JP2001196285A - レジスト類塗布機 - Google Patents
レジスト類塗布機Info
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- JP2001196285A JP2001196285A JP2000001049A JP2000001049A JP2001196285A JP 2001196285 A JP2001196285 A JP 2001196285A JP 2000001049 A JP2000001049 A JP 2000001049A JP 2000001049 A JP2000001049 A JP 2000001049A JP 2001196285 A JP2001196285 A JP 2001196285A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 レジスト類を基板に均一に塗布するためのレ
ジスト類塗布機に関し、リッジ両側でレジスト類を対称
に塗布して断線等を防ぐ。 【解決手段】 極性切替スイッチ１２は電源スイッチＳ
と直流電源Ｅの直列回路とモータ１の間に接続される。
電源スイッチＳがオンされているときに極性切替スイッ
チ１２を手動操作することで、直流電源Ｅからモータ１
に印加する電源電圧の極性を反転させて、モータ１を、
すなわち基板３を時計回り方向（ＣＷ）のみならず反時
計回り方向（ＣＣＷ）に回転駆動することが可能であ
る。
ジスト類塗布機に関し、リッジ両側でレジスト類を対称
に塗布して断線等を防ぐ。 【解決手段】 極性切替スイッチ１２は電源スイッチＳ
と直流電源Ｅの直列回路とモータ１の間に接続される。
電源スイッチＳがオンされているときに極性切替スイッ
チ１２を手動操作することで、直流電源Ｅからモータ１
に印加する電源電圧の極性を反転させて、モータ１を、
すなわち基板３を時計回り方向（ＣＷ）のみならず反時
計回り方向（ＣＣＷ）に回転駆動することが可能であ
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はレジスト類塗布機に
関し、特に、レジスト、ポリイミドあるいはＰＭＧＩな
どのレジスト類を基板に均一に塗布するための小型のレ
ジスト類塗布機に関するものである。
関し、特に、レジスト、ポリイミドあるいはＰＭＧＩな
どのレジスト類を基板に均一に塗布するための小型のレ
ジスト類塗布機に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】図３に従来のレジスト類塗布機の斜視図
を、図４に斜視図中Ａ−Ａ’における断面図を示す。
を、図４に斜視図中Ａ−Ａ’における断面図を示す。
【０００３】両図において５は筐体であり、筐体５中に
は電源（図示せず）によって回転駆動されるモータ１が
配設される。４は基板固定台であり、モータ１の回転軸
２と係合する軸状の係合部４ａを備える。基板固定台４
はさらにディスク状の基板載置部４ｂを備え、当該載置
部に基板３が固定される。
は電源（図示せず）によって回転駆動されるモータ１が
配設される。４は基板固定台であり、モータ１の回転軸
２と係合する軸状の係合部４ａを備える。基板固定台４
はさらにディスク状の基板載置部４ｂを備え、当該載置
部に基板３が固定される。
【０００４】モータ１は一方向に回転駆動され、図３で
は時計回り方向（ＣＷ）に回転して基板固定台４を同方
向に回転させる。基板固定台４の上部には、基板載置部
４ｂ上の基板３にレジスト類を滴下して塗布するための
レジスト滴下手段（図示せず）が設けられる。
は時計回り方向（ＣＷ）に回転して基板固定台４を同方
向に回転させる。基板固定台４の上部には、基板載置部
４ｂ上の基板３にレジスト類を滴下して塗布するための
レジスト滴下手段（図示せず）が設けられる。
【０００５】次に、上記構成の従来のレジスト類塗布機
を用いて、リッジを持った基板に例えばポリイミドを塗
布してリッジ構造を平坦化し、リッジの頭に形成した電
極を外部に引き出すプロセスを行った場合の動作と問題
点について考察する。
を用いて、リッジを持った基板に例えばポリイミドを塗
布してリッジ構造を平坦化し、リッジの頭に形成した電
極を外部に引き出すプロセスを行った場合の動作と問題
点について考察する。
【０００６】図５（Ａ）〜図５（Ｃ）はレジスト塗布か
ら電極形成までの工程を説明する動作説明図であり、回
転方向と直交する方向に示している。
ら電極形成までの工程を説明する動作説明図であり、回
