JP2000306802A

JP2000306802A - 描画図形データベース装置

Info

Publication number: JP2000306802A
Application number: JP11111722A
Authority: JP
Inventors: Yasuo Jinbo; 安男神保; Masataka Yamaji; 山地　　正高; Satoshi Watanabe; 智渡辺
Original assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Current assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date: 1999-04-20
Filing date: 1999-04-20
Publication date: 2000-11-02

Abstract

(57)【要約】（修正有）【課題】電子ビーム描画装置に固有の分割領域に分割
され、各分割領域内に収まる図形データのみを持つ図形
データを、電子ビーム描画装置へ提供する描画図形デー
タベース装置で、設計ルール縮小化に伴う図形データ量
の増大化に対応でき、各種電子ビーム描画装置へ図形デ
ータを供給できる描画図形データベース装置。【解決手段】描画図形データを分割領域を無くした座
標系でアウトライン表示したポリゴンデータで保管し、
且つ、保管された描画図形データから、所望の図形情報
を取り出す検索機能を備えたデータベース部と、取り出
されたポリゴンデータからなる図形情報を、電子ビーム
描画装置用図形データに変換し供給するインターフェー
ス部を備え、データベース部は、同一形状の図形データ
は基本図形情報と配置情報とで表現した圧縮データの状
態で、描画図形データを保管する。保管された描画図形
データに対して演算処理を行う演算処理部を備える。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、電子ビーム描画装
置（ＥＢ描画装置とも言う）に固有の分割領域に分割さ
れ、各分割領域内に収まる図形データのみを持つ、電子
ビーム描画装置用の図形データを、電子ビーム描画装置
へ提供するための、描画図形データベース装置に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】近年、半導体素子（チップ）の高密度化
は激しく、０３５μｍ設計ルールの６４ＭＤＲＡＭを量
産もすでに始められ、０．２５μｍ設計ルールの２５６
ＭＤＲＡＭの時代へと移ろうとしている。このため、ウ
エハへの露光を行うためのマスタマスクを作成するため
の、あるいは、ウエハへ直接縮小投影するためのレチク
ルについても、ますますその精度が求められるようにな
ってきた。更に、最近では、コスト低減を目指したチッ
プ縮小が著しく、６４ＭＤＲＡＭを０．２５設計ルール
まで微細化して、あるいは、２５６ＭＤＲＡＭを０．１
８設計ルールまで微細化してチップ縮小化を行ってい
る。仮に、６４ＭＤＲＡＭを０．２μｍ設計ルールとす
ると、約１６ＭＤＲＡＭと同じチップ寸法となり、ビッ
トコストは１６Ｍの約１／４になる。ウエハサイズの大
サイズ化をせず、現装置でコスト低減が達成されること
となる。０．１８μｍ設計ルールは開発完了し、２００
０年には０．１５μｍ設計ルールが開発完了予定とされ
ている。

【０００３】このような中、レチクル作製のためのパタ
ーン描画においても、その加工精度がますます厳しくな
るとともに、描画所要時間の短縮が求められている。パ
ターン描画としては、通常、電子ビーム描画装置（ＥＢ
描画装置とも言う）が用いられるが、所定径のビームを
ＯＮ−ＯＦＦしながら、全面走査して描画するラスター
型の電子ビーム描画装置の場合、加工精度の要求が高く
なるに従い、その最小描画位置間隔（描画グリッドある
いは最小アドレスユニットとも言う）をより細かくして
いくことが必要で、これに伴い描画時間が格段に増える
こととなり、０．１８μｍ以下の設計ルールでは、実用
レベルでなくなる。これに対して、矩形や４５°斜辺を
有する三角形に成形されたビームを用い、パターン部の
みを照射して描画を行うベクター型電子ビーム描画装置
は、描画速度の面でラスター型に比べ有利で、レチクル
の作製においても用いられるようになっできた。尚、こ
のようなベクター型の電子ビーム描画装置を、成形ビー
ム型あるいはシエイプドビーム型の電子ビーム描画装置
とも言う。

