はその説明を省略する。
【0070】なお、CPU20には、フォーカシングレ
ンズ25を駆動するレンズ駆動回路26、不揮発性の記
憶素子で、各種調整、補正データが予め書き込まれてい
るEEPROM27、撮影レンズ24駆動するズーム駆
動回路28、図示しないレリーズボタンに連動するスイ
ッチであり、ファーストレリーズスイッチ(1RSW)
29、セカンドレリーズスイッチ(2RSW)30が、
それぞれ、接続されている。
ンズ25を駆動するレンズ駆動回路26、不揮発性の記
憶素子で、各種調整、補正データが予め書き込まれてい
るEEPROM27、撮影レンズ24駆動するズーム駆
動回路28、図示しないレリーズボタンに連動するスイ
ッチであり、ファーストレリーズスイッチ(1RSW)
29、セカンドレリーズスイッチ(2RSW)30が、
それぞれ、接続されている。
【0071】そして、図7に示すように、撮影画面内3
4の測距エリアは、3個の測距エリア21、22、23
であるものとする。
4の測距エリアは、3個の測距エリア21、22、23
であるものとする。
【0072】また、撮影レンズ24のフォーカシングレ
ンズ25は、レンズ駆動回路26によって駆動されピン
ト合わせを行うようになされている。
ンズ25は、レンズ駆動回路26によって駆動されピン
ト合わせを行うようになされている。
【0073】このとき、CPU20は、上記測距演算結
果に基づき、レンズ駆動回路26を介してフォーカシン
グレンズ25の位置制御を行うようになされている。
果に基づき、レンズ駆動回路26を介してフォーカシン
グレンズ25の位置制御を行うようになされている。
【0074】また、CPU20は、EEPROM27と
通信を行うことにより、EEPROM27から所定の調
整、補正データを読み出して各種補正演算に使用するよ
うになされている。
通信を行うことにより、EEPROM27から所定の調
整、補正データを読み出して各種補正演算に使用するよ
うになされている。
【0075】そして、ズーム駆動回路28は、CPU2
0の司令に基づき撮影レンズ24のズーム系を駆動する
とともに、焦点距離を検出してCPU20に出力するよ
うになされている。
0の司令に基づき撮影レンズ24のズーム系を駆動する
とともに、焦点距離を検出してCPU20に出力するよ
うになされている。
【0076】1RSW29、2RSW30は、前述した
ように、レリーズボタンに連動するスイッチであり、1
段目まで押し込むと1RSW29がオン、2段目まで押
し込むと2RSW30がオンするするようになされてい
る。
ように、レリーズボタンに連動するスイッチであり、1
段目まで押し込むと1RSW29がオン、2段目まで押
し込むと2RSW30がオンするするようになされてい
る。
【0077】次に、以上のような構成による測距装置の
動作について説明する。
動作について説明する。
【0078】図8は、CPU20のメインフローを示し
ている。
ている。
【0079】ステップS11において、CPU20は、
カメラ各部の電気的、機械的な初期化動作を行う。
カメラ各部の電気的、機械的な初期化動作を行う。
【0080】ステップS12において、CPU20は、
1RSW29がオンされている場合にはステップS12
に進み、オフの場合にはステップS19に進む。
1RSW29がオンされている場合にはステップS12
に進み、オフの場合にはステップS19に進む。
【0081】ステップS13において、CPU20は、
測距動作を行う。
測距動作を行う。
【0082】ステップS14において、CPU20は、
不図示の測光素子、測光回路により測光動作を行う。
不図示の測光素子、測光回路により測光動作を行う。
【0083】ステップS15において、CPU20は、
2RSW30がオンのときにはステップS16に進み、
オフの場合にはステップS12に戻る。
2RSW30がオンのときにはステップS16に進み、
オフの場合にはステップS12に戻る。
【0084】ステップS16において、CPU20は、
測距結果に基づきフォーカシングレンズ25を駆動させ
る。
測距結果に基づきフォーカシングレンズ25を駆動させ
る。
【0085】ステップS17において、CPU20は、
露出動作を行わせる。
露出動作を行わせる。
【0086】ステップS18において、CPU20は、
図示しないフィルムを1コマ巻き上げさせる。
図示しないフィルムを1コマ巻き上げさせる。
【0087】ステップS19において、CPU20は、
1RSW29、2RSW30以外の操作スイッチ(図示
せず)の入力をチェックし、それらの操作スイッチから
の入力があればステップS20に進む。
1RSW29、2RSW30以外の操作スイッチ(図示
せず)の入力をチェックし、それらの操作スイッチから
の入力があればステップS20に進む。
【0088】ステップS20において、CPU20は、
入力のあった操作スイッチに応じた処理、例えば、ズー
ム操作スイッチの操作に応じて撮影レンズ24のズーミ
ングを行う。
入力のあった操作スイッチに応じた処理、例えば、ズー
ム操作スイッチの操作に応じて撮影レンズ24のズーミ
ングを行う。
【0089】図9は、第1の実施の形態におけるCPU
20による測距動作のフローチャートを示している。
20による測距動作のフローチャートを示している。
【0090】図10の(a)〜(g)は、この測距動作
における各部のタイミングチャー卜を示している。
における各部のタイミングチャー卜を示している。
【0091】ステップS101において、CPU20が
測距シーケンスを開始すると、ESHOE駆動回路16
により、ESHOE14、15が初期化され、印加電圧
がオンされる。
測距シーケンスを開始すると、ESHOE駆動回路16
により、ESHOE14、15が初期化され、印加電圧
がオンされる。
【0092】このとき、ESHOE14、15は透過状
態となる(図10の(a)、(b)参照)。
態となる(図10の(a)、(b)参照)。
【0093】ステップS102において、CPU20
は、ESHOE駆動回路16により、ESHOE14、
15の印加電圧をオフさせる。
は、ESHOE駆動回路16により、ESHOE14、
15の印加電圧をオフさせる。
【0094】このとき、ESHOE14、15は回折格
子状態となる(図10の(a)、(b)参照)。
子状態となる(図10の(a)、(b)参照)。
【0095】ステップS103において、CPU20
は、測距センサ40による定常光除去積分動作を開始さ
せる。
は、測距センサ40による定常光除去積分動作を開始さ
せる。
【0096】ステップS104において、CPU20
は、LED駆動回路11を制御してLED10を複数回
発光させることにより(図10の(c)参照)、撮影画
面内の3個の測距エリアである測距エリア22、23、
24に投光光束31、32、33を投光させる。
は、LED駆動回路11を制御してLED10を複数回
発光させることにより(図10の(c)参照)、撮影画
面内の3個の測距エリアである測距エリア22、23、
24に投光光束31、32、33を投光させる。
【0097】このとき、測距センサ40の各受光部4
1、42、43の積分動作は、LED10による投光に
同期して行われ、各受光部41、42、43の積分量が
適正となるように制御される(図10の(d)、
(e)、(f)参照)。
1、42、43の積分動作は、LED10による投光に
同期して行われ、各受光部41、42、43の積分量が
適正となるように制御される(図10の(d)、
(e)、(f)参照)。
【0098】ステップS105において、CPU20
は、測距センサ40の受光部41、42、43より光電
変換結果であるセンサデータの読み出し、測距演算を行
