JP2001145975A - Reflecting member - Google Patents

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To enhance photothermal resistance after bending processing in a reflecting member using a reflecting material consisting of a transparent polymeric film, a silver membrane layer, a rear metal layer, an adhesive layer and a support. SOLUTION: At least a transparent polymeric film (A), a silver membrane layer (B), a rear metal layer (C), an adhesive layer (D) and a support (E) are successively formed and the rear metal layer (C) is constituted of a metal or alloy having a property exceeding an elastic modulus of 1.005×10-12 (dyn/cm2) at a temperature of 300 K.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【０００１】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、反射率の高い銀を
用いた反射部材に関する。更に詳しくは、打ち抜き加
工、折り曲げ加工を施した後も、耐光性、耐熱性に優れ
た反射部材に関する。本発明の反射部材は、液晶表示装
置のバックライトのランプリフレクター、プリンター及
びＦＡＸ等に用いられる反射鏡、蛍光灯の反射傘、スト
ロボの反射傘等に使用される。これら以外にもほとんど
全ての光反射部材に用いることができる。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a reflection member using silver having a high reflectance. More specifically, the present invention relates to a reflecting member having excellent light resistance and heat resistance even after punching and bending. The reflecting member of the present invention is used for a lamp reflector of a backlight of a liquid crystal display device, a reflecting mirror used for a printer and a facsimile, a reflecting umbrella of a fluorescent lamp, a reflecting umbrella of a strobe, and the like. Other than these, it can be used for almost all light reflecting members.

【０００２】[0002]

【従来の技術】近年、反射膜として銀を用いた高反射率
の反射体が液晶表示装置のバックライト部のランプリフ
レクターを中心に、蛍光灯の反射傘等に用いられてい
る。これらはＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フ
ィルム／銀薄膜層／接着層／アルミ板からなるいわゆる
銀反射板や、ＰＥＴフィルム／銀薄膜層／白塗装／接着
層／アルミ薄膜層／ＰＥＴフィルム／光遮蔽層からなる
いわゆる銀反射シートである。これらは、透明高分子フ
ィルムであるＰＥＴフィルムと接着剤層により銀薄膜層
を被覆することにより、従来からの問題点であった大気
曝露による銀の硫化、酸化を防止し、高反射率を維持す
ることに成功した。たとえば上記銀反射板、銀反射シー
トを８０℃の恒温槽中に１０００時間放置したが、硫化
等による黒色、黄色の変色は観察されず、反射率も低下
しなかった。６０℃、８５％ＲＨの恒温恒湿槽に１００
０時間放置しても、同様に黒化及び反射率の低下は観察
されなかった。2. Description of the Related Art In recent years, a high-reflectance reflector using silver as a reflection film has been used in a reflector of a fluorescent lamp, mainly for a lamp reflector in a backlight portion of a liquid crystal display device. These include so-called silver reflectors composed of PET (polyethylene terephthalate) film / silver thin film layer / adhesive layer / aluminum plate, and PET film / silver thin film layer / white paint / adhesive layer / aluminum thin film layer / PET film / light shielding layer. This is a so-called silver reflection sheet. In these, the silver thin film layer is covered with a PET film, which is a transparent polymer film, and an adhesive layer, thereby preventing sulfurization and oxidation of silver due to exposure to the air, which was a conventional problem, and maintaining high reflectance. Was successful. For example, when the silver reflection plate and the silver reflection sheet were left in a constant temperature bath at 80 ° C. for 1000 hours, no black or yellow discoloration due to sulfuration or the like was observed, and the reflectance did not decrease. 100 in a constant temperature and humidity chamber of 60 ° C and 85% RH
Even when left for 0 hours, no blackening and no decrease in reflectance were observed.

【０００３】しかしながら、Ｑ−ＰＡＮＥＬ社（米国）
のＱＵＶ試験機を用いて、上記銀反射板及び銀反射シー
トの紫外線照射試験を行ったところ、反射面が赤紫色に
変色した。これらは一般的に知られていた銀の硫化、酸
化による黒色、黄褐色、黄色といった色とは異なり、Ｐ
ＥＴフィルム自身の紫外線劣化による黄変とも異なって
いた。発明者らは、波長３８０ｎｍから３００ｎｍにお
ける光線の透過率が１０％以下である可撓性の基板（Ｐ
ＥＴフィルム）の片面に銀を含む金属薄膜を積層するこ
とにより、可視光線での反射率を著しく低下することな
く、紫外線に対する耐久性を改善した（特開平５−１６
２２２７、ＵＳ−５２７６６００）。However, Q-PANEL (USA)
When the above-mentioned silver reflection plate and silver reflection sheet were subjected to an ultraviolet irradiation test using a QUV tester, the reflection surface turned reddish purple. These are different from commonly known colors such as black, tan, and yellow due to silver sulfide and oxidation.
It was also different from yellowing due to ultraviolet deterioration of the ET film itself. The present inventors have proposed a flexible substrate (P) having a light transmittance of 10% or less at a wavelength of 380 nm to 300 nm.
By laminating a metal thin film containing silver on one side of an (ET film), the durability to ultraviolet light is improved without significantly lowering the reflectance with visible light (JP-A-5-16).
2227, US-5276600).

【０００４】さらに、紫外線照射のみならず、可視光照
射においても同様の変色が起きることを見出した。この
変化は、常温では非常に進行が遅いものの、高温下では
急速に進行することがわかった。つまり、光と熱によっ
て起きる変色であり、これを光熱劣化と呼ぶことにす
る。発明者らは、透明高分子フィルムの片面に、金属を
含むプラズマによる表面処理を施した後、該処理面に銀
薄膜層を形成することで変色を防止できることを見出し
ている（特開平０９−１５０４８２）。Further, it has been found that similar discoloration occurs not only with ultraviolet irradiation but also with visible light irradiation. This change was found to progress very slowly at room temperature, but to progress rapidly at high temperatures. That is, discoloration caused by light and heat is referred to as photothermal degradation. The inventors have found that discoloration can be prevented by subjecting one surface of a transparent polymer film to a surface treatment using a plasma containing a metal and then forming a silver thin film layer on the treated surface (Japanese Patent Application Laid-Open No. 09-2009). 150482).

【０００５】液晶表示装置（ＬＣＤ）は、薄型化、軽量
化、大画面化、高輝度化が進められており、これを受け
てＬＣＤ用のバックライトではランプの高輝度化、部材
の高密度化が進んでいる。ＬＣＤバックライト用ランプ
リフレクターは、例えば平板の反射体を打ち抜き加工
し、穴開け加工し、さらに折り曲げ加工することでリフ
レクター形状を形成している。近年、リフレクターの小
型化・加工形状の複雑化が進み、折り曲げ加工時の曲げ
径がきつくなっている。Liquid crystal display devices (LCDs) are becoming thinner, lighter, larger screens, and higher brightness. In response to this, backlights for LCDs have higher brightness lamps and higher density of members. Is progressing. The lamp reflector for LCD backlight forms a reflector shape by, for example, punching out a flat reflector, punching a hole, and then bending the reflector. In recent years, the miniaturization of reflectors and the complexity of processing shapes have progressed, and the bending diameter at the time of bending processing has become tight.