【０００４】ところで、電子ビーム描画装置用の図形デ
ータは、電子ビーム描画装置に固有の分割領域に分割さ
れ、各分割領域内に収まる図形データのみを持つもの
で、一般には、台形表示の図形データあるいは、台形、
矩形、正方形、平行四辺形の各図形データから成ってい
る。矩形、正方形、平行四辺形の各図形は、台形表示の
一部として扱うことができ、全て台形図形データから成
るとすることもできる。基本的に、各図形は、図形位
置、図形の形状を定義されて表現されている。尚、ここ
では、台形の平行な２辺側がｘ方向、ｙ方向のものを、
それぞれ、ｘ方向切り台形、ｙ方向切り台形と言ってい
る。

【０００５】このような電子ビーム描画装置用の図形デ
ータについては、１つの分割領域内毎に、繰り返しのあ
る図形、即ち、Ｘ、Ｙ方向のピッチ送りだけでその位置
を定義できる同一図形を含む場合、通常、各同一形状の
図形毎に、始発図形位置、図形の形状、送りピッチ、配
列数を定義して、データ圧縮を行っている。例えば、幅
Ｗ１、高さＨ１の矩形を、始発図形位置（Ｘ１、Ｙ１）
として、Ｘ方向にＮｘ個、Ｙ方向にＮｙ個、それぞれピ
ッチＰｘ、Ｐｙで配列させる場合には、（Ｘ１、Ｙ１、
Ｗ１、Ｈ１、Ｐｘ１、Ｐｙ１、Ｎｘ、Ｎｙ）と表してい
る。図４（ａ）に示す、各図形を全て１つ１つ、個別に
表現すると、図形分だけ（３１個）図形データが必要で
あるが、図４（ｂ）に示すように、Ａ１、Ｂ１、Ｃ１、
Ｃ２、Ｄ１、Ｅ１、Ｃ３、Ｆ１、Ｇ１、Ｃ４、Ａ２、Ｂ
２、Ｃ５の図形をそれぞれ用いた、圧縮したデータ１３
個で表すことができる。尚、Ａ（ｍ１、ｎ１）、Ａ（ｍ
１＋１、ｎ１）は分割領域を示している。このように、
現状でも電子ビーム描画装置用の図形データは圧縮され
た表現が用いられているが、分割領域の境で絵柄が切れ
ることや、データの表現が図形単位であるため、データ
数が多くなる。

【０００６】このため、近年の設計ルールの縮小化に伴
い、１枚のレチクルを作成するための図形データ量が増
大化の一途をたどり、最近では、もはや扱えるデータ量
が実用レベルでは限界となってきた。特に、更に演算処
理を施す場合には、実用レベルでは、その処理が難しく
なってきた。

【０００７】また、電子ビーム描画装置用の図形データ
は、基本的に台形表示を基本とするものであるが、各描
画装置毎に、データの分割領域や表現が若干異なるだけ
であるが、１つ描画装置用の図形データを他機種へその
まま転用することは困難で、他機種への転用が容易にで
きる方法が求められていた。