い中央測距エリア22、左右測距エリア21、23の測
距デ一タを算出する(図10の(g)参照) ステップS106において、CPU20は、3個の測距
エリア21、22、23の測距データを用いて所定のア
ルゴリズムに従い、1個の測距データを選択して採用す
る。
は、測距センサ40の受光部41、42、43より光電
変換結果であるセンサデータの読み出し、測距演算を行
い中央測距エリア22、左右測距エリア21、23の測
距デ一タを算出する(図10の(g)参照) ステップS106において、CPU20は、3個の測距
エリア21、22、23の測距データを用いて所定のア
ルゴリズムに従い、1個の測距データを選択して採用す
る。
【0099】ステップS107において、CPU20
は、中央測距エリア23が選択されたか否かを判別す
る。
は、中央測距エリア23が選択されたか否かを判別す
る。
【0100】ここで、CPU20は、中央測距エリア2
3が選択された場合には、ステップS108において、
ESHOE駆動回路16によりESHOE14、15の
印加電圧をオンさせる。
3が選択された場合には、ステップS108において、
ESHOE駆動回路16によりESHOE14、15の
印加電圧をオンさせる。
【0101】これにより、ESHOE14、15は透過
状態となる(図10の(a)、(b)参照)。
状態となる(図10の(a)、(b)参照)。
【0102】ステップS109において、CPU20
は、測距センサ40の受光部41の定常光除去積分動作
を開始させる。
は、測距センサ40の受光部41の定常光除去積分動作
を開始させる。
【0103】ステップS110において、CPU20
は、LED駆動回路11を制御してLED10を複数回
発光させることにより(図10の(c)参照)、撮影画
面内34の中央測距エリアである測距エリア23に投光
光束32を投光する。
は、LED駆動回路11を制御してLED10を複数回
発光させることにより(図10の(c)参照)、撮影画
面内34の中央測距エリアである測距エリア23に投光
光束32を投光する。
【0104】このとき、測距センサ40の受光部41の
積分動作は、LED10の投光に同期して行われる(図
10の(e)参照)。
積分動作は、LED10の投光に同期して行われる(図
10の(e)参照)。
【0105】ステップS111において、CPU20
は、測距センサ40より受光部41の積分結果であるセ
ンサデータ読み出し、測距演算を行い中央エリア23の
測距データを算出して最終測距データとする(図10の
(g)参照)。
は、測距センサ40より受光部41の積分結果であるセ
ンサデータ読み出し、測距演算を行い中央エリア23の
測距データを算出して最終測距データとする(図10の
(g)参照)。
【0106】一方、ステップS107で中央測距エリア
以外が選択された場合には、CPU20は、その測距デ
ータを最終測距データとして採用し、ステップS112
に移行する。
以外が選択された場合には、CPU20は、その測距デ
ータを最終測距データとして採用し、ステップS112
に移行する。
【0107】ステップS112において、CPU20
は、ESHOE駆動回路16によりESHOE14、1
5の印加電圧をオンさせる。
は、ESHOE駆動回路16によりESHOE14、1
5の印加電圧をオンさせる。
【0108】これにより、ESHOE14、15は透過
状態となる。
状態となる。
【0109】このように、CPU20は、最初に、ES
HOE14、15を回折光学素子として機能させ、LE
D10の全光束を3分割して3個の測距エリアに投光し
て3点測距を行う。
HOE14、15を回折光学素子として機能させ、LE
D10の全光束を3分割して3個の測距エリアに投光し
て3点測距を行う。
【0110】そして、この3点測距により中央測距エリ
アが選択された場合には、CPU20は、ESHOE1
4、15を透過状態として、LED10の全光束を主要
被写体の存在確率が非常に高い中央測距エリア23に投
光させ測距を行うので、より高精度な測距を行うことが
できる。
アが選択された場合には、CPU20は、ESHOE1
4、15を透過状態として、LED10の全光束を主要
被写体の存在確率が非常に高い中央測距エリア23に投
光させ測距を行うので、より高精度な測距を行うことが
できる。
【0111】上記の実施の形態においては、投光素子と
してLEDを使用しているが、LED以外の光源を使用
してもよい。
してLEDを使用しているが、LED以外の光源を使用
してもよい。
【0112】例えば、クリプトンランプのようなランプ
類、ストロボ装置のXe管、レーザー等の発光光量がよ
り大きい光源を使用すれば、より遠距離まで測距するこ
とが可能である。
類、ストロボ装置のXe管、レーザー等の発光光量がよ
り大きい光源を使用すれば、より遠距離まで測距するこ
とが可能である。
【0113】なお、投光レンズ12の代わりにESHO
E14、15に凸レンズ特性を持たせることにより、投
光レンズ12を省略してもよい。
E14、15に凸レンズ特性を持たせることにより、投
光レンズ12を省略してもよい。
【0114】以上のように、投光部に電気的にスイッチ
ングが可能な回折光学素子を用いて複数の測距エリアに
対応する投光を行うことにより、小型で構成部品点数を
減少することができるとともに、中央測距エリアについ
てはより高精度なAFのための測距を行うことができ
る。
ングが可能な回折光学素子を用いて複数の測距エリアに
対応する投光を行うことにより、小型で構成部品点数を
減少することができるとともに、中央測距エリアについ
てはより高精度なAFのための測距を行うことができ
る。
【0115】(第2の実施の形態)次に、本発明の測距
装置を具体的にカメラに適用した場合の第2の実施の形
態について説明する。
装置を具体的にカメラに適用した場合の第2の実施の形
態について説明する。
【0116】図11は、本発明の測距装置を具体的にカ
メラに適用した場合の第2の実施の形態として、撮影画
面内の3点を測距するアクティブ式測距装置を搭載した
カメラにおいて、左右測距エリア高精度化のための要部
の構成を示すブロック図である。
メラに適用した場合の第2の実施の形態として、撮影画
面内の3点を測距するアクティブ式測距装置を搭載した
カメラにおいて、左右測距エリア高精度化のための要部
の構成を示すブロック図である。
【0117】すなわち、上記第1の実施の形態では、図
7に示す測距エリア34のうち中央測距エリア22の測
距についてのみ高精度化を行うようにしているが、この
第2の実施の形態では中央測距エリア22以外の左右測
距エリアについて高精度化を行うようにしている。
7に示す測距エリア34のうち中央測距エリア22の測
距についてのみ高精度化を行うようにしているが、この
第2の実施の形態では中央測距エリア22以外の左右測
距エリアについて高精度化を行うようにしている。
【0118】例えば、3個の測距エリア(図7の21、
22、23)について、各測距エリアの高精度化を行う
場合には、図11の(a),(b),(c)に示すよう
に、図6の(a)に示す上記第1の実施の形態によるE
SHOE14、15及びその上部にある透明部分13に
加えて、投光角度に対応した異なる回折角を有するES
HOE106、107をさらに2個重ねるようにして配
置する。
22、23)について、各測距エリアの高精度化を行う
場合には、図11の(a),(b),(c)に示すよう
に、図6の(a)に示す上記第1の実施の形態によるE
SHOE14、15及びその上部にある透明部分13に
加えて、投光角度に対応した異なる回折角を有するES
HOE106、107をさらに2個重ねるようにして配
置する。
【0119】そして、このような投光角度に対応した異