【０００６】折り曲げ加工部に高温下で可視光を照射し
たところ、平面部と比較して光熱劣化が早く進むことが
わかった。更に、折り曲げ加工部では、銀薄膜層が引っ
張り応力によりひび割れていることがわかった。Irradiation of visible light at a high temperature to the bent portion revealed that photothermal degradation progressed faster than that of the flat portion. Further, it was found that the silver thin film layer was cracked by the tensile stress in the bent portion.

【０００７】[0007]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、ＬＣＤ用バ
ックライトのランプリフレクター等に用いられる折り曲
げ加工を施した反射部材において、光、熱による変色を
抑制することを目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to suppress discoloration due to light and heat in a bent reflecting member used for a lamp reflector of an LCD backlight or the like.

【０００８】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、かかる問
題を解決するため、鋭意検討した結果、透明高分子フィ
ルム、銀薄膜層、裏面金属層とを順に積層した反射フィルム
が引っ張り試験後も高い耐光性を持つことを見出し、更
にこれらをＬＣＤ用バックライトのランプリフレクター
等に用いられる折り曲げ加工を施した反射部材に適用し
たところ、折り曲げ加工部分の光熱劣化を抑制できるこ
とを見いだした。本発明はかかる知見によりなされるに
至ったものである。Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have conducted intensive studies in order to solve such a problem, and as a result, a reflective film in which a transparent polymer film, a silver thin film layer, and a back metal layer are laminated in this order after a tensile test. Have high light resistance, and when they are applied to a bent reflecting member used for a lamp reflector or the like of an LCD backlight, it has been found that photothermal degradation of the bent portion can be suppressed. The present invention has been made based on such findings.

【０００９】すなわち、本発明は、（１）少なくとも、
透明高分子フィルム（Ａ）、銀薄膜層（Ｂ）、裏面金属
層（Ｃ）、接着層（Ｄ）、支持体（Ｅ）からなる構成Ａ
ＢＣＤＥの透明高分子フィルム（Ａ）側を反射面とする
反射部材、または、（２）（１）に記載の反射体の裏面
金属層（Ｃ）が、温度３００Ｋにおいて、弾性率１．０
０５×１０^-12（ｄｙｎ／ｃｍ²）を越える性質を有する
金属又は合金である反射部材、または、（３）裏面金属
層（Ｃ）の厚さが５〜５０ｎｍである、（１）及び
（２）に記載の反射部材、または、（４）打ち抜き加
工、折り曲げ加工を行うことを特徴とする（１）〜
（３）に記載の反射部材、または、（５）（１）〜
（４）に記載の反射部材を透明高分子フィルム（Ａ）側
を内側に折り曲げ加工し、光源を覆うよう設置して使用
することを特徴とする反射部材、を要旨とするものであ
る。That is, the present invention provides (1) at least:
Structure A comprising transparent polymer film (A), silver thin film layer (B), back metal layer (C), adhesive layer (D), and support (E)
The reflective member having the transparent polymer film (A) side of the BCDE as a reflective surface, or the back metal layer (C) of the reflector described in (2) or (1) has an elastic modulus of 1.0 at a temperature of 300K.
(1) and (1) and (3) wherein the thickness of the back metal layer (C) is 5 to 50 nm, or (3) the reflecting member is a metal or alloy having a property exceeding 05 × 10 ⁻¹² (dyn / cm ² ). The reflecting member according to 2), or (4) punching and bending are performed.
The reflecting member according to (3), or (5) (1) to
The reflective member according to (4) is characterized in that the transparent polymer film (A) side is bent inward on the transparent polymer film (A) side, and is installed and used so as to cover the light source.

【００１０】[0010]

【発明の実施の形態】まず、添付図面について説明する
に、図１は本発明の反射部材の構造断面図である。反射
部材とは、入射した光を元の媒質に戻す反射体を用いた
部材のことであり、主にここでいう反射体は可視領域の
光の８０％以上を、元の媒質に戻す物体のことであり、
更に好ましくは可視領域の光の９０％以上を元の媒質に
戻す物体のことである。図１を用いて本発明の反射部材
による反射の概略を説明すると、透明高分子フィルム１
０側から入射した光は、そのほとんどが透明高分子フィ
ルム１０を透過し、銀薄膜層２０に達し、銀薄膜層２０
で反射し、透明高分子フィルム１０を透過し、再び元の
媒質中に戻る。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS First, referring to the attached drawings, FIG. 1 is a structural sectional view of a reflecting member of the present invention. The reflection member is a member using a reflector that returns incident light to the original medium. The reflector referred to here mainly is an object that returns 80% or more of light in the visible region to the original medium. Is that
More preferably, the object returns 90% or more of the light in the visible region to the original medium. The outline of the reflection by the reflection member of the present invention will be described with reference to FIG.
Most of the light incident from the 0 side transmits through the transparent polymer film 10 and reaches the silver thin film layer 20, and the silver thin film layer 20
And transmits through the transparent polymer film 10 and returns to the original medium again.

【００１１】図１に示した反射部材の製造方法として
は、透明高分子フィルム１０上に銀薄膜層２０、裏面金
属層３０を形成する。こうして得られた反射フィルム
の、裏面金属層面に接着層４０を塗布し、接着剤面と支
持体５０をラミネートする方法があげられる。ラミネー
トは接着剤塗布後に続けて行うのが一般的であるが、こ
れ以外にも、塗布工程とラミネート工程を分離して行う
ことができる。例えば熱可塑性のポリエステル系接着剤
を用いた際には、塗布済みの接着剤を熱ロール等で溶融
させることにより、任意の時点にラミネートを行うこと
ができる。As a method for manufacturing the reflection member shown in FIG. 1, a silver thin film layer 20 and a back metal layer 30 are formed on a transparent polymer film 10. A method of applying the adhesive layer 40 to the back metal layer surface of the thus obtained reflective film and laminating the adhesive surface and the support 50 can be exemplified. The lamination is generally performed continuously after the application of the adhesive, but the lamination step can be performed separately from the application step. For example, when using a thermoplastic polyester adhesive, lamination can be performed at any time by melting the applied adhesive with a hot roll or the like.

【００１２】本発明における透明高分子フィルム１０の
材料は、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリスチレン（Ｐ
Ｓ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエ
ーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリカーボネート（Ｐ
Ｃ）、三酢酸セルロース系樹脂、ポリアリレート系樹
脂、ポリスルホン系樹脂等が使用できるが、必ずしもこ
れらに限定されるわけではなく、透明で、ある程度ガラ
ス転移温度が高いものならば使用できる。The material of the transparent polymer film 10 in the present invention is polyethylene (PE), polystyrene (P
S), polyethylene terephthalate (PET), polyethersulfone (PES), polycarbonate (P
C), a cellulose triacetate-based resin, a polyarylate-based resin, a polysulfone-based resin, and the like can be used. However, the resin is not limited to these, and any material that is transparent and has a somewhat high glass transition temperature can be used.