転方向と直交する方向に示している。
【０００７】使用する基板３には、図５（Ａ）のよう
に、幅Ｗ、高さＨのリッジ６が形成されている。なお、
この例においては幅Ｗは１．５μｍ程度、高さＨは４μ
ｍ程度とするが、以下の議論は、幅Ｗ、高さＨの値に関
らず成立する。
に、幅Ｗ、高さＨのリッジ６が形成されている。なお、
この例においては幅Ｗは１．５μｍ程度、高さＨは４μ
ｍ程度とするが、以下の議論は、幅Ｗ、高さＨの値に関
らず成立する。
【０００８】図３および図４に示したように基板３を基
板載置部４ｂ上に載置する。この状態で、レジスト滴下
手段によってポリイミド７を滴下した後、基板固定台４
を時計回り方向（ＣＷ）に回転させ、図５（Ａ）の通り
に基板３の全面に塗布する。この時、回転方向と慣性の
関係で、リッジ６の図中左側にポリイミド７が堰き止め
られて溜まる。従って、リッジ６の右側にはポリイミド
７が充分には供給されないので、ここにディップ８が生
じてしまう。この形状に形成されたポリイミド７をべー
キングにより固化する。
板載置部４ｂ上に載置する。この状態で、レジスト滴下
手段によってポリイミド７を滴下した後、基板固定台４
を時計回り方向（ＣＷ）に回転させ、図５（Ａ）の通り
に基板３の全面に塗布する。この時、回転方向と慣性の
関係で、リッジ６の図中左側にポリイミド７が堰き止め
られて溜まる。従って、リッジ６の右側にはポリイミド
７が充分には供給されないので、ここにディップ８が生
じてしまう。この形状に形成されたポリイミド７をべー
キングにより固化する。
【０００９】次に、図５（Ｂ）に示すようにエッチバッ
クを行ってリッジ６の頭出しを行なう。すなわち、基板
３の上方から酸素ガスによるリアクティブイオンエッチ
ング（Ｏ2−ＲＩＥ）を行ってポリイミド７の上部を除
去する。この結果、リッジ６の右側には段差９が生じ
る。
クを行ってリッジ６の頭出しを行なう。すなわち、基板
３の上方から酸素ガスによるリアクティブイオンエッチ
ング（Ｏ2−ＲＩＥ）を行ってポリイミド７の上部を除
去する。この結果、リッジ６の右側には段差９が生じ
る。
【００１０】続いて、ポリイミド７とリッジ６の上部に
電極を形成すると、図５（Ｃ）に示すように電極１０ａ
もディップ８にしたがって湾曲した断面形状となり、ま
た、段差９によって電極１０ｂと電極１０ａが不連続と
なって電極の断線が起こってしまう。
電極を形成すると、図５（Ｃ）に示すように電極１０ａ
もディップ８にしたがって湾曲した断面形状となり、ま
た、段差９によって電極１０ｂと電極１０ａが不連続と
なって電極の断線が起こってしまう。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】従来のレジスト類塗布
機では、上述した通り電極の断線が起こるという課題が
あった。
機では、上述した通り電極の断線が起こるという課題が
あった。
【００１２】このようにリッジ６の回転方向に対し両側
において塗布された厚みが異なるのはポリイミドの場合
のみでなく、厚みの相異は通常のレジストやＰＭＧＩ
（Polyglycidal Methacrylate Imede）など粘性のある
液体を塗布した場合には必ず生じてしまう。また本出願
人は、従来のレジスト類塗布機のように同じ方向に回転
させた場合には、レジスト塗布とベーキングを何度繰り
返しても厚みの相異を解決することができないことを実
験的に確認した。
において塗布された厚みが異なるのはポリイミドの場合
のみでなく、厚みの相異は通常のレジストやＰＭＧＩ
（Polyglycidal Methacrylate Imede）など粘性のある
液体を塗布した場合には必ず生じてしまう。また本出願
人は、従来のレジスト類塗布機のように同じ方向に回転
させた場合には、レジスト塗布とベーキングを何度繰り
返しても厚みの相異を解決することができないことを実
験的に確認した。
【００１３】また従来のレジスト類塗布機では、上述の
ようなエッチバックを行うことなくリッジ６の頭部に微
細なパターンを形成する場合にも、正確なパターン形成
を行えないという課題があった。
ようなエッチバックを行うことなくリッジ６の頭部に微
細なパターンを形成する場合にも、正確なパターン形成
を行えないという課題があった。
【００１４】そこで本発明は、リッジ両側に形成される
レジスト類の厚みの相異を解決し、リッジ頭部から電極
を引き出す際の断線を防ぐことができ、またはリッジ頭
部へ微細なパターンを形成することのできるレジスト類
塗布機を提供することを目的とする。
レジスト類の厚みの相異を解決し、リッジ頭部から電極