なる回折角有するESHOE106、107を、ESH
OE駆動回路16により、時分割で1個のESHOEの
印加電圧をオフして回折格子状態として投光することに
より、中央測距エリア22以外の左右測距エリア21、
23についても高精度化が可能となる。
なる回折角有するESHOE106、107を、ESH
OE駆動回路16により、時分割で1個のESHOEの
印加電圧をオフして回折格子状態として投光することに
より、中央測距エリア22以外の左右測距エリア21、
23についても高精度化が可能となる。
【0120】図12は、第2の実施の形態におけるCP
U20による測距動作のフローチャートを示している。
U20による測距動作のフローチャートを示している。
【0121】図13の(a)〜(i)は、この測距動作
における各部のタイミングチャー卜を示している。
における各部のタイミングチャー卜を示している。
【0122】なお、図13中の(A)、(B)、(C)
は、そのいずれかの動作が選択されて実行されるものと
する。
は、そのいずれかの動作が選択されて実行されるものと
する。
【0123】ステップS201において、CPU20
は、ESHOE14、15、106、107の印加電圧
をオンしてESHOE14、15、106,107を透
過状態とし、初期化を行う。
は、ESHOE14、15、106、107の印加電圧
をオンしてESHOE14、15、106,107を透
過状態とし、初期化を行う。
【0124】ステップS202において、CPU20
は、ESHOE106、107の印加電圧をオンしてE
SHOE106、107を透過状態とし、ESHOE1
4、15の印加電圧をオフしてESHOE14、15を
回折格子状態とする。
は、ESHOE106、107の印加電圧をオンしてE
SHOE106、107を透過状態とし、ESHOE1
4、15の印加電圧をオフしてESHOE14、15を
回折格子状態とする。
【0125】ステップS203〜S206は、第1の実
施の形態のS101〜S106と同一であり、説明を省
略する。
施の形態のS101〜S106と同一であり、説明を省
略する。
【0126】ステップS207において、CPU20
は、中央測距エリア22が選択されたか否かを判別す
る。
は、中央測距エリア22が選択されたか否かを判別す
る。
【0127】ここで、CPU20は、中央測距エリア2
2が選択された場合には、ESHOE駆動回路16によ
りESHOE14、15、106、107の印加電圧を
オンする。
2が選択された場合には、ESHOE駆動回路16によ
りESHOE14、15、106、107の印加電圧を
オンする。
【0128】これにより、ESHOE14、15、10
6、107は透過状態となる(図13の(A)参照)。
6、107は透過状態となる(図13の(A)参照)。
【0129】ステップS209において、CPU20
は、測距センサ40の受光部41の定常光除去積分動作
を開始させる。
は、測距センサ40の受光部41の定常光除去積分動作
を開始させる。
【0130】ステップS210において、CPU20
は、LED駆動回路11を制御してLED10を複数回
発光させることにより、撮影画面34内の中央測距エリ
アである測距エリア22に投光光束32を投光する。
は、LED駆動回路11を制御してLED10を複数回
発光させることにより、撮影画面34内の中央測距エリ
アである測距エリア22に投光光束32を投光する。
【0131】このとき、測距センサ40の受光部41の
積分動作はLED10の投光に同期して行われる。
積分動作はLED10の投光に同期して行われる。
【0132】次に、CPU20は、ステップS211に
おいて、測距センサ40より受光部41の積分結果であ
るセンサデータ読み出し、ステップS212において、
測距演算を行い中央エリア23の測距データを算出して
最終測距データとする。
おいて、測距センサ40より受光部41の積分結果であ
るセンサデータ読み出し、ステップS212において、
測距演算を行い中央エリア23の測距データを算出して
最終測距データとする。
【0133】ステップS213において、CPU20
は、ESHOE14、15、106、107の印加電圧
をオンしてESHOE14、15、106、107を透
過状態とした後、リターンする。
は、ESHOE14、15、106、107の印加電圧
をオンしてESHOE14、15、106、107を透
過状態とした後、リターンする。
【0134】一方、ステップS207で中央測距エリア
以外が選択された場合には、CPU20は、ステップS
214に移行する。
以外が選択された場合には、CPU20は、ステップS
214に移行する。
【0135】ステップS214において、CPU20
は、左測距エリア21が選択されたか否かを判別する。
は、左測距エリア21が選択されたか否かを判別する。
【0136】ここで、左測距エリア21が選択された場
合には、CPU20は、ステップS214において、E
SHOE14、15、107の印加電圧をオンしてES
HOE14、15、107を透過状態とし、ESHOE
106の印加電圧をオフしてESHOE106を回折格
子状態とする(図13の(C)参照)。
合には、CPU20は、ステップS214において、E
SHOE14、15、107の印加電圧をオンしてES
HOE14、15、107を透過状態とし、ESHOE
106の印加電圧をオフしてESHOE106を回折格
子状態とする(図13の(C)参照)。
【0137】ステップS216において、CPU20
は、測距センサ40の受光部42の定常光除去積分動作
を開始させる。
は、測距センサ40の受光部42の定常光除去積分動作
を開始させる。
【0138】ステップS217において、CPU20
は、LED駆動回路11を制御してLED10を複数回
発光させることにより、撮影画面34内の左測距エリア
21に投光光束31を投光させる。
は、LED駆動回路11を制御してLED10を複数回
発光させることにより、撮影画面34内の左測距エリア
21に投光光束31を投光させる。
【0139】このとき、測距センサ40の受光部42の
積分動作は、LED10の投光に同期して行われる。
積分動作は、LED10の投光に同期して行われる。
【0140】次に、CPU20は、ステップS218に
おいて、測距センサ40より受光部42の積分結果であ
るセンサデータ読み出し、ステップS219において、
測距演算を行い左測距エリア21の測距データを算出し
て最終測距データとする。
おいて、測距センサ40より受光部42の積分結果であ
るセンサデータ読み出し、ステップS219において、
測距演算を行い左測距エリア21の測距データを算出し
て最終測距データとする。
【0141】一方、ステップS214で左測距エリア2
1が選択されなかった場合には、すなわち右測距エリア
24が選択された場合には、CPU20は、ステップS
220に進む。
1が選択されなかった場合には、すなわち右測距エリア
24が選択された場合には、CPU20は、ステップS
220に進む。
【0142】ステップS220において、CPU20
は、右測距エリア23が選択された場合には、ESHO
E14、15、107の印加電圧をオンしてESHOE
14、15、107を透過状態とし、ESHOE107
の印加電圧をオフしてESHOE107を回折格子状態
とする(図13の(B)参照)。
は、右測距エリア23が選択された場合には、ESHO
E14、15、107の印加電圧をオンしてESHOE
14、15、107を透過状態とし、ESHOE107
の印加電圧をオフしてESHOE107を回折格子状態
とする(図13の(B)参照)。
【0143】ステップS221において、CPU20
