JP2001066527A - マルチビーム走査光学系及びそれを用いたマルチビーム走査装置 - Google Patents
マルチビーム走査光学系及びそれを用いたマルチビーム走査装置Info
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Abstract
く高速に、且つ低消費電力で走査を行うことができるマ
ルチビーム走査光学系及びそれを用いたマルチビーム走
査装置を得ること。 【解決手段】 複数の光源と、該複数の光源から各々出
射された光束を略同一方向に向けて進行させる光学素子
4と、該光学素子を通過した複数の光束を偏向する光偏
向器25と、該光偏向器で偏向された複数の光束を被走
査面30上に結像させる結像光学系20と、有するマル
チビーム走査光学系において、該光学素子から該光偏向
器へ入射する複数の光束は、副走査断面内においては該
光偏向器の偏向面の面法線に対して所定の角度を持って
該偏向面に入射し、主走査断面内においては、該光偏向
器の偏向角の中央、もしくは略中央から該偏向面に入射
すること。
Description
学系及びそれを用いたマルチビーム走査装置に関し、特
に被走査面上での光量の均一性を損なうことなく高速
に、かつ低消費電力で被走査面上を複数の光束で同時に
光走査することができる、例えばレーザービームプリン
ター(LBP)やディジタル複写機等の装置に好適なも
のである。
ジタル複写機等の画像形成装置に用いられる走査光学系
においては高速で、且つ高精細な印字処理への要求が高
まっており、それに対応する手段として複数の光源から
出射した光束を同時に走査するマルチビーム走査光学系
の開発が進められている。
は、例えば特開平9−230260号公報で提案されて
いる。図5は同公報で開示されるマルチビーム走査光学
系の斜視模式図である。同図において第1の光源102
a、第2の光源102bから出射された光束は各々対応
する整形レンズ系122a、122bによりその光束径
が整形される。この2つの光束は共に副走査断面内にお
いて振動する直線偏光である。このうち第1の光源10
2aから出射した光束は1/2波長板105により振動
面が90度回転させられ主走査断面内で振動する直線偏
光に変換される。そして2つの光束は偏光ビームスプリ
ッター104により光路を略々重ね合わされ光偏向器
(回転多面鏡)124の偏向面124aに同時に入射す
る。そして光偏向器124により偏向された2つの光束
は走査レンズ125とミラー127とを介して被走査面
(感光ドラム面)130上で結像され、該2つの光束で
被走査面130上を同時に走査する。このようにして同
公報においては複数の光源を用いることで被走査面13
0上に画像を高速に形成している。
ルチビーム走査光学系では、被走査面上で一走査線中に
おける光束の強度が不均一になると言う問題点がある。
この問題点について図6を用いて説明する。図6は光偏
向器の偏向面(反射面)上における反射率の変化を示し
たグラフである。同図において横軸は光偏向器へ入射す
る光束と該光偏向器の偏向面の面法線とが成す角度θで
ある。有効走査領域の一方の端部を光束が走査するとき
の角度をθa、有効走査領域の他方の端部を走査すると
きの角度をθbで表わす。縦軸は偏向面における反射率
Rである。角度θaに対応する反射率をRa、角度θb
に対応する反射率をRbで表わす。
|θa|≠|θb|である。したがって図6から理解で
きるように、角度θの変化に対して反射率Rの変化する
量、即ち|Ra−Rb|が大きい領域を使用するもので
ある。よって被走査面上に到達する光量もこの影響を受
け、結果として一走査線中で到達光量が著しく変化する
という不具合を招く。これは高速に且つ高精細な画質の
画像を得たいという要求に対して不適である。また角度
θの変化に対する反射率Rの変化の程度は光偏向器の偏
向面の素材にも依存し、特にアルミニウムを素材として
偏向面を形成する場合には顕著である。
同時に走査することで高速化を図りつつ、また該被走査
面上での光量の不均一さを少なくすることで高画質化も
達成することができるマルチビーム走査光学系及びそれ
を用いたマルチビーム走査装置の提供を目的とする。
ビーム走査光学系は、複数の光源と、該複数の光源から
各々出射された光束を略同一方向に向けて進行させる光
学素子と、該光学素子を通過した複数の光束を偏向する
光偏向器と、該光偏向器で偏向された複数の光束を被走
査面上に結像させる結像光学系と、有するマルチビーム
走査光学系において、該光学素子から該光偏向器へ入射
する複数の光束は、副走査断面内においては該光偏向器
の偏向面の面法線に対して所定の角度を持って該偏向面
に入射し、主走査断面内においては、該光偏向器の偏向
角の中央、もしくは略中央から該偏向面に入射すること
を特徴としている。
て、前記光学素子から前記光偏向器へ入射する複数の光
束の主走査方向の光束幅は、該光偏向器の偏向面の主走