を引き出す際の断線を防ぐことができ、またはリッジ頭
部へ微細なパターンを形成することのできるレジスト類
塗布機を提供することを目的とする。
【００１５】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに本発明は、基板を固定する基板固定手段と、駆動電
源から電力を供給されて前記基板固定手段を回転させる
回転手段と、前記回転駆動にしたがって回転する前記基
板固定手段に固定された基板にレジスト類を塗布する塗
布手段と、前記回転手段に供給する電力の極性を切り替
えて、前記回転手段の回転方向を時計回り方向と反時計
回り方向に切り替える回転切り替え手段とを備えたこと
を特徴とするレジスト類塗布機を提供する。
めに本発明は、基板を固定する基板固定手段と、駆動電
源から電力を供給されて前記基板固定手段を回転させる
回転手段と、前記回転駆動にしたがって回転する前記基
板固定手段に固定された基板にレジスト類を塗布する塗
布手段と、前記回転手段に供給する電力の極性を切り替
えて、前記回転手段の回転方向を時計回り方向と反時計
回り方向に切り替える回転切り替え手段とを備えたこと
を特徴とするレジスト類塗布機を提供する。
【００１６】上記構成の本発明によれば、基板固定手段
は時計回りと反時計回りの両方向に回転可能である。従
って、時計回りに回転させてレジスト類を一旦塗布し、
べーキングにより固化させた後、今度は時計回りに回転
させてレジスト類を塗布してべーキングすると、リッジ
両側で対称となるようにレジスト類を塗布することがで
きる。
は時計回りと反時計回りの両方向に回転可能である。従
って、時計回りに回転させてレジスト類を一旦塗布し、
べーキングにより固化させた後、今度は時計回りに回転
させてレジスト類を塗布してべーキングすると、リッジ
両側で対称となるようにレジスト類を塗布することがで
きる。
【００１７】
【発明の実施の形態】図１は本発明に係る一実施形態の
レジスト類塗布機の構成を示す構成図である。図３中と
同一構成要素には同一符号を付し、その説明を省略す
る。
レジスト類塗布機の構成を示す構成図である。図３中と
同一構成要素には同一符号を付し、その説明を省略す
る。
【００１８】図１において、１２は本発明の特徴である
極性切替スイッチであり、電源スイッチＳと直流電源Ｅ
の直列回路とモータ１の間に接続される。極性切替スイ
ッチ１２には、例えば２回路３接点のコンタクト・スイ
ッチを用いることができる。極性切替スイッチ１２の回
路形式はこれに限定されない。
極性切替スイッチであり、電源スイッチＳと直流電源Ｅ
の直列回路とモータ１の間に接続される。極性切替スイ
ッチ１２には、例えば２回路３接点のコンタクト・スイ
ッチを用いることができる。極性切替スイッチ１２の回
路形式はこれに限定されない。
【００１９】電源スイッチＳがオンされているときに極
性切替スイッチ１２を手動操作することで、直流電源Ｅ
からモータ１に印加する電源電圧の極性を反転させて、
モータ１を、すなわち基板３を時計回り方向（ＣＷ）の
みならず反時計回り方向（ＣＣＷ）に回転駆動すること
が可能である。基板固定台４の上部には、レジスト滴下
手段（図示せず）が設けられる。
性切替スイッチ１２を手動操作することで、直流電源Ｅ
からモータ１に印加する電源電圧の極性を反転させて、
モータ１を、すなわち基板３を時計回り方向（ＣＷ）の
みならず反時計回り方向（ＣＣＷ）に回転駆動すること
が可能である。基板固定台４の上部には、レジスト滴下
手段（図示せず）が設けられる。
【００２０】以下、本実施形態に係るレジスト類塗布機
によるレジスト塗布から電極形成までの工程と、当該工
程により得られる効果について、図２（Ａ）〜図２
（Ｄ）の動作説明図（レジスト塗布から電極形成までの
工程）を参照して説明する。図２（Ａ）〜図２（Ｄ）は
回転方向と直交する方向に示している。
によるレジスト塗布から電極形成までの工程と、当該工
程により得られる効果について、図２（Ａ）〜図２
（Ｄ）の動作説明図（レジスト塗布から電極形成までの
工程）を参照して説明する。図２（Ａ）〜図２（Ｄ）は
回転方向と直交する方向に示している。
【００２１】まず、従来例と同様に基板固定台４の上に
基板３を載置し、固定する。レジスト類の一例として基
板３上にポリイミド７を滴下した後、電源スイッチＳを
オンさせて時計回り方向（ＣＷ）に基板固定台４を回転
させて基板３にポリイミド７を塗布した後、べーキング
により固化する。この時、図２（Ａ）に示したように、