【０００８】また、図５（ａ）に示すように、絵柄が、
複数の分割領域Ａ（ｍ、ｎ）、Ａ（ｍ＋１、ｎ）、Ａ
（ｍ、ｎ＋１）、Ａ（ｍ＋１、ｎ＋１）に跨がる場合、
それぞれの分割領域においては、それぞれ、図形データ
、、、で表現されている。この電子ビーム描画
装置用の図形データ全体に、所定のサイズだけ、縮小処
理する縮小サイジング処理を施すと、図５（ｂ）に示す
ように、縮小された図形データ’、’、’、’
が得られ、分割領域間の境界では、本来隙間があっては
ならないにもかかわらず、図形データ間に隙間が発生し
てしまう。即ち、絵柄によっては、サイジング処理によ
り、変形が起きることがある。このため、縮小サイジン
グ処理等の演算処理を、図形に変形をもたらすことなく
簡単に行える処理も求められている。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】このような状況のも
と、電子ビーム描画においては、近年の設計ルールの縮
小化に伴う図形データ量の増大化に対応でき、各種描画
装置へその図形データを転用できる方法が求められてい
た。更には、縮小サイジング処理等の演算処理を、図形
に変形をもたらすことなく簡単に行える方法も求められ
ていた。本発明はこれに対応するもので、具体的には、
電子ビーム描画装置に固有の分割領域に分割され、各分
割領域内に収まる図形データのみを持つ、電子ビーム描
画装置用の図形データを、電子ビーム描画装置へ提供す
るための、描画図形データベース装置で、近年の設計ル
ールの縮小化に伴う図形データ量の増大化に対応でき、
各種電子ビーム描画装置へその図形データを供給できる
描画図形データベース装置を提供しようとするものであ
る。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明の描画図形データ
ベース装置は、電子ビーム描画装置に固有の分割領域に
分割され、各分割領域内に収まる図形データのみを持
つ、電子ビーム描画装置用の図形データを、電子ビーム
描画装置へ提供するための、描画図形データベース装置
であって、描画図形データを分割領域を無くした座標系
で表わしたポリゴンデータで保管し、且つ、保管された
描画図形データから、所望の図形情報を検索して、取り
出す検索機能を備えたデータベース部と、検索機能によ
り取り出されたポリゴンデータからなる図形情報を、所
望の電子ビーム描画装置用の図形データに変換して供給
するインターフェース部とを備えており、前記データベ
ース部は、同一形状の図形データについては、基本図形
情報とその配置情報とで表現した、データ量を圧縮した
圧縮データの状態で、描画図形データを保管するもので
あることを特徴とするものである。そして、上記におい
て、インターフェース部は、電子ビーム描画装置毎に、
所定の分割領域、描画グリット（最小アドレスユニッ
ト）、描画装置のデータフォーマットがｘ方向切り台形
表示なのか、ｙ方向切り台形表示なのか等の、変換パラ
メータを決めて、データベース部に保管された、圧縮デ
ータの状態のポリゴンデータからなる描画図形データ
を、所望の描画装置用の図形データに変換して、描画装
置へ図形データを供給するものであることを特徴とする
ものである。そしてまた、上記において、検索機能は、
保管された描画図形データから、指定された図形の情報
あるいは指定領域内の図形の情報を検索して取り出し、
取りだされた図形の情報をインターフェース部へ送るも
のであることを特徴とするものである。また、上記にお
いて、圧縮データの状態のポリゴンデータからなる描画
図形データに対して、演算処理を施す演算処理部を設け
ていることを特徴とするものである。

【００１１】圧縮データとしては、１つの図形の繰り返
し配列を、１つの図形表現部と、配置情報にて表現する
ものや、複数の図形からなる図形群が、干渉しないで
（重なり合わないで）、複数繰り返し配列されている図
形データを、１つの図形群の各図形を表現する複数の図
形表現部と、図形群の配置情報とで表現するものがあ
る。ここでは、上記、１つの図形の繰り返し配列におけ
る１つの図形や、複数の図形からなる図形群を単にセル
と言い、セル単位の圧縮とも言う。