【００１３】透明高分子フィルムの厚みには限定的な値
はないが、２５〜１００μｍ程度が好ましく用いられ
る。使用する高分子フィルムの光学特性は、波長５５０
ｎｍの光線透過率が８０％以上であることが好ましい。
より好ましくは、波長５００〜７００ｎｍの範囲の光に
対して光線透過率が８０％以上であり、更に好ましくは
波長３５０〜７５０ｎｍの範囲の光に対して光線透過率
が８０％以上である。光線透過率が８０％よりも低い
と、反射部材とした時の反射率が９０％を下回り、反射
部材としての性能上好ましくない。The thickness of the transparent polymer film is not limited, but is preferably about 25 to 100 μm. The optical characteristics of the polymer film used have a wavelength of 550.
It is preferable that the light transmittance in nm is 80% or more.
More preferably, the light transmittance is 80% or more for light in the wavelength range of 500 to 700 nm, and still more preferably, the light transmittance is 80% or more for light in the wavelength range of 350 to 750 nm. If the light transmittance is lower than 80%, the reflectivity of the reflecting member is lower than 90%, which is not preferable in terms of performance as a reflecting member.

【００１４】なお、銀の耐光性を向上させるために高分
子フィルムが紫外線を吸収する特性を有することが好ま
しいことは、本発明者らが既に開示している（特開平５
−１６２２２７、ＵＳ−５２７６６００）。また、銀薄
膜層を透明高分子フィルム上に設ける際に、透明高分子
フィルム表面に、コロナ放電処理、グロー放電処理、表
面化学処理、粗面化処理等を行うことは、銀薄膜層と高
分子フィルムの密着性を向上させる手段として当業者が
用いる常套手段であろう。The present inventors have already disclosed that the polymer film preferably has a property of absorbing ultraviolet rays in order to improve the light fastness of silver (Japanese Patent Application Laid-Open No. HEI 5 (1993) -195686).
162227, US-5276600). When a silver thin film layer is provided on a transparent polymer film, performing corona discharge treatment, glow discharge treatment, surface chemical treatment, surface roughening treatment, and the like on the surface of the transparent polymer film is highly efficient. It will be a conventional means used by those skilled in the art as a means for improving the adhesion of a molecular film.

【００１５】さらに、銀薄膜層を形成する前に、透明高
分子フィルムの銀薄膜層成膜面に、金属を含むプラズマ
による表面処理を施し、続けて銀を成膜することが、反
射体の耐光熱性を向上させる上で好ましいことは、本発
明者らが既に開示している（特開平０９−１５０４８
２）。銀薄膜及び裏面金属層の形成法は、湿式法および
乾式法がある。湿式法とはメッキ法の総称であり、溶液
から銀または金属を析出させ膜を形成する方法である。
具体例を挙げるとすれば、銀鏡反応等がある。一方、乾
式法とは、真空成膜法の総称であり、具体的に例示する
とすれば、抵抗加熱式真空蒸着法、電子ビーム加熱式真
空蒸着法、イオンプレーティング法、イオンビームアシ
スト真空蒸着法、スパッタ法等がある。とりわけ、本発
明には連続的に成膜するロールツロール方式が可能な真
空成膜法が好ましく用いられる。Further, before forming the silver thin film layer, the surface of the transparent polymer film on which the silver thin film layer is formed is subjected to a surface treatment using a plasma containing a metal, and subsequently, silver is formed into a film. The inventors of the present invention have already disclosed that they are preferable for improving the light and heat resistance (Japanese Patent Laid-Open No. 09-15048).
2). Methods for forming the silver thin film and the back metal layer include a wet method and a dry method. The wet method is a general term for the plating method, and is a method of depositing silver or metal from a solution to form a film.
Specific examples include a silver mirror reaction. On the other hand, the dry method is a general term for a vacuum film forming method, and specific examples thereof include a resistance heating type vacuum deposition method, an electron beam heating type vacuum deposition method, an ion plating method, and an ion beam assisted vacuum deposition method. And a sputtering method. In particular, a vacuum film forming method capable of a roll-to-roll method for continuously forming a film is preferably used in the present invention.

【００１６】真空蒸着法では銀または金属の原材料を電
子ビーム、抵抗加熱、誘導加熱等で溶融させ、蒸気圧を
上昇させ、好ましくは０．１ｍＴｏｒｒ（約０．０１Ｐ
ａ）以下で基材表面に蒸着させる。この際に、アルゴン
等のガスを０．１ｍＴｏｒｒ（約０．０１Ｐａ）以上導
入させ、高周波もしくは直流のグロー放電を起こしても
よい。In the vacuum deposition method, a silver or metal raw material is melted by electron beam, resistance heating, induction heating, or the like, and the vapor pressure is increased, preferably 0.1 mTorr (about 0.01 P).
a) It is vapor-deposited on the substrate surface in the following. At this time, a gas such as argon may be introduced at a pressure of 0.1 mTorr (about 0.01 Pa) or more to cause high frequency or direct current glow discharge.

【００１７】スパッタ法では、ＤＣマグネトロンスパッ
タ法、ｒｆマグネトロンスパッタ法、イオンビームスパ
ッタ法、ＥＣＲスパッタ法、コンベンショナルｒｆスパ
ッタ法、コンベンショナルＤＣスパッタ法等を使用し得
る。スパッタ法においては、原材料は銀または金属の板
状のターゲットを用いればよく、スパッタガスには、ヘ
リウム、ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノン等を
使用し得るが、好ましくはアルゴンが用いられる。ガス
の純度は、９９％以上が好ましいが、より好ましくは９
９．５％以上である。As the sputtering method, a DC magnetron sputtering method, an rf magnetron sputtering method, an ion beam sputtering method, an ECR sputtering method, a conventional rf sputtering method, a conventional DC sputtering method, or the like can be used. In the sputtering method, a silver or metal plate-shaped target may be used as a raw material, and helium, neon, argon, krypton, xenon, or the like may be used as a sputtering gas, but argon is preferably used. The purity of the gas is preferably 99% or more, more preferably 9%.
9.5% or more.