従来例と同様にポリイミド７は基板３のリッジ６によっ
てその図中左側に堰き止められ、ここに多く溜まる。一
方、リッジ６の右側にはディップ８が形成される。
基板３を載置し、固定する。レジスト類の一例として基
板３上にポリイミド７を滴下した後、電源スイッチＳを
オンさせて時計回り方向（ＣＷ）に基板固定台４を回転
させて基板３にポリイミド７を塗布した後、べーキング
により固化する。この時、図２（Ａ）に示したように、
従来例と同様にポリイミド７は基板３のリッジ６によっ
てその図中左側に堰き止められ、ここに多く溜まる。一
方、リッジ６の右側にはディップ８が形成される。
【００２２】この工程までは従来例と同様である。
【００２３】続いて、図２（Ａ）の形状とされたポリイ
ミド７の上にポリイミド１１を滴下した後、極性切替ス
イッチ１２を手動操作し、反時計回り方向（ＣＣＷ）に
基板固定台４を回転させてポリイミド７上にポリイミド
１１を塗布した後、べーキングにより固化する。このと
き、回転方向が反時計回り方向（ＣＣＷ）であるため、
最初の工程で形成されたディップ８部分にポリイミド１
１が多く溜まるので、これによってディップが解消さ
れ、リッジ６の両側におけるポリイミド形状はほぼ対称
となる。
ミド７の上にポリイミド１１を滴下した後、極性切替ス
イッチ１２を手動操作し、反時計回り方向（ＣＣＷ）に
基板固定台４を回転させてポリイミド７上にポリイミド
１１を塗布した後、べーキングにより固化する。このと
き、回転方向が反時計回り方向（ＣＣＷ）であるため、
最初の工程で形成されたディップ８部分にポリイミド１
１が多く溜まるので、これによってディップが解消さ
れ、リッジ６の両側におけるポリイミド形状はほぼ対称
となる。
【００２４】ポリイミドが対称となった状態で、続いて
図２（Ｃ）に示すように基板３の上方から酸素ガスによ
るリアクティブイオンエッチング（Ｏ2−ＲＩＥ）を行
ってポリイミド７と１１の上部を除去する。この結果、
リッジ両側でポリイミドが対称な形状となるように、リ
ッジ６が頭出しされる。このとき、リッジ側部に段差は
生じていない。
図２（Ｃ）に示すように基板３の上方から酸素ガスによ
るリアクティブイオンエッチング（Ｏ2−ＲＩＥ）を行
ってポリイミド７と１１の上部を除去する。この結果、
リッジ両側でポリイミドが対称な形状となるように、リ
ッジ６が頭出しされる。このとき、リッジ側部に段差は
生じていない。
【００２５】これに続いて、ポリイミド７，１１とリッ
ジ６の上部に電極を形成すると、図２（Ｄ）に示すよう
に断線することなく連続した電極１０を形成することが
できる。
ジ６の上部に電極を形成すると、図２（Ｄ）に示すよう
に断線することなく連続した電極１０を形成することが
できる。
【００２６】なお、上述した例では最初のレジスト塗布
時に時計回りに回転させ、次のレジスト塗布時に反時計
回りに回転させていたが、これとは逆に、最初のレジス
ト塗布時に反時計回りに回転させ、次のレジスト塗布時
に時計回りに回転させても良い。このように両方向に回
転させ、各回転時にレジスト類を塗布することで、ポリ
イミド以外のレジストやＰＭＧＩなど、粘性のある液体
であればリッジの左右においてほぼ対称となるように塗
布することができる。
時に時計回りに回転させ、次のレジスト塗布時に反時計
回りに回転させていたが、これとは逆に、最初のレジス
ト塗布時に反時計回りに回転させ、次のレジスト塗布時
に時計回りに回転させても良い。このように両方向に回
転させ、各回転時にレジスト類を塗布することで、ポリ
イミド以外のレジストやＰＭＧＩなど、粘性のある液体
であればリッジの左右においてほぼ対称となるように塗
布することができる。
【００２７】また、上述した例では時計回りと反時計回
りのレジスト類の塗布手順を一回だけ行う場合を説明し
たが、上記塗布手順を複数回繰返すことにより、より均
一な塗布を可能とすることができる。
りのレジスト類の塗布手順を一回だけ行う場合を説明し
たが、上記塗布手順を複数回繰返すことにより、より均
一な塗布を可能とすることができる。
【００２８】
【発明の効果】以上説明したように本発明に係るレジス
ト類塗布機によれば、基板固定手段を時計回りと反時計
回りの両方向に回転可能とすることでリッジ両側で対称
となるようにレジスト類を塗布することができるので、
リッジの頭部付近において微細なパターンを形成するこ
とができ、また、エッチバックによってリッジ頭部を露
出させても断線のない電極を形成できるなどの効果があ
る。
ト類塗布機によれば、基板固定手段を時計回りと反時計
