DE4432984C2 - Vorrichtung zum Bestrahlen von Oberflächen mit Elektronen - Google Patents
Vorrichtung zum Bestrahlen von Oberflächen mit ElektronenInfo
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Description
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Bestrahlen
von Oberflächen mit Elektronen nach dem Oberbegriff des
Anspruches 1.
Solche Vorrichtungen erzeugen Niederenergie-Elektronen
strahlen, die aus miniaturisierten Vakuumkammern aus
treten. Sie werden zur Elektronenstrahlhärtung fester
und flexibler Materialien sowie im Druckbereich einge
setzt. In diesen Bereichen werden unterschiedliche An
forderungen an die Vorrichtungen bezüglich der Elek
tronenenergien un-d Elektronenstrahlleistungen gestellt.
Bei der Elektronenstrahlhärtung von Beschichtungen auf
festen Substraten, hauptsächlich auf Möbelteilen, Türen,
Schichtstoffplatten und Leisten, sind relativ hohe Elek
tronenenergien bis 280 keV erforderlich. Hier sind zum
Teil Schichten mit Flächendichten von 200 g/m² durch
zuhärten. Da die Produktionsgeschwindigkeiten im Möbel
bereich nicht durch die Härtung, sondern durch andere
verfahrenstechnische Schritte, wie Ein- und Ausgabe,
Schleifen usw. bestimmt werden, sind je nach Härtedosis
kleine bis mittlere Elektronenstrahlleistungen erfor
derlich.
Wenn dagegen eine geschlossene Oberfläche vorliegt, wie
das zum Beispiel bei papier- oder folienbeschichteten
Substraten der Fall ist, und die Schichtstärken unter
40 g/m² liegen, dann kann vorteilhaft auch mit ge
ringeren Elektronenenergien gearbeitet werden. Bei
der Elektronenstrahlhärtung von Beschichtungen auf
flexiblen Materialien wird oft von Rolle zu Rolle gear
beitet. Hier sind Produktionsgeschwindigkeiten zwischen
100 und 300 m/min üblich. Dabei liegen die Flächen
dichten der Beschichtungen im Bereich von 1 bis 30 g/m².
Erforderlich sind kleine Elektronenenergien und mittlere
Elektronenstrahlleistungen.
Im Druckbereich, vor allem dem Rollen-Offset-Druck errei
chen die Maschinengeschwindigkeiten 600 bis 1000 m/min.
Die Druckgeschwindigkeiten liegen etwas niedriger.
Trotz relativ geringer Härtedosen von Druckfarben sind
extrem hohe Elektronenstrahlleistungen bei geringen
Elektronenenergien erforderlich.
Es werden hierfür Vorrichtungen mit Elektronenenergien
zwischen 150 und 250 keV und Strahlströmen zwischen 30
und 300 mA eingesetzt.
In "Nuclear Instruments & Methods
in Physics Research", Section B 1992, Article "LEA
electron accelerators for radiation processing" ist eine
Vorrichtung mit einer drahtförmigen Linearkathode be
schrieben, in der die Elektronen ohne Steuergitter über
eine rohrförmige Elektrode formiert und durch ein Elek
tronenstrahlfenster ausgeschleust werden. Keine Vor
teile werden in der Verwendung von mehreren parallel
zueinander angeordneten, jeweils aus drahtförmiger Ka
thode und rohrförmiger Formierelektrode bestehenden
Strahlerzeugungssystemen gesehen.
Ferner ist es aus der US-PS 3701915 bei einer Vorrich
tung zum Erwärmen, Schmelzen und Verdampfen von Ma
terialien mittels Elektronenstrahlen bekannt, für das
Strahlerzeugungssystem zwei zueinander parallele draht
förmige Kathoden vorzusehen, die von einer gemeinsamen
Fokussierelektrode auf der dem zu erzeugenden Elek
tronenstrahl abgewandten Seite umgeben sind.