は、測距センサ40の受光部43の定常光除去積分動作
を開始させる。
は、測距センサ40の受光部43の定常光除去積分動作
を開始させる。
【0144】ステップS222において、CPU20
は、LED駆動回路11を制御してLED10を複数回
発光させ、撮影画面34内の右測距エリア23に投光光
束31を投光させる。
は、LED駆動回路11を制御してLED10を複数回
発光させ、撮影画面34内の右測距エリア23に投光光
束31を投光させる。
【0145】このとき、測距センサ40の受光部43の
積分動作はLED10の投光に同期して行われる。
積分動作はLED10の投光に同期して行われる。
【0146】次に、CPU20は、ステップS223に
おいて、測距センサ40の受光部43の積分結果である
センサデータ読み出し測距演算を行い、ステップS22
4において、右測距エリア22の測距データを算出して
最終測距データとする。
おいて、測距センサ40の受光部43の積分結果である
センサデータ読み出し測距演算を行い、ステップS22
4において、右測距エリア22の測距データを算出して
最終測距データとする。
【0147】CPU20は、ステップS219及びS2
24の後に、リターンする。
24の後に、リターンする。
【0148】このように、第2の実施の形態による測距
装置では、3点測距により中央測距エリア22が選択さ
れた場合だけでなく、左右測距エリア21、23が選択
された場合においても、ESHOE14、15及び10
6、107を制御して、LED10の全光束を所望の測
距エリアに投光させて測距を行うので、より高精度な測
距を行うことができる。
装置では、3点測距により中央測距エリア22が選択さ
れた場合だけでなく、左右測距エリア21、23が選択
された場合においても、ESHOE14、15及び10
6、107を制御して、LED10の全光束を所望の測
距エリアに投光させて測距を行うので、より高精度な測
距を行うことができる。
【0149】図14は、上記第2の実施の形態の変形例
として、左右測距エリア高精度化のための別構成を示す
図である。
として、左右測距エリア高精度化のための別構成を示す
図である。
【0150】本変形例では、左右測距エリアについて高
精度化する構成として、上記ESHOE14、15及び
透明部分13に加えて、それぞれ対応して分割されたE
SHOE109、110を有するガラス基板108を積
層させて配置している。
精度化する構成として、上記ESHOE14、15及び
透明部分13に加えて、それぞれ対応して分割されたE
SHOE109、110を有するガラス基板108を積
層させて配置している。
【0151】ここで、ESHOE109、110は回折
光学素子として機能する場合には、LED10の投光光
束をそれぞれ光束31、33に一致するように回折させ
るよう回折光学特性が記録されている。
光学素子として機能する場合には、LED10の投光光
束をそれぞれ光束31、33に一致するように回折させ
るよう回折光学特性が記録されている。
【0152】そして、左右測距エリアについて高精度な
測距を行う場合には、ESHOE14、15を透過状態
(電圧印加)、ESHOE109、110を回折格子状
態(電圧非印加)として投光して測距を行う。
測距を行う場合には、ESHOE14、15を透過状態
(電圧印加)、ESHOE109、110を回折格子状
態(電圧非印加)として投光して測距を行う。
【0153】以上のように、第2の実施の形態によれ
ば、異なる回折角で電気的にスイッチングが可能な回折
光学素子を複数個重ねて配置し、それぞれ独立して回折
格子状態、非回折格子状態を設定する制御を行うことに
より、所望の測距エリアについて高精度な測距を行うこ
とが可能である。
ば、異なる回折角で電気的にスイッチングが可能な回折
光学素子を複数個重ねて配置し、それぞれ独立して回折
格子状態、非回折格子状態を設定する制御を行うことに
より、所望の測距エリアについて高精度な測距を行うこ
とが可能である。
【0154】(第3の実施の形態)図15は、反射型の
ESHOEを用いるようにした本発明による第3の実施
の形態として、撮影画面内の3点を測距するアクティブ
式測距装置を搭載したカメラにおける要部の構成を示す
図である。
ESHOEを用いるようにした本発明による第3の実施
の形態として、撮影画面内の3点を測距するアクティブ
式測距装置を搭載したカメラにおける要部の構成を示す
図である。
【0155】上記第1及び第2の実施の形態では、透過
型のESHOEを用いる測距装置について説明したが、
この第3の実施の形態では反射型のESHOEを用いる
測距装置について異なる部分を説明する。
型のESHOEを用いる測距装置について説明したが、
この第3の実施の形態では反射型のESHOEを用いる
測距装置について異なる部分を説明する。
【0156】すなわち、図15は、撮影画面内の3点を
測距するアクティブ式測距装置に適用する場合の投受光
部の構成を示している。
測距するアクティブ式測距装置に適用する場合の投受光
部の構成を示している。
【0157】投光素子である発光ダイオード(LED)
10は、凹面ミラー113の焦点位置に配置されるとと
もに、LED駆動回路11に接続されている。
10は、凹面ミラー113の焦点位置に配置されるとと
もに、LED駆動回路11に接続されている。
【0158】このLED10からの投光光束は、凹面ミ
ラ一113と複数分割された反射型ESHOE114、
115により反射されて投光光束131、132、13
3として被写体に投光される。
ラ一113と複数分割された反射型ESHOE114、
115により反射されて投光光束131、132、13
3として被写体に投光される。
【0159】反射型ESHOE114、115は、凹面
ミラー特性を有する反射素子としての特性が予め形成さ
れている。
ミラー特性を有する反射素子としての特性が予め形成さ
れている。
【0160】反射型ESHOE114、115は、ES
HOE駆動回路16により制御されることによって、そ
れぞれ制御電圧が印加されると透過状態、非印加では反
射素子状態に設定されるようになされている。
HOE駆動回路16により制御されることによって、そ
れぞれ制御電圧が印加されると透過状態、非印加では反
射素子状態に設定されるようになされている。
【0161】したがって、反射型ESHOE114は反
射素子として機能するとき、LED10からの投光光束
を投光光束132として反射させる。
射素子として機能するとき、LED10からの投光光束
を投光光束132として反射させる。
【0162】同様に、反射型ESHOE115は反射素
子として機能するとき、LED10からの投光光束を投
光光束133として反射させる。
子として機能するとき、LED10からの投光光束を投
光光束133として反射させる。
【0163】また、凹面ミラー113はLED10から
の投光光束を投光光束131として反射させる。
の投光光束を投光光束131として反射させる。
【0164】このように反射型ESHOE114、11
5は、それぞれ独立にオンオフ制御されて、投光角度の
制御を行う。
5は、それぞれ独立にオンオフ制御されて、投光角度の
制御を行う。
【0165】そして、投光光束131による被写体から
の反射光は、図6の(d)に示したような受光レンズ1
7a、17bを介して受光素子である測距センサ40の
受光部41に入射する。
の反射光は、図6の(d)に示したような受光レンズ1
7a、17bを介して受光素子である測距センサ40の
受光部41に入射する。
【0166】同様に、投光光束132による被写体から
の反射光は、図6の(d)に示したような受光レンズ1
8a、18bを介して受光素子である測距センサ40の