回りの両方向に回転可能とすることでリッジ両側で対称
となるようにレジスト類を塗布することができるので、
リッジの頭部付近において微細なパターンを形成するこ
とができ、また、エッチバックによってリッジ頭部を露
出させても断線のない電極を形成できるなどの効果があ
る。
【図１】本発明に係る一実施形態のレジスト類塗布機の
構成を示す構成図である。
構成を示す構成図である。
【図２】本発明に係る一実施形態のレジスト類塗布機に
よるレジスト塗布から電極形成までの工程を説明する動
作説明図である。
よるレジスト塗布から電極形成までの工程を説明する動
作説明図である。
【図３】従来のレジスト類塗布機の一例の斜視図であ
る。
る。
【図４】従来のレジスト類塗布機の一例の断面図であ
る。
る。
【図５】従来のレジスト類塗布機によるレジスト塗布か
ら電極形成までの工程を説明する動作説明図である。
ら電極形成までの工程を説明する動作説明図である。
１ モータ ２ 回転軸 ３ 基板 ４ 基板固定台 ５ 筐体 ６ リッジ ７，１１ ポリイミド ８ ディップ ９ 段差 １０ 電極 １２ 極性切替スイッチ
Claims (1)
- 【請求項１】 基板を固定する基板固定手段と、 駆動電源から電力を供給されて前記基板固定手段を回転
させる回転手段と、 前記回転駆動にしたがって回転する前記基板固定手段に
固定された基板にレジスト類を塗布する塗布手段と、 前記回転手段に供給する電力の極性を切り替えて、前記
回転手段の回転方向を時計回り方向と反時計回り方向に
切り替える回転切り替え手段とを備えたことを特徴とす
るレジスト類塗布機。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000001049A JP2001196285A (ja) | 2000-01-06 | 2000-01-06 | レジスト類塗布機 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000001049A JP2001196285A (ja) | 2000-01-06 | 2000-01-06 | レジスト類塗布機 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001196285A true JP2001196285A (ja) | 2001-07-19 |
Family
ID=18530312
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000001049A Pending JP2001196285A (ja) | 2000-01-06 | 2000-01-06 | レジスト類塗布機 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001196285A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015531994A (ja) * | 2012-07-10 | 2015-11-05 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドＡｐｐｌｉｅｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ，Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄ | レーザ及びプラズマエッチングを用いたウェハダイシングのための均一なマスキング |
-
2000
- 2000-01-06 JP JP2000001049A patent/JP2001196285A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015531994A (ja) * | 2012-07-10 | 2015-11-05 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドＡｐｐｌｉｅｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ，Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄ | レーザ及びプラズマエッチングを用いたウェハダイシングのための均一なマスキング |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20040420 |