Beim Ausschleusen der Elektronen aus der unter Vakuum
stehenden Vorrichtung durch ein strahlungsdurchlässiges
Fenster, beispielsweise aus dünner Titanfolie, treten
Energieverluste auf. Der Energieverlust in einer
15 µm-Titanfolie beträgt für Elektronen mit Energien von
150 keV etwa 25%. Zusätzliche Verluste entstehen an
den Rippen des Stützgitters und durch das schräge Auf
treffen der Elektronen auf das Austrittsfenster.
Elektronenstrahlfenster sind in der DE 26 06 169 C2
näher beschrieben.
Durch das Elektronenstrahlfenster wird die untere
Grenze der Elektronenenergie festgelegt. Eine obere
Grenze der Elektronenstrahlleistung erhält man durch
die maximal mögliche Strombelastung/cm² Fensterfläche,
die 0,2 mA/cm² nicht überschreiten soll.
Es wäre bei derartigen Vorrichtungen ohne Steuergitter
wünschenswert, wenn der Energieverlust beim Ausschleusen
aus dem Elektronenstrahlfenster verringert und gleiche
oder größere Elektronenstrahlleistungen bei kleineren
Elektronenenergien erreicht werden könnten.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Vorrich
tung zum Bestrahlen von Oberflächen mit Elektronen zu
schaffen, mit der eine Erhöhung der Elektronenstrahl
leistung erreicht wird und die Energieverluste beim Aus
schleusen aus dem Elektronenstrahlfenster verringert
werden.
Ausgehend von dem im Oberbegriff des Anspruches 1 be
rücksichtigten Stand der Technik ist diese Aufgabe ge
löst mit den im kennzeichnenden Teil des Anspruches 1
angegebenen Merkmalen.
Vorteilhafte Weiterbildungen der Erfindung sind in den
Unteransprüchen angegeben.
Durch die Merkmale des Anspruches 1 ist bei gleichen
Emissionsbedingungen der Kathoden eine Verdopplung der
Strahlleistung gegeben, weil zwei parallel angeordnete
Kathoden in den Hohlraumsektionen vorgesehen sind. Hin
zukommt, daß durch die Aufteilung der emittierten
Elektronen in zwei Bestrahlungsfelder die Aufweitung
des Bestrahlungsfeldes halbiert wird, was zu einer Er
höhung der durch das Elektronenstrahlfenster dringenden
Elektronen führt, weil diese in wesentlich geringerer
Anzahl auf das übliche Loch- oder Schlitz-Stützgitter
auftreffen.
Unter rohrförmigem Hohlkörper werden hierbei sich alle
längserstreckenden geometrischen Körper wie z. B. Vier
kant-, Mehrkant-, Halbkreiskörper verstanden.
Der Hohlraum-Längsteiler ist ein Element, das den Hohl
raum des Hohlkörpers in Sektionen unterteilt. Seine
geometrische Form ist beliebig. Der Längsteiler kann
einstückig mit dem Hohlkörper ausgebildet oder als
separates Teil mit dem Hohlkörper verbunden sein.
Beispielsweise kann der Längsteiler durch das Anein
anderfügen von zwei sich über die Länge erstreckenden
Halbkreishohlkörpern gebildet werden.
Der Längsschlitz in dem Hohlkörper zusammen mit dem
Hohlraum-Längsteiler bildet einerseits elektrisch weit
gehend entkoppelte Hohlraumsektionen der Formierelek
trode und andererseits eine offene Anordnung zur Ver
meidung von Raumladungseffekten.
Durch die Merkmale des Anspruches 2 in Verbindung mit
den azentrischen Positionen der Kathoden liegt eine
stark reduzierte Symmetrie des Elektronenstrahlerzeuger
systems vor. Dies führt im Austrittsbereich des Längs
schlitzes zu einer Durchmischung der Elektronen
trajektorien was zu einer Homogenisierung der zwei Be
strahlungsfelder führt. Eine gleichmäßige Intensitäts
verteilung des Bestrahlungsfeldes im Bereich des Elek
tronenstrahlfensters verhindert somit eine frühzeitige
Beschädigung der Folie durch Überstrahlung.