【００１２】

【作用】本発明の描画図形データベース装置は、このよ
うな構成にすることにより、近年の設計ルールの縮小化
に伴う図形データ量の増大化に対応でき、各種電子ビー
ム描画装置へその図形データを供給できる描画図形デー
タベース装置の提供を可能とした。具体的には、描画図
形データを分割領域を無くした座標系で表わしたポリゴ
ンデータで保管し、且つ、保管された描画図形データか
ら、所望の図形情報を検索して、取り出す検索機能を備
えたデータベース部と、検索機能により取り出されたポ
リゴンデータからなる図形情報を、所望の電子ビーム描
画装置用の図形データに変換して供給するインターフェ
ース部とを備えており、前記データベース部は、同一形
状の図形データについては、基本図形情報とその配置情
報とで表現した、データ量を圧縮した圧縮データの状態
で、描画図形データを保管するものであることにより、
図形データ量の増大化に対応できるものとしている。そ
して、インターフェース部は、電子ビーム描画装置毎
に、所定の分割領域、描画グリット（最小アドレスユニ
ット）、描画装置のデータフォーマットがｘ方向切り台
形表示なのか、ｙ方向切り台形表示なのか等の、変換パ
ラメータを決めて、データベース部に保管された、圧縮
データの状態のポリゴンデータからなる描画図形データ
を、所望の描画装置用の図形データに変換して、描画装
置へ図形データを供給するものであることにより、各種
電子ビーム描画装置へその図形データを供給できるもの
としている。また、検索機能は、保管された描画図形デ
ータから、指定された図形の情報あるいは指定領域内の
図形の情報を検索して取り出し、取りだされた図形の情
報をインターフェース部へ送るものであることにより、
図形情報の扱いを簡単なものにしている。更にまた、圧
縮データの状態のポリゴンデータからなる描画図形デー
タに対して、演算処理を施す演算処理部を設けているこ
とにより、縮小サイジング処理等の演算処理を、図形に
変形をもたらすことなく簡単に行えるものとしている。

【００１３】

【発明の実施の形態】本発明の描画図形データベース装
置の実施の形態を図に基づいて説明する。図１は、本発
明の描画図形データベース装置の実施の形態の第１の例
の概略構成図で、図２は本発明の描画図形データベース
装置の実施の形態の第１の例の概略構成図で、図３は、
データベースから電子ビーム描画装置へのデータ変換、
供給を具体的に説明するための図である。図１、図２
中、１００は描画図形データベース装置、１１０はデー
タベース部、１２０はインターフェース部、１３１〜１
３３は電子ビーム描画装置、２００は描画図形データベ
ース、２１０はデータベース部、２２０はインターフェ
ース、２３１〜２３３は電子ビーム描画装置、２４０は
演算処理部、Ｆａ、Ｆｂ、Ｆｃ、Ｆｄは基本図形であ
る。

【００１４】はじめに、本発明の描画図形データベース
装置の実施の形態の第１の例を図１に基づいて説明す
る。本例は、電子ビーム描画装置に固有の分割領域に分
割され、各分割領域内に収まる図形データのみを持つ、
電子ビーム描画装置用の図形データを、複数の電子ビー
ム描画装置へ提供するための、描画図形データベース装
置である。そして、描画図形データを分割領域を無くし
た座標系で表わしたポリゴンデータで保管し、且つ、指
定された図形データあるいは指定領域内の図形データを
検索して、取り出すことできる検索機能を備えたデータ
ベース部１１０と、保管された描画図形データを、所望
の電子ビーム描画装置用の図形データに変換して供給す
るインターフェース部１２０とからなり、データベース
部１１０は、同一形状の図形データについては、基本図
形情報とその配置情報とで表現して、データ量を圧縮し
た圧縮データの状態で、描画図形データを保管するもの
であるが、保管されているポリゴンデータからなる図形
データの演算処理を行う機能を備えていない。