受光部42に入射する。
の反射光は、図6の(d)に示したような受光レンズ1
8a、18bを介して受光素子である測距センサ40の
受光部42に入射する。
【0167】また、投光光束133についても同様に、
被写体からの反射光は、図6の(d)に示したような受
光レンズ19a、19bを介して受光素子である測距セ
ンサ40の受光部43に入射する。
被写体からの反射光は、図6の(d)に示したような受
光レンズ19a、19bを介して受光素子である測距セ
ンサ40の受光部43に入射する。
【0168】測距センサ40による受光部41、42,
43の光電変換出力はCPU20に入力される。
43の光電変換出力はCPU20に入力される。
【0169】CPU20は、LED駆動回路11を介し
てLED10の投光制御、ESHOE駆動回路16を介
してESHOE114、115の状態制御、及び測距セ
ンサ40の積分動作に応じた光電変換出力に基づく測距
演算を行う。
てLED10の投光制御、ESHOE駆動回路16を介
してESHOE114、115の状態制御、及び測距セ
ンサ40の積分動作に応じた光電変換出力に基づく測距
演算を行う。
【0170】撮影画面内34の測距エリアは、図7に示
したように3個の測距エリア21、22、23である。
したように3個の測距エリア21、22、23である。
【0171】以上にような第3の実施の形態による投受
光部の構成で、第1の実施の形態に対応して回折を反射
に置き換えた制御を図16に示す測距フローに基づいて
実行し、複数の測距エリアに対応する投光を行うことに
よって、小型で構成部品点数を減少することができると
ともに、中央測距エリアについてはより高精度なAFの
ための測距を行うことができる。
光部の構成で、第1の実施の形態に対応して回折を反射
に置き換えた制御を図16に示す測距フローに基づいて
実行し、複数の測距エリアに対応する投光を行うことに
よって、小型で構成部品点数を減少することができると
ともに、中央測距エリアについてはより高精度なAFの
ための測距を行うことができる。
【0172】なお、図16に示す測距フローは、図9に
示した測距フローにおいて、ESHOE14、15をE
SHOE114、115に置き換えている以外は、図9
に示した測距フローのステップS101〜S113と同
様である。
示した測距フローにおいて、ESHOE14、15をE
SHOE114、115に置き換えている以外は、図9
に示した測距フローのステップS101〜S113と同
様である。
【0173】また、第3の実施の形態においても、図1
1に示したように、さらに左右測距エリアに対応する反
射角を有する反射型ESHOE108、109を重ねて
配置し、第2の実施の形態と同様な制御を行うことによ
り、左右測距エリアについても中央測距エリアと同様の
高精度なAFのための測距が可能となる。
1に示したように、さらに左右測距エリアに対応する反
射角を有する反射型ESHOE108、109を重ねて
配置し、第2の実施の形態と同様な制御を行うことによ
り、左右測距エリアについても中央測距エリアと同様の
高精度なAFのための測距が可能となる。
【0174】そして、このような測距装置をカメラ等の
小型機器内に配置する場合に、許容スペースに応じて透
過型のESHOEと反射型のESHOEとを選択してレ
イアウトすることにより効率的な小型化が可能である。
小型機器内に配置する場合に、許容スペースに応じて透
過型のESHOEと反射型のESHOEとを選択してレ
イアウトすることにより効率的な小型化が可能である。
【0175】(第4の実施の形態)図17は、第4の実
施の形態として本発明を一眼レフカメラに適用した場合
のの構成を示している。
施の形態として本発明を一眼レフカメラに適用した場合
のの構成を示している。
【0176】図17において、参照符号201はカメラ
ボディ、202は撮影レンズ203を光軸方向に移動可
能に保持するレンズ鏡筒、204は被写体光を測距系と
ファインダ系に分割する可動のハーフミラー、205は
ペンタプリズム、206は接眼レンズ207とともにフ
ァインダ系を構成するピント板、208は焦点検出装置
209に光束を導く可動ミラー、210はこの第4の実
施の形態で用いる後述の測距用の補助光装置である。
ボディ、202は撮影レンズ203を光軸方向に移動可
能に保持するレンズ鏡筒、204は被写体光を測距系と
ファインダ系に分割する可動のハーフミラー、205は
ペンタプリズム、206は接眼レンズ207とともにフ
ァインダ系を構成するピント板、208は焦点検出装置
209に光束を導く可動ミラー、210はこの第4の実
施の形態で用いる後述の測距用の補助光装置である。
【0177】図18は、図17における焦点検出装置2
09の具体的な構成を示す斜視図である。
09の具体的な構成を示す斜視図である。
【0178】すなわち、図18において、参照符号30
1は視野マスクで、焦点検出領域に応じた矩形開口30
1−1、301−2、301ー3を有し、撮影レンズ2
03の予定結像面近傍に配置されている。
1は視野マスクで、焦点検出領域に応じた矩形開口30
1−1、301−2、301ー3を有し、撮影レンズ2
03の予定結像面近傍に配置されている。
【0179】また、参照符号302はフィールドレンズ
であり、焦点検出領域に対応した複数のフィールドレン
ズ部302−1、302−2、302−3を有してい
る。
であり、焦点検出領域に対応した複数のフィールドレン
ズ部302−1、302−2、302−3を有してい
る。
【0180】また、参照符号303は瞳マスクであり、
焦点検出領域にそれぞれ対応した一対の瞳マスク開口3
03−1a、303−1bと303−2a、303−2
bと303−3a、303−3bとを有している。
焦点検出領域にそれぞれ対応した一対の瞳マスク開口3
03−1a、303−1bと303−2a、303−2
bと303−3a、303−3bとを有している。
【0181】また、参照符号304は再結像レンズであ
り、焦点検出領域にそれぞれ対応した一対の再結像レン
ズ304−1a、304−1bと304−2a、304
−2bと304−3a、304−3bとを有している。
り、焦点検出領域にそれぞれ対応した一対の再結像レン
ズ304−1a、304−1bと304−2a、304
−2bと304−3a、304−3bとを有している。
【0182】また、参照符号305はAFセンサであ
り、一対の光電変換素子列305−1a、305−1b
と305−2a、305−2bと305−3a、305
−3bとを有している。
り、一対の光電変換素子列305−1a、305−1b
と305−2a、305−2bと305−3a、305
−3bとを有している。
【0183】また、参照符号306は撮影レンズ203
の射出瞳領域であり、306a、306bを通過した光
束により焦点検出が行われる。
の射出瞳領域であり、306a、306bを通過した光
束により焦点検出が行われる。
【0184】視野マスク301の各矩形開口301−
1、301−2、301ー3を通過した光束は、複数の
フィールドレンズ部302の対応するフィールドレンズ
部302−1、302−2、302−3を透過する。
1、301−2、301ー3を通過した光束は、複数の
フィールドレンズ部302の対応するフィールドレンズ
部302−1、302−2、302−3を透過する。
【0185】そして、さらに対応する一対の瞳マスク開
口303−1a、303−1bと303−2a、303
−2bと303−3a、303−3bをそれぞれ通過し
た光束は、再結像レンズ部304の一対の再結像レンズ
304−1a、304−1bと304−2a、304−
2bと304−3a、304−3bにより、AFセンサ