【００１８】銀薄膜層の厚さは、７０ｎｍ〜３００ｎｍ
が好ましく、より好ましくは１００ｎｍ〜２００ｎｍで
ある。７０ｎｍよりあまり薄いと、銀の膜厚が十分でな
いために、透過する光が存在し、反射率が低下する。一
方、膜厚が３００ｎｍを越えてあまり厚くしても反射率
は上昇せず、飽和傾向を示す上に、銀層の高分子フィル
ムに対する密着性が低下するので好ましくない。銀薄膜
層には、性能に害を及ぼさない程度の、金、銅、ニッケ
ル、鉄、コバルト、タングステン、モリブデン、タンタ
ル、クロム、インジウム、マンガン、チタン、アルミ等
の金属不純物が含まれてもよい。The thickness of the silver thin film layer is 70 nm to 300 nm.
Is more preferable, and more preferably 100 nm to 200 nm. If the thickness is too thin, the thickness of the silver film is not sufficient, so that there is transmitted light and the reflectance is reduced. On the other hand, if the film thickness is too large, exceeding 300 nm, the reflectance does not increase, showing a tendency to saturate, and the adhesion of the silver layer to the polymer film is undesirably reduced. The silver thin film layer may contain metal impurities such as gold, copper, nickel, iron, cobalt, tungsten, molybdenum, tantalum, chromium, indium, manganese, titanium, and aluminum which do not harm the performance. .

【００１９】本発明において膜厚の測定は、触針粗さ
計、繰り返し反射干渉計、マイクロバランス、水晶振動
子法等があるが、水晶振動子法では成膜中に膜厚が測定
可能なので所望の膜厚を得るのに適している。また、前
もって成膜の条件を定めておき、試料基材上に成膜を行
い、成膜時間と膜厚の関係を調べた上で、成膜時間によ
り膜を制御する方法もある。透明高分子フィルム上に銀
薄膜層を形成した後、裏面金属層を形成する。これは、
折り曲げ加工後の光熱劣化抑制のほか、銀薄膜層の保護
やフィルムの滑り性向上の効果がある。In the present invention, the film thickness can be measured by a stylus roughness meter, a repetitive reflection interferometer, a microbalance, a quartz oscillator method or the like. It is suitable for obtaining a desired film thickness. There is also a method in which the conditions for film formation are determined in advance, a film is formed on a sample substrate, the relationship between the film formation time and the film thickness is examined, and the film is controlled by the film formation time. After forming a silver thin film layer on a transparent polymer film, a back metal layer is formed. this is,
In addition to suppressing photothermal degradation after bending, it has the effect of protecting the silver thin film layer and improving the slipperiness of the film.

【００２０】裏面金属層は温度約３００Ｋにおいて、銀
よりも弾性率Ｅが大きい金属及び合金を使用することが
好ましい。温度約３００Ｋにおける銀の弾性率は、１．
００５×１０^-12（ｄｙｎ／ｃｍ²）である（Ｉｎｔｅｒ
ｎａｔｉｏｎａｌ Ｔａｂｌｅｓ ｏｆ Ｓｅｌｅｃｔ
ｅｄ Ｃｏｎｓｔａｎｔｓ，１６，Ｍｅｔａｌｓ，Ｔｈ
ｅｒｍａｌ ａｎｄ ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ Ｄａｔ
ａ．より。以下の弾性率に関する数値も同様）。より好
ましくは弾性率が１．２×１０^-12（ｄｙｎ／ｃｍ²以上
のもの、さらに好ましくは弾性率が１．５×１０
^-12（ｄｙｎ／ｃｍ²）以上のものを使用する。銀を上回
る弾性率を有し、さらに先に述べた成膜方法に適した金
属は、例えば、コバルト、クロム、銅、鉄、イリジウ
ム、マンガン、モリブデン、ニッケル、パラジウム、白
金、タンタル、チタン、バナジウム、タングステン、亜
鉛などが挙げられる。中でも、タングステン、モリブデ
ンは弾性率も各々４．０２７×１０^-12（ｄｙｎ／ｃ
ｍ²）、３．２７×１０^-12（ｄｙｎ／ｃｍ²）であり、
好ましく使用される。It is preferable to use a metal or alloy having a higher elastic modulus E than silver at a temperature of about 300 K for the back metal layer. The elastic modulus of silver at a temperature of about 300K is 1.
005 × 10 ⁻¹² (dyn / cm ² ) (Inter
national Tables of Select
ed Constants, 16, Metals, Th
thermal and mechanical Dat
a. Than. The same applies to the following values relating to the elastic modulus). More preferably, the elastic modulus is 1.2 × 10 ⁻¹² (dyn / cm ² or more), and further preferably, the elastic modulus is 1.5 × 10
^-12 (dyn / cm ² ) or more is used. Metals having an elastic modulus higher than silver and suitable for the film formation method described above include, for example, cobalt, chromium, copper, iron, iridium, manganese, molybdenum, nickel, palladium, platinum, tantalum, titanium, and vanadium. , Tungsten, zinc and the like. Above all, tungsten and molybdenum also have an elastic modulus of 4.027 × 10 ⁻¹² (dyn / c, respectively).
m ² ), 3.27 × 10 ⁻¹² (dyn / cm ² ),
It is preferably used.

【００２１】また、これらの金属の合金も、銀を上回る
弾性率を有していれば好ましく使用される。逆に、アル
ミニウム（弾性率０．７５７×１０^-12（ｄｙｎ／ｃ
ｍ²）やインジウム（弾性率０．１０４×１０^-12（ｄｙ
ｎ／ｃｍ²）の様に弾性率が銀よりも小さい金属を裏面
金属層に使用すると、折り曲げ加工部分のみならず、平
面部分でも逆に光熱劣化が促進されてしまう。Also, alloys of these metals are preferably used as long as they have an elastic modulus higher than silver. Conversely, aluminum (elastic modulus 0.757 × 10 ⁻¹² (dyn / c
m ² ) or indium (elastic modulus 0.104 × 10 ⁻¹² (dy)
When a metal having an elastic modulus smaller than silver, such as n / cm ² ), is used for the back metal layer, photothermal degradation is accelerated not only in the bent portion but also in the flat portion.

【００２２】裏面金属層の厚さは、５ｎｍ〜５０ｎｍが
好ましい。５ｎｍよりあまり薄いと、膜厚が十分でない
ために、折り曲げ加工後の光熱劣化抑制効果が低下す
る。あまりに厚すぎると材料費の点からコスト増となり
好ましくない。裏面金属層は厚さが薄いうえ、外気に直
接曝されることから、使用した金属の種類によっては、
金属状態ではなく、酸化物等に変化するが、問題なく使
用される。The thickness of the back metal layer is preferably 5 nm to 50 nm. If the thickness is too thin, the effect of suppressing photothermal deterioration after bending is reduced because the film thickness is not sufficient. If the thickness is too large, the cost increases from the viewpoint of material costs, which is not preferable. Since the back metal layer is thin and is directly exposed to the outside air, depending on the type of metal used,
It changes to an oxide or the like instead of a metal state, but is used without any problem.