【００１５】説明を分かり易くするため、図３（ａ）に
示す、同じ形状の絵柄（Ｆ１、Ｆ２、Ｆ３、Ｆ４）を持
つポリゴンデータからなる図形データを、図１に示す本
例のデータベース装置１００を用いて、電子ビーム描画
装置用の図形データとして変換、供給する処理する例を
挙げ、本例の各部の機能を説明する。絵柄（図形）Ｆ１
〜Ｆ４は、繰り返して配列される絵柄の形状を表現する
基本図形情報と、その配置情報（配置の位置座標）によ
ってデータ量を圧縮した状態でデーターベース部１１０
内に保管されている。尚、ここで、ポリゴンデータのデ
ータの圧縮について簡単に説明しておく。ポリゴンデー
タは、絵柄の外周のみを示すもので、絵柄の外周の各コ
ーナー部（図示していないが、左回りに各コーナーをＣ
０、Ｃ１、Ｃ２、・・・Ｃｎとする。）の位置座標を順
に列記して示すことができるが、通常は、各コーナー部
の位置座標は、始発のコーナー部Ｃ０座標位置（配置位
置）と、各位置（Ｃ１、Ｃ２・・・Ｃｎ）の座標を隣の
コーナー部からの変位量で示される。即ち、図３（ａ）
の各絵柄（図形）Ｆｍ（ｍ＝１、２、３、４）は、それ
ぞれ、（Ｘｍ、Ｙｍ、ｄｘｍ１、ｄｙｍ１、ｄｘｍ２、
ｄｙｍ２・・・・・・、ｄｘｍ１２、ｄｙｍ１２）で表
されるが、Ｆ１〜Ｆ４が同じ形状であれば、（ｄｘｍ
１、ｄｙｍ１、ｄｘｍ２、ｄｙｍ２・・・・・・、ｄｘ
ｍ１２、ｄｙｍ１２）が、ｍ＝１、２、３、４で一致す
ることより、重複する記載を止め、この部分（図形情
報）は、図形の形状の表現部分として、１回だけ表現
し、これと、Ｆ１〜Ｆ４の各発のコーナー部の座標位置
（Ｘｍ０、Ｘｍ０）（ｍ＝１、２、３、４）、とで絵柄
Ｆ１〜Ｆ４の全てを表現できる。このように、形状が同
一の図形（絵柄）について、重複する記載を止め、基本
図形情報（同一図形の図形情報）と、図形の配置情報
（配置位置座標）とで、同一形状の絵柄を表現した状態
が、データ量を圧縮した状態と言っている。１つの図形
の繰り返し配列は、１つの図形表現部と、配置情報にて
表現し、複数の図形からなる図形群が、干渉しないで
（重なり合わないで）、複数繰り返し配列されている図
形の配置を、前記１つの図形群の各図形を表現する、複
数の図形表現部と、これを一体として配置する情報であ
る図形群の配置情報とで表現する。既に述べた通り、１
つの図形の繰り返し配列における１つの図形や、複数の
図形からなる図形群を単にセルと言い、セル単位で配列
してデータ圧縮するため、このようなデータの圧縮をセ
ル圧縮とも言う。

【００１６】データーベース部１１０の検索機能は、保
管されている描画図形データから所望の図形情報、即
ち、図形Ｆ１〜Ｆ４の図形の形状の表現部分と、その配
置情報を検索して、取り出し、インターフェース部１２
０へ、その情報を送り込む。処理する描画図形データ
が、Ｆ１〜Ｆ４のように単一の図形形状の繰り返しでな
い場合には、対応した検索を行う。例えば、電子ビーム
描画装置用のデータにおける分割領域相当部毎に、検索
して、その領域の図形情報を取り出す。

【００１７】データーベース部１１０の検索機能により
取り出された、図３（ａ）にその絵柄（図形）を示す、
圧縮された図形データは、このままでは、電子ビーム描
画装置（１３１〜１３３）で使用できる形態でないの
で、インターフェース部１２０を介して、所定の形態の
図形データに変換して、所望の電子ビーム描画装置へ、
その図形データを供給する。電子ビーム描画装置種毎
に、使用できる描画装置用の図形データが異なるため、
これに対応するもので、インターフェース部１２０は、
電子ビーム描画装置毎に、所定の割領域、描画グリット
（最小アドレスユニット）、描画装置のデータフォマッ
トがｘ方向切り台形表示なのか、ｙ方向切り台形表示な
のか等の、変換パラメータを決めて、データベース部１
２０に保管された、圧縮データの状態のポリゴンデータ
からなる描画図形データを、所望の描画装置用の図形デ
ータに変換して、描画装置へ図形データを供給する。こ
のように、インターフェー部１２０を介して、図３
（ａ）に図示される図形データは、例えば、図３（ｂ）
のように、分割される。