305の対応する一対の光電変換素子列305−1a、
305−1bと305−2a、305−2bと305−
3a、305−3b上に物体像を形成する。
口303−1a、303−1bと303−2a、303
−2bと303−3a、303−3bをそれぞれ通過し
た光束は、再結像レンズ部304の一対の再結像レンズ
304−1a、304−1bと304−2a、304−
2bと304−3a、304−3bにより、AFセンサ
305の対応する一対の光電変換素子列305−1a、
305−1bと305−2a、305−2bと305−
3a、305−3b上に物体像を形成する。
【0186】この場合、形成される物体像の予定結像面
に対する位置、すなわち、撮影レンズ203のデフォー
カス状態に応じて、2個に分割された物体像の間隔が相
対的に変化する。
に対する位置、すなわち、撮影レンズ203のデフォー
カス状態に応じて、2個に分割された物体像の間隔が相
対的に変化する。
【0187】上記一対の光電変換素子列305−1a、
305−1bと305−2a、305−2bと305−
3a、305−3bにより、物体像を電気信号に変換し
た結果(センサデータ)を用いて、光量分布の相対的な
間隔を検出する。
305−1bと305−2a、305−2bと305−
3a、305−3bにより、物体像を電気信号に変換し
た結果(センサデータ)を用いて、光量分布の相対的な
間隔を検出する。
【0188】以上のようにして、複数(3点)の焦点検
出領域に関して焦点検出を行い、ピント状態を検出す
る。
出領域に関して焦点検出を行い、ピント状態を検出す
る。
【0189】図19は、撮影画面324内の焦点検出領
域321、322、323を示している。
域321、322、323を示している。
【0190】なお、この第4の実施の形態のブロック構
成は、図5に示した第1の実施の形態のブロック構成と
同一である。
成は、図5に示した第1の実施の形態のブロック構成と
同一である。
【0191】図20は、上記補助光装置210の構成を
示す図である。
示す図である。
【0192】投光素子である発光ダイオード(LED)
310が、LED駆動回路311に接続され、このLE
D310からの投光光束は、後述するパターンフィルム
335を通過し、投光レンズ312及び複数分割された
ESHOE314、315または透明部分333−1、
313−2を通過して被写体に投光光束331、33
2、333として投光される。
310が、LED駆動回路311に接続され、このLE
D310からの投光光束は、後述するパターンフィルム
335を通過し、投光レンズ312及び複数分割された
ESHOE314、315または透明部分333−1、
313−2を通過して被写体に投光光束331、33
2、333として投光される。
【0193】図21は、上記パターンフィルム335の
具体例を示す図である。
具体例を示す図である。
【0194】すなわち、図21に示すパターンフィルム
335は、ストライプ状の光透過部と非透過部とが交互
に配置されたパターン部336を有している。
335は、ストライプ状の光透過部と非透過部とが交互
に配置されたパターン部336を有している。
【0195】ESHOE314、315は、ESHOE
駆動回路316に接続され、ESH0E314、315
の回折がそれぞれオンオフ制御されることにより、投光
角度を制御する。
駆動回路316に接続され、ESH0E314、315
の回折がそれぞれオンオフ制御されることにより、投光
角度を制御する。
【0196】ESHOE314は、回折光学素子として
機能するとき、LED310からの投光光束を投光光束
331として回折させる。
機能するとき、LED310からの投光光束を投光光束
331として回折させる。
【0197】同様に、ESHOE315は、回折光学素
子として機能するとき、LED310からの投光光束を
投光光束333として回折させる。
子として機能するとき、LED310からの投光光束を
投光光束333として回折させる。
【0198】また、透明部分313−1、313−2を
通過するLED310の投光光束による主光束は332
となる。
通過するLED310の投光光束による主光束は332
となる。
【0199】図22の(a)は、ESHOE314、3
15を回折光学素子として機能させるときに、LED3
10からの投光光束によりパターン部336が、測距対
象物上に投影された像(パターン像)337、338、
339を示している。
15を回折光学素子として機能させるときに、LED3
10からの投光光束によりパターン部336が、測距対
象物上に投影された像(パターン像)337、338、
339を示している。
【0200】ここで、パターン像337は、ESHOE
314により回折された投光光束により形成される。
314により回折された投光光束により形成される。
【0201】同様に、パターン像339は、ESHOE
315により回折された投光光束により形成される。
315により回折された投光光束により形成される。
【0202】また、パターン像338は、透明部分31
3−1、313−2を通過した投光光束により形成され
る。
3−1、313−2を通過した投光光束により形成され
る。
【0203】図22の(b)は、ESHOE314、3
15を回折光学素子として機能させず、透過状態に設定
したときに、LED310からの投光光束によりパター
ン部336が、測距対象物上に投影されたパターン像3
38を示している。
15を回折光学素子として機能させず、透過状態に設定
したときに、LED310からの投光光束によりパター
ン部336が、測距対象物上に投影されたパターン像3
38を示している。
【0204】このとき、図22の(c)に示すように、
図22の(b)のパターン像338(b)は、図22の
(a)のパターン像338(a)に比較して照度及びコ
ントラストが大きくなっており、焦点検出領域322に
ついてより高精度、遠距離の焦点検出を行うことができ
る。
図22の(b)のパターン像338(b)は、図22の
(a)のパターン像338(a)に比較して照度及びコ
ントラストが大きくなっており、焦点検出領域322に
ついてより高精度、遠距離の焦点検出を行うことができ
る。
【0205】図22の(D)は、焦点距離の大きい撮影
レンズの場合の撮影画面を示しているが、このとき左右
の投光光束は撮影画面をはみ出している状態である。
レンズの場合の撮影画面を示しているが、このとき左右
の投光光束は撮影画面をはみ出している状態である。
【0206】このような場合に、ESHOE314、3
15を回折光学素子として機能させてもパターン像33
7、339は無効となる。
15を回折光学素子として機能させてもパターン像33
7、339は無効となる。
【0207】従って、撮影レンズの焦点距離に応じて回
折光学素子314、315を透過させることにより、パ
ターン像337、339を投光せず、パターン像338
のみを投光して無駄を防止することができる。
折光学素子314、315を透過させることにより、パ
ターン像337、339を投光せず、パターン像338
のみを投光して無駄を防止することができる。
【0208】以上のように、投光部に電気的スイッチン
グ可能な回折光学素子を用い、その特性を切り換えるこ
とによって、複数の焦点検出領域への投光と特定の焦点
検出領域たとえば使用頻度の高い中央領域についての投
光とを切り換えて、小型で構成部品点数を減少させると
ともに、より高精度なAFを行うことができる。
グ可能な回折光学素子を用い、その特性を切り換えるこ
とによって、複数の焦点検出領域への投光と特定の焦点
検出領域たとえば使用頻度の高い中央領域についての投