Durch die Merkmale der Ansprüche 3 und 4 werden Frei
heitsgrade in der Ausbildung des Elektronenstrahler
zeugersystems gebildet, die eine Ein- und Nachjustierung
gestatten. Durch die Verschiebung des Längsteilers wird
eine Kippung der Normalen der Äquipotentialfelder der
beiden Hohlraumsektionen bewirkt. Die beiden Bestrah
lungsfelder sind hierdurch zur vertikalen Achse
hin- oder wegzukippen.
Der sich durch die Breite des Quersteges und die Breite
des Längsschlitzes des Hohlkörpers einstellende effek
tive Restspalt ist für den elektrischen Durchgriff des
Potentialfeldes in den Kathodenraum verantwortlich und
somit für die Brechkraft des statischen Beschleunigungs
feldes in der Nähe des Längsschlitzes. Durch Variation
der Breite des Quersteges und/oder durch Änderung der
geometrischen Form läßt sich daher die axiale Breite
der zwei Bestrahlungsfelder einstellen.
Ein Ausführungsbeispiel der Erfindung ist in der
Zeichnung dargestellt und wird im folgenden näher be
schrieben.
Es zeigen
Fig. 1 Eine Seitenansicht in schematischer Dar
stellung der erfindungsgemäßen Vorrichtung.
Fig. 2 Die von dem Elektronenstrahlerzeugersystem
ausgehenden Elektronentrajektorien eines
Bestrahlungsfeldes.
Fig. 3 Die Mittel zum Verstellen der Kathoden.
Fig. 4 Die Mittel zum Verstellen des Hohlraum-Längs
teilers.
Fig. 1 zeigt eine Vorrichtung mit dem erfindungsge
mäßen Elektronenstrahlerzeugersystem. Sie besteht aus
einer rohrförmigen Vakuumkammer 11 mit doppelwandigem,
wassergekühlten Gehäuse 12. In einer Seite 13 befindet
sich die Öffnung 14 für den Anschluß der Vakuumpumpe
15. Die Vakuumkammer 11 besitzt ferner ein Elektronen
strahlfenster 16. Es besteht aus einer Metallfolie 17,
vorzugsweise einer Titanfolie, und einem Metallstütz
gitter 18, vorzugsweise aus Kupfer, das an einem recht
eckigen Flansch 19 befestigt ist. Vorzugsweise konzen
trisch in der Vakuumkammer 11 ist das Elektronenstrahl
erzeugersystem angeordnet. Es besteht aus einem rohr
förmigen Hohlkörper 20 mit innenliegendem Hohlraum-Längs
teiler 21, welche die Formierelektrode bilden, und
je einer drahtförmigen Kathode 22, 23 in jedem vom Hohl
raum-Längsteiler 21 abgeteilten Hohlraumsegment 24, 25.
Die Kathoden 22, 23 bestehen aus zwei Wolframdrähten,
die mit Stromdurchgang erhitzt werden, so daß sie
thermische Elektronen emittieren. Die Formierelektrode
liegt zusammen mit den Kathoden 22, 23 auf negativem
Hochspannungspotential und ist deshalb isoliert in der
Vakuumkammer 11 befestigt. Hohlraumsegment 24 und
Kathode 23 sind in Fig. 2 vergrößert dargestellt und
weiter unten näher beschrieben. Der Hohlkörper 20 weist
einen zum Elektronenstrahlfenster 16 offenen Längs
schlitz 26 auf. Der Längsschlitz 26 in der Formier
elektrode hat eine Öffnungsbreite in der Größenordnung
des Hohlkörperradius. Er bildet zusammen mit einem senk
recht zum Längsteiler 21 verlaufenden Quersteg 27, der
zum offenen Bereich des Längsschlitzes 21 weist, einen
Restspalt 28 (Fig. 2), der für den elektrischen Durch
griff des Potentialfeldes in die, die Kathoden 22, 23
enthaltenden Hohlraumsegmente 24, 25 verantwortlich ist.