【００１８】図３（ｂ）の絵柄ｆ１、ｆ２、ｆ３、ｆ４
は、それぞれ、図３（ａ）の絵柄、Ｆ１、Ｆ２、Ｆ３、
Ｆ４に対応するもので、ｆ１、ｆ２、ｆ３、ｆ４の各絵
柄は、矩形（一般的な台形表示の１つの型）図形に更に
分割されている。即ち、絵柄ｆ１は、ｆ１１〜ｆ１７の
７個の図形にて併せて表現される。図３（ｂ）中、Ａ
（ｍ１、ｎ１）、Ａ（ｍ１＋１、ｎ１）は分割領域を示
し、分割領域の境界（点線で表示）で、絵柄ｆ３は、更
に分割されている。分割領域のサイズは、電子ビーム描
画装置種によりそれぞれ固有に決められており、これに
合わせる。各図形は、図形位置、図形の形状を定義され
て表現されているが、ｙ方向を基準とするもの（ｙ方向
切り台形表示）やｘ方向を基準とするもの（ｘ方向切り
台形表示）があり、これに対応して変換は行う。また、
最小グリッド（アドレスサイズ）は、描画条件、電子ビ
ーム描画装置種等に合わせて決めるが、これも変換のパ
ラメータとしておく。

【００１９】尚、インターフェース部１２０に、繰り返
し図形検索機能を持たせおけば、先の図４（ｂ）の説明
において述べたように、図３（ｃ）に示す、図形ｆ１
１、ｆ１２、ｆ１４、ｆ２４、ｆ３１、ｆ３２、ｆ３
４、ｆ３１’、ｆ３２’、ｆ３４’、ｆ４１、ｆ４２、
ｆ４４の１３個で、絵柄ｆ１〜ｆ４を表現することがで
きる。

【００２０】上記では、図３（ａ）に示す、図形形状
（Ｆ１〜Ｆ４の図形形状）を挙げたが、繰り返し配列さ
れる図形（基本図形）としては、これに限定されない。
例えば、図１に示すような図形（基本図形）Ｆａ、Ｆ
ｂ、Ｆｃ、Ｆｄでも良い。各基本図形毎に、基本図形情
報を持ち、これを配置する配置情報も持つ。更に、これ
に限定されず、例えば、基本図形を所定の％で縮小ない
し拡大する指示で表現する方法で、元の基本図形とは実
質的に異なる基本図形を持たせても良い。

【００２１】次に、本発明の描画図形データベース装置
の実施の形態の第２の例を図２に基づいて説明する。本
例も、第１の例と同様、電子ビーム描画装置に固有の分
割領域に分割され、各分割領域内に収まる図形データの
みを持つ、電子ビーム描画装置用の図形データを、複数
の電子ビーム描画装置へ提供するための、描画図形デー
タベース装置で、描画図形データを分割領域を無くした
座標系で表わしたポリゴンデータで保管し、且つ、指定
された図形データあるいは指定領域内の図形データを検
索して、取り出すことできる検索機能を備えたデータベ
ース部２１０と、保管された描画図形データを、所望の
電子ビーム描画装置用の図形データに変換して供給する
インターフェース部２２０とを備え、データベース部２
１０は、同一形状の図形データについては、基本図形情
報とその配置情報とで表現して、データ量を圧縮した圧
縮データの状態で、描画図形データを保管するものであ
るが、第１の例とは異なり、保管されているポリゴンデ
ータからなる図形データの演算処理を行う演算処理部２
４０を備えたものである。簡単には、第２の例は、第１
の例のデーターベース装置１００に、演算処理部を付加
したもので、ここでは、演算処理部についてのみ説明し
ておく。

【００２２】先に、図５において説明したように、電子
ビーム描画装置用の図形データを縮小サイジング処理す
ると、分割領域の境に隙間（図形の変形）が発生するこ
とがあり、問題となっていたが、データーベース部２１
０に保管されたポリゴンデータの状態で、図形データ
を、演算処理部２４０にて、演算処理してしまうことに
より、これを防止できる。即ち、ポリゴンデータの縮小
サイジング処理は、各絵柄（図形）の各コーナー部を内
側に所定量だけ移動することにより得られる新たな座標
位置を、それぞれ新たなコーナー部として、新たに絵柄
を表現すれば良いからである。複数の同一図形を圧縮し
て表現したポリゴンデータの圧縮データ（データ量を圧
縮して表現した部分）についても、図形表現部と、各、
始発コーナー部の位置座標を新たに算出して、新たに、
圧縮データを得ることができる。