光とを切り換えて、小型で構成部品点数を減少させると
ともに、より高精度なAFを行うことができる。
【0209】
【発明の効果】従って、以上説明したように、本発明に
よれば、低コスト化及び小型化が可能で、かつ高性能な
測距を行うことが可能な測距装置を提供することができ
る。
よれば、低コスト化及び小型化が可能で、かつ高性能な
測距を行うことが可能な測距装置を提供することができ
る。
【図1】図1は、本発明による測距装置の概念的構成を
示すブロック図である。
示すブロック図である。
【図2】図2は、一般的な回折光学素子(DOE)で起
きる回折現象を説明するための図である。
きる回折現象を説明するための図である。
【図3】図3は、一般的な回折光学素子(DOE)にお
いて、ひとつの回折次数に注目したとき、回折格子のピ
ッチdを連続的に変化させると、m次の回折光に集光さ
せるレンズなどの作用を持たせることができることを示
す図である。
いて、ひとつの回折次数に注目したとき、回折格子のピ
ッチdを連続的に変化させると、m次の回折光に集光さ
せるレンズなどの作用を持たせることができることを示
す図である。
【図4】図4は、本発明に使用される機械的な機構を使
用せずに電気的にスイッチングが可能な回折光学素子と
して透過型の回折光学素子ESHOEについての作成方
法及び動作原理を説明するための図である。
用せずに電気的にスイッチングが可能な回折光学素子と
して透過型の回折光学素子ESHOEについての作成方
法及び動作原理を説明するための図である。
【図5】図5は、本発明の測距装置を具体的にカメラに
適用した場合の第1の実施の形態として、撮影画面内の
3点を測距するアクティブ式測距装置を搭載したカメラ
の構成を示すブロック図である。
適用した場合の第1の実施の形態として、撮影画面内の
3点を測距するアクティブ式測距装置を搭載したカメラ
の構成を示すブロック図である。
【図6】図6は、図5に示した各部の具体例を示す図で
ある。
ある。
【図7】図7は、撮影画面内34の測距エリアとして3
個の測距エリア21、22、23を示す図である。
個の測距エリア21、22、23を示す図である。
【図8】図8は、CPU20のメインフローを示す図で
ある。
ある。
【図9】図9は、第1の実施の形態におけるCPU20
による測距動作のフローチャートである。
による測距動作のフローチャートである。
【図10】図10は、第1の実施の形態による測距動作
における各部のタイミングチャー卜である。
における各部のタイミングチャー卜である。
【図11】図11は、本発明の測距装置を具体的にカメ
ラに適用した場合の第2の実施の形態として、撮影画面
内の3点を測距するアクティブ式測距装置を搭載したカ
メラにおいて、左右測距エリア高精度化のための要部の
構成を示すブロック図である。
ラに適用した場合の第2の実施の形態として、撮影画面
内の3点を測距するアクティブ式測距装置を搭載したカ
メラにおいて、左右測距エリア高精度化のための要部の
構成を示すブロック図である。
【図12】図12は、第2の実施の形態におけるCPU
20による測距動作のフローチャートである。
20による測距動作のフローチャートである。
【図13】図13は、第2の実施の形態による測距動作
における各部のタイミングチャー卜を示している。
における各部のタイミングチャー卜を示している。
【図14】図14は、上記第2の実施の形態の変形例と
して、左右測距エリア高精度化のための別構成を示す図
である。
して、左右測距エリア高精度化のための別構成を示す図
である。
【図15】図15は、反射型のESHOEを用いるよう
にした本発明による第3の実施の形態として、撮影画面
内の3点を測距するアクティブ式測距装置を搭載したカ
メラにおける要部の構成を示す図である。
にした本発明による第3の実施の形態として、撮影画面
内の3点を測距するアクティブ式測距装置を搭載したカ
メラにおける要部の構成を示す図である。
【図16】図16は、第3の実施の形態におけるCPU
20による測距動作のフローチャートである。
20による測距動作のフローチャートである。
【図17】図17は、第4の実施の形態として本発明を
一眼レフカメラに適用した場合のの構成を示す図であ
る。
一眼レフカメラに適用した場合のの構成を示す図であ
る。
【図18】図18は、図17における焦点検出装置20
9の具体的な構成を示す斜視図である。
9の具体的な構成を示す斜視図である。
【図19】図19は、撮影画面324内の焦点検出領域
321、322、323を示している。
321、322、323を示している。
【図20】図20は、上記補助光装置210の構成を示
す図である。
す図である。
【図21】図21は、上記パターンフィルム335の具
体例を示す図である。
体例を示す図である。
【図22】図22は、第4の実施の形態の動作を説明す
るための図である。
るための図である。
1…投光手段を有する投光部、 2…被写体からの反射光を受光する受光手段を有する受
光部、 3a、3b、3c……投光部1からの投光光を電気的に
スイッチング可能でかつ複数に分割された回折光学素
子、 4…受光部2からの出力に基づいて前記被写体までの測
距演算を行う制御部、 10…発光ダイオード(LED)、 12…投光レンズ12、 14、15…ESHOE、 13…ESHOE14、15の上部にある透明部分、 32、33、31…投光光束、 120、121…ガラス基板、 16…ESHOE駆動回路、 83、84…交流電源、 81、82…電気的スイッチ素子、 20…マイクロコンピュータ(CPU)、 17a、17b、18a、18b、19a、19b…受
光レンズ、 40…測距センサ、 41、42、43…受光部、 11…LED駆動回路、 25…フォーカシングレンズ、 26…レンズ駆動回路、 27…EEPROM、 24…撮影レンズ、 28…ズーム駆動回路、 29…ファーストレリーズスイッチ(1RSW)、 30…セカンドレリーズスイッチ(2RSW)、 21、22、23…測距エリア、 106、107…ESHOE、 108…ガラス基板、 109、110…ESHOE、 113…凹面ミラー、 114、115…反射型ESHOE、 131、132、133…投光光束、 201…カメラボディ、 202…レンズ鏡筒、 203…撮影レンズ、 204…ハーフミラー、 205…ペンタプリズム、 206…ピント板、 207…接眼レンズ、 208…可動ミラー、 209…焦点検出装置、 210…測距用の補助光装置、 301…視野マスク、 301−1、301−2、301ー3…焦点検出領域に
応じた矩形開口、 302…フィールドレンズ、 302−1、302−2、302−3…複数のフィール
ドレンズ部、 303…瞳マスク、 303−1a、303−1b、303−2a、303−
2b、303−3a、303−3b…一対の瞳マスク開
口、 304…再結像レンズ、 304−1a、304−1b、304−2a、304−
2b、304−3a、304−3b…一対の再結像レン
ズ、 305…AFセンサ、 305−1a、305−1b、305−2a、305−
2b、305−3a、305−3b…一対の光電変換素
子列、 306…撮影レンズ、 306a、306b…領域。 321、322、323…焦点検出領域、 310…投光素子である発光ダイオード(LED)、 311…LED駆動回路、 335…パターンフィルム、 312…投光レンズ 314、315…複数分割されたESHOE、 333−1、313−2…透明部分、 331、332、333…投光光束、 336…ストライプ状の光透過部と非透過部とが交互に
配置されたパターン部 337、338、339…パターン像。
光部、 3a、3b、3c……投光部1からの投光光を電気的に