Durch Variation der Breite und/oder geometrischer Form
des Quersteges 27 wird die Brechkraft des statischen
Beschleunigungsfeldes verändert und die axiale Breite B
(Fig. 1) der von den Kathoden 22, 23 emittierten Be
strahlungsfelder 29, 30 der Elektronen eingestellt.
Längsschlitz 26 und Längsteiler 21 mit Quersteg 27 ent
koppeln dabei die Hohlraumsektionen 24, 25 elektrisch,
bilden jedoch eine offene Anordnung zur Vermeidung von
Raumladungseffekten.
Längsteiler 21 mit Quersteg 27 sind über Mittel 31
vertikal in den Pfeilrichtungen 32, 33 verstellbar und/oder
um seine Längsachse in den Pfeilrichtungen 34, 35
schwenkbar. Wie Fig. 4 zeigt, sind an mindestens zwei
Stellen des Längsteilers 21 Halteelemente 42 an der dem
Quersteg 27 gegenüberliegenden Seite befestigt. In jedem
Halteelement 42 sind links und rechts von dem Längs
teiler 21 Gewindebohrungen 40, 41 vorgesehen, in denen
sich Gewindeschrauben 43, 44 befinden. In der Mitte der
Halteelemente 42 ist eine weitere Gewindebohrung 45 an
geordnet. Eine durch die Wand 46 des Hohlkörpers 20 ge
führte Senkschraube 47 fixiert den Längsteiler 21 zum
Hohlkörper 20. Oberhalb der Gewindeschrauben 43, 44
weist die Wand 46 des Hohlkörpers 20 Öffnungen 48, 49
auf. Die Gewindeschrauben 43, 44 liegen mit ihrer Ein
schraubseite an der Innenkontur der Wand 46 an. Sie
stellen Anschläge für die vertikale Höhe des Längs
teilers 21 dar. Durch unterschiedlich tiefes Einschrau
ben der Gewindeschrauben 43, 44 wird die Position des
Längsteilers 21 in vertikaler Richtung 32, 33 einge
stellt. Die Einstellung erfolgt durch die Öffnungen 48,
49 nach Lösen der Senkschraube 47. Im Rahmen der Ge
windetoleranzen der Senkschraube 47 kann der Längs
teiler 21 in Richtung 34, 35 gekippt werden. Ebenso
sind die Kathoden 22, 23 in vertikaler und horizontaler
Richtung über Mittel 50 mechanisch einstellbar. In
Fig. 3 sind die Mittel 50 schematisch dargestellt. Sie
bestehen aus einem T-förmigen Halter der mit seinen
Armen 51, 52 mit dem Hohlkörper 20 verbunden ist. In
der Mitte des Stegs 53 ist ein in der Vertikalen 54
(Fig. 1) verlaufendes Langloch 55 vorgesehen. Vor dem
Halter ist eine sich über den Steg 53 erstreckende
Platte 56, die mittels Schrauben 57, 58, welche durch
das Langloch geführt sind, an dem Halter befestigt ist.
Seitlich von dem Steg 53 sind die Kathoden 22, 23 in
der Platte 56 angeordnet. Durch Anschrauben der Platte
56 an unterschiedlichen Stellen im Langloch 55 lassen
sich die Kathoden in der Vertikalen 54 verschieben,
wodurch sich die Position der Kathode 22, 23 zu der
Formierelektrode verändert. Eine Kippung der Kathoden
22, 23 und eine Verstellung in der Horizontalen ist
innerhalb des Spiels der Schrauben 57, 58 im Langloch
55 möglich.
Selbstverständlich sind andere Ausführungen der Mittel 31 und 50
zum Verstellen des Längsteilers 21 und der
Kathoden 22, 23 möglich.
Durch die Verstellung der Kathoden 22, 23 und des Längs
teilers 21 wird eine Einstellbarkeit und Nachjustierung
des Elektronenstrahlerzeugersystems erzielt. Eine Ver
stellung des Längsteilers 21 mit Quersteg 27 bewirkt
eine Kippung der Normalen der Äquipotentialfelder 37
der beiden Hohlraumsektionen 24, 25. Die beiden Be
strahlungsfelder B können so zur vertikalen Achse 54
hin- und weggekippt werden.