【００２３】上記では、演算処理として縮小サイジング
処理を挙げたが、電子ビーム描画装置用の図形データの
拡大サイジング処理にも同様に適用できる。また、電子
ビーム描画装置用の反転処理（リーバース処理）にも適
用できることは言うまでもない。更に、これ以外の演算
にも適用は可能である。

【００２４】

【発明の効果】本発明は、上記のように、近年の設計ル
ールの縮小化に伴う図形データ量の増大化に対応でき、
各種電子ビーム描画装置へその図形データを供給できる
描画図形データベース装置の提供を可能とした。同時に
図形演算を容易にでき、且つ、図形演算の結果、変形が
生じることのない図形演算処ができる描画図形データベ
ース装置の提供を可能とした。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の描画図形データベース装置の実施の形
態の第１の例の概略構成図

【図２】本発明の描画図形データベース装置の実施の形
態の第１の例の概略構成図

【図３】データベースから電子ビーム描画装置へのデー
タ変換、供給の具体例を説明するための図

【図４】電子ビーム描画装置用の図形データのデータの
圧縮を説明するための図

【図５】電子ビーム描画装置用の図形データの縮小サイ
ジング処理の問題点を説明するための図

【符号の説明】

１００描画図形データベース装
置１１０データベース部１２０インターフェース部１３１〜１３３電子ビーム描画装置２００描画図形データベース装
置２１０データベース部２２０インターフェース部２３１〜２３３電子ビーム描画装置２４０演算処理部Ｆａ、Ｆｂ、Ｆｃ、Ｆｄ基本図形

フロントページの続き (72)発明者渡辺智東京都新宿区市谷加賀町一丁目１番１号大日本印刷株式会社内Ｆターム(参考） 5B050 AA04 BA18 EA10 FA19 GA08 5F056 CA02 CA22

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】電子ビーム描画装置に固有の分割領域に
分割され、各分割領域内に収まる図形データのみを持
つ、電子ビーム描画装置用の図形データを、電子ビーム
描画装置へ提供するための、描画図形データベース装置
であって、描画図形データを分割領域を無くした座標系
で表したポリゴンデータで保管し、且つ、保管された描
画図形データから、所望の図形情報を検索して、取り出
す検索機能を備えたデータベース部と、検索機能により
取り出されたポリゴンデータからなる図形情報を、所望
の電子ビーム描画装置用の図形データに変換して供給す
るインターフェース部とを備えており、前記データベー
ス部は、同一形状の図形データについては、基本図形情
報とその配置情報とで表現した、データ量を圧縮した圧
縮データの状態で、描画図形データを保管するものであ
ることを特徴とする描画図形データベース装置。
【請求項２】請求項１において、インターフェース部
は、電子ビーム描画装置毎に、所定の分割領域、描画グ
リット、描画装置のデータフォーマットがｘ方向切り台
形表示なのか、ｙ方向切り台形表示なのか等の、変換パ
ラメータを決めて、データベース部に保管された、圧縮
データの状態のポリゴンデータからなる描画図形データ
を、所望の描画装置用の図形データに変換して、描画装
置へ図形データを供給するものであることを特徴とする
描画図形データベース装置。
【請求項３】請求項１ないし２において、検索機能
は、保管された描画図形データから、指定された図形の
情報あるいは指定領域内の図形の情報を検索して取り出
し、取りだされた図形の情報をインターフェース部へ送
るものであることを特徴とする描画図形データベース装
置。
【請求項４】請求項１ないし３において、圧縮データ
の状態のポリゴンデータからなる描画図形データに対し
て、演算処理を施す演算処理部を設けていることを特徴
とする描画図形データベース装置。