査方向の幅よりも広いことを特徴としている。
おいて、前記結像光学系は少なくとも1つのレンズと、
少なくとも1つのミラーを有し、前記光学素子から前記
光偏向器へ入射する複数の光束は、該少なくとも1つの
レンズを通過することを特徴としている。
おいて、前記光偏向器の偏向面の材質はアルミニウムよ
り成ることを特徴としている。
は、請求項1乃至4のいずれか1項記載のマルチビーム
走査光学系と、記録媒体とを搭載したことを特徴として
いる。
は、複数の発光部を有する光源手段から出射された複数
の光束を光偏向器に入射させる入射光学系と、該光偏向
器で偏向された複数の光束を被走査面上に結像させる結
像光学系と、有するマルチビーム走査光学系において、
該入射光学系から該光偏向器へ入射する複数の光束は、
副走査断面内においては該光偏向器の偏向面の面法線に
対して所定の角度を持って該偏向面に入射し、主走査断
面内においては、該光偏向器の偏向角の中央、もしくは
略中央から該偏向面に入射することを特徴としている。
て、前記入射光学系から前記光偏向器へ入射する複数の
光束の主走査方向の光束幅は、該光偏向器の偏向面の主
走査方向の幅よりも広いことを特徴としている。
おいて、前記結像光学系は少なくとも1つのレンズと、
少なくとも1つのミラーを有し、前記光源手段から前記
光偏向器へ入射する複数の光束は、該少なくとも1つの
レンズを通過することを特徴としている。
おいて、前記光偏向器の偏向面の材質はアルミニウムよ
り成ることを特徴としている。
は、前記請求項6乃至9のいずれか1項記載のマルチビ
ーム走査光学系と、記録媒体とを搭載したことを特徴と
している。
チビーム走査光学系を例えばレーザービームプリンタ等
のマルチビーム走査装置に適用したときの要部上面図で
あり、各要素を主走査断面内で投射した状態を示してお
り、図2は図1の要部側面図であり、各要素を副走査断
面内で投射した状態を示している。
と光偏向器により偏向された光束とが形成する面を主走
査断面、結像光学系の光軸を含み主走査断面と直交する
面を副走査断面と定義する。
あり、例えば半導体レーザーより成っている。2,12
は各々第1、第2のコリメーターレンズであり、各々対
応する第1、第2の光源1,11から出射された光束を
略平行光束に変換している。3,13は各々第1、第2
の開口絞りであり、光束径を整形している。第1、第2
の開口絞り3,13の形状は各々被走査面上で光束が所
望のスポットサイズに結像され、かつ適切な光量である
ことを得るために各々対応する第1、第2の光源1,1
1のファーフィールドパターンや最大出力定格値、後述
する結像光学系の焦点距離等を基にして決定される。1
4は1/2波長板であり、入射光束の振動面を90度回
転させて、主走査断面内で振動する直線偏光に変換して
いる。4は光学素子としての偏光ビームスプリッターで
あり、第1の光源1から出射された光束を透過させ、第
2の光源11から出射された光束を反射させる偏光特性
を有している。21は1/4波長板であり、直線偏光を
円偏光に変換している。22は負レンズ(凹レンズ)で
あり、1/4波長板21を通過した光束を弱発散光束に
なるように変換している。23はシリンドリカルレンズ
であり、副走査方向にのみ所定の屈折力を有しており、
負レンズ22を通過した光束を主走査断面内で後述する
光偏向器25の偏向面(反射面)25aにほぼ線像とし
て結像させている。24は折り返しミラーであり、シリ
ンドリカルレンズ23を通過した光束を光偏向器25側
へ反射させている。
12、第1、第2の開口絞り3,13、1/2波長板1
4、偏光ビームスプリッター4、1/4波長板21、負
レンズ22、シリンドリカルレンズ23、そして折り返
しミラー24等の各要素は入射光学系の一要素を構成し
ている。
(ポリゴンミラー)より成り、モーター等の駆動手段
(不図示)により図中矢印A方向に一定速度で回転して
いる。光偏向器25の偏向面25aの材質はアルミニウ
ムより成っている。
学系であり、第1、第2、第3のレンズ26,27,2
8とミラー29とを有しており、その3つのレンズ2
6,27,28のうち、少なくとも1つのレンズはアナ
モフィックレンズより成っている。結像光学系20は光
偏向器25からの偏向光束を被走査面30上に結像させ
ると共に副走査断面内において光偏向器25の偏向面2
5aと被走査面30との間を略共役関係にすることによ
り、該偏向面25aの倒れを補正している。第1、第2
のレンズ26,27は入射光学系の一要素をも構成して
いる。尚、結像光学系20の構成は上記に構成に限定さ
れることはなく、例えば1つのレンズと1つのミラーよ
り構成しても良い。30は記録媒体としての感光ドラム
(像担持体)の表面(被走査面)である。
射された光束は第1のコリメーターレンズ2により略平
行光束に変換され、第1の開口絞り3により光束径が整
形され、偏光ビームスプリッター4に入射し、該偏光ビ
ームスプリッター4の偏光特性により透過する。第1の