【００２３】こうして得られた反射フィルムと支持体と
のラミネートに用いられる接着剤（粘着剤も含む）とし
ては、ポリエステル系接着剤、アクリル系接着剤、ウレ
タン系接着剤、シリコン系接着剤、エポキシ系接着剤等
があげられるが、必ずしもこれらの種類に限定されるわ
けではなく、実用上の接着強度があれば良い。接着強度
としては１８０度剥離で測定して１００ｇ／ｃｍあれば
十分であり、好ましくは５００ｇ／ｃｍであり、より好
ましくは１０００ｇ／ｃｍである。１００ｇ／ｃｍに達
しない場合には、反射体として曲率半径１〜５ｍｍ程度
に曲げた時に、透明高分子フィルム側が高分子基板より
浮き上がる等の事態を引き起こすのであまり好ましくな
い。The adhesive (including the pressure-sensitive adhesive) used for laminating the thus-obtained reflective film and the support includes a polyester-based adhesive, an acrylic-based adhesive, a urethane-based adhesive, a silicone-based adhesive, and an epoxy-based adhesive. Examples thereof include a system adhesive, but are not necessarily limited to these types, and any adhesive having a practical adhesive strength may be used. As the adhesive strength, 100 g / cm measured by 180-degree peeling is sufficient, preferably 500 g / cm, more preferably 1000 g / cm. If it does not reach 100 g / cm, when the reflector is bent to a radius of curvature of about 1 to 5 mm, the transparent polymer film side may be raised from the polymer substrate, which is not preferable.

【００２４】接着剤の厚みとしては、０．５μｍ〜５０
μｍが好ましく、より好ましくは、１μｍ〜２０μｍで
あり、更に好ましくは２μｍから１０μｍである。あま
りに厚すぎると材料費の点からコスト増となり好ましく
ない。あまりに薄すぎると十分な接着強度が得られな
い。The thickness of the adhesive is 0.5 μm to 50 μm.
μm is preferred, more preferably 1 μm to 20 μm, and still more preferably 2 μm to 10 μm. If the thickness is too large, the cost increases from the viewpoint of material costs, which is not preferable. If it is too thin, sufficient adhesive strength cannot be obtained.

【００２５】接着剤の塗布方法としては、バーコート
法、メイヤーバーコート法、リバースコート法、グラビ
アコート法、ダイコート法等があげられるが、これらは
使用する接着剤の種類、粘度、塗布量、塗布速度、得ら
れる面状態等を考慮して選定される。Examples of the method of applying the adhesive include a bar coating method, a Meyer bar coating method, a reverse coating method, a gravure coating method, a die coating method, and the like. The selection is made in consideration of the coating speed, the obtained surface condition, and the like.

【００２６】支持体としては金属板、高分子フィルムが
あげられるが、形状保持性を考慮すると、特に金属板が
好適に利用される。支持体として用いられる金属板とし
ては、アルミ板、アルミ合金板、真鍮板、ステンレス
板、鋼鈑等が挙げられるが、必ずしもこれらに限定され
るわけではなく、反射部材の用途により選択される。例
えば、アルミは軽量かつ加工性に優れ、また熱伝導率が
高くそれにかかる熱を効果的に大気中に逃がすことがで
きるため、ノートパソコンなどのＬＣＤのバックライト
に用いられる反射部材に好適に利用できる。アルミ合金
は軽量かつ機械的強度が強いことから、構造部材を兼ね
る反射部材に好適に利用できる。ステンレスは機械的強
度が大きく、また耐食性に優れているので、屋外で使用
される反射部材をはじめ、材料の薄板化が必要な溶炉に
好適に用いられる。真鍮（黄銅）、すなわち銅亜鉛合金
は機械強度の大きいことに加え、はんだづけが容易なた
めアースを必要とする反射部材に好適に用いられる。鋼
板は安価であることから、コストを優先する用途である
蛍光灯用反射傘に好適に用いられる。Examples of the support include a metal plate and a polymer film. In consideration of shape retention, a metal plate is particularly preferably used. Examples of the metal plate used as the support include an aluminum plate, an aluminum alloy plate, a brass plate, a stainless steel plate, a steel plate, and the like, but are not necessarily limited thereto, and are selected according to the use of the reflection member. For example, aluminum is lightweight, has excellent workability, and has high thermal conductivity and can effectively release the heat to the atmosphere, so it is suitable for use as a reflective member used in backlights of LCDs such as notebook computers. it can. Since aluminum alloy is lightweight and has high mechanical strength, it can be suitably used as a reflection member that also serves as a structural member. Since stainless steel has high mechanical strength and excellent corrosion resistance, it is suitably used for a melting member requiring a thinner material, such as a reflection member used outdoors. Brass (brass), that is, a copper-zinc alloy, has a high mechanical strength and is easily used for soldering, so that it is suitably used for a reflection member that requires grounding. Since steel plates are inexpensive, they are suitably used for reflectors for fluorescent lamps, which are applications in which cost is prioritized.

【００２７】支持体としての金属の厚みは、コスト低減
及び曲げやすさの観点からは薄いほうが好ましく、反射
フィルムなどとのラミネートする際の容易さや形状保持
性の観点からは厚い方が良い。金属板の好ましい厚みは
０．０５ｍｍ〜５ｍｍであり、さらに好ましくは０．１
ｍｍ〜０．８ｍｍである。The thickness of the metal as the support is preferably thin from the viewpoint of cost reduction and easiness of bending, and is preferably thick from the viewpoint of ease of lamination with a reflective film or the like and shape retention. The preferred thickness of the metal plate is 0.05 mm to 5 mm, more preferably 0.1 mm to 5 mm.
mm to 0.8 mm.

【００２８】本発明の反射部材には、銀薄膜層の反対側
の透明高分子フィルム上に透明な保護層を設けても良
い。このような保護層により、反射シートの表面硬度、
耐光性、耐ガス性、耐水性など外的環境因子の影響をさ
らに抑制することができる。このような保護層の形成に
利用できる物質の例としては、例えば、ポリメタクリル
酸メチルなどのアクリル樹脂、ポリアクリロニトリル樹
脂、ポリメタアクリルニトリル樹脂、エチルシリケ−ト
より得られる重合体などの珪素樹脂、ポリエステル樹
脂、フッ素樹脂などの有機物質の他に酸化珪素、酸化亜
鉛、酸化チタンなどの無機物質が有用であり、特に４０
０ｎｍ以下、好ましくは３８０ｎｍ以下の波長の光を１
０％以下にカットする能力を有するものを積層すること
は銀層の光劣化（紫外線劣化）を防止する上で好まし
い。In the reflection member of the present invention, a transparent protective layer may be provided on the transparent polymer film opposite to the silver thin film layer. With such a protective layer, the surface hardness of the reflection sheet,
The effects of external environmental factors such as light resistance, gas resistance, and water resistance can be further suppressed. Examples of substances that can be used to form such a protective layer include, for example, acrylic resins such as polymethyl methacrylate, polyacrylonitrile resins, polymethacrylonitrile resins, silicon resins such as polymers obtained from ethyl silicate, In addition to organic substances such as polyester resin and fluororesin, inorganic substances such as silicon oxide, zinc oxide and titanium oxide are useful.
0 nm or less, preferably 380 nm or less
It is preferable to stack those having the ability to cut to 0% or less from the viewpoint of preventing the light deterioration (ultraviolet light deterioration) of the silver layer.

