JP2001092078A - 写真用支持体及びその調整方法、塗布方法、熱現像感光材料、熱現像画像形成方法 - Google Patents
写真用支持体及びその調整方法、塗布方法、熱現像感光材料、熱現像画像形成方法Info
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/494—Silver salt compositions other than silver halide emulsions; Photothermographic systems ; Thermographic systems using noble metal compounds
- G03C1/498—Photothermographic systems, e.g. dry silver
- G03C1/49872—Aspects relating to non-photosensitive layers, e.g. intermediate protective layers
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Abstract
(57)【要約】
【課題】本発明の目的は、熱現像時の寸法変化が小さい
写真用支持体およびその調整方法、塗布方法、熱現像感
光材料、熱現像画像形成方法を提供することである。ま
た本発明のもう一つの目的は,寸法変化が小さく平面性
等の品質に優れた熱現像感光材料に使用できる写真用支
持体およびその調整方法、塗布方法、熱現像感光材料、
熱現像画像形成方法を提供することである。 【解決手段】ガラス転移点以上融点以下の温度で、6k
g/cm2より大きく30kg/cm2以下の張力で搬送
しながら熱処理することを特徴とする写真用支持体の調
整方法である。
写真用支持体およびその調整方法、塗布方法、熱現像感
光材料、熱現像画像形成方法を提供することである。ま
た本発明のもう一つの目的は,寸法変化が小さく平面性
等の品質に優れた熱現像感光材料に使用できる写真用支
持体およびその調整方法、塗布方法、熱現像感光材料、
熱現像画像形成方法を提供することである。 【解決手段】ガラス転移点以上融点以下の温度で、6k
g/cm2より大きく30kg/cm2以下の張力で搬送
しながら熱処理することを特徴とする写真用支持体の調
整方法である。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は熱現像後の寸法安定
性が良好な写真用支持体およびその調整方法、塗布方
法、熱現像感光材料、熱現像画像形成方法に関するもの
であり、さらに熱現像後の寸法安定性が良好で品質も優
れた熱現像感光材料に使用できる写真用支持体およびそ
の調整方法、塗布方法、熱現像感光材料、熱現像画像形
成方法に関するものである。
性が良好な写真用支持体およびその調整方法、塗布方
法、熱現像感光材料、熱現像画像形成方法に関するもの
であり、さらに熱現像後の寸法安定性が良好で品質も優
れた熱現像感光材料に使用できる写真用支持体およびそ
の調整方法、塗布方法、熱現像感光材料、熱現像画像形
成方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】現像工程を加熱によって行う熱現像処理
は、これまで数多く検討されてきており、白黒画像、及
びカラー画像を得るものが知られている。又、熱現像に
より得られた画像を感光材料から画像受像層に転写する
いわゆる転写型の熱現像感光材料もよく知られている。
熱現像方式を用いた感光材料では80〜150℃で現像
されることが多く、現像後の感光材料の寸法変化が従来
の湿式現像に比べて大きく、実用上問題となっていた。
は、これまで数多く検討されてきており、白黒画像、及
びカラー画像を得るものが知られている。又、熱現像に
より得られた画像を感光材料から画像受像層に転写する
いわゆる転写型の熱現像感光材料もよく知られている。
熱現像方式を用いた感光材料では80〜150℃で現像
されることが多く、現像後の感光材料の寸法変化が従来
の湿式現像に比べて大きく、実用上問題となっていた。
【0003】このような寸法変化を改良する方法として
は大きく二つの方法に分けることができる。一つは感光
材料の耐熱性の向上させることであり、他の一つは熱現
像時の寸法変化を小さくする画像形成方法を開発するこ
とである。
は大きく二つの方法に分けることができる。一つは感光
材料の耐熱性の向上させることであり、他の一つは熱現
像時の寸法変化を小さくする画像形成方法を開発するこ
とである。
【0004】感光材料の耐熱性の向上させる方法として
は、特開平10−10676号、同10−10677号
公報に、80〜200℃の高温および0.04〜6kg
/cm2の低張力で搬送しながら熱処理し、支持体の熱
収縮を小さくすることで寸法変化を小さくする技術が開
示されている。しかし、このようにして調整された写真
用支持体は低張力で熱処理されることから,支持体の熱
収縮の部分的な差により支持体の平面性が劣化するとと
もに、搬送ロールとの摩擦等により細かいキズ等が発生
し、熱現像感光材料の品質を低下させることがわかっ
た。
は、特開平10−10676号、同10−10677号
公報に、80〜200℃の高温および0.04〜6kg
/cm2の低張力で搬送しながら熱処理し、支持体の熱
収縮を小さくすることで寸法変化を小さくする技術が開
示されている。しかし、このようにして調整された写真
用支持体は低張力で熱処理されることから,支持体の熱
収縮の部分的な差により支持体の平面性が劣化するとと
もに、搬送ロールとの摩擦等により細かいキズ等が発生
し、熱現像感光材料の品質を低下させることがわかっ
た。
【0005】一方、熱現像画像形成方法には、特開平9
−292695号公報のように熱現像時の温度の安定性
を規定した技術は多く開示されているが、寸法変化を小
さくする画像形成方法について開示されたものはほとん
どない。
−292695号公報のように熱現像時の温度の安定性
を規定した技術は多く開示されているが、寸法変化を小
さくする画像形成方法について開示されたものはほとん
どない。
【0006】
【発明が解決しようとする問題点】上記のような問題に
対し、本発明の目的は、熱現像時の寸法変化が小さい写
真用支持体およびその調整方法、塗布方法、熱現像感光
材料、熱現像画像形成方法を提供することである。また
本発明のもう一つの目的は,寸法変化が小さく平面性等
の品質に優れた熱現像感光材料に使用できる写真用支持
体およびその調整方法、塗布方法、熱現像感光材料、熱
現像画像形成方法を提供することである。
対し、本発明の目的は、熱現像時の寸法変化が小さい写
真用支持体およびその調整方法、塗布方法、熱現像感光
材料、熱現像画像形成方法を提供することである。また
本発明のもう一つの目的は,寸法変化が小さく平面性等
の品質に優れた熱現像感光材料に使用できる写真用支持
体およびその調整方法、塗布方法、熱現像感光材料、熱
現像画像形成方法を提供することである。
【0007】
【問題点を解決するための手段】本発明者等は上記のよ
うな問題点に対し鋭意検討した結果、熱処理時に写真用
支持体にかかる張力を変化させることによって、好まし
くは熱処理開始時の張力を徐々に小さくしながら熱処理
することで、延伸等の製膜によって残留した内部応力を
減少させ、寸法変化の小さくするとともに、低張力によ
る平面性等の品質の低下も発生しない写真用支持体が得
られることを見出した。
うな問題点に対し鋭意検討した結果、熱処理時に写真用
支持体にかかる張力を変化させることによって、好まし
くは熱処理開始時の張力を徐々に小さくしながら熱処理
することで、延伸等の製膜によって残留した内部応力を
減少させ、寸法変化の小さくするとともに、低張力によ
る平面性等の品質の低下も発生しない写真用支持体が得
られることを見出した。
【0008】また熱現像感光材料においては、支持体上
に、有機銀塩、感光性ハロゲン化銀及び還元剤を含有す
る塗布液を40℃〜80℃の温度で塗布乾燥して作製さ
れるが、このときの搬送張力を制御することで、さらに
熱現像処理方法においては、熱現像時の熱現像感光材料
の物性と搬送媒体との圧力や搬送媒体のマット度を調整
することによって、寸法変化が小さくなることも見出し
た。
に、有機銀塩、感光性ハロゲン化銀及び還元剤を含有す
る塗布液を40℃〜80℃の温度で塗布乾燥して作製さ
れるが、このときの搬送張力を制御することで、さらに
熱現像処理方法においては、熱現像時の熱現像感光材料
の物性と搬送媒体との圧力や搬送媒体のマット度を調整
することによって、寸法変化が小さくなることも見出し
た。
【0009】上記のような知見から本発明に到達した。
すなわち、本発明の目的を達成する本発明の構成は下記
(1)〜(19)である。
すなわち、本発明の目的を達成する本発明の構成は下記
(1)〜(19)である。
【0010】(1)ガラス転移点以上融点以下の温度
で、6kg/cm2より大きく30kg/cm2以下の張
力で搬送しながら熱処理することを特徴とする写真用支
持体の調整方法。 (2)ガラス転移点以上融点以下の温度で搬送しながら
熱処理する写真用支持体の調整方法において,張力を変
化させながら熱処理し、その張力の変化幅が0.01k
g/cm2〜30kg/cm2であることを特徴とする写
真用支持体の調整方法。 (3)上記(1)または(2)に記載の熱処理におい
て、熱処理開始時の張力と熱処理終了時の張力の差が
0.01kg/cm2〜30kg/cm2であることを特
徴とする写真用支持体の調整方法。 (4)上記(3)に記載の熱処理において、熱処理開始
時の張力が熱処理終了時の張力より大きいことを特徴と
する写真用支持体の調整方法。 (5)上記(4)に記載の熱処理において、張力を徐々
に小さくすることを特徴とする写真用支持体の調整方
法。
で、6kg/cm2より大きく30kg/cm2以下の張
力で搬送しながら熱処理することを特徴とする写真用支
持体の調整方法。 (2)ガラス転移点以上融点以下の温度で搬送しながら
熱処理する写真用支持体の調整方法において,張力を変
化させながら熱処理し、その張力の変化幅が0.01k
g/cm2〜30kg/cm2であることを特徴とする写
真用支持体の調整方法。 (3)上記(1)または(2)に記載の熱処理におい
て、熱処理開始時の張力と熱処理終了時の張力の差が
0.01kg/cm2〜30kg/cm2であることを特
徴とする写真用支持体の調整方法。 (4)上記(3)に記載の熱処理において、熱処理開始
時の張力が熱処理終了時の張力より大きいことを特徴と
する写真用支持体の調整方法。 (5)上記(4)に記載の熱処理において、張力を徐々
に小さくすることを特徴とする写真用支持体の調整方
法。
【0011】(6)ガラス転移点以上融点以下の温度で
搬送しながら熱処理する写真用支持体の調整方法におい
て、該熱処理後、張力を徐々に小さくしながら室温まで
冷却することを特徴とする写真用支持体の調整方法。 (7)上記(1)〜(5)のいずれかに記載の熱処理
後、張力が徐々に小さくしながら室温まで冷却すること
を特徴とする写真用支持体の調整方法。 (8)上記(1)〜(7)のいずれかに記載の方法で調
整されたことを特徴とする写真用支持体。 (9)上記(1)〜(7)のいずれかに記載の方法で調
整され、120℃、30秒での寸法変化率の絶対値がM
D方向0.01〜0.08%、TD方向0.01〜0.
04%であることを特徴とする写真用支持体。 (10)有機銀塩、感光性ハロゲン化銀及び還元剤を少
なくとも含有する塗布液を塗布する方法であって、40
℃以上120℃以下の温度で、0.01kg/cm2〜
30kg/cm2の張力で乾燥および/または熱処理を
行うことを特徴とする塗布方法。
搬送しながら熱処理する写真用支持体の調整方法におい
て、該熱処理後、張力を徐々に小さくしながら室温まで
冷却することを特徴とする写真用支持体の調整方法。 (7)上記(1)〜(5)のいずれかに記載の熱処理
後、張力が徐々に小さくしながら室温まで冷却すること
を特徴とする写真用支持体の調整方法。 (8)上記(1)〜(7)のいずれかに記載の方法で調
整されたことを特徴とする写真用支持体。 (9)上記(1)〜(7)のいずれかに記載の方法で調
整され、120℃、30秒での寸法変化率の絶対値がM
D方向0.01〜0.08%、TD方向0.01〜0.
04%であることを特徴とする写真用支持体。 (10)有機銀塩、感光性ハロゲン化銀及び還元剤を少
なくとも含有する塗布液を塗布する方法であって、40
℃以上120℃以下の温度で、0.01kg/cm2〜
30kg/cm2の張力で乾燥および/または熱処理を
行うことを特徴とする塗布方法。
【0012】(11)前記塗布液にヒドラジン誘導体を
含有することを特徴とする上記(10)に記載の塗布方
法。 (12)搬送しながら熱処理された支持体に塗布を行う
ことを特徴とする上記(10)または(11)に記載の
塗布方法。 (13)前記搬送しながら熱処理された支持体が上記
(8)または(9)に記載の写真用支持体であることを
特徴とする上記(12)に記載の塗布方法。 (14)上記(8)または(9)に記載の写真用支持体
を使用することを特徴とする熱現像感光材料。 (15)上記(10)〜(13)のいずれかに記載の塗
布方法で製造されたことを特徴とする熱現像感光材料。
含有することを特徴とする上記(10)に記載の塗布方
法。 (12)搬送しながら熱処理された支持体に塗布を行う
ことを特徴とする上記(10)または(11)に記載の
塗布方法。 (13)前記搬送しながら熱処理された支持体が上記
(8)または(9)に記載の写真用支持体であることを
特徴とする上記(12)に記載の塗布方法。 (14)上記(8)または(9)に記載の写真用支持体
を使用することを特徴とする熱現像感光材料。 (15)上記(10)〜(13)のいずれかに記載の塗
布方法で製造されたことを特徴とする熱現像感光材料。
【0013】(16)熱現像感光材料と搬送媒体との圧
力が0.1kgf/cm2〜10kgf/cm2である熱
現像機により処理することを特徴とする熱現像画像形成
方法。 (17)120℃における搬送媒体表面のマット度が2
00mmHg以上である熱現像機により処理することを
特徴とする熱現像画像形成方法。 (18)下記(A)〜(C)を満足する熱現像感光材料
を使用することを特徴とする上記(16)または(1
7)記載の熱現像画像形成方法。 (A)マット度が35mmHg以上200mmHg以
下、(B)動摩擦係数が0.5以下、(C)押し込み硬
さが15以上 (19)上記(14)または(15)記載の熱現像感光
材料を使用することを特徴とする上記(16)または
(17)記載の熱現像画像形成方法。
力が0.1kgf/cm2〜10kgf/cm2である熱
現像機により処理することを特徴とする熱現像画像形成
方法。 (17)120℃における搬送媒体表面のマット度が2
00mmHg以上である熱現像機により処理することを
特徴とする熱現像画像形成方法。 (18)下記(A)〜(C)を満足する熱現像感光材料
を使用することを特徴とする上記(16)または(1
7)記載の熱現像画像形成方法。 (A)マット度が35mmHg以上200mmHg以
下、(B)動摩擦係数が0.5以下、(C)押し込み硬
さが15以上 (19)上記(14)または(15)記載の熱現像感光
材料を使用することを特徴とする上記(16)または
(17)記載の熱現像画像形成方法。
【0014】
【発明の実施の形態】以下に本発明を更に詳しく説明す
る。本発明の写真用支持体の調整方法は、支持体のガラ
ス転移点以上融点以下の温度で、搬送しながら熱処理す
る技術である。熱処理時の搬送張力は支持体の熱処理に
よる効果、すなわち熱収縮の進行を妨げずに、その後の
熱処理(熱現像)時の寸法変化を小さくする上で、でき
るだけ低張力であることが望ましい。しかし搬送張力が
あまり小さいと、熱処理時に支持体の熱収縮の部分的な
差により支持体の平面性が劣化するとともに、搬送ロー
ルとの摩擦等により細かいキズ等が発生する。そのため
搬送張力は0.01kg/cm2〜30kg/cm2以下
が好ましい。より好ましくは6.0kg/cm2より大
きく20kg/cm2以下であり、さらに好ましくは
6.0kg/cm2より大きく10kg/cm2以下であ
る。なお本発明の搬送張力は、支持体に加えた力を支持
体の断面積(幅×厚み)で割ったものである。
る。本発明の写真用支持体の調整方法は、支持体のガラ
ス転移点以上融点以下の温度で、搬送しながら熱処理す
る技術である。熱処理時の搬送張力は支持体の熱処理に
よる効果、すなわち熱収縮の進行を妨げずに、その後の
熱処理(熱現像)時の寸法変化を小さくする上で、でき
るだけ低張力であることが望ましい。しかし搬送張力が
あまり小さいと、熱処理時に支持体の熱収縮の部分的な
差により支持体の平面性が劣化するとともに、搬送ロー
ルとの摩擦等により細かいキズ等が発生する。そのため
搬送張力は0.01kg/cm2〜30kg/cm2以下
が好ましい。より好ましくは6.0kg/cm2より大
きく20kg/cm2以下であり、さらに好ましくは
6.0kg/cm2より大きく10kg/cm2以下であ
る。なお本発明の搬送張力は、支持体に加えた力を支持
体の断面積(幅×厚み)で割ったものである。
【0015】本発明者等は熱処理時に搬送張力を変化さ
せることで、低張力で搬送熱処理しても支持体の平面性
の劣化を防ぐことができることを見出した。これは熱処
理時に発生する支持体の熱収縮の部分的な差を緩和でき
るためと推定している。本発明の熱処理時の搬送張力の
変化は、振動的に変化させても、段階的に変化させて
も、また傾斜的に変化させても良い。好ましくは段階的
および傾斜的に変化させる方法であり、さらに好ましく
は傾斜的に変化させる方法である。
せることで、低張力で搬送熱処理しても支持体の平面性
の劣化を防ぐことができることを見出した。これは熱処
理時に発生する支持体の熱収縮の部分的な差を緩和でき
るためと推定している。本発明の熱処理時の搬送張力の
変化は、振動的に変化させても、段階的に変化させて
も、また傾斜的に変化させても良い。好ましくは段階的
および傾斜的に変化させる方法であり、さらに好ましく
は傾斜的に変化させる方法である。
【0016】搬送張力を傾斜的に変化させて熱処理する
方法としては、熱処理開始時の張力が熱処理終了時の張
力より大きく、熱処理開始から熱処理終了するまでに徐
々に小さくする方法が好ましい。この方法で熱処理を行
うことにより、低張力での搬送熱処理効果により熱寸法
変化が良好になり、また支持体の平面性等については搬
送張力を変化させる効果によって良好になる。したがっ
て、この方法を用いることにより、熱寸法変化と平面性
の2つの性能が優れ、これらが両立した支持体が得られ
る。
方法としては、熱処理開始時の張力が熱処理終了時の張
力より大きく、熱処理開始から熱処理終了するまでに徐
々に小さくする方法が好ましい。この方法で熱処理を行
うことにより、低張力での搬送熱処理効果により熱寸法
変化が良好になり、また支持体の平面性等については搬
送張力を変化させる効果によって良好になる。したがっ
て、この方法を用いることにより、熱寸法変化と平面性
の2つの性能が優れ、これらが両立した支持体が得られ
る。
【0017】搬送張力の変化させる場合の変化幅は、平
面性の点で0.01kg/cm2〜30kg/cm2であ
ることが好ましい。より好ましくは0.1kg/cm2
〜15kg/cm2であり、さらに好ましくは1.0k
g/cm2〜7kg/cm2である。
面性の点で0.01kg/cm2〜30kg/cm2であ
ることが好ましい。より好ましくは0.1kg/cm2
〜15kg/cm2であり、さらに好ましくは1.0k
g/cm2〜7kg/cm2である。
【0018】張力を徐々に小さくしながら搬送する調整
方法は、前記に示す熱処理後、室温まで冷却する工程に
おいても行っても効果がある。この効果が得られる理由
は必ずしも明らかではないが、熱処理した支持体が熱処
理後、すぐに粘性を失うわけではないので、その張力が
効果を及ばしていると推定している。また、この張力効
果は室温まで冷却する速度にも関係があり、0.01℃
/min〜100℃/minであることが好ましい。よ
り好ましくは0.1℃/min〜50℃/minであ
り、さらに好ましくは1.0℃/min〜30℃/mi
nである。
方法は、前記に示す熱処理後、室温まで冷却する工程に
おいても行っても効果がある。この効果が得られる理由
は必ずしも明らかではないが、熱処理した支持体が熱処
理後、すぐに粘性を失うわけではないので、その張力が
効果を及ばしていると推定している。また、この張力効
果は室温まで冷却する速度にも関係があり、0.01℃
/min〜100℃/minであることが好ましい。よ
り好ましくは0.1℃/min〜50℃/minであ
り、さらに好ましくは1.0℃/min〜30℃/mi
nである。
【0019】搬送熱処理の張力の調整は、巻き取りロー
ル及び/または送り出しロールのトルクを調整すること
で容易に達成できる。また工程内にダンサーロールを設
置し、これに加える荷重を調整することでも達成でき
る。熱処理時及び/または熱処理後の冷却時に張力を変
化させる場合、これらの工程前後および/または工程内
にダンサーロールを設置し、それらの荷重を調整するこ
とで所望の張力状態を作製できる。また振動的に搬送張
力を変化させるには熱処理ロール間を小さくすることが
有効である。好ましいロール間距離としては0.01m
〜10mであり、さらに好ましくは0.1m〜5mであ
る。
ル及び/または送り出しロールのトルクを調整すること
で容易に達成できる。また工程内にダンサーロールを設
置し、これに加える荷重を調整することでも達成でき
る。熱処理時及び/または熱処理後の冷却時に張力を変
化させる場合、これらの工程前後および/または工程内
にダンサーロールを設置し、それらの荷重を調整するこ
とで所望の張力状態を作製できる。また振動的に搬送張
力を変化させるには熱処理ロール間を小さくすることが
有効である。好ましいロール間距離としては0.01m
〜10mであり、さらに好ましくは0.1m〜5mであ
る。
【0020】また、本発明においては、支持体の平面性
を向上させるために、軸方向の端部が軸中心部より縮径
されたテーパー状に形成されたロールを用いてもよい。
を向上させるために、軸方向の端部が軸中心部より縮径
されたテーパー状に形成されたロールを用いてもよい。
【0021】熱処理温度は熱処理する支持体のガラス転
移点以上融点以下の温度である。ガラス転移点は示差走
査熱量計で測定するところのベースラインが偏奇し始め
る温度と、新たにベースラインに戻る温度との平均値と
して求められ、融点は、その吸熱ピーク温度である。
移点以上融点以下の温度である。ガラス転移点は示差走
査熱量計で測定するところのベースラインが偏奇し始め
る温度と、新たにベースラインに戻る温度との平均値と
して求められ、融点は、その吸熱ピーク温度である。
【0022】本発明の写真用支持体は上記のような搬送
熱処理を施したものであり、120℃、30秒での熱寸
法変化率の絶対値が縦方向(MD方向)0.01〜0.