光源1から出射された光束は副走査断面内で振動する直
線偏光である。
は第2のコリメーターレンズ12により略平行光束に変
換され、第2の開口絞り13により光束径が整形され、
1/2波長板14に入射する。第2の光源11から出射
された光束は副走査断面内で振動する直線偏光である。
1/2波長板14に入射した光束は該1/2波長板14
により主走査断面内で振動する直線偏光に変換され、偏
光ビームスプリッター4に入射し、該偏光ビームスプリ
ッター4の偏光特性により反射される。
される第1の光源1からの光束と第2の光源11からの
光束は略々重なって射出される。尚、このとき2つの光
束は厳密には少なくとも副走査断面においては互いに平
行ではなく有限の角度を成している。これは2つの光束
を被走査面30上で副走査方向に分離した状態で同時に
走査させるからである。
された2つの直線偏光の光束は1/4波長板21により
円偏光の光束に変換された後、負レンズ22により弱発
散光束に変換され、シリンドリカルレンズ23に入射し
ている。シリンドリカルレンズ23に入射した弱発散光
束のうち副走査断面内においては光束は収束され、折り
返しミラー24を介して第2、第1のレンズ27,26
を透過して光偏向器25の偏向面25aに入射し、該偏
向面25a近傍にほぼ線像(主走査方向に長手の線像)
として結像している。このとき光偏向器25の偏向面2
5aの面法線に対して所定の角度を持って該偏向面25
aに入射している。即ち2つの光束は偏向面25aに対
し所定の角度をもって斜め方向から入射している。これ
は偏向面25aからの反射光束が折り返しミラー24へ
到達し、第1、第2の光源1,11側へ戻らないように
光路を分離するためである。
ままの状態(弱発散光束の状態)で第2、第1のレンズ
27,26を透過することによって略平行光束に変換さ
れ、光偏向器25の偏向角の中央、もしくは略中央から
偏向面25aに入射している(正面入射)。このときの
略平行光束の光束幅は主走査方向において光偏向器25
の偏向面25aのファセット幅に対し十分広くなるよう
に設定している(オーバーフィールド光学系)。
された2つの光束は第1、第2、第3のレンズ26,2
7,28、そしてミラー29を介して感光ドラム面30
上に導光され、該光偏向器25を矢印A方向に回転させ
ることによって、該感光ドラム面30上を矢印B方向
(主走査方向)に同時に光走査している。これにより記
録媒体としての感光ドラム面30上に画像記録を行なっ
ている。
25a上における反射率の変化を示したグラフである。
同図において被走査面30上での有効走査領域の両端部
を走査する状態のときの偏向面25aの面法線と、折り
返しミラー24から偏向面25aへ向かう有効走査領域
の両端部を走査する光束との成す角度を各々θa、θb
とする。そのときの偏向面25aの反射率は共にR1で
ある。有効走査領域の中央を走査する状態のときの偏向
面25aの面法線と、折り返しミラー24から偏向面2
5aへ向かう有効走査領域の中央を走査する光束との成
す角度は略0度であり、そのときの偏向面25aの反射
率はR0である。したがって反射率Rは角度0度を中心
として対象な特性を示し、偏向走査につれて角度θがθ
aから0度を経由してθbまで変化する状態に対応する
反射率の変化は|R0−R1|である。
される反射率の差分値は前記図6で説明した|Ra−R
b|で表わされる反射率の差分値よりも小さい。これ
は、即ち一走査線中における被走査面上での光量変化が
少ないという特長を表わすものである。特にアルミニウ
ムを素材として偏向面を形成する場合には好適な特性で
ある。つまり回転多面鏡の形状を形成する時間が短縮化
でき、また軽量な素材であるので回転に必要とする電力
の消費量も軽減できるものである。
なる光量分布を得るためには、結像光学系20を構成す
る個々の第1、第2、第3のレンズ26,27,28の
表面に施す反射防止膜やミラー29の反射膜の特性値の
角度依存性も考慮した設定を行うことが可能である。つ
まり図3に示す反射率特性を持つ光偏向器を使用する場
合には角度θaもしくは角度θbに相当する軸外光束の
特性を角度θ0に相当する軸上光束の特性に対して被走
査面上への光量の到達効率がR0/R1倍に成るように
考慮するものである。これは図1に示す主走査断面内に
おいて折り返しミラー24から光偏向器25の偏向面2
5aへ向かう光束が該光偏向器25の偏向角の中央、も
しくは略中央から偏向面25aに入射させることで可能
と成る。
2、第3のレンズ26,27,28で用いられる反射防
止膜、そしてミラー29の反射膜の特性は通常P偏光と
S偏光とでは異なる。ゆえに前述の如く1/4波長板2
1を用いて第1の光源1と第2の光源11から出射した
2つの光束を共に円偏光に変換しておくことは、両方の
光束共にP偏光成分、S偏光成分を略々等しく持つこと
であり、上記の各種の膜の偏光特性が与える被走査面上