【００２９】透明保護層の形成方法としては、コ−ティ
ング、フィルムのラミネ−トなど、既存の方法があげら
れる。また、この透明保護層の膜厚は、光反射能を低下
させず、かつ可撓性を損なわない範囲で、保護効果を発
揮する必要があり、その材料、用途に応じて適宜変更し
て用いられる。Examples of the method for forming the transparent protective layer include existing methods such as coating and laminating a film. In addition, the thickness of the transparent protective layer is required to exhibit a protective effect within a range that does not reduce the light reflectivity and does not impair the flexibility. Can be

【００３０】光源を覆うように設置して使用する反射部
材は、例えば平面状の板材から所望の型に打ち抜き加
工、穴開け加工し、続いて折り曲げ加工することによっ
て製造することができる。折り曲げ加工は直線縁に沿っ
て板材を曲げる加工方法である。例えばプレスを用いた
Ｖ形曲げ・Ｕ形曲げが、またタンゼントベンダーを用い
た折り畳み曲げが使用される。The reflecting member installed and used so as to cover the light source can be manufactured by, for example, punching, punching, and then bending a desired shape from a flat plate material. Bending is a method of bending a plate material along a straight edge. For example, V-shaped bending and U-shaped bending using a press, and folding using a tangent bender are used.

【００３１】上記加工法を用いて、透明高分子フィルム
側を内側に折り曲げ加工し光源を覆うように設置して使
用する反射部材としては、例えば液晶表示装置のバック
ライトのランプリフレクター、プリンター及びＦＡＸ等
に用いられる反射鏡、蛍光灯の反射傘、ストロボの反射
傘が挙げられる。液晶表示装置のバックライトのランプ
リフレクターは、図２に示すようにランプ（冷陰極管）
を覆うように設置して用いられ、その断面はＵ字型又は
コの字型が用いられていることが多い。The above-mentioned processing method is used to set the transparent polymer film side inward and to cover the light source. The reflecting member to be used is, for example, a lamp reflector of a backlight of a liquid crystal display device, a printer, a facsimile or the like. And a reflector for fluorescent lamps and a reflector for strobe. The lamp reflector of the backlight of the liquid crystal display device is a lamp (cold cathode tube) as shown in FIG.
Is used so as to cover it, and its cross section is often U-shaped or U-shaped.

【００３２】こうして得られた反射部材について光照射
試験を行った。試験サンプルとして、折り曲げ加工して
ランプリフレクターの形状にしたものを使用しても良い
が、ランプリフレクターの形状はＬＣＤ用バックライト
の機種により様々であるため、評価が困難である。そこ
で曲げ加工の代わりに、接着剤を塗布する前の反射フィ
ルムを引張試験機で引っ張り、光照射試験のサンプルと
した。反射フィルムを引っ張った割合が大きいほど、曲
げ径を小さく加工した時と対応していると考える。A light irradiation test was performed on the thus obtained reflection member. As the test sample, a bent sample formed into a shape of a lamp reflector may be used. However, since the shape of the lamp reflector varies depending on the type of LCD backlight, evaluation is difficult. Therefore, instead of bending, the reflection film before applying the adhesive was pulled by a tensile tester to obtain a light irradiation test sample. It is considered that the larger the ratio of pulling the reflective film, the more the bending diameter is reduced.

【００３３】光照射試験の照射光としては、３９０ｎｍ
以下の波長の光を除いた、照射強度５００ｍＷ／ｃｍ²
の擬似太陽光を用いた。擬似太陽光とは屋外での晴天時
の太陽光と同様なスペクトルを持つ光である。これに３
９０ｎｍ以下の波長の光をカットするＵＶカットフィル
ターを用いた。こうして得られた光の照射強度をサンプ
ル表面でおよそ５００ｍＷ／ｃｍ² とし、光照射試験を
行った。The irradiation light in the light irradiation test is 390 nm
Irradiation intensity 500 mW / cm ² excluding light of the following wavelengths
Simulated sunlight was used. Pseudo sunlight is light having a spectrum similar to that of sunlight in sunny outdoors. This is 3
A UV cut filter that cuts light having a wavelength of 90 nm or less was used. The light irradiation test was performed with the irradiation intensity of the light thus obtained being approximately 500 mW / cm ² on the sample surface.

【００３４】光照射試験はサンプルに上記光を透明高分
子フィルム側から照射すると共に、さらにサンプルを１
００℃に調温して行った。調温は、サンプルを保持した
アルミ板の下に板状のヒーターを設置し、このヒーター
を温調機で制御することで行った。温度測定はアルミ板
上に熱電対を設置し行った。In the light irradiation test, the sample was irradiated with the light from the transparent polymer film side, and the sample was further irradiated with one sample.
The temperature was adjusted to 00 ° C. The temperature was adjusted by installing a plate-shaped heater below the aluminum plate holding the sample, and controlling the heater with a temperature controller. The temperature was measured by installing a thermocouple on an aluminum plate.

【００３５】[0035]

【実施例】以下実施例を用いて本発明について説明す
る。光照射試験は、３９０ｎｍ以下の波長の光を除いた
照射強度５００ｍＷ／ｃｍ ²の擬似太陽光を用いて行っ
た。反射体は１００℃に調温した。光源には山下電装
（株）のソーラシミュレータ 型式ＹＳＳ−５０５Ｈを
用いた。また、東芝化成工業（株）シャープカットフィ
ルター Ｌ−３９を用いて、３９０ｎｍ以下の波長の光
を除いた。The present invention will be described below with reference to examples.
You. In the light irradiation test, light having a wavelength of 390 nm or less was excluded.
Irradiation intensity 500mW / cm ^TwoDone using simulated sunlight
Was. The temperature of the reflector was adjusted to 100 ° C. Yamashita electrical equipment for light source
Co., Ltd. Solar Simulator Model YSS-505H
Using. In addition, Toshiba Chemical Industry Co., Ltd.
Light with a wavelength of 390 nm or less using Luther L-39
Was removed.

【００３６】反射率は、日立自動自記分光光度計（Ｕ−
３４００）に１５０φ積分球を設置し測定した。標準サ
ンプル（リファレンス）には酸化アルミニウムからなる
標準白色板を用いた。なお、本発明において反射率は５
５０ｎｍの波長の光に対しての値をいうものとする。The reflectance was measured using a Hitachi automatic recording spectrophotometer (U-
3400), a 150φ integrating sphere was installed and measured. A standard white plate made of aluminum oxide was used as a standard sample (reference). In the present invention, the reflectance is 5
The value refers to light having a wavelength of 50 nm.