08%、横方向(TD方向)0.01〜0.04%であ
ることが好ましい。より好ましくはMD方向0.01〜
0.06%、TD方向0.01〜0.03%であり、さ
らに好ましくはMD方向0.01〜0.04%、TD方
向0.01〜0.02%である。
熱処理を施したものであり、120℃、30秒での熱寸
法変化率の絶対値が縦方向(MD方向)0.01〜0.
08%、横方向(TD方向)0.01〜0.04%であ
ることが好ましい。より好ましくはMD方向0.01〜
0.06%、TD方向0.01〜0.03%であり、さ
らに好ましくはMD方向0.01〜0.04%、TD方
向0.01〜0.02%である。
【0023】本発明に係る写真用支持体は、いかなる種
類のポリマーで構成されていても良いが、熱現像感光材
料の写真用支持体で用いることから、透明性および耐熱
寸法安定性が良い、以下のようなポリマーが挙げられ
る。
類のポリマーで構成されていても良いが、熱現像感光材
料の写真用支持体で用いることから、透明性および耐熱
寸法安定性が良い、以下のようなポリマーが挙げられ
る。
【0024】ポリエチレンテレフタレート(PET)、
ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリカーボネー
ト(PC)、ポリエーテルスルフォン(PES)、ポリ
アリレート(PAr)、ポリエーテルエーテルケトン
(PEEK)、ポリサルフォン(PSO)、ポリイミド
(PI)、ポリエーテルイミド(PEI)、ポリアミド
(PAm)、ポリスチレン(PS)、シンジオタクチッ
クポリスチレン(SPS)である。
ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリカーボネー
ト(PC)、ポリエーテルスルフォン(PES)、ポリ
アリレート(PAr)、ポリエーテルエーテルケトン
(PEEK)、ポリサルフォン(PSO)、ポリイミド
(PI)、ポリエーテルイミド(PEI)、ポリアミド
(PAm)、ポリスチレン(PS)、シンジオタクチッ
クポリスチレン(SPS)である。
【0025】この中で実質的にPET、PEN、PC、
SPSで構成されているものが好ましく、さらに好まし
くは実質的にPET、PENで構成されているものであ
り、特にコストの点から実質的にPETで構成されてい
るものが好ましい。ここでいう実質的に構成されている
ものとは、共重合体およびポリマーブレンド物であって
も良く、全体に占める構成要素の重量比率が50重量%
以上のものを指す。
SPSで構成されているものが好ましく、さらに好まし
くは実質的にPET、PENで構成されているものであ
り、特にコストの点から実質的にPETで構成されてい
るものが好ましい。ここでいう実質的に構成されている
ものとは、共重合体およびポリマーブレンド物であって
も良く、全体に占める構成要素の重量比率が50重量%
以上のものを指す。
【0026】PETはテレフタル酸とエチレングリコー
ルから構成されるが、これを触媒の存在下で適当な反応
条件下で結合させることによって重合できる。このと
き、適当な1種、または2種以上の第3成分を混合して
も良い。適当な第3成分としては、2価のエステル形成
官能基を有する化合物であればよく、例えば、ジカルボ
ン酸の例として次のようなものが挙げられる。
ルから構成されるが、これを触媒の存在下で適当な反応
条件下で結合させることによって重合できる。このと
き、適当な1種、または2種以上の第3成分を混合して
も良い。適当な第3成分としては、2価のエステル形成
官能基を有する化合物であればよく、例えば、ジカルボ
ン酸の例として次のようなものが挙げられる。
【0027】イソフタル酸、フタル酸、2−6ナフタレ
ンジカルボン酸、2−7ナフタレンジカルボン酸、ジフ
ェニルスルホンジカルボン酸、ジフェニルエーテルジカ
ルボン酸、ジフェニルエタンジカルボン酸、シクロヘキ
サンジカルボン酸、ジフェニルジカルボン酸、ジフェニ
ルチオエーテルジカルボン酸、ジフェニルケトンジカル
ボン酸、フェニルインダンジカルボン酸などを挙げるこ
とができる。
ンジカルボン酸、2−7ナフタレンジカルボン酸、ジフ
ェニルスルホンジカルボン酸、ジフェニルエーテルジカ
ルボン酸、ジフェニルエタンジカルボン酸、シクロヘキ
サンジカルボン酸、ジフェニルジカルボン酸、ジフェニ
ルチオエーテルジカルボン酸、ジフェニルケトンジカル
ボン酸、フェニルインダンジカルボン酸などを挙げるこ
とができる。
【0028】また、グリコールの例としては、エチレン
グリコール、プロピレングリコール、テトラメチレング
リコール、シクロヘキサンジメタノール、2,2−ビス
(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス
(4−ヒドロキシエトキシフェニル)プロパン、ビス
(4−ヒドロキシフェニル)スルホン、ビスフェノール
フルオレンジヒドロキシエチルエーテル、ジエチレング
リコール、ネオペンチルグリコール、ハイドロキノン、
シクロヘキサンジオールなどを挙げることができる。
グリコール、プロピレングリコール、テトラメチレング
リコール、シクロヘキサンジメタノール、2,2−ビス
(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス
(4−ヒドロキシエトキシフェニル)プロパン、ビス
(4−ヒドロキシフェニル)スルホン、ビスフェノール
フルオレンジヒドロキシエチルエーテル、ジエチレング
リコール、ネオペンチルグリコール、ハイドロキノン、
シクロヘキサンジオールなどを挙げることができる。
【0029】本発明のPETは固有粘度が0.3〜1.
0であることが好ましい。さらに好ましくは0.4〜
0.8であり、特に好ましくは0.5〜0.7である。
また固有粘度の異なるものを混合して使用しても良い。
混合して使用する場合、用いる樹脂の固有粘度差が0.
1以上0.4以下であるものを混合したものが必要であ
る。好ましくは固有粘度差が0.15以上0.3以下で
ある。
0であることが好ましい。さらに好ましくは0.4〜
0.8であり、特に好ましくは0.5〜0.7である。
また固有粘度の異なるものを混合して使用しても良い。
混合して使用する場合、用いる樹脂の固有粘度差が0.
1以上0.4以下であるものを混合したものが必要であ
る。好ましくは固有粘度差が0.15以上0.3以下で
ある。
【0030】本発明のPETの合成方法は、特に限定が
あるわけではなく、従来公知のPETの製造方法に従っ
て製造できる。例えば、ジカルポン酸成分をジオール成
分と直接エステル化反応させる直竣工ステル化法、初め
にジカルポン酸成分としてジアルキルエステルを用い
て、これとジオール成分とでエステル交換反応させ、こ
れを減圧下で加熱して余剰のジオール成分を除去するこ
とにより重合させるエステル交換法を用いることができ
る。この際、必要に応じてエステル交換触媒あるいは重
合反応触媒を用い、あるいは耐熱安定剤を添加すること
ができる。熱安定剤としては、例えば、リン酸、亜リン
酸、及びそれらのエステル化合物が挙げられる。また、
合成時の各過程で着色防止剤、結晶核剤、すべり剤、安
定剤、ブロッキング防止剤、紫外線吸収剤、粘度調節
剤、消泡瓢透明化剤、帯電防止剤、pH調整剤、染料、
顔料などを添加させてもよい。
あるわけではなく、従来公知のPETの製造方法に従っ
て製造できる。例えば、ジカルポン酸成分をジオール成
分と直接エステル化反応させる直竣工ステル化法、初め
にジカルポン酸成分としてジアルキルエステルを用い
て、これとジオール成分とでエステル交換反応させ、こ
れを減圧下で加熱して余剰のジオール成分を除去するこ
とにより重合させるエステル交換法を用いることができ
る。この際、必要に応じてエステル交換触媒あるいは重
合反応触媒を用い、あるいは耐熱安定剤を添加すること
ができる。熱安定剤としては、例えば、リン酸、亜リン
酸、及びそれらのエステル化合物が挙げられる。また、
合成時の各過程で着色防止剤、結晶核剤、すべり剤、安
定剤、ブロッキング防止剤、紫外線吸収剤、粘度調節
剤、消泡瓢透明化剤、帯電防止剤、pH調整剤、染料、
顔料などを添加させてもよい。
【0031】次に、本発明の写真用支持体の製造方法に
ついて説明する。未延伸シートないしフィルムを得る方
法および縦方向に一軸延伸する方法は、従来公知の技術
で行うことができる。例えば、原料のポリエステルをペ
レット状に成型し、熱風乾燥または真空乾燥した後、溶
融押出し、Tダイよりシート状に押出して、静電印加法
などにより冷却ドラムに密着させ、冷却固化させ、未延
伸シートを得る。次いで、得られた未延伸シートを複数
のロール群および/または赤外線ヒーターなどの加熱装
置を介してポリエステルのガラス転移温度(Tg)から
Tg+100℃の範囲内に加熱し、縦延伸する方法であ
る。延伸倍率は、通常2.5倍〜6倍の範囲である。
ついて説明する。未延伸シートないしフィルムを得る方
法および縦方向に一軸延伸する方法は、従来公知の技術
で行うことができる。例えば、原料のポリエステルをペ
レット状に成型し、熱風乾燥または真空乾燥した後、溶
融押出し、Tダイよりシート状に押出して、静電印加法
などにより冷却ドラムに密着させ、冷却固化させ、未延
伸シートを得る。次いで、得られた未延伸シートを複数
のロール群および/または赤外線ヒーターなどの加熱装
置を介してポリエステルのガラス転移温度(Tg)から
Tg+100℃の範囲内に加熱し、縦延伸する方法であ
る。延伸倍率は、通常2.5倍〜6倍の範囲である。
【0032】この際、延伸温度を支持体の表裏で温度差
を持たせることで巻きぐせをつきづらくすることができ
る。具体的には、縦延伸の加熱時に、赤外線ヒーター等
の加熱手段を片面側に設けることで温度をコントロール
することができる。延伸時の温度差は、好ましく0℃〜
40℃、より好ましくは0℃〜20℃である。温度差が
40℃より大きくなると、均一に延伸できずにフィルム
の平面性が劣化しやすくなり好ましくない。
を持たせることで巻きぐせをつきづらくすることができ
る。具体的には、縦延伸の加熱時に、赤外線ヒーター等
の加熱手段を片面側に設けることで温度をコントロール
することができる。延伸時の温度差は、好ましく0℃〜
40℃、より好ましくは0℃〜20℃である。温度差が
40℃より大きくなると、均一に延伸できずにフィルム
の平面性が劣化しやすくなり好ましくない。
【0033】次に、上記の様にして得られた縦方向に一
軸延伸されたポリエステルフィルムを、Tg〜Tg+1
20℃の温度範囲内で、横延伸し、次いで熱固定する。
横延伸倍率は通常3〜6倍であり、また、縦、横延伸倍
率の比は、得られた二軸延伸フィルムの物性を測定し、
好ましい特性を有するように適宜調整する。次いで熱固
定は、その最終横延伸温度より高温で、Tg+180℃
以下の温度範囲内で通常0.5〜300秒間熱固定す
る。このとき、2つ以上の温度で熱固定されることが好
ましい。このように2つ以上の温度で熱固定したフィル
ムは寸法安定性が向上し、熱現像用写真感光材料用の支
持体として有効である。
軸延伸されたポリエステルフィルムを、Tg〜Tg+1
20℃の温度範囲内で、横延伸し、次いで熱固定する。
横延伸倍率は通常3〜6倍であり、また、縦、横延伸倍
率の比は、得られた二軸延伸フィルムの物性を測定し、
好ましい特性を有するように適宜調整する。次いで熱固
定は、その最終横延伸温度より高温で、Tg+180℃
以下の温度範囲内で通常0.5〜300秒間熱固定す
る。このとき、2つ以上の温度で熱固定されることが好
ましい。このように2つ以上の温度で熱固定したフィル
ムは寸法安定性が向上し、熱現像用写真感光材料用の支
持体として有効である。
【0034】また本発明の写真用支持体は寸法安定性の
点で弛緩処理を行うことが好ましい。弛緩処理は前記ポ
リエステルフィルムの延伸製膜工程中の熱固定した後、
横延伸のテンター内、またはテンターを出た後に巻き取
りまでの工程で行われるのが好ましい。弛緩処理は、処
理温度が80℃〜200℃で行われることが好ましく、
より好ましくは、処理温度が100℃〜180℃、更に
好ましくは、処理温度が120℃〜160℃の範囲であ
る。また長手方向、幅手方向ともに、弛緩率が0.1%
〜10%の範囲で行われることが好ましく、より好まし
くは弛緩率が2〜6%で処理されることである。弛緩処
理された写真用支持体は、本発明の熱処理を施すことに
より、好ましい熱寸法変化率の写真用支持体となる。
点で弛緩処理を行うことが好ましい。弛緩処理は前記ポ
リエステルフィルムの延伸製膜工程中の熱固定した後、
横延伸のテンター内、またはテンターを出た後に巻き取
りまでの工程で行われるのが好ましい。弛緩処理は、処
理温度が80℃〜200℃で行われることが好ましく、
より好ましくは、処理温度が100℃〜180℃、更に
好ましくは、処理温度が120℃〜160℃の範囲であ
る。また長手方向、幅手方向ともに、弛緩率が0.1%
〜10%の範囲で行われることが好ましく、より好まし
くは弛緩率が2〜6%で処理されることである。弛緩処
理された写真用支持体は、本発明の熱処理を施すことに
より、好ましい熱寸法変化率の写真用支持体となる。
【0035】本発明の写真用支持体には、搬送熱処理す
ることから易滑性を付与することが好ましく、この易滑
性付与で平面性やキズ等を防ぐこともできる。易滑性付
与手段としては、特に限定はないが、不活性無機粒子を
添加する外部粒子添加方法、ポリマー重合時に添加する
触媒を析出させる内部粒子析出方法、あるいは界面活性
剤などをフィルム表面に塗布する方法などが一般的であ
る。これらの中でも、析出する粒子を比較的小さくコン
トロールできる内部粒子析出方法が、フィルムの透明性
を損なうことなく易滑性を付与できるので好ましい。
ることから易滑性を付与することが好ましく、この易滑
性付与で平面性やキズ等を防ぐこともできる。易滑性付
与手段としては、特に限定はないが、不活性無機粒子を
添加する外部粒子添加方法、ポリマー重合時に添加する
触媒を析出させる内部粒子析出方法、あるいは界面活性
剤などをフィルム表面に塗布する方法などが一般的であ
る。これらの中でも、析出する粒子を比較的小さくコン
トロールできる内部粒子析出方法が、フィルムの透明性
を損なうことなく易滑性を付与できるので好ましい。
【0036】本発明の写真用支持体の厚みは特に限定が
ある訳ではないが、寸法変化率の点で厚い方が好まし
く、医用写真感光材料に用いられる場合は取り扱い性も
含めて90〜200μmが好ましく、特に150〜19
0μmであることが好ましい。一方、印刷用写真感光材
料に用いられる場合は、4版を同時に焼き付ける関係で
透明性が求められ、70〜180μm、特に100〜1
40μmであることが好ましい。
ある訳ではないが、寸法変化率の点で厚い方が好まし
く、医用写真感光材料に用いられる場合は取り扱い性も
含めて90〜200μmが好ましく、特に150〜19
0μmであることが好ましい。一方、印刷用写真感光材
料に用いられる場合は、4版を同時に焼き付ける関係で
透明性が求められ、70〜180μm、特に100〜1
40μmであることが好ましい。
【0037】また本発明の写真用支持体は、ヘーズが3
%以下であることが好ましい。さらに好ましくは1%以
下である。ヘーズが3%より大きいとフィルムを印刷用
写真感光材料に用いられる場合、画像が不鮮明になる。
上記ヘーズは、ASTM−D1003−52に従って測
定したものである。
%以下であることが好ましい。さらに好ましくは1%以
下である。ヘーズが3%より大きいとフィルムを印刷用
写真感光材料に用いられる場合、画像が不鮮明になる。
上記ヘーズは、ASTM−D1003−52に従って測
定したものである。
【0038】次に本発明に係る塗布方法について説明す
る。本発明に係る写真感光材料が熱現像写真感光材料で
ある場合、塗布方法は、有機銀塩、感光性ハロゲン化銀
及び還元剤を少なくとも含有する塗布液を用いて塗布
後、40℃以上120℃以下の温度および0.01kg
/cm2〜30kg/cm2の張力で乾燥および/または
熱処理を行えば、特に限定するものではない。
る。本発明に係る写真感光材料が熱現像写真感光材料で
ある場合、塗布方法は、有機銀塩、感光性ハロゲン化銀
及び還元剤を少なくとも含有する塗布液を用いて塗布
後、40℃以上120℃以下の温度および0.01kg
/cm2〜30kg/cm2の張力で乾燥および/または
熱処理を行えば、特に限定するものではない。
【0039】乾燥および/または熱処理温度としては、
40℃〜120℃の温度で行われることが好ましく、さ
らに好ましくは50〜100℃、特に好ましくは60〜
80℃である。あまり高い温度であると、カブリを起こ
し好ましくない。また張力は支持体の調整方法同様、低
張力であることが好ましいが、搬送性等の点から、好ま
しくは1.0kg/cm2以上20kg/cm2以下であ
り、さらに好ましくは5kg/cm2以上10kg/c
m2以下である。
40℃〜120℃の温度で行われることが好ましく、さ
らに好ましくは50〜100℃、特に好ましくは60〜
80℃である。あまり高い温度であると、カブリを起こ
し好ましくない。また張力は支持体の調整方法同様、低
張力であることが好ましいが、搬送性等の点から、好ま
しくは1.0kg/cm2以上20kg/cm2以下であ
り、さらに好ましくは5kg/cm2以上10kg/c
m2以下である。
【0040】塗布方式としては浸積コーティング、エア
ーナイフコーティング、フローコーティングまたは米国
特許第2681294号に記載のホッパーを用いる押し
出しコーティングを含む種々のコーティング方式により
塗布できる。またStephan F.Kister, M. Schwezer著LIQ
UID FILM COATING(CHAPMA&HALL社刊,19
97年)の399〜734頁記載のエクストルージョン
塗布、スライド塗布、カーテン塗布方式も採用すること
ができる。さらに所望により、米国特許第276179
1号、同3508947号、同2941898号、同3
526528号の明細書および/または原崎勇次著、
『コーティング工学』253頁(1973年、朝倉書店
発行)等に記載された方法により、2層以上の層を同時
に塗布することができる。
ーナイフコーティング、フローコーティングまたは米国
特許第2681294号に記載のホッパーを用いる押し
出しコーティングを含む種々のコーティング方式により
塗布できる。またStephan F.Kister, M. Schwezer著LIQ
UID FILM COATING(CHAPMA&HALL社刊,19
97年)の399〜734頁記載のエクストルージョン
塗布、スライド塗布、カーテン塗布方式も採用すること
ができる。さらに所望により、米国特許第276179
1号、同3508947号、同2941898号、同3
526528号の明細書および/または原崎勇次著、
『コーティング工学』253頁(1973年、朝倉書店
発行)等に記載された方法により、2層以上の層を同時
に塗布することができる。
【0041】本発明における塗布液に含有する有機銀塩
は還元可能な銀源であり、還元可能な銀イオン源を含有
する有機酸及びヘテロ有機酸の銀塩、特に長鎖(10〜
30、好ましくは15〜25の炭素原子数)の脂肪族カ
ルボン酸及び含窒素複素環が好ましい。配位子が、4.