Die azentrische, parallele Anordnung der Kathoden 22,
23 und die vorstehend beschriebene Ausbildung der For
mierelektrode bewirken eine Potentialverteilung, die
eine Formierung der von den Kathoden emittierten Elek
tronen in die zwei Bestrahlungsfelder 29 und 30 bewirkt.
Durch die Aufteilung der Bestrahlung in zwei Bestrah
lungsfelder 29 und 30 ist die Divergenz jedes Bestrah
lungsfeldes halbiert gegenüber Anwendungen mit nur einer
Kathode. Die Bestrahlungsfelder 29, 30 treffen auf das
Elektronenstrahlfenster 16 und werden durch dieses mit
einem hohen Wirkungsgrad transmittiert, weil die Elek
tronen nahezu vertikal auf die Folie auftreffen und die
Streuung an dem üblichen Loch- oder Schlitz-Stützgitter
verkleinert ist. Unterhalb des Elektronenstrahlfensters
16 treffen die Elektronen auf das zu bearbeitende Werk
stück, das mittels anderer, hier nicht näher beschrie
bener Vorrichtungen vorbeigeführt wird.
Bei gleichen Emissionsbedingungen der Kathoden ist eine
Verdoppelung der Elektronenstrahlleistung bei dem er
findungsgemäßen Elektronenstrahlerzeugersystem durch
die Anordnung von zwei Kathoden 22, 23 und deren
relative elektrische Entkopplung gegeben. Elektronen
strahlerzeuger mit mehr als zwei Kathoden, die jeweils
in einem Hohlraumsegment angeordnet sind, sind vorteil
haft möglich.
Durch den Längsteiler 21 mit Quersteg 27 und die azen
trischen Positionen der Kathoden 22, 23 liegt eine
stark reduzierte Symmetrie des Elektronenstrahlerzeuger
systems vor. Dies führt im Bereich 38 zu einer Durch
mischung der Elektronentrajektorien, wodurch sich kein
scharfer Crossover ausbildet. Das bewirkt eine Homo
genisierung der Bestrahlungsfelder 29 und 30 mit der
gleichen Elektronenstrahlleistung. Eine gleichmäßige
Intensitätsverteilung der Bestrahlungsfelder im Bereich
des Elektronenstrahlfensters 16 verhindert somit eine
Beschädigung der Folie 17 durch Überstrahlung.
Werden die Kathoden 22, 23 parallel geschaltet, dann
ergibt sich beim Bruch einer Kathode, z. B. infolge von
Verschleiß, der Vorteil, daß der Belastungssprung und
die damit verbundene Spannungsüberhöhung in der Hoch
spannungsanlage gegenüber bei der Verwendung von nur
einer Kathode reduziert ist, wodurch eine Beschädigung
des Elektronenstrahlfensters 16 vermieden wird. Der
steuerungs- und schaltungstechnische Aufwand zum Schutz
des Systems kann dadurch wesentlich reduziert werden.
Claims (5)
1. Vorrichtung zum Bestrahlen von Oberflächen mit
Elektronen, insbesondere zum Härten von Oberflächen
schichten,
- - mit einer Vakuumkammer (11), die ein Elektronen strahlfenster (16) aufweist;
- - mit einer elektronenstrahldurchlässigen Folie (17), die die Vakuumkammer (11) im Bereich des Elektronenstrahlfensters (16) gegenüber dem Um gebungsmedium abschließt;
- - mit einem Elektronenstrahlerzeugersystem, beste hend aus drahtförmiger Kathode (22, 23) und For mierelektrode, die an eine Hochspannungs- und Strahlstromzuleitung angeschlossen sind, bei der die Formierelektrode als rohrförmiger Hohlkörper (20) mit einem zum Elektronenstrahlfenster (16) of fenen Längsschlitz (26) ausgebildet ist,
dadurch gekennzeichnet,
daß der rohrförmige Hohlkörper (20) der Formier
elektrode einen innenliegenden Hohlraum-Längs
teiler (21) aufweist und daß eine drahtförmige
Kathode (22, 23) in jedem der vom Längsteiler (21)
abgeteilten Hohlraumsegmente (24, 25) angeordnet
ist.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet,
daß der Längsteiler (21) mit einem Quersteg (27)
verbunden ist, der zum offenen Bereich des Längs
schlitzes (26) weist.