【００３７】〔実施例１〕透明高分子フィルム（帝人
（株）製ポリエステルフィルム、テトロンフィルムタイ
プＨＢ３、厚さ２５μｍ、全光線透過率＝８８．１
％、）上にＤＣマグネトロンスパッタ法で、純度９９．
９９％の銀（弾性率＝１．００５×１０^-12（ｄｙｎ／
ｃｍ^２））をターゲットとし、純度９９．５％のアルゴ
ンをスパッタガスとして、銀を膜厚１５０ｎｍになるよ
うに形成した。そのフィルムをスパッタ装置から取り出
すことなく、さらに純度９９．９％のタングステン（弾
性率＝４．０２７×１０^-12（ｄｙｎ／ｃｍ²））をター
ゲットとし、タングステンを１０ｎｍ厚積層して反射フ
ィルムを得た。波長５５０ｎｍにおける反射率は、９
５．０％であった。得られた試料を幅１ｃｍの短冊状に
切断し、東洋精機製ＳＴＲＯＧＲＡＰＨ−Ｍ１（２０ｋ
ｇロードセル使用）を用いて、クロスヘッドスピードを
毎分５ｍｍ、上下のチャック間距離を６ｃｍにして、Ｔ
Ｄ方向に２０％引っ張った。Example 1 Transparent polymer film (Polyester film manufactured by Teijin Limited, Tetron film type HB3, thickness 25 μm, total light transmittance = 88.1)
%) On a DC magnetron sputtering method with a purity of 99.
99% of silver (elastic modulus = 1.05 × 10 ⁻¹² (dyn /
cm ² )), and silver was formed to a thickness of 150 nm using argon having a purity of 99.5% as a sputtering gas. Without taking out the film from the sputtering apparatus, a tungsten film having a purity of 99.9% (elastic modulus = 4.027 × 10 ⁻¹² (dyn / cm ² )) was targeted and tungsten was laminated in a thickness of 10 nm to form a reflective film. Obtained. The reflectance at a wavelength of 550 nm is 9
It was 5.0%. The obtained sample was cut into a strip having a width of 1 cm, and a Toro Seiki STROGRAPH-M1 (20 k
g load cell), the crosshead speed was set to 5 mm / min, and the distance between the upper and lower chucks was set to 6 cm.
It was pulled 20% in the D direction.

【００３８】〔実施例２〕実施例１と同様に透明高分子
フィルムに銀を成膜し、そのフィルムをスパッタ装置か
ら取り出すことなく、純度９９．９％のモリブデン（弾
性率＝３．２７×１０^-12（ｄｙｎ／ｃｍ²））をターゲ
ットとし、純度９９．５％のアルゴンをスパッタガスと
して、さらにモリブデンを１０ｎｍ厚積層して反射フィ
ルムを得た。波長５５０ｎｍにおける反射率は、９３．
０％であった。得られた試料を実施例１と同様の方法で
引っ張った。Example 2 Silver was formed on a transparent polymer film in the same manner as in Example 1, and the film was not taken out of the sputtering apparatus. Molybdenum having a purity of 99.9% (elastic modulus = 3.27 × 10 ^-12 (dyn / cm ² )) as a target, a 99.5% pure argon gas as a sputtering gas, and a 10 nm-thick layer of molybdenum to obtain a reflective film. The reflectance at a wavelength of 550 nm is 93.
It was 0%. The obtained sample was pulled in the same manner as in Example 1.

【００３９】〔実施例３〕実施例１と同様に透明高分子
フィルムに銀を成膜し、そのフィルムをスパッタ装置か
ら取り出すことなく、純度９９．９％のチタン（弾性率
＝１．１４２×１０^-12（ｄｙｎ／ｃｍ²））をターゲッ
トとし、純度９９．５％のアルゴンをスパッタガスとし
て、さらにチタンを１０ｎｍ厚積層して反射フィルムを
得た。波長５５０ｎｍにおける反射率は、９６．５％で
あった。得られた試料を実施例１と同様の方法で引っ張
った。Example 3 In the same manner as in Example 1, silver was formed on a transparent polymer film, and without removing the film from the sputtering apparatus, titanium having a purity of 99.9% (elastic modulus = 1.142 × 10 ^-12 (dyn / cm ² )) was used as a target, titanium was used as a sputtering gas at a purity of 99.5%, and titanium was further laminated to a thickness of 10 nm to obtain a reflective film. The reflectance at a wavelength of 550 nm was 96.5%. The obtained sample was pulled in the same manner as in Example 1.

【００４０】〔比較例１〕透明高分子フィルム（帝人
（株）製ポリエステルフィルム、テトロンフィルムタイ
プＨＢ３、厚さ２５μｍ、全光線透過率＝８８．１
％、）上にＤＣマグネトロンスパッタ法で、純度９９．
９９％の銀をターゲットとし、純度９９．５％のアルゴ
ンをスパッタガスとして、銀を膜厚１５０ｎｍになるよ
うに形成して反射フィルムを得た。波長５５０ｎｍにお
ける反射率は、９５．１％であった。得られた試料を実
施例１と同様の方法で引っ張った。Comparative Example 1 Transparent Polymer Film (Polyester film manufactured by Teijin Limited, Tetron film type HB3, thickness 25 μm, total light transmittance = 88.1)
%) On a DC magnetron sputtering method with a purity of 99.
Silver was formed to a thickness of 150 nm using 99% silver as a target and 99.5% pure argon as a sputtering gas to obtain a reflective film. The reflectance at a wavelength of 550 nm was 95.1%. The obtained sample was pulled in the same manner as in Example 1.

【００４１】〔比較例２〕実施例１と同様に透明高分子
フィルムに銀を成膜し、そのフィルムをスパッタ装置か
ら取り出すことなく、純度９９．９９％のアルミニウム
（弾性率＝０．７５７×１０^-12（ｄｙｎ／ｃｍ²））を
ターゲットとし、純度９９．５％のアルゴンをスパッタ
ガスとして、さらにアルミニウムを１０ｎｍ厚積層して
反射フィルムを得た。波長５５０ｎｍにおける反射率
は、９０．１％であった。得られた試料を実施例１と同
様の方法で引っ張った。[Comparative Example 2] Silver was formed on a transparent polymer film in the same manner as in Example 1, and the film was taken out of a sputtering apparatus without removing aluminum having a purity of 99.99% (elastic modulus = 0.757 × 10 ^-12 (dyn / cm ² )) as a target, a 99.5% -purity argon gas as a sputtering gas, and aluminum having a thickness of 10 nm were further laminated to obtain a reflective film. The reflectance at a wavelength of 550 nm was 90.1%. The obtained sample was pulled in the same manner as in Example 1.