0〜10.0の銀イオンに対する総安定定数を有する有
機又は無機の銀塩錯体も有用である。
は還元可能な銀源であり、還元可能な銀イオン源を含有
する有機酸及びヘテロ有機酸の銀塩、特に長鎖(10〜
30、好ましくは15〜25の炭素原子数)の脂肪族カ
ルボン酸及び含窒素複素環が好ましい。配位子が、4.
0〜10.0の銀イオンに対する総安定定数を有する有
機又は無機の銀塩錯体も有用である。
【0042】好適な銀塩の例は、RD17029及び2
9963に記載されており、次のものがある:有機酸の
塩(例えば、没食子酸、シュウ酸、ベヘン酸、アラキジ
ン酸、ステアリン酸、パルミチン酸、ラウリン酸等の
塩);銀のカルボキシアルキルチオ尿素塩(例えば、1
−(3−カルボキシプロピル)チオ尿素、1−(3−カ
ルボキシプロピル)−3,3−ジメチルチオ尿素等);
アルデヒドとヒドロキシ置換芳香族カルボン酸とのポリ
マー反応生成物の銀錯体(例えば、アルデヒド類(ホル
ムアルデヒド、アセトアルデヒド、ブチルアルデヒド
等)、ヒドロキシ置換酸類(例えば、サリチル酸、安息
香酸、3,5−ジヒドロキシ安息香酸、5,5−チオジ
サリチル酸)、チオエン類の銀塩又は錯体(例えば、3
−(2−カルボキシエチル)−4−ヒドロキシメチル−
4−(チアゾリン−2−チオエン、及び3−カルボキシ
メチル−4−チアゾリン−2−チオエン)、イミダゾー
ル、ピラゾール、ウラゾール、1,2,4−チアゾール
及び1H−テトラゾール、3−アミノ−5−ベンジルチ
オ−1,2,4−トリアゾール及びベンゾトリアゾール
から選択される窒素酸と銀との錯体または塩;サッカリ
ン、5−クロロサリチルアルドキシム等の銀塩;及びメ
ルカプチド類の銀塩。好ましい銀源はベヘン酸銀、アラ
キジン酸銀および/またはステアリン酸銀である。
9963に記載されており、次のものがある:有機酸の
塩(例えば、没食子酸、シュウ酸、ベヘン酸、アラキジ
ン酸、ステアリン酸、パルミチン酸、ラウリン酸等の
塩);銀のカルボキシアルキルチオ尿素塩(例えば、1
−(3−カルボキシプロピル)チオ尿素、1−(3−カ
ルボキシプロピル)−3,3−ジメチルチオ尿素等);
アルデヒドとヒドロキシ置換芳香族カルボン酸とのポリ
マー反応生成物の銀錯体(例えば、アルデヒド類(ホル
ムアルデヒド、アセトアルデヒド、ブチルアルデヒド
等)、ヒドロキシ置換酸類(例えば、サリチル酸、安息
香酸、3,5−ジヒドロキシ安息香酸、5,5−チオジ
サリチル酸)、チオエン類の銀塩又は錯体(例えば、3
−(2−カルボキシエチル)−4−ヒドロキシメチル−
4−(チアゾリン−2−チオエン、及び3−カルボキシ
メチル−4−チアゾリン−2−チオエン)、イミダゾー
ル、ピラゾール、ウラゾール、1,2,4−チアゾール
及び1H−テトラゾール、3−アミノ−5−ベンジルチ
オ−1,2,4−トリアゾール及びベンゾトリアゾール
から選択される窒素酸と銀との錯体または塩;サッカリ
ン、5−クロロサリチルアルドキシム等の銀塩;及びメ
ルカプチド類の銀塩。好ましい銀源はベヘン酸銀、アラ
キジン酸銀および/またはステアリン酸銀である。
【0043】有機銀塩化合物は、水溶性銀化合物と銀と
錯形成する化合物を混合することにより得られるが、正
混合法、逆混合法、同時混合法、特開平9−12764
3号に記載されている様なコントロールドダブルジェッ
ト法等が好ましく用いられる。例えば、有機酸にアルカ
リ金属塩(例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム
など)を加えて有機酸アルカリ金属塩ソープ(例えば、
ベヘン酸ナトリウム、アラキジン酸ナトリウムなど)を
作製した後に、コントロールドダブルジェットにより、
前記ソープと硝酸銀などを添加して有機銀塩の結晶を作
製する。その際にハロゲン化銀粒子を混在させてもよ
い。
錯形成する化合物を混合することにより得られるが、正
混合法、逆混合法、同時混合法、特開平9−12764
3号に記載されている様なコントロールドダブルジェッ
ト法等が好ましく用いられる。例えば、有機酸にアルカ
リ金属塩(例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム
など)を加えて有機酸アルカリ金属塩ソープ(例えば、
ベヘン酸ナトリウム、アラキジン酸ナトリウムなど)を
作製した後に、コントロールドダブルジェットにより、
前記ソープと硝酸銀などを添加して有機銀塩の結晶を作
製する。その際にハロゲン化銀粒子を混在させてもよ
い。
【0044】本発明における塗布液に含有するハロゲン
化銀粒子は光センサーとして機能するものである。
化銀粒子は光センサーとして機能するものである。
【0045】ハロゲン化銀は上記有機銀塩分散液を調製
した後、これに、例えば臭化ナトリウムや臭化アンモニ
ウム等のハライド成分を加えコンバージョンにより有機
銀塩の一部をハロゲン化銀に代え調製してもよいが、好
ましいのは通常のハロゲン化銀乳剤調製技術を用いて別
途調製するのがハロゲン化銀のサイズや形状等をコント
ロール出来るので好ましい。但し、これらの方法を組み
合わせる事もできる。
した後、これに、例えば臭化ナトリウムや臭化アンモニ
ウム等のハライド成分を加えコンバージョンにより有機
銀塩の一部をハロゲン化銀に代え調製してもよいが、好
ましいのは通常のハロゲン化銀乳剤調製技術を用いて別
途調製するのがハロゲン化銀のサイズや形状等をコント
ロール出来るので好ましい。但し、これらの方法を組み
合わせる事もできる。
【0046】本発明において、調製したハロゲン化銀は
画像形成後の白濁を低く抑えるため、及び良好な画質を
得るために平均粒子サイズが小さい方が好ましく、平均
粒子サイズが0.1μm以下、より好ましくは0.01
μm〜0.1μm、特に0.02μm〜0.08μmが
好ましい。ここでいう粒子サイズとは、ハロゲン化銀粒
子が立方体或いは八面体のいわゆる正常晶である場合に
は、ハロゲン化銀粒子の稜の長さをいう。又、正常晶で
ない場合、例えば球状、棒状、或いは平板状の粒子の場
合には、ハロゲン化銀粒子の体積と同等な球を考えたと
きの直径をいう。
画像形成後の白濁を低く抑えるため、及び良好な画質を
得るために平均粒子サイズが小さい方が好ましく、平均
粒子サイズが0.1μm以下、より好ましくは0.01
μm〜0.1μm、特に0.02μm〜0.08μmが
好ましい。ここでいう粒子サイズとは、ハロゲン化銀粒
子が立方体或いは八面体のいわゆる正常晶である場合に
は、ハロゲン化銀粒子の稜の長さをいう。又、正常晶で
ない場合、例えば球状、棒状、或いは平板状の粒子の場
合には、ハロゲン化銀粒子の体積と同等な球を考えたと
きの直径をいう。
【0047】またハロゲン化銀は単分散であることが好
ましい。ここでいう単分散とは、下記式で求められる単
分散度が40%以下をいう。更に好ましくは30%以下
であり、特に好ましくは0.1%以上20%以下となる
粒子である。 単分散度=(粒径の標準偏差)/(粒径の平均値)×1
00 本発明においては、ハロゲン化銀粒子が平均粒径0.1
μm以下でかつ単分散粒子であることがより好ましく、
この範囲にすることで画像の粒状性も向上する。
ましい。ここでいう単分散とは、下記式で求められる単
分散度が40%以下をいう。更に好ましくは30%以下
であり、特に好ましくは0.1%以上20%以下となる
粒子である。 単分散度=(粒径の標準偏差)/(粒径の平均値)×1
00 本発明においては、ハロゲン化銀粒子が平均粒径0.1
μm以下でかつ単分散粒子であることがより好ましく、
この範囲にすることで画像の粒状性も向上する。
【0048】ハロゲン化銀粒子の形状については、特に
制限はないが、ミラー指数〔100〕面の占める割合が
高いことが好ましく、この割合が50%以上、更には7
0%以上、特に80%以上であることが好ましい。ミラ
ー指数〔100〕面の比率は増感色素の吸着における
〔111〕面と〔100〕面との吸着依存性を利用した
T.Tani,J.Imaging Sci.,29,
165(1985)により求めることができる。
制限はないが、ミラー指数〔100〕面の占める割合が
高いことが好ましく、この割合が50%以上、更には7
0%以上、特に80%以上であることが好ましい。ミラ
ー指数〔100〕面の比率は増感色素の吸着における
〔111〕面と〔100〕面との吸着依存性を利用した
T.Tani,J.Imaging Sci.,29,
165(1985)により求めることができる。
【0049】またもう一つの好ましいハロゲン化銀の形
状は、平板粒子(ないし平板状粒子)である。ここでい
う平板粒子とは、投影面積の平方根を粒径rμmとして
垂直方向の厚みをhμmとした場合のアスペクト比=r
/hが3以上のものをいう。その中でも好ましくはアス
ペクト比が3以上50以下である。また粒径は0.1μ
m以下であることが好ましく、さらに0.01μm〜
0.08μmが好ましい。これらは米国特許第5,26
4,337号、同5,314,798号、同5,32
0,958号等に記載されており、容易に目的の平板状
粒子を得ることができる。本発明においてこれらの平板
状粒子を用いた場合、さらに画像の鮮鋭性も向上する。
状は、平板粒子(ないし平板状粒子)である。ここでい
う平板粒子とは、投影面積の平方根を粒径rμmとして
垂直方向の厚みをhμmとした場合のアスペクト比=r
/hが3以上のものをいう。その中でも好ましくはアス
ペクト比が3以上50以下である。また粒径は0.1μ
m以下であることが好ましく、さらに0.01μm〜
0.08μmが好ましい。これらは米国特許第5,26
4,337号、同5,314,798号、同5,32
0,958号等に記載されており、容易に目的の平板状
粒子を得ることができる。本発明においてこれらの平板
状粒子を用いた場合、さらに画像の鮮鋭性も向上する。
【0050】ハロゲン組成としては特に制限はなく、塩
化銀、塩臭化銀、塩沃臭化銀、臭化銀、沃臭化銀、沃化
銀のいずれであってもよい。本発明に用いられる写真乳
剤は、P.Glafkides著Chimie et
Physique Photographique(P
aul Montel社刊、1967年)、G.F.D
uffin著 Photographic Emuls
ion Chemistry(The Focal P
ress刊、1966年)、V.L.Zelikman
et al著Making and Coating
Photographic Emulsion(Th
e Focal Press刊、1964年)等に記載
された方法を用いて調製することができる。
化銀、塩臭化銀、塩沃臭化銀、臭化銀、沃臭化銀、沃化
銀のいずれであってもよい。本発明に用いられる写真乳
剤は、P.Glafkides著Chimie et
Physique Photographique(P
aul Montel社刊、1967年)、G.F.D
uffin著 Photographic Emuls
ion Chemistry(The Focal P
ress刊、1966年)、V.L.Zelikman
et al著Making and Coating
Photographic Emulsion(Th
e Focal Press刊、1964年)等に記載
された方法を用いて調製することができる。
【0051】本発明に用いられるハロゲン化銀には、照
度不軌改良や改良調整のために、元素周期律表の6族か
ら10族に属する金属のイオン又は錯体イオンを含有す
ることが好ましい。上記の金属としては、W、Fe、C
o、Ni、Cu、Ru、Rh、Pd、Re、Os、I
r、Pt、Auが好ましい。
度不軌改良や改良調整のために、元素周期律表の6族か
ら10族に属する金属のイオン又は錯体イオンを含有す
ることが好ましい。上記の金属としては、W、Fe、C
o、Ni、Cu、Ru、Rh、Pd、Re、Os、I
r、Pt、Auが好ましい。
【0052】感光性ハロゲン化銀粒子はヌードル法、フ
ロキュレーション法等、当業界で知られている方法の水
洗により脱塩することができるが、本発明においては脱
塩してもしなくてもよい。
ロキュレーション法等、当業界で知られている方法の水
洗により脱塩することができるが、本発明においては脱
塩してもしなくてもよい。
【0053】本発明における感光性ハロゲン化銀粒子は
化学増感されていることが好ましい。好ましい化学増感
法としては当業界でよく知られているように硫黄増感
法、セレン増感法、テルル増感法、金化合物や白金、パ
ラジウム、イリジウム化合物等の貴金属増感法や還元増
感法を用いることができる。
化学増感されていることが好ましい。好ましい化学増感
法としては当業界でよく知られているように硫黄増感
法、セレン増感法、テルル増感法、金化合物や白金、パ
ラジウム、イリジウム化合物等の貴金属増感法や還元増
感法を用いることができる。
【0054】本発明においては感光材料の失透を防ぐた
めには、ハロゲン化銀及び有機銀塩の総量は、銀量に換
算して1m2当たり0.5g以上2.2g以下であるこ
とが好ましい。この範囲にすることで硬調な画像が得ら
れる。また銀総量に対するハロゲン化銀の量は、重量比
で50%以下、好ましくは25%以下、更に好ましくは
0.1%〜15%の範囲である。
めには、ハロゲン化銀及び有機銀塩の総量は、銀量に換
算して1m2当たり0.5g以上2.2g以下であるこ
とが好ましい。この範囲にすることで硬調な画像が得ら
れる。また銀総量に対するハロゲン化銀の量は、重量比
で50%以下、好ましくは25%以下、更に好ましくは
0.1%〜15%の範囲である。
【0055】本発明における塗布液に含有する還元剤と
しては、一般に知られているものが挙げられ、例えば、
フェノール類、2個以上のフェノール基を有するポリフ
ェノール類、ナフトール類、ビスナフトール類、2個以
上の水酸基を有するポリヒドロキシベンゼン類、2個以
上の水酸基を有するポリヒドロキシナフタレン類、アス
コルビン酸類、3−ピラゾリドン類、ピラゾリン−5−
オン類、ピラゾリン類、フェニレンジアミン類、ヒドロ
キシルアミン類、ハイドロキノンモノエーテル類、ヒド
ロオキサミン酸類、ヒドラジド類、アミドオキシム類、
N−ヒドロキシ尿素類等があり、さらに詳しくは例え
ば、米国特許第3,615,533号、同第3,67
9,426号、同第3,672,904号、同第3,7
51,252号、同第3,782,949号、同第3,
801,321号、同第3,794,488号、同第
3,893,863号、同第3,887,376号、同
第3,770,448号、同第3,819,382号、
同第3,773,512号、同第3,839,048
号、同第3,887,378号、同第4,009,03
9号、同第4,021,240号、英国特許第1,48
6,148号若しくはベルギー特許第786,086号
各明細書及び特開昭50−36143号、同50−36
110号、同50−116023号、同50−9971
9号、同50−140113号、同51−51933
号、同51−23721号、同52−84727号若し
くは特公昭51−35851号各公報に具体的に例示さ
れた還元剤があり、本発明はこのような種々の還元剤の
中から適宜選択して使用することができる。
しては、一般に知られているものが挙げられ、例えば、
フェノール類、2個以上のフェノール基を有するポリフ
ェノール類、ナフトール類、ビスナフトール類、2個以
上の水酸基を有するポリヒドロキシベンゼン類、2個以
上の水酸基を有するポリヒドロキシナフタレン類、アス
コルビン酸類、3−ピラゾリドン類、ピラゾリン−5−
オン類、ピラゾリン類、フェニレンジアミン類、ヒドロ
キシルアミン類、ハイドロキノンモノエーテル類、ヒド
ロオキサミン酸類、ヒドラジド類、アミドオキシム類、
N−ヒドロキシ尿素類等があり、さらに詳しくは例え
ば、米国特許第3,615,533号、同第3,67
9,426号、同第3,672,904号、同第3,7
51,252号、同第3,782,949号、同第3,
801,321号、同第3,794,488号、同第
3,893,863号、同第3,887,376号、同
第3,770,448号、同第3,819,382号、
同第3,773,512号、同第3,839,048
号、同第3,887,378号、同第4,009,03
9号、同第4,021,240号、英国特許第1,48
6,148号若しくはベルギー特許第786,086号
各明細書及び特開昭50−36143号、同50−36
110号、同50−116023号、同50−9971
9号、同50−140113号、同51−51933
号、同51−23721号、同52−84727号若し
くは特公昭51−35851号各公報に具体的に例示さ
れた還元剤があり、本発明はこのような種々の還元剤の
中から適宜選択して使用することができる。
【0056】上記の還元剤の中で、有機銀塩として脂肪
族カルボン酸銀塩を使用する場合に好ましい還元剤とし
ては、2個以上のフェノール基がアルキレン基又は硫黄
によって連結されたポリフェノール類、特にフェノール
基のヒドロキシ置換位置に隣接した位置の少なくとも一
つにアルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル
基、t−ブチル基、シクロヘキシル基等)又はアシル基
(例えばアセチル基、プロピオニル基等)が置換したフ
ェノール基の2個以上がアルキレン基又は硫黄によって
連結されたポリフェノール類、例えば1,1−ビス(2
−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)−3,5,
5−トリメチルヘキサン、1,1−ビス(2−ヒドロキ
シ−3−t−ブチル−5−メチルフェニル)メタン、
1,1−ビス(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチ
ルフェニル)メタン、2−ヒドロキシ−3−t−ブチル
−5−メチルフェニル)−(2−ヒドロキシ−5−メチ
ルフェニル)メタン、6,6′−ベンジリデン−ビス
(2,4−ジ−t−ブチルフェノール)、6,6′−ベ
ンジリデン−ビス(2−t−ブチル−4−メチルフェノ
ール)、6,6′−ベンジリデン−ビス(2,4−ジメ
チルフェノール)、1,1−ビス(2−ヒドロキシ−
3,5−ジメチルフェニル)−2−メチルプロパン、
1,1,5,5−テトラキス(2−ヒドロキシ−3,5
−ジメチルフェニル)−2,4−エチルペンタン、2,
2−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニ
ル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3,5
−ジ−t−ブチルフェニル)プロパン等の米国特許第
3,589,903号、同第4,021,249号若し
くは英国特許第1,486,148号各明細書及び特開
昭51−51933号、同50−36110号、同50
−116023号、同52−84727号若しくは特公
昭51−35727号公報に記載されたポリフェノール
化合物)、米国特許第3,672,904号明細書に記
載されたビスナフトール類、例えば、2,2′−ジヒド
ロキシ−1,1′−ビナフチル、6,6′−ジブロモ−
2,2′−ジヒドロキシ−1,1′−ビナフチル、6,
6′−ジニトロ−2,2′−ジヒドロキシ−1,1′−
ビナフチル、ビス(2−ヒドロキシ−1−ナフチル)メ
タン、4,4′−ジメトキシ−1,1′−ジヒドロキシ
−2,2′−ビナフチル等、更に米国特許第3,80
1,321号明細書に記載されているようなスルホンア
ミドフェノール又はスルホンアミドナフトール類、例え
ば、4−ベンゼンスルホンアミドフェノール、2−ベン
ゼンスルホンアミドフェノール、2,6−ジクロロ−4
−ベンゼンスルホンアミドフェノール、4−ベンゼンス
ルホンアミドナフトール等を挙げることができる。
族カルボン酸銀塩を使用する場合に好ましい還元剤とし
ては、2個以上のフェノール基がアルキレン基又は硫黄
によって連結されたポリフェノール類、特にフェノール
基のヒドロキシ置換位置に隣接した位置の少なくとも一
つにアルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル
基、t−ブチル基、シクロヘキシル基等)又はアシル基
(例えばアセチル基、プロピオニル基等)が置換したフ
ェノール基の2個以上がアルキレン基又は硫黄によって
連結されたポリフェノール類、例えば1,1−ビス(2