での光量の不均一性を軽減することが可能と成り好まし
い。
主走査断面内において光偏向器25の偏向面25aと折
り返しミラー24から該偏向面25aへ向かう光束31
の光束幅との関係を示す部分模式図である。図4(A)
は偏向面25aの幅に対して光束31の幅の方が狭い例
(アンダーフィールド走査光学系)である。図4(B)
は光束31の幅の方が広い例(オーバーフィールド走査
光学系)である。本実施形態はいずれの設定に対しても
対応可能である。
光偏向器(回転多面鏡)25の外接円径を小さくするこ
とが可能である。同じ結像光学系を使用して被走査面上
で同一サイズのスポットを形成する場合には、光偏向器
から結像光学系へ向かう光束の幅は同じである。しかる
に図4(A)に示す反射ならびに偏向の方式では、光偏
向器へ向かう光束と反射される光束の幅は同じであり、
光偏向器の回転により偏向面が紙面内で移動しても反射
された光束の幅を一定に保つために、結像光学系へ向か
う光束の幅よりも広い幅の偏向面を必要とするものであ
る。
の方式では、結像光学系へ向かう光束の幅は偏向面25
aの幅で決定される。したがって光偏向器の偏向面の数
が同一であれば、図4(B)に示す方式で使用される光
偏向器25の方が外接円径は小さくなる。よって光偏向
器の回転に必要な消責電力も小さくてすみ省エネルギー
の観点からも好ましいものである。或いはまた、同じ消
費電力を許容するならば、図4(B)に示す反射ならび
に偏向の方式は、より高速に光偏向器を回転することが
可能である。すなわち高速走査にとってより有効な構成
である。
11から各々出射された光束を略同一方向に向けて進行
させる光学素子として偏光ビームスプリッター4を用い
たが、これに限定されることはなく、例えば透過率と反
射率が共に50%のビームスプリッター(ハーフミラ
ー)を用いても良い。このときは1/2波長板14を用
いずに、さらには1/4波長板21を用いずに構成する
ことができる。
11を各々別々に設け、該2つの光源1,11から出射
した光束を光学素子4により略同一方向に進行させた
が、これに限らず、例えば複数の発光部(発光点)を副
走査方向に列状に配列した半導体アレイレーザーを光源
手段として用いても良い。このときは光学素子4、1/
2波長板14、そして1/4波長板21等を用いずに構
成することができる。尚、その他の構成及び光学的作用
は前述の実施形態1と略同様である。
査光学系及びそれを用いたマルチビーム走査装置につい
て説明したが、もちろんシングルビームの走査光学系及
びそれを用いた走査装置においても適用することができ
ることは言うまでもない。
用いて被走査面上を走査することで高速化を図りつつ、
また該被走査面上での光量の均一性を損なうことなく高
速に、且つ低消費電力で走査を行うことができるマルチ
ビーム走査光学系及びそれを用いたマルチビーム走査装
置を達成することができる。
おける反射率の変化を表わすグラフ
明図
変化を表わすグラフ
Claims (10)
- 【請求項1】 複数の光源と、該複数の光源から各々出
射された光束を略同一方向に向けて進行させる光学素子
と、該光学素子を通過した複数の光束を偏向する光偏向
器と、該光偏向器で偏向された複数の光束を被走査面上
に結像させる結像光学系と、有するマルチビーム走査光
学系において、 該光学素子から該光偏向器へ入射する複数の光束は、副
走査断面内においては該光偏向器の偏向面の面法線に対
して所定の角度を持って該偏向面に入射し、主走査断面
内においては、該光偏向器の偏向角の中央、もしくは略
中央から該偏向面に入射することを特徴とするマルチビ
ーム走査光学系。 - 【請求項2】 前記光学素子から前記光偏向器へ入射す
る複数の光束の主走査方向の光束幅は、該光偏向器の偏
向面の主走査方向の幅よりも広いことを特徴とする請求
項1記載のマルチビーム走査光学系。 - 【請求項3】 前記結像光学系は少なくとも1つのレン
ズと、少なくとも1つのミラーを有し、前記光学素子か
ら前記光偏向器へ入射する複数の光束は、該少なくとも
1つのレンズを通過することを特徴とする請求項1又は
2記載のマルチビーム走査光学系。 - 【請求項4】 前記光偏向器の偏向面の材質はアルミニ
ウムより成ることを特徴とする請求項1又は2記載のマ
ルチビーム走査光学系。 - 【請求項5】 前記請求項1乃至4のいずれか1項記載
のマルチビーム走査光学系と、記録媒体とを搭載したこ
とを特徴とするマルチビーム走査装置。 - 【請求項6】 複数の発光部を有する光源手段から出射
された複数の光束を光偏向器に入射させる入射光学系
と、 該光偏向器で偏向された複数の光束を被走査面上に結像
させる結像光学系と、有するマルチビーム走査光学系に
おいて、 該入射光学系から該光偏向器へ入射する複数の光束は、
副走査断面内においては該光偏向器の偏向面の面法線に
対して所定の角度を持って該偏向面に入射し、主走査断
面内においては、該光偏向器の偏向角の中央、もしくは