【００４２】〔比較例３〕実施例１と同様に透明高分子
フィルムに銀を成膜し、そのフィルムをスパッタ装置か
ら取り出すことなく、純度９９．９％のインジウム（弾
性率＝０．１０４×１０^-12（ｄｙｎ／ｃｍ²））をター
ゲットとし、純度９９．５％のアルゴンをスパッタガス
として、さらにインジウムを１０ｎｍ厚積層して反射フ
ィルムを得た。波長５５０ｎｍにおける反射率は、８
９．３％であった。得られた試料を実施例１と同様の方
法で引っ張った。Comparative Example 3 In the same manner as in Example 1, silver was formed on a transparent polymer film, and the film was not taken out of the sputtering apparatus, and indium having a purity of 99.9% (elastic modulus = 0.104 × 10 ^-12 (dyn / cm ² )) was used as a target, argon was used as a sputtering gas having a purity of 99.5%, and indium was further laminated to a thickness of 10 nm to obtain a reflective film. The reflectance at a wavelength of 550 nm is 8
It was 9.3%. The obtained sample was pulled in the same manner as in Example 1.

【００４３】実施例１〜３及び比較例１〜３で得られた
サンプルについて、光照射試験を行った。試験中、経時
で反射率測定を行った。反射率が初期反射率の１／２に
なる時間（反射率半減時間）と引っ張り率について図３
に示す。比較例１の、ＰＥＴフィルムに銀のみを成膜し
た場合と比較して、実施例１〜３では、試料を引っ張っ
た後、光照射試験による反射率の半減に要する時間が長
いことがわかる。また、比較例２、３では、実施例、比
較例１よりも反射率半減時間が短くなっている。弾性率
の大きいタングステン等の金属を使用すると、光熱劣化
の進行が抑制されていることがわかる。Light irradiation tests were performed on the samples obtained in Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 3. During the test, reflectance measurements were made over time. FIG. 3 shows the time at which the reflectance becomes 1/2 of the initial reflectance (reflectance half-life) and the tensile ratio.
Shown in Compared to Comparative Example 1 in which only a silver film was formed on the PET film, in Examples 1 to 3, it was found that the time required to reduce the reflectance by half in the light irradiation test after pulling the sample was longer. Further, in Comparative Examples 2 and 3, the half-life of the reflectance is shorter than that of the Example and Comparative Example 1. It can be seen that the use of a metal such as tungsten having a large elastic modulus suppresses the progress of photothermal degradation.

【００４４】実施例１〜３及び比較例１〜３で得られた
サンプルについて、透明高分子フィルム（Ａ）、銀薄膜
層（Ｂ）、裏面金属層（Ｃ）、接着層（Ｄ）、支持体
（Ｅ）からなる構成ＡＢＣＤＥの反射部材を作製し（比
較例１は構成ＡＢＤＥの反射部材）、透明高分子フィル
ム（Ａ）側を内側にして折り曲げ加工した。これらをＬ
ＣＤ用バックライトのランプリフレクターに用いたとこ
ろ、比較例１〜３に比べ実施例１〜３では、光と熱によ
る変色が抑制されていることが確認できた。For the samples obtained in Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 3, the transparent polymer film (A), the silver thin film layer (B), the back metal layer (C), the adhesive layer (D), A reflective member of the configuration ABCDE composed of the body (E) was produced (Comparative Example 1 was a reflective member of the configuration ABCE), and the transparent polymer film (A) side was bent inward. These are L
When used for a lamp reflector of a CD backlight, it was confirmed that in Examples 1 to 3, discoloration due to light and heat was suppressed as compared with Comparative Examples 1 to 3.

【００４５】[0045]

【発明の効果】銀薄膜層（Ｂ）の裏面に弾性率が銀より
も大きい金属を裏面金属層（Ｃ）として積層すること
で、折り曲げ加工後の光熱劣化の進行を抑制することが
できた。According to the present invention, by laminating a metal having a higher elastic modulus than silver on the back surface of the silver thin film layer (B) as the back metal layer (C), the progress of photothermal degradation after bending can be suppressed. .

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図１】本発明の反射体の構造断面図FIG. 1 is a structural sectional view of a reflector of the present invention.

【図２】本発明による反射部材使用例の一例を示す概略
図FIG. 2 is a schematic view showing an example of a use example of a reflection member according to the present invention.

【図３】本発明の反射体の光照射時間と反射率の関係を
示す図FIG. 3 is a diagram showing the relationship between the light irradiation time and the reflectance of the reflector of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

１０ 透明高分子フィルム ２０ 銀薄膜層 ３０ 裏面金属層 ４０ 接着層 ５０ 支持体 ６０ 導光板 ７０ 反射部材（ランプリフレクター） ８０ ランプ DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Transparent polymer film 20 Silver thin film layer 30 Back metal layer 40 Adhesive layer 50 Support body 60 Light guide plate 70 Reflection member (lamp reflector) 80 Lamp

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H042 DA04 DA11 DA15 DA17 DA18 DA20 DA21 DB06 DC01 DC02 DC07 DE00 DE04 DE05 4F100 AA17C AB01C AB20C AB24B AB31C AB40C AK01A AK42A AT00D BA04 BA07 BA13 CB00 EH66B GB41 GB90 JA20C JK07C JL00 JL01 JM02B JN01A JN06 YY00C ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page F term (reference) 2H042 DA04 DA11 DA15 DA17 DA18 DA20 DA21 DB06 DC01 DC02 DC07 DE00 DE04 DE05 4F100 AA17C AB01C AB20C AB24B AB31C AB40C AK01A AK42A AT00D BA04 BA07 BA13 CB00 EH66 JGB01 J90J20 JN06 YY00C

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項１】 少なくとも、透明高分子フィルム
（Ａ）、銀薄膜層（Ｂ）、裏面金属層（Ｃ）、接着層
（Ｄ）、支持体（Ｅ）からなる構成ＡＢＣＤＥの透明高
分子フィルム（Ａ）側を反射面とする反射部材。1. A transparent polymer film of ABCDE comprising at least a transparent polymer film (A), a silver thin film layer (B), a back metal layer (C), an adhesive layer (D), and a support (E). A) A reflection member having a reflection surface on the side. 【請求項２】 請求項１に記載の反射部材の裏面金属層
（Ｃ）が、温度３００Ｋにおいて、弾性率１．００５×
１０^-12（ｄｙｎ／ｃｍ²）を越える性質を有する金属、
合金または金属酸化物である反射部材。2. The reflection member according to claim 1, wherein the back metal layer (C) has an elastic modulus of 1.005 × 300 ° C. at a temperature of 300K.
A metal having a property exceeding 10 ^-12 (dyn / cm ² );
A reflecting member that is an alloy or a metal oxide. 【請求項３】 裏面金属層（Ｃ）の厚さが５〜５０ｎｍ
である、請求項１または２に記載の反射部材。3. The back metal layer (C) has a thickness of 5 to 50 nm.
The reflecting member according to claim 1, wherein: 【請求項４】 打ち抜き加工および折り曲げ加工を行う
ことを特徴とする請求項１〜３に記載の反射部材。4. The reflecting member according to claim 1, wherein punching and bending are performed. 【請求項５】 透明高分子フィルム（Ａ）側を内側に折
り曲げ加工し、光源を覆うように設置することを特徴と
する請求項１〜３記載の反射部材。5. The reflecting member according to claim 1, wherein the transparent polymer film (A) side is bent inward, and is installed so as to cover the light source.