−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)−3,5,
5−トリメチルヘキサン、1,1−ビス(2−ヒドロキ
シ−3−t−ブチル−5−メチルフェニル)メタン、
1,1−ビス(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチ
ルフェニル)メタン、2−ヒドロキシ−3−t−ブチル
−5−メチルフェニル)−(2−ヒドロキシ−5−メチ
ルフェニル)メタン、6,6′−ベンジリデン−ビス
(2,4−ジ−t−ブチルフェノール)、6,6′−ベ
ンジリデン−ビス(2−t−ブチル−4−メチルフェノ
ール)、6,6′−ベンジリデン−ビス(2,4−ジメ
チルフェノール)、1,1−ビス(2−ヒドロキシ−
3,5−ジメチルフェニル)−2−メチルプロパン、
1,1,5,5−テトラキス(2−ヒドロキシ−3,5
−ジメチルフェニル)−2,4−エチルペンタン、2,
2−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニ
ル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3,5
−ジ−t−ブチルフェニル)プロパン等の米国特許第
3,589,903号、同第4,021,249号若し
くは英国特許第1,486,148号各明細書及び特開
昭51−51933号、同50−36110号、同50
−116023号、同52−84727号若しくは特公
昭51−35727号公報に記載されたポリフェノール
化合物)、米国特許第3,672,904号明細書に記
載されたビスナフトール類、例えば、2,2′−ジヒド
ロキシ−1,1′−ビナフチル、6,6′−ジブロモ−
2,2′−ジヒドロキシ−1,1′−ビナフチル、6,
6′−ジニトロ−2,2′−ジヒドロキシ−1,1′−
ビナフチル、ビス(2−ヒドロキシ−1−ナフチル)メ
タン、4,4′−ジメトキシ−1,1′−ジヒドロキシ
−2,2′−ビナフチル等、更に米国特許第3,80
1,321号明細書に記載されているようなスルホンア
ミドフェノール又はスルホンアミドナフトール類、例え
ば、4−ベンゼンスルホンアミドフェノール、2−ベン
ゼンスルホンアミドフェノール、2,6−ジクロロ−4
−ベンゼンスルホンアミドフェノール、4−ベンゼンス
ルホンアミドナフトール等を挙げることができる。
【0057】本発明における塗布液に含有する還元剤の
量は、有機銀塩や還元剤の種類、その他の添加剤によっ
て変化するが、一般的には有機銀塩1モル当たり0.0
5モル乃至10モル、好ましくは0.1モル乃至3モル
が適当である。又この量の範囲内において、上述した還
元剤は2種以上併用されてもよい。本発明においては、
前記還元剤を塗布直前に感光溶液に添加混合して塗布し
た方が、感光溶液の停滞時間による写真性能変動が小さ
く好ましい場合がある。
量は、有機銀塩や還元剤の種類、その他の添加剤によっ
て変化するが、一般的には有機銀塩1モル当たり0.0
5モル乃至10モル、好ましくは0.1モル乃至3モル
が適当である。又この量の範囲内において、上述した還
元剤は2種以上併用されてもよい。本発明においては、
前記還元剤を塗布直前に感光溶液に添加混合して塗布し
た方が、感光溶液の停滞時間による写真性能変動が小さ
く好ましい場合がある。
【0058】本発明の塗布液にはヒドラジン誘導体を含
有することが好ましい。ヒドラジン誘導体としては、下
記一般式〔H〕で表される化合物が好ましい。
有することが好ましい。ヒドラジン誘導体としては、下
記一般式〔H〕で表される化合物が好ましい。
【0059】
【化1】
【0060】式中、A0はそれぞれ置換基を有してもよ
い脂肪族基、芳香族基、複素環基又は−G0−D0基
を、B0はブロッキング基を表し、A1、A2はともに
水素原子、又は一方が水素原子で他方はアシル基、スル
ホニル基又はオキザリル基を表す。ここで、G0は−C
O−基、−COCO−基、−CS−基、−C(=NG1
D1)−基、−SO−基、−SO2−基又は−P(O)
(G1D1)−基を表し、G1は単なる結合手、−O−
基、−S−基又は−N(D1)−基を表し、D1は脂肪
族基、芳香族基、複素環基又は水素原子を表し、分子内
に複数のD1が存在する場合、それらは同じであっても
異なってもよい。D0は水素原子、脂肪族基、芳香族
基、複素環基、アミノ基、アルコキシ基、アリールオキ
シ基、アルキルチオ基、アリールチオ基を表す。
い脂肪族基、芳香族基、複素環基又は−G0−D0基
を、B0はブロッキング基を表し、A1、A2はともに
水素原子、又は一方が水素原子で他方はアシル基、スル
ホニル基又はオキザリル基を表す。ここで、G0は−C
O−基、−COCO−基、−CS−基、−C(=NG1
D1)−基、−SO−基、−SO2−基又は−P(O)
(G1D1)−基を表し、G1は単なる結合手、−O−
基、−S−基又は−N(D1)−基を表し、D1は脂肪
族基、芳香族基、複素環基又は水素原子を表し、分子内
に複数のD1が存在する場合、それらは同じであっても
異なってもよい。D0は水素原子、脂肪族基、芳香族
基、複素環基、アミノ基、アルコキシ基、アリールオキ
シ基、アルキルチオ基、アリールチオ基を表す。
【0061】一般式〔H〕において、A0で表される脂
肪族基は好ましくは炭素数1〜30のものであり、特に
炭素数1〜20の直鎖、分岐又は環状のアルキル基が好
ましく、例えばメチル基、エチル基、t−ブチル基、オ
クチル基、シクロヘキシル基、ベンジル基が挙げられ、
これらは更に適当な置換基(例えばアリール基、アルコ
キシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリール
チオ基、スルホキシ基、スルホンアミド基、スルファモ
イル基、アシルアミノ基、ウレイド基等)で置換されて
いてもよい。
肪族基は好ましくは炭素数1〜30のものであり、特に
炭素数1〜20の直鎖、分岐又は環状のアルキル基が好
ましく、例えばメチル基、エチル基、t−ブチル基、オ
クチル基、シクロヘキシル基、ベンジル基が挙げられ、
これらは更に適当な置換基(例えばアリール基、アルコ
キシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリール
チオ基、スルホキシ基、スルホンアミド基、スルファモ
イル基、アシルアミノ基、ウレイド基等)で置換されて
いてもよい。
【0062】一般式〔H〕において、A0で表される芳
香族基は、単環又は縮合環のアリール基が好ましく、例
えばベンゼン環又はナフタレン環が挙げられ、A0で表
される複素環基としては、単環又は縮合環で窒素、硫
黄、酸素原子から選ばれる少なくとも一つのヘテロ原子
を含む複素環が好ましく、例えばピロリジン環、イミダ
ゾール環、テトラヒドロフラン環、モルホリン環、ピリ
ジン環、ピリミジン環、キノリン環、チアゾール環、ベ
ンゾチアゾール環、チオフェン環、フラン環が挙げら
れ、A0で表される−G0−D0基において、G0は−
CO−基、−COCO−基、−CS−基、−C(=NG
1D1)−基、−SO−基、−SO2−基又は−P
(O)(G1D1)−基を表す。G1は単なる結合手、
−O−基、−S−基又は−N(D1)−基を表し、D1
は脂肪族基、芳香族基、複素環基又は水素原子を表し、
分子内に複数のD1が存在する場合、それらは同じであ
っても異なってもよい。D0は水素原子、脂肪族基、芳
香族基、複素環基、アミノ基、アルコキシ基、アリール
オキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基を表し、好
ましいD0としては水素原子、アルキル基、アルコキシ
基、アミノ基等が挙げられる。A0の芳香族基、複素環
基及び−G0−D0基は置換基を有していてもよい。A
0として特に好ましいものはアリール基及び−G0−D
0基である。
香族基は、単環又は縮合環のアリール基が好ましく、例
えばベンゼン環又はナフタレン環が挙げられ、A0で表
される複素環基としては、単環又は縮合環で窒素、硫
黄、酸素原子から選ばれる少なくとも一つのヘテロ原子
を含む複素環が好ましく、例えばピロリジン環、イミダ
ゾール環、テトラヒドロフラン環、モルホリン環、ピリ
ジン環、ピリミジン環、キノリン環、チアゾール環、ベ
ンゾチアゾール環、チオフェン環、フラン環が挙げら
れ、A0で表される−G0−D0基において、G0は−
CO−基、−COCO−基、−CS−基、−C(=NG
1D1)−基、−SO−基、−SO2−基又は−P
(O)(G1D1)−基を表す。G1は単なる結合手、
−O−基、−S−基又は−N(D1)−基を表し、D1
は脂肪族基、芳香族基、複素環基又は水素原子を表し、
分子内に複数のD1が存在する場合、それらは同じであ
っても異なってもよい。D0は水素原子、脂肪族基、芳
香族基、複素環基、アミノ基、アルコキシ基、アリール
オキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基を表し、好
ましいD0としては水素原子、アルキル基、アルコキシ
基、アミノ基等が挙げられる。A0の芳香族基、複素環
基及び−G0−D0基は置換基を有していてもよい。A
0として特に好ましいものはアリール基及び−G0−D
0基である。
【0063】又、一般式〔H〕において、A0は耐拡散
基又はハロゲン化銀吸着基を少なくとも一つ含むことが
好ましい。耐拡散基としてはカプラー等の不動性写真用
添加剤にて常用されるバラスト基が好ましく、バラスト
基としては写真的に不活性であるアルキル基、アルケニ
ル基、アルキニル基、アルコキシ基、フェニル基、フェ
ノキシ基、アルキルフェノキシ基等が挙げられ、置換基
部分の炭素数の合計は8以上であることが好ましい。
基又はハロゲン化銀吸着基を少なくとも一つ含むことが
好ましい。耐拡散基としてはカプラー等の不動性写真用
添加剤にて常用されるバラスト基が好ましく、バラスト
基としては写真的に不活性であるアルキル基、アルケニ
ル基、アルキニル基、アルコキシ基、フェニル基、フェ
ノキシ基、アルキルフェノキシ基等が挙げられ、置換基
部分の炭素数の合計は8以上であることが好ましい。
【0064】一般式〔H〕において、ハロゲン化銀吸着
促進基としてはチオ尿素、チオウレタン基、メルカプト
基、チオエーテル基、チオン基、複素環基、チオアミド
複素環基、メルカプト複素環基、或いは特開昭64−9
0439号に記載の吸着基等が挙げられる。
促進基としてはチオ尿素、チオウレタン基、メルカプト
基、チオエーテル基、チオン基、複素環基、チオアミド
複素環基、メルカプト複素環基、或いは特開昭64−9
0439号に記載の吸着基等が挙げられる。
【0065】一般式〔H〕において、B0はブロッキン
グ基を表し、好ましくは−G0−D0基であり、G0は
−CO−基、−COCO−基、−CS−基、−C(=N
G1D1)−基、−SO−基、−SO2−基又は−P
(O)(G1D1)−基を表す。好ましいG0としては
−CO−基、−COCO−基が挙げられ、G1は単なる
結合手、−O−基、−S−基又は−N(D1)−基を表
し、D1は脂肪族基、芳香族基、複素環基又は水素原子
を表し、分子内に複数のD1が存在する場合、それらは
同じであっても異なってもよい。D0は水素原子、脂肪
族基、芳香族基、複素環基、アミノ基、アルコキシ基、
アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基を
表し、好ましいD0としては水素原子、アルキル基、ア
ルコキシ基、アミノ基等が挙げられる。A1、A2はと
もに水素原子、又は一方が水素原子で他方はアシル基
(アセチル基、トリフルオロアセチル基、ベンゾイル基
等)、スルホニル基(メタンスルホニル基、トルエンス
ルホニル基等)、又はオキザリル基(エトキザリル基
等)を表す。
グ基を表し、好ましくは−G0−D0基であり、G0は
−CO−基、−COCO−基、−CS−基、−C(=N
G1D1)−基、−SO−基、−SO2−基又は−P
(O)(G1D1)−基を表す。好ましいG0としては
−CO−基、−COCO−基が挙げられ、G1は単なる
結合手、−O−基、−S−基又は−N(D1)−基を表
し、D1は脂肪族基、芳香族基、複素環基又は水素原子
を表し、分子内に複数のD1が存在する場合、それらは
同じであっても異なってもよい。D0は水素原子、脂肪
族基、芳香族基、複素環基、アミノ基、アルコキシ基、
アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基を
表し、好ましいD0としては水素原子、アルキル基、ア
ルコキシ基、アミノ基等が挙げられる。A1、A2はと
もに水素原子、又は一方が水素原子で他方はアシル基
(アセチル基、トリフルオロアセチル基、ベンゾイル基
等)、スルホニル基(メタンスルホニル基、トルエンス
ルホニル基等)、又はオキザリル基(エトキザリル基
等)を表す。
【0066】次に一般式〔H〕で表される化合物の具体
例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるもので
はない。
例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるもので
はない。
【0067】
【化2】
【0068】
【化3】
【0069】
【化4】
【0070】
【化5】
【0071】
【化6】
【0072】
【化7】
【0073】その他に好ましく用いることのできるヒド
ラジン誘導体は、米国特許第5,545,505号カラ
ム11〜カラム20に記載の化合物H−1〜H−29、
米国特許第5,464,738号カラム9〜カラム11
に記載の化合物1〜12である。
ラジン誘導体は、米国特許第5,545,505号カラ
ム11〜カラム20に記載の化合物H−1〜H−29、
米国特許第5,464,738号カラム9〜カラム11
に記載の化合物1〜12である。
【0074】これらのヒドラジン誘導体は公知の方法で
合成することができる。ヒドラジン誘導体の添加層は、
ハロゲン化銀乳剤を含む感光層及び/又は感光層に隣接
した層である。また添加量はハロゲン化銀粒子の粒径、
ハロゲン組成、化学増感の程度、抑制剤の種類等により
最適量は一様ではないが、ハロゲン化銀1モル当たり1
0−6モル〜10−1モル程度、特に10−5モル〜1
0−2モルの範囲が好ましい。
合成することができる。ヒドラジン誘導体の添加層は、
ハロゲン化銀乳剤を含む感光層及び/又は感光層に隣接
した層である。また添加量はハロゲン化銀粒子の粒径、
ハロゲン組成、化学増感の程度、抑制剤の種類等により
最適量は一様ではないが、ハロゲン化銀1モル当たり1
0−6モル〜10−1モル程度、特に10−5モル〜1
0−2モルの範囲が好ましい。
【0075】本発明の熱現像感光材料は,例えば米国特
許第3,152,904号、同第3,457,075
号、及びD.モーガン(Morgan)による「ドライ
シルバー写真材料(Dry Silver Photo
graphic Material)」やD.モーガン
(Morgan)とB.シェリー(Shely)による
「熱によって処理される銀システム(Thermall
y ProcessedSilverSystem
s)」(イメージング・プロセッシーズ・アンド・マテ
リアルズ(Imaging Processes an
d Materials)Neblette 第8版、
スタージ(Sturge)、V.ウォールワース(Wa
lworth)、A.シェップ(Shepp)編集、第
2頁、1969年)等に開示されている技術を使用でき
る。その中でも本発明においては、感光材料を80〜1
40℃で熱現像することで画像を形成させ、定着を行わ
ないものが好ましい。
許第3,152,904号、同第3,457,075
号、及びD.モーガン(Morgan)による「ドライ
シルバー写真材料(Dry Silver Photo
graphic Material)」やD.モーガン
(Morgan)とB.シェリー(Shely)による
「熱によって処理される銀システム(Thermall
y ProcessedSilverSystem
s)」(イメージング・プロセッシーズ・アンド・マテ
リアルズ(Imaging Processes an
d Materials)Neblette 第8版、
スタージ(Sturge)、V.ウォールワース(Wa
lworth)、A.シェップ(Shepp)編集、第
2頁、1969年)等に開示されている技術を使用でき
る。その中でも本発明においては、感光材料を80〜1
40℃で熱現像することで画像を形成させ、定着を行わ
ないものが好ましい。
【0076】また本発明の熱現像感光材料には、米国特
許第5,545,505号に記載のヒドロキシルアミン
化合物、アルカノールアミン化合物やフタル酸アンモニ
ウム化合物、米国特許第5,545,507号に記載の
ヒドロキサム酸化合物、米国特許第5,558,983
号に記載のN−アシル−ヒドラジン化合物、米国特許第
5,545,515号に記載のアクリロニトリロ化合
物、米国特許第5,937,449号に記載のベンズヒ
ドロールやジフェニルフォスフィンやジアルキルピペリ
ジンやアルキル−β−ケトエステルなどの水素原子ドナ
ー化合物、などの硬調化促進剤を添加することが好まし
い。その中でも下記一般式(P)で表される4級オニウ
ム化合物及び一般式〔Na〕で表されるアミノ化合物が
好ましく用いられる。
許第5,545,505号に記載のヒドロキシルアミン
化合物、アルカノールアミン化合物やフタル酸アンモニ
ウム化合物、米国特許第5,545,507号に記載の
ヒドロキサム酸化合物、米国特許第5,558,983
号に記載のN−アシル−ヒドラジン化合物、米国特許第
5,545,515号に記載のアクリロニトリロ化合
物、米国特許第5,937,449号に記載のベンズヒ
ドロールやジフェニルフォスフィンやジアルキルピペリ
ジンやアルキル−β−ケトエステルなどの水素原子ドナ
ー化合物、などの硬調化促進剤を添加することが好まし
い。その中でも下記一般式(P)で表される4級オニウ
ム化合物及び一般式〔Na〕で表されるアミノ化合物が
好ましく用いられる。
【0077】
【化8】
【0078】式中、Qは窒素原子又は燐原子を表し、R
1、R2、R3及びR4は各々、水素原子又は置換基を
表し、X−はアニオンを表す。尚、R1〜R4は互いに
連結して環を形成してもよい。
1、R2、R3及びR4は各々、水素原子又は置換基を
表し、X−はアニオンを表す。尚、R1〜R4は互いに
連結して環を形成してもよい。
【0079】
【化9】
【0080】一般式〔Na〕において、R11、R12
及びR13は各々水素原子、アルキル基、置換アルキル
基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基、
アリール基、置換アリール基、又は飽和若しくは不飽和
のヘテロ環を表す。R11、R12及びR13で環を形
成してもよい。特に好ましくは脂肪族の3級アミン化合
物である。これらの化合物は分子中に耐拡散性基又はハ
ロゲン化銀吸着基を有するものが好ましい。耐拡散性を
有するためには分子量100以上の化合物が好ましく、
さらに好ましくは分子量300以上であり、前記一般式
〔H〕におけるA0における耐拡散基と同義のものが挙
げられる。また、好ましい吸着基としては複素環、メル
カプト基、チオエーテル基、チオン基、チオウレア基等
が挙げられる。
及びR13は各々水素原子、アルキル基、置換アルキル
基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基、
アリール基、置換アリール基、又は飽和若しくは不飽和
のヘテロ環を表す。R11、R12及びR13で環を形
成してもよい。特に好ましくは脂肪族の3級アミン化合
物である。これらの化合物は分子中に耐拡散性基又はハ
ロゲン化銀吸着基を有するものが好ましい。耐拡散性を
有するためには分子量100以上の化合物が好ましく、
さらに好ましくは分子量300以上であり、前記一般式
〔H〕におけるA0における耐拡散基と同義のものが挙
げられる。また、好ましい吸着基としては複素環、メル
カプト基、チオエーテル基、チオン基、チオウレア基等
が挙げられる。
【0081】一般式〔Na〕で表される造核促進剤より
更に好ましい造核促進剤として下記一般式〔Na2〕で
表される化合物が挙げられる。