略中央から該偏向面に入射することを特徴とするマルチ
ビーム走査光学系。 - 【請求項7】 前記入射光学系から前記光偏向器へ入射
する複数の光束の主走査方向の光束幅は、該光偏向器の
偏向面の主走査方向の幅よりも広いことを特徴とする請
求項6記載のマルチビーム走査光学系。 - 【請求項8】 前記結像光学系は少なくとも1つのレン
ズと、少なくとも1つのミラーを有し、前記光源手段か
ら前記光偏向器へ入射する複数の光束は、該少なくとも
1つのレンズを通過することを特徴とする請求項6又は
7記載のマルチビーム走査光学系。 - 【請求項9】 前記光偏向器の偏向面の材質はアルミニ
ウムより成ることを特徴とする請求項6又は7記載のマ
ルチビーム走査光学系。 - 【請求項10】 前記請求項6乃至9のいずれか1項記
載のマルチビーム走査光学系と、記録媒体とを搭載した
ことを特徴とするマルチビーム走査装置。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24526799A JP2001066527A (ja) | 1999-08-31 | 1999-08-31 | マルチビーム走査光学系及びそれを用いたマルチビーム走査装置 |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24526799A JP2001066527A (ja) | 1999-08-31 | 1999-08-31 | マルチビーム走査光学系及びそれを用いたマルチビーム走査装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001066527A true JP2001066527A (ja) | 2001-03-16 |
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Family
ID=17131150
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP24526799A Withdrawn JP2001066527A (ja) | 1999-08-31 | 1999-08-31 | マルチビーム走査光学系及びそれを用いたマルチビーム走査装置 |
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JP (1) | JP2001066527A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6995887B2 (en) | 2004-05-17 | 2006-02-07 | Konica Minolta Business Technologies, Inc. | Laser scanning apparatus |
US7253938B2 (en) | 2003-08-11 | 2007-08-07 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Laser scanning apparatus |
-
1999
- 1999-08-31 JP JP24526799A patent/JP2001066527A/ja not_active Withdrawn
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7253938B2 (en) | 2003-08-11 | 2007-08-07 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Laser scanning apparatus |
US6995887B2 (en) | 2004-05-17 | 2006-02-07 | Konica Minolta Business Technologies, Inc. | Laser scanning apparatus |
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Date | Code | Title | Description |
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A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060804 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060804 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20070620 |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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