3. Vorrichtung nach Anspruch 1 oder 2,
dadurch gekennzeichnet,
daß der Längsteiler (21) über Mittel (31) vertikal
verstellbar und/oder um seine Längsachse schwenkbar
ist.
4. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 3,
dadurch gekennzeichnet,
daß die Kathoden (22, 23) in der Horizontalen
und/oder Vertikalen (54) verstellbar sind.
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Publications (2)
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Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6407492B1 (en) | 1997-01-02 | 2002-06-18 | Advanced Electron Beams, Inc. | Electron beam accelerator |
US5962995A (en) * | 1997-01-02 | 1999-10-05 | Applied Advanced Technologies, Inc. | Electron beam accelerator |
US6545398B1 (en) * | 1998-12-10 | 2003-04-08 | Advanced Electron Beams, Inc. | Electron accelerator having a wide electron beam that extends further out and is wider than the outer periphery of the device |
US6630774B2 (en) * | 2001-03-21 | 2003-10-07 | Advanced Electron Beams, Inc. | Electron beam emitter |
WO2007107211A1 (de) * | 2006-03-20 | 2007-09-27 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Vorrichtung zur eigenschaftsänderung dreidimensionaler formteile mittels elektronen |
GB2437716A (en) * | 2006-05-03 | 2007-11-07 | Converteam Ltd | Method of forming single-layer coils |
WO2011034985A1 (en) | 2009-09-17 | 2011-03-24 | Sciaky, Inc. | Electron beam layer manufacturing |
EP2555902B1 (de) | 2010-03-31 | 2018-04-25 | Sciaky Inc. | Raster-scanverfahren zum schichtweisen-aufbau mittels eines elekronenstrahls mit einer geschlossenen regelschleife |
DE102019118657B4 (de) | 2019-07-10 | 2024-07-25 | Vitalij Lissotschenko | Vorrichtung zur Erzeugung einer Elektronenstrahlung sowie 3D-Druck-Vorrichtung |
DE102019124684A1 (de) * | 2019-09-13 | 2021-03-18 | Vitalij Lissotschenko | Vorrichtung zur Erzeugung einer Elektronenstrahlung sowie 3D-Druck-Vorrichtung |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CA871303A (en) * | 1971-05-18 | United Kingdom Atomic Energy Authority | Electron guns | |
US3144552A (en) * | 1960-08-24 | 1964-08-11 | Varian Associates | Apparatus for the iradiation of materials with a pulsed strip beam of electrons |
US3701915A (en) * | 1971-01-04 | 1972-10-31 | Air Reduction | Electron beam gun |
FR2140840A5 (de) * | 1971-06-09 | 1973-01-19 | Thomson Csf | |
DE2606169C2 (de) * | 1976-02-17 | 1983-09-01 | Polymer-Physik GmbH & Co KG, 2844 Lemförde | Elektronenaustrittsfenster für eine Elektronenstrahlquelle |
FI70347C (fi) * | 1983-05-03 | 1986-09-15 | Enso Gutzeit Oy | Foerfarande och anordning foer aostadkommande av en av intensitetfoerdelning justerbar elektronridao |
FI70346C (fi) * | 1983-05-03 | 1986-09-15 | Enso Gutzeit Oy | Anordning foer aostadkommande av en elektronridao |
-
1994
- 1994-09-16 DE DE4432984A patent/DE4432984C2/de not_active Expired - Fee Related
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DE19518717C2 (de) | 2001-01-11 |
US5631471A (en) | 1997-05-20 |
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