更に好ましい造核促進剤として下記一般式〔Na2〕で
表される化合物が挙げられる。
【0082】
【化10】
【0083】一般式〔Na2〕において、R1、R2、
R3及びR4は、各々水素原子、アルキル基、置換アル
キル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル
基、置換アルキニル基、アリール基、置換アリール基又
は飽和若しくは不飽和のヘテロ環を表す。これらは互い
に連結して環を形成することができる。又、R1と
R 2、R3とR4が同時に水素原子であることはない。
XはS、Se又はTe原子を表す。L1及びL2は各々
2価の連結基を表す。具体的には以下に示す基又はその
組み合わせ及びそれらに適当な置換基(例えばアルキレ
ン基、アルケニレン基、アリーレン基、アシルアミノ
基、スルホンアミド基等)を有する基が挙げられる。
R3及びR4は、各々水素原子、アルキル基、置換アル
キル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル
基、置換アルキニル基、アリール基、置換アリール基又
は飽和若しくは不飽和のヘテロ環を表す。これらは互い
に連結して環を形成することができる。又、R1と
R 2、R3とR4が同時に水素原子であることはない。
XはS、Se又はTe原子を表す。L1及びL2は各々
2価の連結基を表す。具体的には以下に示す基又はその
組み合わせ及びそれらに適当な置換基(例えばアルキレ
ン基、アルケニレン基、アリーレン基、アシルアミノ
基、スルホンアミド基等)を有する基が挙げられる。
【0084】−CH2−、−CH=CH−、−C2H4
−、ピリジンジイル、−N(Z1)−(Z1は水素原
子、アルキル基又はアリール基を表す)、−O−、−S
−、−(CO)−、−(SO2)−、−CH2N−。
又、L1又はL2で表される連結基は、該連結基中に少
なくとも1つ以上の以下の構造を含むことが好ましい。 −〔CH2CH2O〕−、−〔C(CH3)HCH
2O〕−、−〔OC(CH 3)HCH2O〕−、−〔O
CH2C(OH)HCH2〕−。
−、ピリジンジイル、−N(Z1)−(Z1は水素原
子、アルキル基又はアリール基を表す)、−O−、−S
−、−(CO)−、−(SO2)−、−CH2N−。
又、L1又はL2で表される連結基は、該連結基中に少
なくとも1つ以上の以下の構造を含むことが好ましい。 −〔CH2CH2O〕−、−〔C(CH3)HCH
2O〕−、−〔OC(CH 3)HCH2O〕−、−〔O
CH2C(OH)HCH2〕−。
【0085】以下に一般式〔Na〕又は〔Na2〕で表
される造核促進剤の具体例を挙げる。
される造核促進剤の具体例を挙げる。
【0086】
【化11】
【0087】
【化12】
【0088】
【化13】
【0089】
【化14】
【0090】一般式(P)において、R1〜R4で表さ
れる置換基としては、アルキル基(メチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、シクロヘキシ
ル基等)、アルケニル基(アリル基、ブテニル基等)、
アルキニル基(プロパルギル基、ブチニル基等)、アリ
ール基(フェニル基、ナフチル基等)、複素環基(ピペ
リジニル基、ピペラジニル基、モルホリニル基、ピリジ
ル基、フリル基、チエニル基、テトラヒドロフリル基、
テトラヒドロチエニル基、スルホラニル基等)、アミノ
基等が挙げられる。
れる置換基としては、アルキル基(メチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、シクロヘキシ
ル基等)、アルケニル基(アリル基、ブテニル基等)、
アルキニル基(プロパルギル基、ブチニル基等)、アリ
ール基(フェニル基、ナフチル基等)、複素環基(ピペ
リジニル基、ピペラジニル基、モルホリニル基、ピリジ
ル基、フリル基、チエニル基、テトラヒドロフリル基、
テトラヒドロチエニル基、スルホラニル基等)、アミノ
基等が挙げられる。
【0091】R1〜R4が互いに連結して形成しうる環
としては、ピペリジン環、モルホリン環、ピペラジン
環、キヌクリジン環、ピリジン環、ピロール環、イミダ
ゾール環、トリアゾール環、テトラゾール環等が挙げら
れる。R1〜R4で表される基はヒドロキシル基、アル
コキシ基、アリールオキシ基、カルボキシル基、スルホ
基、アルキル基、アリール基等の置換基を有してもよ
い。R1、R2、R3及びR4としては、水素原子及び
アルキル基が好ましい。X−が表すアニオンとしては、
ハロゲンイオン、硫酸イオン、硝酸イオン、酢酸イオ
ン、p−トルエンスルホン酸イオン等の無機及び有機の
アニオンが挙げられる。
としては、ピペリジン環、モルホリン環、ピペラジン
環、キヌクリジン環、ピリジン環、ピロール環、イミダ
ゾール環、トリアゾール環、テトラゾール環等が挙げら
れる。R1〜R4で表される基はヒドロキシル基、アル
コキシ基、アリールオキシ基、カルボキシル基、スルホ
基、アルキル基、アリール基等の置換基を有してもよ
い。R1、R2、R3及びR4としては、水素原子及び
アルキル基が好ましい。X−が表すアニオンとしては、
ハロゲンイオン、硫酸イオン、硝酸イオン、酢酸イオ
ン、p−トルエンスルホン酸イオン等の無機及び有機の
アニオンが挙げられる。
【0092】更に好ましくは下記一般式(Pa)、(P
b)又は(Pc)で表される化合物、及び下記一般式
〔T〕で表される化合物である。
b)又は(Pc)で表される化合物、及び下記一般式
〔T〕で表される化合物である。
【0093】
【化15】
【0094】式中、A1、A2、A3、A4及びA
5は、含窒素複素環を完成させるための非金属原子群を
表し、酸素原子、窒素原子、硫黄原子を含んでもよく、
ベンゼン環が縮合しても構わない。A1、A2、A3、
A4及びA5で構成される複素環は置換基を有してもよ
く、それぞれ同一でも異なっていてもよい。置換基とし
ては、アルキル基、アリール基、アラルキル基、アルケ
ニル基、アルキニル基、ハロゲン原子、アシル基、アル
コキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ス
ルホ基、カルボキシ基、ヒドロキシル基、アルコキシ
基、アリールオキシ基、アミド基、スルファモイル基、
カルバモイル基、ウレイド基、アミノ基、スルホンアミ
ド基、スルホニル基、シアノ基、ニトロ基、メルカプト
基、アルキルチオ基、アリールチオ基を表す。A1、A
2、A3、A4及びA5の好ましい例としては、5〜6
員環(ピリジン、イミダゾール、チオゾール、オキサゾ
ール、ピラジン、ピリミジン等の各環)を挙げることが
でき、更に好ましい例としてピリジン環が挙げられる。
5は、含窒素複素環を完成させるための非金属原子群を
表し、酸素原子、窒素原子、硫黄原子を含んでもよく、
ベンゼン環が縮合しても構わない。A1、A2、A3、
A4及びA5で構成される複素環は置換基を有してもよ
く、それぞれ同一でも異なっていてもよい。置換基とし
ては、アルキル基、アリール基、アラルキル基、アルケ
ニル基、アルキニル基、ハロゲン原子、アシル基、アル
コキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ス
ルホ基、カルボキシ基、ヒドロキシル基、アルコキシ
基、アリールオキシ基、アミド基、スルファモイル基、
カルバモイル基、ウレイド基、アミノ基、スルホンアミ
ド基、スルホニル基、シアノ基、ニトロ基、メルカプト
基、アルキルチオ基、アリールチオ基を表す。A1、A
2、A3、A4及びA5の好ましい例としては、5〜6
員環(ピリジン、イミダゾール、チオゾール、オキサゾ
ール、ピラジン、ピリミジン等の各環)を挙げることが
でき、更に好ましい例としてピリジン環が挙げられる。
【0095】BPは2価の連結基を表し、mは0又は1
を表す。2価の連結基としては、アルキレン基、アリー
レン基、アルケニレン基、−SO2−、−SO−、−O
−、−S−、−CO−、−N(R6)−(R6はアルキ
ル基、アリール基、水素原子を表す)を単独又は組み合
わせて構成されるものを表す。Bpとして好ましくは、
アルキレン基、アルケニレン基を挙げることができる。
を表す。2価の連結基としては、アルキレン基、アリー
レン基、アルケニレン基、−SO2−、−SO−、−O
−、−S−、−CO−、−N(R6)−(R6はアルキ
ル基、アリール基、水素原子を表す)を単独又は組み合
わせて構成されるものを表す。Bpとして好ましくは、
アルキレン基、アルケニレン基を挙げることができる。
【0096】R1、R2及びR5は各々、炭素数1〜2
0のアルキル基を表す。又、R1及びR2は同一でも異
っていてもよい。アルキル基とは、置換或いは無置換の
アルキル基を表し、置換基としては、A1、A2、
A3、A4及びA5の置換基として挙げた置換基と同様
である。
0のアルキル基を表す。又、R1及びR2は同一でも異
っていてもよい。アルキル基とは、置換或いは無置換の
アルキル基を表し、置換基としては、A1、A2、
A3、A4及びA5の置換基として挙げた置換基と同様
である。
【0097】R1、R2及びR5の好ましい例として
は、それぞれ炭素数4〜10のアルキル基である。更に
好ましい例としては、置換或いは無置換のアリール置換
アルキル基が挙げられる。
は、それぞれ炭素数4〜10のアルキル基である。更に
好ましい例としては、置換或いは無置換のアリール置換
アルキル基が挙げられる。
【0098】Xp−は分子全体の電荷を均衡さすに必要
な対イオンを表し、例えば塩素イオン、臭素イオン、沃
素イオン、硝酸イオン、硫酸イオン、p−トルエンスル
ホナート、オキザラート等を表す。npは分子全体の電
荷を均衡さすに必要な対イオンの数を表し、分子内塩の
場合にはnpは0である。
な対イオンを表し、例えば塩素イオン、臭素イオン、沃
素イオン、硝酸イオン、硫酸イオン、p−トルエンスル
ホナート、オキザラート等を表す。npは分子全体の電
荷を均衡さすに必要な対イオンの数を表し、分子内塩の
場合にはnpは0である。
【0099】
【化16】
【0100】上記一般式〔T〕で表されるトリフェニル
テトラゾリウム化合物のフェニル基の置換基R5、
R6、R7は水素原子もしくは電子吸引性度を示すハメ
ットのシグマ値(σP)が負のものが好ましい。
テトラゾリウム化合物のフェニル基の置換基R5、
R6、R7は水素原子もしくは電子吸引性度を示すハメ
ットのシグマ値(σP)が負のものが好ましい。
【0101】フェニル基におけるハメットのシグマ値は
多くの文献、例えばジャーナル・オブ・メディカルケミ
ストリー(Journal of Medical C
hemistry)20巻、304頁、1977年記載
のC.ハンシュ(C.Hansch)等の報文等に見る
ことが出来、特に好ましい負のシグマ値を有する基とし
ては、例えばメチル基(σP=−0.17以下何れもσ
P値)、エチル基(−0.15)、シクロプロピル基
(−0.21)、n−プロピル基(−0.13)、is
o−プロピル基(−0.15)、シクロブチル基(−
0.15)、n−ブチル基(−0.16)、iso−ブ
チル基(−0.20)、n−ペンチル基(−0.1
5)、シクロヘキシル基(−0.22)、アミノ基(−
0.66)、アセチルアミノ基(−0.15)、ヒドロ
キシル基(−0.37)、メトキシ基(−0.27)、
エトキシ基(−0.24)、プロポキシ基(−0.2
5)、ブトキシ基(−0.32)、ペントキシ基(−
0.34)等が挙げられ、これらは何れも一般式〔T〕
の化合物の置換基として有用である。
多くの文献、例えばジャーナル・オブ・メディカルケミ
ストリー(Journal of Medical C
hemistry)20巻、304頁、1977年記載
のC.ハンシュ(C.Hansch)等の報文等に見る
ことが出来、特に好ましい負のシグマ値を有する基とし
ては、例えばメチル基(σP=−0.17以下何れもσ
P値)、エチル基(−0.15)、シクロプロピル基
(−0.21)、n−プロピル基(−0.13)、is
o−プロピル基(−0.15)、シクロブチル基(−
0.15)、n−ブチル基(−0.16)、iso−ブ
チル基(−0.20)、n−ペンチル基(−0.1
5)、シクロヘキシル基(−0.22)、アミノ基(−
0.66)、アセチルアミノ基(−0.15)、ヒドロ
キシル基(−0.37)、メトキシ基(−0.27)、
エトキシ基(−0.24)、プロポキシ基(−0.2
5)、ブトキシ基(−0.32)、ペントキシ基(−
0.34)等が挙げられ、これらは何れも一般式〔T〕
の化合物の置換基として有用である。
【0102】nは1或いは2を表し、XTn−で表され
るアニオンとしては、例えば塩化物イオン、臭化物イオ
ン、ヨウ化物イオン等のハロゲンイオン、硝酸、硫酸、
過塩素酸等の無機酸の酸根、スルホン酸、カルボン酸等
の有機酸の酸根、アニオン系の活性剤、具体的にはp−
トルエンスルホン酸アニオン等の低級アルキルベンゼン
スルホン酸アニオン、p−ドデシルベンゼンスルホン酸
アニオン等の高級アルキルベンゼンスルホン酸アニオ
ン、ラウリルスルフェートアニオン等の高級アルキル硫
酸エステルアニオン、テトラフェニルボロン等の硼酸系
アニオン、ジ−2−エチルヘキシルスルホサクシネート
アニオン等のジアルキルスルホサクシネートアニオン、
セチルポリエテノキシサルフェートアニオン等の高級脂
肪酸アニオン、ポリアクリル酸アニオン等のポリマーに
酸根のついたもの等を挙げることができる。
るアニオンとしては、例えば塩化物イオン、臭化物イオ
ン、ヨウ化物イオン等のハロゲンイオン、硝酸、硫酸、
過塩素酸等の無機酸の酸根、スルホン酸、カルボン酸等
の有機酸の酸根、アニオン系の活性剤、具体的にはp−
トルエンスルホン酸アニオン等の低級アルキルベンゼン
スルホン酸アニオン、p−ドデシルベンゼンスルホン酸
アニオン等の高級アルキルベンゼンスルホン酸アニオ
ン、ラウリルスルフェートアニオン等の高級アルキル硫
酸エステルアニオン、テトラフェニルボロン等の硼酸系
アニオン、ジ−2−エチルヘキシルスルホサクシネート
アニオン等のジアルキルスルホサクシネートアニオン、
セチルポリエテノキシサルフェートアニオン等の高級脂
肪酸アニオン、ポリアクリル酸アニオン等のポリマーに
酸根のついたもの等を挙げることができる。
【0103】以下、4級オニウム化合物の具体例を下記
に挙げるが、これらに限定されるものではない。
に挙げるが、これらに限定されるものではない。
【0104】
【化17】
【0105】
【化18】
【0106】
【化19】
【0107】
【化20】
【0108】
【化21】
【0109】
【化22】
【0110】
【化23】
【0111】
【化24】
【0112】
【化25】
【0113】
【化26】
【0114】上記4級オニウム化合物は公知の方法に従
って容易に合成でき、例えば上記テトラゾリウム化合物
は Chemical Reviews 55 p.3
35〜483に記載の方法を参考にできる。
って容易に合成でき、例えば上記テトラゾリウム化合物
は Chemical Reviews 55 p.3
35〜483に記載の方法を参考にできる。
【0115】これら4級オニウム化合物の添加量は、ハ
ロゲン化銀1モル当たり1×10− 8〜1モル程度、好
ましくは1×10−7〜1×10−1モルである。これ
らはハロゲン化銀粒子形成時から塗布までの任意の時期
に感光材料中に添加できる。
ロゲン化銀1モル当たり1×10− 8〜1モル程度、好
ましくは1×10−7〜1×10−1モルである。これ
らはハロゲン化銀粒子形成時から塗布までの任意の時期
に感光材料中に添加できる。
【0116】4級オニウム化合物及びアミノ化合物は、
単独で用いても2種以上を適宜併用して用いてもよい。
また感光材料の構成層中のいかなる層に添加してもよい
が、好ましくは感光層を有する側の構成層の少なくとも
1層、更には感光層及び/又はその隣接層に添加する。
単独で用いても2種以上を適宜併用して用いてもよい。
また感光材料の構成層中のいかなる層に添加してもよい
が、好ましくは感光層を有する側の構成層の少なくとも
1層、更には感光層及び/又はその隣接層に添加する。
【0117】本発明の熱現像感光材料に好適なバインダ
ーは透明又は半透明で、一般に無色であり、天然ポリマ
ー合成樹脂やポリマー及びコポリマー、その他フィルム
を形成する媒体、例えば:ゼラチン、アラビアゴム、ポ
リ(ビニルアルコール)、ヒドロキシエチルセルロー
ス、セルロースアセテート、セルロースアセテートブチ
レート、ポリ(ビニルピロリドン)、カゼイン、デンプ
ン、ポリ(アクリル酸)、ポリ(メチルメタクリル
酸)、ポリ(塩化ビニル)、ポリ(メタクリル酸)、コ
ポリ(スチレン−無水マレイン酸)、コポリ(スチレン
−アクリロニトリル)、コポリ(スチレン−ブタジエ
ン)、ポリ(ビニルアセタール)類(例えば、ポリ(ビ
ニルホルマール)及びポリ(ビニルブチラール))、ポ
リ(エステル)類、ポリ(ウレタン)類、フェノキシ樹
脂、ポリ(塩化ビニリデン)、ポリ(エポキシド)類、
ポリ(カーボネート)類、ポリ(ビニルアセテート)、
セルロースエステル類、ポリ(アミド)類がある。
ーは透明又は半透明で、一般に無色であり、天然ポリマ
ー合成樹脂やポリマー及びコポリマー、その他フィルム
を形成する媒体、例えば:ゼラチン、アラビアゴム、ポ
リ(ビニルアルコール)、ヒドロキシエチルセルロー
ス、セルロースアセテート、セルロースアセテートブチ
レート、ポリ(ビニルピロリドン)、カゼイン、デンプ
ン、ポリ(アクリル酸)、ポリ(メチルメタクリル
酸)、ポリ(塩化ビニル)、ポリ(メタクリル酸)、コ
ポリ(スチレン−無水マレイン酸)、コポリ(スチレン
−アクリロニトリル)、コポリ(スチレン−ブタジエ
ン)、ポリ(ビニルアセタール)類(例えば、ポリ(ビ
ニルホルマール)及びポリ(ビニルブチラール))、ポ
リ(エステル)類、ポリ(ウレタン)類、フェノキシ樹
脂、ポリ(塩化ビニリデン)、ポリ(エポキシド)類、
ポリ(カーボネート)類、ポリ(ビニルアセテート)、
セルロースエステル類、ポリ(アミド)類がある。
【0118】親水性でも疎水性でもよいが、本発明にお
いては、熱現像後のカブリを低減させるために、疎水性
透明バインダーを使用することが好ましい。好ましいバ
インダーとしては、ポリビニルブチラール、セルロース
アセテート、セルロースアセテートブチレート、ポリエ
ステル、ポリカーボネート、ポリアクリル酸、ポリウレ
タンなどがあげられる。その中でもポリビニルブチラー
ル、セルロースアセテート、セルロースアセテートブチ
レートは特に好ましく用いられる。
いては、熱現像後のカブリを低減させるために、疎水性
透明バインダーを使用することが好ましい。好ましいバ
インダーとしては、ポリビニルブチラール、セルロース
アセテート、セルロースアセテートブチレート、ポリエ
ステル、ポリカーボネート、ポリアクリル酸、ポリウレ
タンなどがあげられる。その中でもポリビニルブチラー
ル、セルロースアセテート、セルロースアセテートブチ
レートは特に好ましく用いられる。
【0119】感光材料の表面を保護したり擦り傷を防止
するために、感光層の外側に非感光層を有することがで
きる。これらの非感光層に用いられるバインダーは感光
層に用いられるバインダーと同じ種類でも異なった種類
でもよい。通常は擦り傷や相の変形等を防止するために
熱現像感光層を構成するバインダーポリマーよりも軟化
点の高いポリマーが用いられ、セルロースアセテート、
セルロースアセテートブチレート等がこの目的にかなっ
ている。
するために、感光層の外側に非感光層を有することがで
きる。これらの非感光層に用いられるバインダーは感光
層に用いられるバインダーと同じ種類でも異なった種類
でもよい。通常は擦り傷や相の変形等を防止するために
熱現像感光層を構成するバインダーポリマーよりも軟化
点の高いポリマーが用いられ、セルロースアセテート、
セルロースアセテートブチレート等がこの目的にかなっ
ている。
【0120】本発明においては、熱現像の速度を速める
ために感光性層のバインダー量が1.5〜10g/m2
であることが好ましい。さらに好ましくは1.7〜8g
/m 2である。1.5g/m2未満では未露光部の濃度
が大幅に上昇し、使用に耐えない場合がある。
ために感光性層のバインダー量が1.5〜10g/m2
であることが好ましい。さらに好ましくは1.7〜8g
/m 2である。1.5g/m2未満では未露光部の濃度