スイッチング可能でかつ複数に分割された回折光学素
子、 4…受光部2からの出力に基づいて前記被写体までの測
距演算を行う制御部、 10…発光ダイオード(LED)、 12…投光レンズ12、 14、15…ESHOE、 13…ESHOE14、15の上部にある透明部分、 32、33、31…投光光束、 120、121…ガラス基板、 16…ESHOE駆動回路、 83、84…交流電源、 81、82…電気的スイッチ素子、 20…マイクロコンピュータ(CPU)、 17a、17b、18a、18b、19a、19b…受
光レンズ、 40…測距センサ、 41、42、43…受光部、 11…LED駆動回路、 25…フォーカシングレンズ、 26…レンズ駆動回路、 27…EEPROM、 24…撮影レンズ、 28…ズーム駆動回路、 29…ファーストレリーズスイッチ(1RSW)、 30…セカンドレリーズスイッチ(2RSW)、 21、22、23…測距エリア、 106、107…ESHOE、 108…ガラス基板、 109、110…ESHOE、 113…凹面ミラー、 114、115…反射型ESHOE、 131、132、133…投光光束、 201…カメラボディ、 202…レンズ鏡筒、 203…撮影レンズ、 204…ハーフミラー、 205…ペンタプリズム、 206…ピント板、 207…接眼レンズ、 208…可動ミラー、 209…焦点検出装置、 210…測距用の補助光装置、 301…視野マスク、 301−1、301−2、301ー3…焦点検出領域に
応じた矩形開口、 302…フィールドレンズ、 302−1、302−2、302−3…複数のフィール
ドレンズ部、 303…瞳マスク、 303−1a、303−1b、303−2a、303−
2b、303−3a、303−3b…一対の瞳マスク開
口、 304…再結像レンズ、 304−1a、304−1b、304−2a、304−
2b、304−3a、304−3b…一対の再結像レン
ズ、 305…AFセンサ、 305−1a、305−1b、305−2a、305−
2b、305−3a、305−3b…一対の光電変換素
子列、 306…撮影レンズ、 306a、306b…領域。 321、322、323…焦点検出領域、 310…投光素子である発光ダイオード(LED)、 311…LED駆動回路、 335…パターンフィルム、 312…投光レンズ 314、315…複数分割されたESHOE、 333−1、313−2…透明部分、 331、332、333…投光光束、 336…ストライプ状の光透過部と非透過部とが交互に
配置されたパターン部 337、338、339…パターン像。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2F065 AA02 AA06 BB29 DD03 DD04 FF09 FF24 GG07 GG12 JJ02 JJ05 JJ09 JJ25 JJ26 LL19 QQ28 QQ34 2F112 AA05 BA06 BA07 CA02 CA12 DA02 DA09 DA11 DA26 FA03 FA21 FA45 2H011 AA01 BA14 BB01 DA08 2H051 BA20 BB20 CC07 CC13 DA07 GB01
Claims (4)
- 【請求項1】 測距用光を投光する投光手段と、 上記測距用光を複数方向に分割投光するための光分割手
段と、 上記光分割手段を介して分割投光された上記測距用光の
測距対象からの反射光を受光する受光手段と、 上記受光手段の出力に基づいて上記測距対象の距離を検
出する検出手段と、 を具備する測距装置において、 上記光分割手段は、電気的に制御可能な複数に分割され
た回折または反射光学素子であることを特徴とする測距
装置。 - 【請求項2】 上記複数に分割された回折または反射光
学素子は、上記測距用光を所定の投光領域に対して選択
的に投光するように独立して制御可能であることを特徴
とする請求項1に記載の測距装置。 - 【請求項3】 上記光分割手段は、上記回折または反射
光学素子を複数個積層してなり、それぞれを独立して電
気的に制御することによって、上記測距用光を所定の領
域に対して選択的に投光可能であることを特徴とする請
求項1または2に記載の測距装置。 - 【請求項4】 上記回折または反射光学素子は、高分子
液晶により形成された回折格子に電気信号を入力して消
失させることを特徴とする請求項1に記載の測距装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000216189A JP2002031526A (ja) | 2000-07-17 | 2000-07-17 | 測距装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000216189A JP2002031526A (ja) | 2000-07-17 | 2000-07-17 | 測距装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002031526A true JP2002031526A (ja) | 2002-01-31 |
Family
ID=18711490
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000216189A Withdrawn JP2002031526A (ja) | 2000-07-17 | 2000-07-17 | 測距装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2002031526A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006308416A (ja) * | 2005-04-28 | 2006-11-09 | Sharp Corp | マルチビーム光学式測距センサおよびそれを備えた自走式掃除機、エアコンデョショナ |
KR101115945B1 (ko) | 2008-08-08 | 2012-02-22 | 주식회사 탑 엔지니어링 | 헤드유닛의 노즐의 토출구와 레이저변위센서의 결상점의 상대위치측정장치, 그 상대위치측정장치가 장착되는 페이스트 디스펜서 및 그 상대위치측정장치를 이용한 헤드유닛의 노즐의 토출구와 레이저변위센서의 결상점의 상대위치측정방법 |
-
2000
- 2000-07-17 JP JP2000216189A patent/JP2002031526A/ja not_active Withdrawn
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006308416A (ja) * | 2005-04-28 | 2006-11-09 | Sharp Corp | マルチビーム光学式測距センサおよびそれを備えた自走式掃除機、エアコンデョショナ |
JP4589169B2 (ja) * | 2005-04-28 | 2010-12-01 | シャープ株式会社 | マルチビーム光学式測距センサおよびそれを備えた自走式掃除機、エアコンディショナ |
KR101115945B1 (ko) | 2008-08-08 | 2012-02-22 | 주식회사 탑 엔지니어링 | 헤드유닛의 노즐의 토출구와 레이저변위센서의 결상점의 상대위치측정장치, 그 상대위치측정장치가 장착되는 페이스트 디스펜서 및 그 상대위치측정장치를 이용한 헤드유닛의 노즐의 토출구와 레이저변위센서의 결상점의 상대위치측정방법 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20071002 |