が大幅に上昇し、使用に耐えない場合がある。
【0121】本発明においては、感光層側にマット剤を
含有することが好ましく、熱現像後の画像の傷つき防止
のためには、感光材料の表面にマット剤を配することが
好ましく、そのマット剤を感光層側の全バインダーに対
し、重量比で0.5〜30%含有することが好ましい。
また、支持体をはさみ感光層の反対側に非感光層を設け
る場合は、非感光層側の少なくとも1層中にマット剤を
含有することが好ましく、感光材料のすべり性や指紋付
着防止のためにも感光材料の表面にマット剤を配するこ
とが好ましく、そのマット剤を感光層側の反対側の層の
全バインダーに対し、重量比で0.5〜40%含有する
ことが好ましい。マット剤の形状は、定形、不定形どち
らでも良いが、好ましくは定形で、球形が好ましく用い
られる。
含有することが好ましく、熱現像後の画像の傷つき防止
のためには、感光材料の表面にマット剤を配することが
好ましく、そのマット剤を感光層側の全バインダーに対
し、重量比で0.5〜30%含有することが好ましい。
また、支持体をはさみ感光層の反対側に非感光層を設け
る場合は、非感光層側の少なくとも1層中にマット剤を
含有することが好ましく、感光材料のすべり性や指紋付
着防止のためにも感光材料の表面にマット剤を配するこ
とが好ましく、そのマット剤を感光層側の反対側の層の
全バインダーに対し、重量比で0.5〜40%含有する
ことが好ましい。マット剤の形状は、定形、不定形どち
らでも良いが、好ましくは定形で、球形が好ましく用い
られる。
【0122】本発明の熱現像感光材料は支持体上に少な
くとも一層の感光層を有している。支持体の上に感光層
のみを形成しても良いが、感光層の上に少なくとも1層
の非感光層を形成することが好ましい。感光層を通過す
る光の量又は波長分布を制御するために感光層と同じ側
にフィルター染料層および/又は反対側にアンチハレー
ション染料層、いわゆるバッキング層を形成しても良い
し、感光層に染料又は顔料を含ませても良い。
くとも一層の感光層を有している。支持体の上に感光層
のみを形成しても良いが、感光層の上に少なくとも1層
の非感光層を形成することが好ましい。感光層を通過す
る光の量又は波長分布を制御するために感光層と同じ側
にフィルター染料層および/又は反対側にアンチハレー
ション染料層、いわゆるバッキング層を形成しても良い
し、感光層に染料又は顔料を含ませても良い。
【0123】これらの非感光性層には前記のバインダー
やマット剤を含有することが好ましく、さらにポリシロ
キサン化合物やワックスや流動パラフィンのようなスベ
リ剤を含有してもよい。
やマット剤を含有することが好ましく、さらにポリシロ
キサン化合物やワックスや流動パラフィンのようなスベ
リ剤を含有してもよい。
【0124】また、本発明の熱現像感光材料には、塗布
助剤として各種の界面活性剤が用いられる。その中でも
フッ素系界面活性剤が、帯電特性を改良したり、斑点状
の塗布故障を防ぐために好ましく用いられる。
助剤として各種の界面活性剤が用いられる。その中でも
フッ素系界面活性剤が、帯電特性を改良したり、斑点状
の塗布故障を防ぐために好ましく用いられる。
【0125】感光層は複数層にしても良く、また階調の
調節のため感度を高感度層/低感度層又は低感度層/高
感度層にしても良い。本発明に用いられる好適な色調剤
の例はRD17029号に開示されている。
調節のため感度を高感度層/低感度層又は低感度層/高
感度層にしても良い。本発明に用いられる好適な色調剤
の例はRD17029号に開示されている。
【0126】本発明の熱現像感光材料には現像を抑制あ
るいは促進させ現像を制御するため、分光増感効率を向
上させるため、現像前後の保存性を向上させるためなど
の目的でメルカプト化合物、ジスルフィド化合物、チオ
ン化合物等を含有させることができる。
るいは促進させ現像を制御するため、分光増感効率を向
上させるため、現像前後の保存性を向上させるためなど
の目的でメルカプト化合物、ジスルフィド化合物、チオ
ン化合物等を含有させることができる。
【0127】本発明の熱現像感光材料中にはかぶり防止
剤が含まれて良い。各種の添加剤は感光層、非感光層、
又はその他の構成層のいずれに添加しても良い。本発明
の熱現像感光材料には例えば、種々の界面活性剤、酸化
防止剤、安定化剤、可塑剤、紫外線吸収剤、被覆助剤等
を用いても良い。これらの添加剤及び上述したその他の
添加剤はRD17029(1978年6月p.9〜1
5)に記載されている化合物を好ましく用いることがで
きる。
剤が含まれて良い。各種の添加剤は感光層、非感光層、
又はその他の構成層のいずれに添加しても良い。本発明
の熱現像感光材料には例えば、種々の界面活性剤、酸化
防止剤、安定化剤、可塑剤、紫外線吸収剤、被覆助剤等
を用いても良い。これらの添加剤及び上述したその他の
添加剤はRD17029(1978年6月p.9〜1
5)に記載されている化合物を好ましく用いることがで
きる。
【0128】次に本発明における熱現像画像形成方法に
ついて説明する。本発明の熱現像感光材料は、熱現像機
で熱現像されることが好ましい。熱現像感光材料は、熱
現像部の温度バラツキの影響を受け易く、現像ムラが出
易い。そのため特開平9−297384号、同9−29
7385号、同9−297386号に開示されているよ
うにヒートドラム方式の自動熱現像機や、WO98/2
7458号に開示されているような平面搬送型の自動熱
現像機を用いられる。特に印刷製版用の用途に用いる熱
現像感光材料は、寸法安定性を良好にするために平面搬
送型の自動熱現像機で処理されることが好ましい。また
熱現像部の前にプレヒート部を有しており、プレヒート
の温度は80〜120℃である自動熱現像機が好ましく
用いられる。プレヒートにより現像が進み、濃度ムラが
少なくなるので走査ムラにも効果的である。さらに特開
平11−133572号に記載されているような固定さ
れた加熱体に感光材料の一方の面に接触し、感光材料の
他方の面を複数のローラーで加熱体に押さえつけながら
感光材料を搬送する装置を用いて熱現像処理することも
好ましい。
ついて説明する。本発明の熱現像感光材料は、熱現像機
で熱現像されることが好ましい。熱現像感光材料は、熱
現像部の温度バラツキの影響を受け易く、現像ムラが出
易い。そのため特開平9−297384号、同9−29
7385号、同9−297386号に開示されているよ
うにヒートドラム方式の自動熱現像機や、WO98/2
7458号に開示されているような平面搬送型の自動熱
現像機を用いられる。特に印刷製版用の用途に用いる熱
現像感光材料は、寸法安定性を良好にするために平面搬
送型の自動熱現像機で処理されることが好ましい。また
熱現像部の前にプレヒート部を有しており、プレヒート
の温度は80〜120℃である自動熱現像機が好ましく
用いられる。プレヒートにより現像が進み、濃度ムラが
少なくなるので走査ムラにも効果的である。さらに特開
平11−133572号に記載されているような固定さ
れた加熱体に感光材料の一方の面に接触し、感光材料の
他方の面を複数のローラーで加熱体に押さえつけながら
感光材料を搬送する装置を用いて熱現像処理することも
好ましい。
【0129】本発明における熱現像画像形成方法の一つ
は、熱現像感光材料との搬送媒体との圧力が0.1kg
f/cm2〜10kgf/cm2であれば特に限定される
ものではない。ここでいう搬送媒体とは,搬送および熱
現像に使用するロール,ベルト等を指す。熱現像感光材
料との搬送媒体との圧力が10kgf/cm2を越える
と、熱現像時に感光材料の変形が起こったり、変形が起
こらなくても圧力によって支持体が伸縮され、その結果
寸法変化が大きくなり好ましくない。また0.1kgf
/cm2より小さいと熱現像効率が悪く、熱現像時間と
が長くなり好ましくない。したがって熱現像感光材料と
の搬送媒体との圧力は0.1kgf/cm2〜5kgf
/cm2であることが好ましい。
は、熱現像感光材料との搬送媒体との圧力が0.1kg
f/cm2〜10kgf/cm2であれば特に限定される
ものではない。ここでいう搬送媒体とは,搬送および熱
現像に使用するロール,ベルト等を指す。熱現像感光材
料との搬送媒体との圧力が10kgf/cm2を越える
と、熱現像時に感光材料の変形が起こったり、変形が起
こらなくても圧力によって支持体が伸縮され、その結果
寸法変化が大きくなり好ましくない。また0.1kgf
/cm2より小さいと熱現像効率が悪く、熱現像時間と
が長くなり好ましくない。したがって熱現像感光材料と
の搬送媒体との圧力は0.1kgf/cm2〜5kgf
/cm2であることが好ましい。
【0130】搬送媒体との圧力を上記範囲内にするため
に、搬送ロールやベルトでの回転数やトルク、表面の材
質、形状を工夫することで達成可能である。
に、搬送ロールやベルトでの回転数やトルク、表面の材
質、形状を工夫することで達成可能である。
【0131】搬送ロールやベルトの回転数で制御する方
法では、搬送不良が起こらない範囲で回転数やトルクを
熱現像感光材料に加え、さらに熱現像感光材料とのギャ
ップやラインスピード等をある範囲に設定することが必
要である。上記のような熱現像装置での張力や搬送媒体
との圧力に設定するためには、ラインスピードを126
0mm/min〜3000mm/minにすることが好ましい。12
60mm/min以下では現像ムラになり、3000mm/minを
超えると感光材料が熱現像部で軟化しており搬送不良が
多発してしまうので好ましくない。また搬送媒体との圧
力は搬送ローラーに接続してあるニップのバネ強度によ
って調節することができる。
法では、搬送不良が起こらない範囲で回転数やトルクを
熱現像感光材料に加え、さらに熱現像感光材料とのギャ
ップやラインスピード等をある範囲に設定することが必
要である。上記のような熱現像装置での張力や搬送媒体
との圧力に設定するためには、ラインスピードを126
0mm/min〜3000mm/minにすることが好ましい。12
60mm/min以下では現像ムラになり、3000mm/minを
超えると感光材料が熱現像部で軟化しており搬送不良が
多発してしまうので好ましくない。また搬送媒体との圧
力は搬送ローラーに接続してあるニップのバネ強度によ
って調節することができる。
【0132】このような感光材料と搬送媒体との圧力の
測定には,富士写真フィルム社製のプレスケールを熱現
像機に通すことで測定することができる。
測定には,富士写真フィルム社製のプレスケールを熱現
像機に通すことで測定することができる。
【0133】本発明における熱現像画像形成方法は、熱
現像部にプレヒート部を設けることが好ましい。これは
熱現像前に予め感光材料を予熱する事で熱現像時の熱ム
ラおよび寸法変化を改善することができる。このプレヒ
ート部の温度は支持体の40℃〜100℃の温度で処理
することが好ましい。プレヒート部を通過する時間は3
秒以上90秒以下が好ましく、5秒以上30秒以下がよ
り好ましい。通過する時間が長すぎると作業効率が落ち
るため,通過する時間は短いほど好ましいが、加熱部材
やエネルギーコストを考えると前記処理時間が妥当であ
る。
現像部にプレヒート部を設けることが好ましい。これは
熱現像前に予め感光材料を予熱する事で熱現像時の熱ム
ラおよび寸法変化を改善することができる。このプレヒ
ート部の温度は支持体の40℃〜100℃の温度で処理
することが好ましい。プレヒート部を通過する時間は3
秒以上90秒以下が好ましく、5秒以上30秒以下がよ
り好ましい。通過する時間が長すぎると作業効率が落ち
るため,通過する時間は短いほど好ましいが、加熱部材
やエネルギーコストを考えると前記処理時間が妥当であ
る。
【0134】本発明における熱現像画像形成方法のもう
一つは、熱現像機に配置されている搬送媒体表面のマッ
ト度が120℃において200mmHg以上であること
であり、この範囲にある搬送媒体であれば、特に限定す
るものでない、120℃における搬送媒体のマット度が
200mmHgより小さいと熱現像感光材料と熱せられ
た搬送媒体が必要以上に接触し、その結果、熱現像時に
感光材料の変形が起こったり,変形が起こらなくても圧
力によって支持体が伸縮され、その結果寸法変化が大き
くなる。したがって、搬送媒体のマット度が120℃に
おいて200mmHg以上であることが好ましい。
一つは、熱現像機に配置されている搬送媒体表面のマッ
ト度が120℃において200mmHg以上であること
であり、この範囲にある搬送媒体であれば、特に限定す
るものでない、120℃における搬送媒体のマット度が
200mmHgより小さいと熱現像感光材料と熱せられ
た搬送媒体が必要以上に接触し、その結果、熱現像時に
感光材料の変形が起こったり,変形が起こらなくても圧
力によって支持体が伸縮され、その結果寸法変化が大き
くなる。したがって、搬送媒体のマット度が120℃に
おいて200mmHg以上であることが好ましい。
【0135】熱現像機に配置されている搬送媒体表面の
マット度を上記範囲にするためには、以下のようなロー
ル表面の材質や加工を工夫する方法が挙げられる。 (1)金属ロールのような表面の凹凸が少ない材質の場
合、表面に粗さを付与することや、滑剤(シリカやカ−
ボンブラックや架橋ポリマ−の微粒子やガラス繊維やポ
リエステルやナイロン等の繊維等)を添加する。(2)
エンボス加工により表面に凹凸を付与する。(3)ゴム
によるベルトのような表面に凹凸がある場合は、有機あ
るいは無機微粒子(例えば架橋ポリスチレン、架橋ポリ
メチルメタクリレ−ト等のポリマ−ビ−ズやシリカ、ア
ルミナ等の無機酸化物)を配合して滑り性を良くする方
法がよい。これらの量は搬送不良を起こさない程度に添
加、配合することができる。
マット度を上記範囲にするためには、以下のようなロー
ル表面の材質や加工を工夫する方法が挙げられる。 (1)金属ロールのような表面の凹凸が少ない材質の場
合、表面に粗さを付与することや、滑剤(シリカやカ−
ボンブラックや架橋ポリマ−の微粒子やガラス繊維やポ
リエステルやナイロン等の繊維等)を添加する。(2)
エンボス加工により表面に凹凸を付与する。(3)ゴム
によるベルトのような表面に凹凸がある場合は、有機あ
るいは無機微粒子(例えば架橋ポリスチレン、架橋ポリ
メチルメタクリレ−ト等のポリマ−ビ−ズやシリカ、ア
ルミナ等の無機酸化物)を配合して滑り性を良くする方
法がよい。これらの量は搬送不良を起こさない程度に添
加、配合することができる。
【0136】搬送媒体表面のマット度は、23℃55%
RHの雰囲気下で、搬送媒体表面に使用している材料に
減圧できる金属製の筒を置き、ポンプを用いて強制的に
減圧を行い、平衡状態になる真空度とした。
RHの雰囲気下で、搬送媒体表面に使用している材料に
減圧できる金属製の筒を置き、ポンプを用いて強制的に
減圧を行い、平衡状態になる真空度とした。
【0137】また上記のように処理した搬送媒体の表面
の材料は、熱現像の温度ムラを防止することから、熱伝
導率が0.2W/m・K〜1.0W/m・Kであること
が好ましい。また高温で処理されることから、静電気防
止として導電率は100〜1012Ωの範囲であることが
好ましく、100〜108Ωの範囲であることが特に好ま
しい。
の材料は、熱現像の温度ムラを防止することから、熱伝
導率が0.2W/m・K〜1.0W/m・Kであること
が好ましい。また高温で処理されることから、静電気防
止として導電率は100〜1012Ωの範囲であることが
好ましく、100〜108Ωの範囲であることが特に好ま
しい。
【0138】さらに熱現像機に配置されている搬送媒体
表面のマット度の効果は、熱現像される感光材料を以下
に示す物性を満足させることで、より効果が向上する。 (A)マット度が35mmHg以上200mmHg以
下、(B)動摩擦係数が0.50以下、(C)押し込み
硬さが15以上。
表面のマット度の効果は、熱現像される感光材料を以下
に示す物性を満足させることで、より効果が向上する。 (A)マット度が35mmHg以上200mmHg以
下、(B)動摩擦係数が0.50以下、(C)押し込み
硬さが15以上。
【0139】この熱現感光材料の物性は画像形成面、バ
ッキング面のどちらの面も上記物性を有していることが
必要である。(A)を達成するためには、バインダーに
マット剤を添加することが好ましい。マット剤の量は添
加する層の全バインダーに対し、重量比で0.5〜30
%含有することが好ましい。またマット剤の材質は、有
機物及び無機物のいずれでもよい。例えば、無機物とし
ては、スイス特許第330,158号等に記載のシリ
カ、仏国特許第1,296,995号等に記載のガラス
粉、英国特許第1,173,181号等に記載のアルカ
リ土類金属又はカドミウム、亜鉛等の炭酸塩、等をマッ
ト剤として用いることができる。有機物としては、米国
特許第2,322,037号等に記載の澱粉、ベルギー
特許第625,451号や英国特許第981,198号
等に記載された澱粉誘導体、特公昭44−3643号等
に記載のポリビニルアルコール、スイス特許第330,
158号等に記載のポリスチレン或いはポリメタアクリ
レート、米国特許第3,079,257号等に記載のポ
リアクリロニトリル、米国特許第3,022,169号
等に記載されたポリカーボネートの様な有機マット剤を
用いることができる。
ッキング面のどちらの面も上記物性を有していることが
必要である。(A)を達成するためには、バインダーに
マット剤を添加することが好ましい。マット剤の量は添
加する層の全バインダーに対し、重量比で0.5〜30
%含有することが好ましい。またマット剤の材質は、有
機物及び無機物のいずれでもよい。例えば、無機物とし
ては、スイス特許第330,158号等に記載のシリ
カ、仏国特許第1,296,995号等に記載のガラス
粉、英国特許第1,173,181号等に記載のアルカ
リ土類金属又はカドミウム、亜鉛等の炭酸塩、等をマッ
ト剤として用いることができる。有機物としては、米国
特許第2,322,037号等に記載の澱粉、ベルギー
特許第625,451号や英国特許第981,198号
等に記載された澱粉誘導体、特公昭44−3643号等
に記載のポリビニルアルコール、スイス特許第330,
158号等に記載のポリスチレン或いはポリメタアクリ
レート、米国特許第3,079,257号等に記載のポ
リアクリロニトリル、米国特許第3,022,169号
等に記載されたポリカーボネートの様な有機マット剤を
用いることができる。
【0140】マット剤の形状は、定形、不定形どちらで
も良いが、好ましくは定形で、球形が好ましく用いられ
る。マット剤の粒径は0.5μm〜10μmであること
が好ましく、更に好ましくは1.0μm〜8.0μmで
ある。又、粒子サイズ分布の変動係数としては、50%
以下であることが好ましく、更に好ましくは40%以下
であり、特に好ましくは30%以下となるマット剤であ
る。マット剤の添加方法は、予め塗布液中に分散させて
塗布する方法であってもよいし、塗布液を塗布した後、
乾燥が終了する以前にマット剤を噴霧する方法を用いて
もよい。また複数の種類のマット剤を添加する場合は、
両方の方法を併用してもよい。
も良いが、好ましくは定形で、球形が好ましく用いられ
る。マット剤の粒径は0.5μm〜10μmであること
が好ましく、更に好ましくは1.0μm〜8.0μmで
ある。又、粒子サイズ分布の変動係数としては、50%
以下であることが好ましく、更に好ましくは40%以下
であり、特に好ましくは30%以下となるマット剤であ
る。マット剤の添加方法は、予め塗布液中に分散させて
塗布する方法であってもよいし、塗布液を塗布した後、
乾燥が終了する以前にマット剤を噴霧する方法を用いて
もよい。また複数の種類のマット剤を添加する場合は、
両方の方法を併用してもよい。
【0141】熱現像される感光材料のマット度は、23
℃55%RHの雰囲気下で2時間調湿し、測定する面に
減圧できる金属製の筒を置き、ポンプを用いて強制的に
減圧を行い、平衡状態になる真空度とした。
℃55%RHの雰囲気下で2時間調湿し、測定する面に
減圧できる金属製の筒を置き、ポンプを用いて強制的に
減圧を行い、平衡状態になる真空度とした。
【0142】(B)を達成するためにはバインダーに易
滑剤を添加することが好ましい、易滑剤としては以下の
ようなものが挙げられる。
滑剤を添加することが好ましい、易滑剤としては以下の
ようなものが挙げられる。
【0143】米国特許3042522号、英国特許95
5061号、米国特許3080317号、同40049
27号、同4047958号、同3489567号、英
国特許1143118号等に記載のシリコーン系すべり
剤、米国特許2454043号、同2732305号、
同2976148号、同3206311号、独国特許1
284295号、同1284294号などに記載の高級
脂肪酸系、アルコール系、酸アミド系すべり剤、英国特
許1263722号、米国特許3933516号などに
記載の金属石けん、米国特許2588765号、同31
21060号、英国特許1198387号に記載のエス
テル系、エーテル系すべり剤等が挙げられる。
5061号、米国特許3080317号、同40049
27号、同4047958号、同3489567号、英
国特許1143118号等に記載のシリコーン系すべり
剤、米国特許2454043号、同2732305号、
同2976148号、同3206311号、独国特許1
284295号、同1284294号などに記載の高級
脂肪酸系、アルコール系、酸アミド系すべり剤、英国特
許1263722号、米国特許3933516号などに
記載の金属石けん、米国特許2588765号、同31
21060号、英国特許1198387号に記載のエス
テル系、エーテル系すべり剤等が挙げられる。
【0144】熱現像される感光材料の動摩擦係数は、2
3℃55%RHの雰囲気下で2時間調湿し、熱現像機に
配置されている搬送媒体表面に使用される材料と感光材
料の画像形成面またはバッキング面との摩擦係数を測定
したものである。実際には感光材料を平滑な台に張り付
けて固定し、その上に搬送媒体表面に使用される材料と
200gの重りを載せ、搬送媒体表面に使用される材料
を一定速度で引いたときの荷重を測定し、動摩擦係数を
求めた。
3℃55%RHの雰囲気下で2時間調湿し、熱現像機に
配置されている搬送媒体表面に使用される材料と感光材
料の画像形成面またはバッキング面との摩擦係数を測定
したものである。実際には感光材料を平滑な台に張り付
けて固定し、その上に搬送媒体表面に使用される材料と
200gの重りを載せ、搬送媒体表面に使用される材料
を一定速度で引いたときの荷重を測定し、動摩擦係数を
求めた。
【0145】(C)を達成するためには特に制約はない
が、Tgの高いバインダーを使用することが好ましく、
さらに好ましくは、これらのバインダーを塗布した後、
被膜を熱処理したものが特に好ましい。Tgの高いバイ
ンダーとしてはポリビニルブチラール、セルロースアセ
テート、セルロースアセテートブチレート、ポリエステ
ル、ポリカーボネート、アクリル樹脂、ポリウレタンな
どがあげられる。その中でもポリビニルブチラール、セ
ルロースアセテート、セルロースアセテートブチレート
は特に好ましい。また熱処理としては40〜120℃で
行うと好ましく、特に好ましくは60〜100℃であ
る。
が、Tgの高いバインダーを使用することが好ましく、
さらに好ましくは、これらのバインダーを塗布した後、
被膜を熱処理したものが特に好ましい。Tgの高いバイ
ンダーとしてはポリビニルブチラール、セルロースアセ
テート、セルロースアセテートブチレート、ポリエステ
ル、ポリカーボネート、アクリル樹脂、ポリウレタンな
どがあげられる。その中でもポリビニルブチラール、セ
ルロースアセテート、セルロースアセテートブチレート
は特に好ましい。また熱処理としては40〜120℃で
行うと好ましく、特に好ましくは60〜100℃であ
る。
【0146】また押し込み硬さとは、アカシ社製の微小
表面材料特性評価システムMZT−3を用いて23℃5
5%RHの雰囲気下で、以下の条件で測定したときの押
し込み硬さの値である.押し込み硬さは以下の式で算出
される。 押し込み硬さ=2.972×試験荷重/(最大押し込み
深さ)2 測定条件:圧子押し込みモード、押し込み荷重3gf、
負荷速度3gf/sec、保持時間30sec、除荷時
間1sec。
表面材料特性評価システムMZT−3を用いて23℃5
5%RHの雰囲気下で、以下の条件で測定したときの押
し込み硬さの値である.押し込み硬さは以下の式で算出
される。 押し込み硬さ=2.972×試験荷重/(最大押し込み
深さ)2 測定条件:圧子押し込みモード、押し込み荷重3gf、
負荷速度3gf/sec、保持時間30sec、除荷時
間1sec。
【0147】
【実施例】以下、本発明を実施例により具体的に説明す
るが、本発明はこれにより限定されるものではない。 実施例1 [写真用支持体の作製]以下のようにしてPET樹脂を
得た。 (PET樹脂)テレフタル酸ジメチル100重量部、エ
チレングリコール65重量部にエステル交換触媒として
酢酸マグネシウム水和物0.05重量部を添加し、常法
に従ってエステル交換を行った。得られた生成物に、三
酸化アンチモン0.05重量部、リン酸トリメチルエス
テル0.03重量部を添加した。次いで、徐々に昇温、
減圧にし、280℃、0.5mmHgで重合を行い、固
有粘度0.65のポリエチレンテレフタレート(PE
T)樹脂を得た。
るが、本発明はこれにより限定されるものではない。 実施例1 [写真用支持体の作製]以下のようにしてPET樹脂を
得た。 (PET樹脂)テレフタル酸ジメチル100重量部、エ
チレングリコール65重量部にエステル交換触媒として
酢酸マグネシウム水和物0.05重量部を添加し、常法
に従ってエステル交換を行った。得られた生成物に、三
酸化アンチモン0.05重量部、リン酸トリメチルエス
テル0.03重量部を添加した。次いで、徐々に昇温、
減圧にし、280℃、0.5mmHgで重合を行い、固
有粘度0.65のポリエチレンテレフタレート(PE
T)樹脂を得た。
【0148】以上のようにして得られたPET樹脂を用
いて、以下のようにして二軸延伸PETフィルムを作成
した。
いて、以下のようにして二軸延伸PETフィルムを作成
した。
【0149】(二軸延伸PETフィルム)PET樹脂を
ペレット化したものを150℃で8時間真空乾燥した
後、285℃でTダイから層状に溶融押しだし、30℃
の冷却ドラム上で静電印加しながら密着させ、冷却固化
させ、未延伸フィルムを得た。この未延伸シートをロー
ル式縦延伸機を用いて、80℃で縦方向に3.3倍延伸
した。得られた一軸延伸フィルムをテンター式横延伸機
を用いて、第一延伸ゾーン90℃で総横延伸倍率の50
%延伸し、さらに第二延伸ゾーン100℃で総横延伸倍
率3.3倍になるように延伸した。次いで、70℃2秒
間、前熱処理し、さらに第一固定ゾーン150℃で5秒
間熱固定し、第二固定ゾーン220℃で15秒間熱固定
した。次いで160℃で横(幅手)方向に5%弛緩処理
し、テンターを出た後に、駆動ロールの周速差を利用し
て、140℃で縦(長手)方向に弛緩処理を行い、室温ま
で60秒かけて冷却し、フィルムをクリップから解放
し、巻き取り、厚さ125μの二軸延伸PETフィルム
を得た。この二軸延伸PETフィルムのTgおよびTm
は、それぞれ79℃、267℃であった。
ペレット化したものを150℃で8時間真空乾燥した
後、285℃でTダイから層状に溶融押しだし、30℃
の冷却ドラム上で静電印加しながら密着させ、冷却固化
させ、未延伸フィルムを得た。この未延伸シートをロー
ル式縦延伸機を用いて、80℃で縦方向に3.3倍延伸
した。得られた一軸延伸フィルムをテンター式横延伸機
を用いて、第一延伸ゾーン90℃で総横延伸倍率の50
%延伸し、さらに第二延伸ゾーン100℃で総横延伸倍
率3.3倍になるように延伸した。次いで、70℃2秒
間、前熱処理し、さらに第一固定ゾーン150℃で5秒
間熱固定し、第二固定ゾーン220℃で15秒間熱固定
した。次いで160℃で横(幅手)方向に5%弛緩処理
し、テンターを出た後に、駆動ロールの周速差を利用し
て、140℃で縦(長手)方向に弛緩処理を行い、室温ま
で60秒かけて冷却し、フィルムをクリップから解放
し、巻き取り、厚さ125μの二軸延伸PETフィルム
を得た。この二軸延伸PETフィルムのTgおよびTm
は、それぞれ79℃、267℃であった。
【0150】〈下引済み写真用支持体の作製〉上記のよ
うにして作製した、厚さ125μm二軸延伸PETフィ
ルムの両面にそれぞれ8w/m2・分のコロナ放電処理
を施し、一方の面に下記下引塗布液a−1を乾燥膜厚
0.8μmになるように塗設し乾燥させて下引層A−1
とし、また反対側の面に下記帯電防止加工した下引塗布
液b−1を乾燥膜厚0.8μmになるように塗設し乾燥
させて帯電防止加工下引層B−1とした。
うにして作製した、厚さ125μm二軸延伸PETフィ
ルムの両面にそれぞれ8w/m2・分のコロナ放電処理
を施し、一方の面に下記下引塗布液a−1を乾燥膜厚
0.8μmになるように塗設し乾燥させて下引層A−1
とし、また反対側の面に下記帯電防止加工した下引塗布
液b−1を乾燥膜厚0.8μmになるように塗設し乾燥
させて帯電防止加工下引層B−1とした。
【0151】 《下引塗布液a−1》 n−ブチルアクリレート(40重量%)、スチレン(20重量%)、グリシジ ルメタクリレート(40重量%)の共重合体ラテックス液(固形分30%) 40g n−ブチルアクリレート(2重量%)、スチレン(59重量%)、グリシジル メタクリレート(39重量%)の共重合体ラテックス液(固形分30%) 150g シリカ粒子(平均粒径3μm) 0.07g (C−6) 0.6g 水で1リットルに仕上げる
【0152】 《下引塗布液b−1》 SnO2/Sb(9/1 重量比、平均粒径0.18μm) 200mg/m2になる量 n−ブチルアクリレート(30重量%)、スチレン(20重量%)、グリシジ ルアクリレート(40重量%)の共重合体ラテックス液(固形分30%) 270g (C−6) 0.6g 水で1リットルに仕上げる 引き続き、下引層B−1の上表面に、8w/m2・分の
コロナ放電を施し、下引層B−1の上には下記下引上層
塗布液b−2を乾燥膜厚0.4μmになる様に下引上層
B−2として塗設した。
コロナ放電を施し、下引層B−1の上には下記下引上層
塗布液b−2を乾燥膜厚0.4μmになる様に下引上層
B−2として塗設した。
【0153】 《下引上層塗布液b−2》 n−ブチルアクリレート(10重量%)、t−ブチルアクリレート(35重量 %)、スチレン(25重量%)、ヒドロキシメチルメタクリレート(30重量% )の共重合体ラテックス液(固形分30%) 140g シリカ粒子(平均粒径3μm) 0.07g 水で1リットルに仕上げる
【0154】
【化27】
【0155】
【化28】
【0156】(支持体の熱処理)上記の下引済み支持体
を表1に記載の温度、張力に設定した全長200mの熱
処理ゾーンを表1に示す搬送速度で熱処理を施した。さ
らに表1に示す張力で室温まで10℃/minで冷却
し、巻き取り張力30kg/mm2で巻き取った。
を表1に記載の温度、張力に設定した全長200mの熱
処理ゾーンを表1に示す搬送速度で熱処理を施した。さ
らに表1に示す張力で室温まで10℃/minで冷却
し、巻き取り張力30kg/mm2で巻き取った。
【0157】[熱現像感光材料の作製] (ハロゲン化銀乳剤Aの調製)水900ml中にイナー
トゼラチン7.5g及び臭化カリウム10mgを溶解し
て温度35℃、pHを3.0に合わせた後、硝酸銀74
gを含む水溶液370mlと(60/38/2)のモル
比の塩化ナトリウムと臭化カリウムと沃化カリウム及び
〔Ir(NO)Cl5〕塩を銀1モル当たり1×10
−6モル及び塩化ロジウム塩を銀1モル当たり1×10
−6モル含む水溶液370mlを、pAg7.7に保ち
ながらコントロールドダブルジェット法で添加した。そ
の後4−ヒドロキシ−6−メチル−1,3,3a,7−
テトラザインデンを添加しNaOHでpHを8、pAg
6.5に調整することで還元増感を行い平均粒子サイズ
0.06μm、単分散度10%の投影直径面積の変動係
数8%、〔100〕面比率87%の立方体沃臭化銀粒子
を得た。この乳剤にゼラチン凝集剤を用いて凝集沈降さ
せ脱塩処理後フェノキシエタノール0.1gを加え、p
H5.9、pAg7.5に調整して、ハロゲン化銀乳剤
Aを得た。
トゼラチン7.5g及び臭化カリウム10mgを溶解し
て温度35℃、pHを3.0に合わせた後、硝酸銀74
gを含む水溶液370mlと(60/38/2)のモル
比の塩化ナトリウムと臭化カリウムと沃化カリウム及び
〔Ir(NO)Cl5〕塩を銀1モル当たり1×10
−6モル及び塩化ロジウム塩を銀1モル当たり1×10
−6モル含む水溶液370mlを、pAg7.7に保ち
ながらコントロールドダブルジェット法で添加した。そ
の後4−ヒドロキシ−6−メチル−1,3,3a,7−
テトラザインデンを添加しNaOHでpHを8、pAg
6.5に調整することで還元増感を行い平均粒子サイズ
0.06μm、単分散度10%の投影直径面積の変動係
数8%、〔100〕面比率87%の立方体沃臭化銀粒子
を得た。この乳剤にゼラチン凝集剤を用いて凝集沈降さ
せ脱塩処理後フェノキシエタノール0.1gを加え、p
H5.9、pAg7.5に調整して、ハロゲン化銀乳剤
Aを得た。
【0158】(ベヘン酸Na溶液の調製)945mlの
純水にベヘン酸32.4g、アラキジン酸9.9g、ス
テアリン酸5.6gを90℃で溶解した。次に高速で攪
拌しながら1.5Mの水酸化ナトリウム水溶液98ml
を添加した。次に濃硝酸0.93mlを加えた後、55
℃に冷却して30分攪拌させてベヘン酸Na溶液を得
た。
純水にベヘン酸32.4g、アラキジン酸9.9g、ス
テアリン酸5.6gを90℃で溶解した。次に高速で攪
拌しながら1.5Mの水酸化ナトリウム水溶液98ml
を添加した。次に濃硝酸0.93mlを加えた後、55
℃に冷却して30分攪拌させてベヘン酸Na溶液を得
た。
【0159】(ベヘン酸銀とハロゲン化銀乳剤Aのプレ
フォーム乳剤の調製)上記のベヘン酸Na溶液に前記ハ
ロゲン化銀乳剤Aを15.1g添加し水酸化ナトリウム
溶液でpH8.1に調整した後に1Mの硝酸銀溶液14
7mlを7分間かけて加え、さらに20分攪拌し限外濾
過により水溶性塩類を除去した。できたベヘン酸銀は平
均粒子サイズ0.8μm、単分散度8%の粒子であっ
た。分散物のフロックを形成後、水を取り除き、更に6
回の水洗と水の除去を行った後乾燥させた。
フォーム乳剤の調製)上記のベヘン酸Na溶液に前記ハ
ロゲン化銀乳剤Aを15.1g添加し水酸化ナトリウム
溶液でpH8.1に調整した後に1Mの硝酸銀溶液14
7mlを7分間かけて加え、さらに20分攪拌し限外濾
過により水溶性塩類を除去した。できたベヘン酸銀は平
均粒子サイズ0.8μm、単分散度8%の粒子であっ
た。分散物のフロックを形成後、水を取り除き、更に6
回の水洗と水の除去を行った後乾燥させた。
【0160】(感光性乳剤の調製)できあがったプレフ
ォーム乳剤を1/2に分割し、それにポリビニルブチラ
ール(平均分子量3000)のメチルエチルケトン溶液
(17wt%)544gとトルエン107gを徐々に添
加して混合した後に、0.5mmサイズZrO2のビー
ズミルを用いたメディア分散機で4000psiで30
℃、10分間の分散を行った。
ォーム乳剤を1/2に分割し、それにポリビニルブチラ
ール(平均分子量3000)のメチルエチルケトン溶液
(17wt%)544gとトルエン107gを徐々に添
加して混合した後に、0.5mmサイズZrO2のビー
ズミルを用いたメディア分散機で4000psiで30
℃、10分間の分散を行った。
【0161】表1に示す搬送熱処理を施した支持体上
に,以下の各層を乾燥温度80℃の条件で両面同時塗布
し、熱現像感光材料を作製した。尚、乾燥は10分間行
った。
に,以下の各層を乾燥温度80℃の条件で両面同時塗布
し、熱現像感光材料を作製した。尚、乾燥は10分間行
った。
【0162】(バック面側塗布)支持体のB−1層の上
に以下の組成の液を塗布した。 セルロースアセテートブチレート 15ml/m2 (10%メチルエチルケトン溶液) 染料−A 7mg/m2 染料−B 7mg/m2 マット剤:単分散度15%平均粒子サイズ8μm単分散シリカ 90mg/m2 フッ素系界面活性剤:C8F17(CH2CH2O)12C8F17 50mg/m2 フッ素系界面活性剤:C9F17−C6H4−SO3Na 10mg/m2
に以下の組成の液を塗布した。 セルロースアセテートブチレート 15ml/m2 (10%メチルエチルケトン溶液) 染料−A 7mg/m2 染料−B 7mg/m2 マット剤:単分散度15%平均粒子サイズ8μm単分散シリカ 90mg/m2 フッ素系界面活性剤:C8F17(CH2CH2O)12C8F17 50mg/m2 フッ素系界面活性剤:C9F17−C6H4−SO3Na 10mg/m2
【0163】
【化29】
【0164】(感光層面側塗布) 感光層1:支持体のA−1層の上に以下の組成の液を塗
布銀量が2.4g/m 2になる様に塗布した。 前記感光性乳剤 240g 増感色素(0.1%メタノール溶液) 1.7ml ピリジニウムプロミドペルブロミド(6%メタノール溶液) 3ml 臭化カルシウム(0.1%メタノール溶液) 1.7ml 酸化剤(10%メタノール溶液) 1.2ml 2−4−クロロベンゾイル安息香酸(12%メタノール溶液)9.2ml 2−メルカプトベンズイミダゾール(1%メタノール溶液) 11ml トリブロモメチルスルホキノリン(5%メタノール溶液) 17ml ヒドラジン誘導体H−26 0.4g 硬調化促進剤P−51 0.3g フタラジン 0.6g 4−メチルフタル酸 0.25g テトラクロロフタル酸 0.2g 平均粒径3μmの炭酸カルシウム 0.1g 1,1−ビス(2−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)−2−メチルプ ロパン(20%メタノール溶液) 20.5ml イソシアネート化合物 0.5g (モーベイ社製、Desmodur N3300)
布銀量が2.4g/m 2になる様に塗布した。 前記感光性乳剤 240g 増感色素(0.1%メタノール溶液) 1.7ml ピリジニウムプロミドペルブロミド(6%メタノール溶液) 3ml 臭化カルシウム(0.1%メタノール溶液) 1.7ml 酸化剤(10%メタノール溶液) 1.2ml 2−4−クロロベンゾイル安息香酸(12%メタノール溶液)9.2ml 2−メルカプトベンズイミダゾール(1%メタノール溶液) 11ml トリブロモメチルスルホキノリン(5%メタノール溶液) 17ml ヒドラジン誘導体H−26 0.4g 硬調化促進剤P−51 0.3g フタラジン 0.6g 4−メチルフタル酸 0.25g テトラクロロフタル酸 0.2g 平均粒径3μmの炭酸カルシウム 0.1g 1,1−ビス(2−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)−2−メチルプ ロパン(20%メタノール溶液) 20.5ml イソシアネート化合物 0.5g (モーベイ社製、Desmodur N3300)
【0165】
【化30】
【0166】表面保護層:以下の組成の液を感光層の上
になるよう同時塗布した。 アセトン 5ml/m2 メチルエチルケトン 21ml/m2 セルロースアセテートブチレート 2.3g/m2 メタノール 7ml/m2 フタラジン 250mg/m2 マット剤:単分散度10%平均粒子サイズ4μm単分散シリカ 5mg/m2 CH2=CHSO2CH2CH2OCH2CH2SO2CH=CH2 35mg/m2 フッ素系界面活性剤:C12F25(CH2CH2O)10C12F25 10mg/m2 フッ素系界面活性剤:C8F17−C6H4−SO3Na 10mg/m2
になるよう同時塗布した。 アセトン 5ml/m2 メチルエチルケトン 21ml/m2 セルロースアセテートブチレート 2.3g/m2 メタノール 7ml/m2 フタラジン 250mg/m2 マット剤:単分散度10%平均粒子サイズ4μm単分散シリカ 5mg/m2 CH2=CHSO2CH2CH2OCH2CH2SO2CH=CH2 35mg/m2 フッ素系界面活性剤:C12F25(CH2CH2O)10C12F25 10mg/m2 フッ素系界面活性剤:C8F17−C6H4−SO3Na 10mg/m2
【0167】塗膜形成した後の試料を用い、バインダー
を除去した後に、レプリカ法で電子顕微鏡観察して測定
したところ、有機銀粒子は、長軸径0.5±0.05μ
m、短軸径0.4±0.05μm、厚み0.01μmの
平板状粒子が全有機銀粒子の90%である単分散度5%
の粒子であった。上記で作製したそれぞれの熱現像感光
材料を590mm×61m巻きのロール形状にし、明室
装填用の包装形態とした。
を除去した後に、レプリカ法で電子顕微鏡観察して測定
したところ、有機銀粒子は、長軸径0.5±0.05μ
m、短軸径0.4±0.05μm、厚み0.01μmの
平板状粒子が全有機銀粒子の90%である単分散度5%
の粒子であった。上記で作製したそれぞれの熱現像感光
材料を590mm×61m巻きのロール形状にし、明室
装填用の包装形態とした。
【0168】《露光及び現像処理》上記で作成した熱現
像感光材料を590mm×440mmサイズに加工し、
780nmの半導体レーザーを搭載したイメージセッタ
ー機であるサイテックス社製Dolev 2dry(内
面ドラム方式)を用いて−logEのエネルギーでベタ
露光した。これらの試料を590mm巾を横にし図1に
示すような熱現像機で処理した。
像感光材料を590mm×440mmサイズに加工し、
780nmの半導体レーザーを搭載したイメージセッタ
ー機であるサイテックス社製Dolev 2dry(内
面ドラム方式)を用いて−logEのエネルギーでベタ
露光した。これらの試料を590mm巾を横にし図1に
示すような熱現像機で処理した。
【0169】《熱現像機》図1に熱現像機の断面概略図
を示した。複数の搬送ローラーをかねた加熱ローラーC
1を備え、ヒーターによって熱せられたSUS製のロー
ラーC2を備えているプレヒート部P、及び植毛鋼板か
らなるプレートヒーターC3及びヒーターによって熱せ
られたSUS製ローラーC4を備えている本熱現像部
D、冷却部Rからなり、冷却部も複数の搬送ローラーC
5を有している。
を示した。複数の搬送ローラーをかねた加熱ローラーC
1を備え、ヒーターによって熱せられたSUS製のロー
ラーC2を備えているプレヒート部P、及び植毛鋼板か
らなるプレートヒーターC3及びヒーターによって熱せ
られたSUS製ローラーC4を備えている本熱現像部
D、冷却部Rからなり、冷却部も複数の搬送ローラーC
5を有している。
【0170】図2は、本熱現像部の断面概略図を示し
た。感光材料Aを処理するに必要な温度に加熱された加
熱体である植毛鋼板からなるプレートヒーター20と、
本発明の感光材料をプレートヒーター20の表面に接触
させつつ、プレートヒーター20に対して相対的に移動
させる(滑らせる)移送手段26と、プレートヒーター
20からシートAへの伝熱のため、シートAのプレート
ヒーター20との接触面の裏側を押圧する手段である押
さえローラー22とを備える。プレートヒーター20は
平板プレートとしている。このプレートヒーター20
は、その内部にニクロム線の発熱体を平面状に敷設して
収容した板状の加熱部材であり、感光材料の現像温度に
維持される。感光材料は露光後、駆動装置(図示せず)
により駆動される対ローラー26を介して熱処理装置1
8に案内される。そして対ローラー26の駆動移送によ
り、シリコンゴムからなる押さえローラー22とプレー
トヒーター20との間を通過し(滑り)熱処理が施され
る。熱処理を終えた感光材料は案内ローラー28を介し
て排出される。擦り傷などをなるべく避けるために、感
光材料のバック層側がプレートヒーター20に接する。
押さえローラー22は、プレートヒーター20の一方の
面に接して、または感光材料の厚み以下の間隙をもって
プレートヒーター20の搬送方向全長に渡り所定のピッ
チで配設され、それらの押さえローラー22とプレート
ヒーター20とによってシート搬送路24を形成してい
る。この感光材料搬送路24の両端には、感光材料の移
送手段である供給ローラー対26と排出ローラー対28
とが配設されている。
た。感光材料Aを処理するに必要な温度に加熱された加
熱体である植毛鋼板からなるプレートヒーター20と、
本発明の感光材料をプレートヒーター20の表面に接触
させつつ、プレートヒーター20に対して相対的に移動
させる(滑らせる)移送手段26と、プレートヒーター
20からシートAへの伝熱のため、シートAのプレート
ヒーター20との接触面の裏側を押圧する手段である押
さえローラー22とを備える。プレートヒーター20は
平板プレートとしている。このプレートヒーター20
は、その内部にニクロム線の発熱体を平面状に敷設して
収容した板状の加熱部材であり、感光材料の現像温度に
維持される。感光材料は露光後、駆動装置(図示せず)
により駆動される対ローラー26を介して熱処理装置1
8に案内される。そして対ローラー26の駆動移送によ
り、シリコンゴムからなる押さえローラー22とプレー
トヒーター20との間を通過し(滑り)熱処理が施され
る。熱処理を終えた感光材料は案内ローラー28を介し
て排出される。擦り傷などをなるべく避けるために、感
光材料のバック層側がプレートヒーター20に接する。
押さえローラー22は、プレートヒーター20の一方の
面に接して、または感光材料の厚み以下の間隙をもって
プレートヒーター20の搬送方向全長に渡り所定のピッ
チで配設され、それらの押さえローラー22とプレート
ヒーター20とによってシート搬送路24を形成してい
る。この感光材料搬送路24の両端には、感光材料の移
送手段である供給ローラー対26と排出ローラー対28
とが配設されている。
【0171】感光材料挿入口Iから感光材料Sが導入さ
れプレヒート部P、熱現像部D、冷却部Rを通って矢印
のように排出口Oから排出される。プレヒート部の温度
は100℃、熱現像部Dの温度は120℃である。各処
理時間はプレヒート部は20秒、熱現像部Dは15秒で
ある.このときのラインスピードは20mm/secで
ある。
れプレヒート部P、熱現像部D、冷却部Rを通って矢印
のように排出口Oから排出される。プレヒート部の温度
は100℃、熱現像部Dの温度は120℃である。各処
理時間はプレヒート部は20秒、熱現像部Dは15秒で
ある.このときのラインスピードは20mm/secで
ある。
【0172】《画像形成材料の評価》 (支持体の寸法変化率評価)搬送熱処理した支持体を1
50mm(長手方向)×150mm(幅手方向)に切出し、
23℃、55%RHの条件下で1日調湿した後、100
mm間隔の罫書き線を入れる。そして120℃に加熱し
たホットプレート(井内盛栄堂(株)製EC−120
0)に30秒間押しつけ、さらに23℃、55%RHの
条件下で1日調湿した後の罫書き線の間隔を測定する。
熱処理前後の罫書き線の間隔の差を求め、熱処理前の間
隔に対する100分率で表し、下記に示したランクで評
価した。なお測定は5枚行ったものの、MD方向、TD
方向の計10点の平均とした。 ランク:熱寸法変化率 ◎:0.03%以下 ○:0.03%〜0.08%以下 △:0.08%〜0.012%以下 D:0.12%以上
50mm(長手方向)×150mm(幅手方向)に切出し、
23℃、55%RHの条件下で1日調湿した後、100
mm間隔の罫書き線を入れる。そして120℃に加熱し
たホットプレート(井内盛栄堂(株)製EC−120
0)に30秒間押しつけ、さらに23℃、55%RHの
条件下で1日調湿した後の罫書き線の間隔を測定する。
熱処理前後の罫書き線の間隔の差を求め、熱処理前の間
隔に対する100分率で表し、下記に示したランクで評
価した。なお測定は5枚行ったものの、MD方向、TD
方向の計10点の平均とした。 ランク:熱寸法変化率 ◎:0.03%以下 ○:0.03%〜0.08%以下 △:0.08%〜0.012%以下 D:0.12%以上
【0173】(支持体のキズの評価)搬送熱処理した支
持体を1m四方に切出し、表面故障の数を目視評価し、
下記に示したランクで評価した。なお、このランクは写
真用支持体として品質の許容製に基づいて決定したもの
であり、ランクは○以上であることが望まれる。 ランク:表面故障の数 ◎:0個 ○:1〜3個 △:4〜7個 ×:8個以上
持体を1m四方に切出し、表面故障の数を目視評価し、
下記に示したランクで評価した。なお、このランクは写
真用支持体として品質の許容製に基づいて決定したもの
であり、ランクは○以上であることが望まれる。 ランク:表面故障の数 ◎:0個 ○:1〜3個 △:4〜7個 ×:8個以上
【0174】(熱現像感光材料の寸法変化率評価)上記
イメージセッター機で縦5cm横5cmベタ露光を行っ
た後,上記熱現像機を用いて熱現像を行った.熱現像し
た試料は23℃、50%RHに1日間調湿し、形成され
た画像の正方形の縦横それぞれの辺の長さを測定し、そ
の長さと露光後の長さとの比(5cm)を熱現像感光材
料の寸法変化率評価とした。 ランク:熱寸法変化率 ◎:0.03%以下 ○:0.03%〜0.08%以下 △:0.08%〜0.012%以下 D:0.12%以上 評価した結果を表1に示す。
イメージセッター機で縦5cm横5cmベタ露光を行っ
た後,上記熱現像機を用いて熱現像を行った.熱現像し
た試料は23℃、50%RHに1日間調湿し、形成され
た画像の正方形の縦横それぞれの辺の長さを測定し、そ
の長さと露光後の長さとの比(5cm)を熱現像感光材
料の寸法変化率評価とした。 ランク:熱寸法変化率 ◎:0.03%以下 ○:0.03%〜0.08%以下 △:0.08%〜0.012%以下 D:0.12%以上 評価した結果を表1に示す。
【0175】
【表1】
【0176】上記表1において、各数値の単位は下記の
通りである。 搬送速度:m/min 温度 :℃ 張力 :kg/cm2 冷却張力:kg/cm2
通りである。 搬送速度:m/min 温度 :℃ 張力 :kg/cm2 冷却張力:kg/cm2
【0177】以上の結果から明らかなように、本発明に
よれば、本発明の調整方法で作製した写真用支持体およ
び、それを用いた熱現像感光材料は、耐熱寸法安定性に
優れ、平面性等の品質に優れていることがわかる。
よれば、本発明の調整方法で作製した写真用支持体およ
び、それを用いた熱現像感光材料は、耐熱寸法安定性に
優れ、平面性等の品質に優れていることがわかる。
【0178】実施例2 実施例1の比較例2、本発明2に使用した支持体を用い
て、表2に示す乾燥温度および搬送張力で実施例1と同
じ塗布液と、実施例1の塗布液の表面保護層のマット剤
を50mg/m2に、バック層のフッ素系界面活性剤の
総量60mg/m2になるように変更した塗布液を、両
面同時塗布し、熱現像感光材料を作製した。また、塗布
液変更した方の感光材料については乾燥後、60℃でさ
らに10分間熱処理を行った。
て、表2に示す乾燥温度および搬送張力で実施例1と同
じ塗布液と、実施例1の塗布液の表面保護層のマット剤
を50mg/m2に、バック層のフッ素系界面活性剤の
総量60mg/m2になるように変更した塗布液を、両
面同時塗布し、熱現像感光材料を作製した。また、塗布
液変更した方の感光材料については乾燥後、60℃でさ
らに10分間熱処理を行った。
【0179】実施例1と同じ塗布液で作製した感光材料
と上記表面保護層のマット剤とバック層のフッ素系界面
活性剤を変更した塗布液で作製した感光材料のマット
度、動摩擦係数、押し込み硬さは表3に示す。
と上記表面保護層のマット剤とバック層のフッ素系界面
活性剤を変更した塗布液で作製した感光材料のマット
度、動摩擦係数、押し込み硬さは表3に示す。
【0180】熱現像は図1、2に示す熱現像装置での搬
送ロールの回転数、トルクおよびニップのバネ強度を調
節することにより表2に示す搬送媒体との圧力になるよ
うに設定した。また図2のプレートヒーター120の表
面に植毛の硬さ、長さ、毛先の形等を変化させること
で、表2に示す搬送媒体表面のマット度になるように設
定した。
送ロールの回転数、トルクおよびニップのバネ強度を調
節することにより表2に示す搬送媒体との圧力になるよ
うに設定した。また図2のプレートヒーター120の表
面に植毛の硬さ、長さ、毛先の形等を変化させること
で、表2に示す搬送媒体表面のマット度になるように設
定した。
【0181】以上のように作製した熱現像感光材料を用
いるとともに、上記のような設定にした熱現像装置を用
いて熱現像し、熱現像前後の寸法変化率評価および平面
性評価を行った。
いるとともに、上記のような設定にした熱現像装置を用
いて熱現像し、熱現像前後の寸法変化率評価および平面
性評価を行った。
【0182】(熱現像感光材料の平面性評価)590m
m×440mmサイズの現像処理した試料を、平面性の
優れた台に載せ目視でベースの凹凸を評価した。 ◎:平面性が良く台にぴったりとくっついている。 ○:平面性が良く台にほぼぴったりとくっついている。 △:所々にベースのつれがみえる。 ×:ベースのつれで全体的に波打っている。 評価した結果を表2に示す。
m×440mmサイズの現像処理した試料を、平面性の
優れた台に載せ目視でベースの凹凸を評価した。 ◎:平面性が良く台にぴったりとくっついている。 ○:平面性が良く台にほぼぴったりとくっついている。 △:所々にベースのつれがみえる。 ×:ベースのつれで全体的に波打っている。 評価した結果を表2に示す。
【0183】
【表2】
【0184】上記表2において、各数値の単位は下記の
通りである。 温度 :℃ 張力 :kg/cm2 圧力 :kgf/cm2 マット度:mmHg
通りである。 温度 :℃ 張力 :kg/cm2 圧力 :kgf/cm2 マット度:mmHg
【0185】
【表3】
【0186】上記表3において、マット度の単位はmm
Hgである。以上の結果から明らかなように、本発明に
よれば、本発明の塗布方法で作製した熱現像感光材料お
よび熱現像画像形成方法は、耐熱寸法安定性に優れ、平
面性等の品質に優れていることがわかる。
Hgである。以上の結果から明らかなように、本発明に
よれば、本発明の塗布方法で作製した熱現像感光材料お
よび熱現像画像形成方法は、耐熱寸法安定性に優れ、平
面性等の品質に優れていることがわかる。
【0187】
【発明の効果】本発明の写真用支持体とその調整方法、
熱現像感光材料とその塗布方法、熱現像画像形成方法
は、耐熱寸法変化が小さく平面性等の品質に優れた効果
を有する。
熱現像感光材料とその塗布方法、熱現像画像形成方法
は、耐熱寸法変化が小さく平面性等の品質に優れた効果
を有する。
【図1】実施例に用いた熱現像機の断面概略図
【図2】実施例に用いた熱現像機の断面概略図
C1、C2 加熱ローラー C3 プレートヒーター C4 加熱ローラー C5 徐冷用搬送ローラー(温度制御) P プレヒート部 D 熱現像部 R 冷却部 S 感光材料 I 感光材料挿入口 O 感光材料排出口 H ヒーター
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 細井 勇治 東京都日野市さくら町1番地 コニカ株式 会社内 Fターム(参考) 2H112 AA03 AA11 BC10 BC12 2H123 AB00 AB03 AB23 AB28 BA00 BA32 BA47 BB00 BB02 BB31 BC00 BC01 BC10 CB00 CB03
Claims (19)
- 【請求項1】ガラス転移点以上融点以下の温度で、6k
g/cm2より大きく30kg/cm2以下の張力で搬送
しながら熱処理することを特徴とする写真用支持体の調
整方法。 - 【請求項2】ガラス転移点以上融点以下の温度で搬送し
ながら熱処理する写真用支持体の調整方法において,張
力を変化させながら熱処理し、その張力の変化幅が0.
01kg/cm2〜30kg/cm2であることを特徴と
する写真用支持体の調整方法。 - 【請求項3】請求項1または2に記載の熱処理におい
て、熱処理開始時の張力と熱処理終了時の張力の差が
0.01kg/cm2〜30kg/cm2であることを特
徴とする写真用支持体の調整方法。 - 【請求項4】請求項3に記載の熱処理において、熱処理
開始時の張力が熱処理終了時の張力より大きいことを特
徴とする写真用支持体の調整方法。 - 【請求項5】請求項4に記載の熱処理において、張力を
徐々に小さくすることを特徴とする写真用支持体の調整
方法。 - 【請求項6】ガラス転移点以上融点以下の温度で搬送し
ながら熱処理する写真用支持体の調整方法において、該
熱処理後、張力を徐々に小さくしながら室温まで冷却す
ることを特徴とする写真用支持体の調整方法。 - 【請求項7】請求項1〜5のいずれかに記載の熱処理
後、張力が徐々に小さくしながら室温まで冷却すること
を特徴とする写真用支持体の調整方法。 - 【請求項8】請求項1〜7のいずれかに記載の方法で調
整されたことを特徴とする写真用支持体。 - 【請求項9】請求項1〜7のいずれかに記載の方法で調
整され、120℃、30秒での寸法変化率の絶対値がM
D方向0.01〜0.08%、TD方向0.01〜0.
04%であることを特徴とする写真用支持体。 - 【請求項10】有機銀塩、感光性ハロゲン化銀及び還元
剤を少なくとも含有する塗布液を塗布する方法であっ
て、40℃以上120℃以下の温度で、0.01kg/
cm2〜30kg/cm2の張力で乾燥および/または熱
処理を行うことを特徴とする塗布方法。 - 【請求項11】前記塗布液にヒドラジン誘導体を含有す
ることを特徴とする請求項10に記載の塗布方法。 - 【請求項12】搬送しながら熱処理された支持体に塗布
を行うことを特徴とする請求項10または11に記載の
塗布方法。 - 【請求項13】前記搬送しながら熱処理された支持体が
請求項8または9に記載の写真用支持体であることを特
徴とする請求項12に記載の塗布方法。 - 【請求項14】請求項8または9に記載の写真用支持体
を使用することを特徴とする熱現像感光材料。 - 【請求項15】請求項10〜13のいずれかに記載の塗
布方法で製造されたことを特徴とする熱現像感光材料。 - 【請求項16】熱現像感光材料と搬送媒体との圧力が
0.1kgf/cm2〜10kgf/cm2である熱現像
機により処理することを特徴とする熱現像画像形成方
法。 - 【請求項17】120℃における搬送媒体表面のマット
度が200mmHg以上である熱現像機により処理する
ことを特徴とする熱現像画像形成方法。 - 【請求項18】下記(A)〜(C)を満足する熱現像感
光材料を使用することを特徴とする請求項16または1
7記載の熱現像画像形成方法。 (A)マット度が35mmHg以上200mmHg以
下、(B)動摩擦係数が0.5以下、(C)押し込み硬
さが15以上 - 【請求項19】請求項14または15記載の熱現像感光
材料を使用することを特徴とする請求項16または17
記載の熱現像画像形成方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26402599A JP2001092078A (ja) | 1999-09-17 | 1999-09-17 | 写真用支持体及びその調整方法、塗布方法、熱現像感光材料、熱現像画像形成方法 |
US09/663,350 US6376165B1 (en) | 1999-09-17 | 2000-09-15 | Preparation method photothermographic material |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26402599A JP2001092078A (ja) | 1999-09-17 | 1999-09-17 | 写真用支持体及びその調整方法、塗布方法、熱現像感光材料、熱現像画像形成方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001092078A true JP2001092078A (ja) | 2001-04-06 |
Family
ID=17397517
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP26402599A Pending JP2001092078A (ja) | 1999-09-17 | 1999-09-17 | 写真用支持体及びその調整方法、塗布方法、熱現像感光材料、熱現像画像形成方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6376165B1 (ja) |
JP (1) | JP2001092078A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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