DE2063598B2 - Ablenkeinrichtung für den Elektronenstrahl in einem Elektronenmikroskop - Google Patents
Ablenkeinrichtung für den Elektronenstrahl in einem ElektronenmikroskopInfo
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Description
Die vorliegende Erfindung betriPt eine Ablenkeinrichtung
für den Elektronenstrahl in einem Elektronenmikroskop mit in Strahlrichtung aufeinanderfolgenden,
durch Ablenkspulen gebildeten Ablenkstufen, von denen die erste den Strahl aus der optischen
Achse auslenkt und die zweite den Strahl in zur Auslenkung entgegengesetzten Richtung zurücklenkt, so
daß er unter einem bestimmten Winkel auf ein Objekt auftrifft, bei der Mittel vorgesehen sind, die etwaige
Auslenkungen des Strahles senkrecht zu der durch die gewünschten Auslenkungen gebildeten Ebene
kompensieren.
Eine derartige Ablenkeinrichtung ist bekannt (DT-AS 1 299 088).
Wenn man mittels eines Elektronenmikroskops ein Dunkelfeldbild und ein Elektronenbeugungsmuster
beobachten will, muß man die Probe mit einem Elektronenstrahl beleuchten können, ohne daß hierbei Beschränkungen
hinsichtlich des Neigungswinkels oder des Azimuts des Elektronenstrahls bestehen. Man
verwendet bis jetzt zur Erfüllung dieser Bedingung eine Ablenkeinrichtung mit zwei Ablenkstufen, von
denen jede zwei Paare Ablenkspulen enthält, von denen senkrecht zur optischen Achse und senkrecht
zueinander ausgerichtete Magnetfelder gebildet werden. Bei der Verwendung einer derartigen Ablenkeinrichtung
wird der Elektronenstrahl um den Betrag λ von der ersten Ablenkstufe und um den Betrag
ß, der proportional und entgegengesetzt zu » ist, von der zweiten Ablenkstufe abgelenkt, so daß die
Probe mit einem Neigungswinkel beleuchtet ist, der der Differenz zwischen den Winkeln α und β entspricht.
Da es sehr schwierig oder praktisch unmöglich ist, Spulen herzustellen, deren Magnetfelder exakt
senkrecht zueinander angeordnet sind, sowie Ablenkstufen, die exakt parallel zueinander wirken, ist es
schwierig, während der Beobachtung eine Verschiebung des Auftreffpunktes des Elektronenstrahles zu
vermeiden.
In der eingangs genannten DT-AS 1299 088 ist
eine Ablenkeinrichtung zur Vermeidung dieses Nachteiles beschrieben. Es werden hierzu zusätzliche Ablenkcpulen
in den Ablenkstufen als Kompensationsspulen verwendet, wobei die Ablenkströme der Kom-
pensationsspulen gemäß den Ablenkströmen der eigentlichen Spulen geregelt werden. Durch die Verwendung
der zusätzlichen Kompensationsspulen, die zur Vermeidung des ursprünglichen Fehlers dienen,
entstehen jedoch senkundäre Fehler. Diese beruhen
in erster Linie auf der Vergrößerung der Ablenkeinrichtung
sowie der zusätzlichen Schwierigkeit, diese komplizierte Ablenkeinrichtung mit einer ausreichenden
Präzision hinsichtlich ihrer Orientierung herzustellen, wodurch die gewünschte Genauigkeit nicht
erreicht wird.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ohne Zuhilfenahme weiterer Magnetfelder die störende
Auslenkung aus der einen Auslenkebene in eine andere zu kompensieren.
Diese Aufgabe wird bei der Ablenkeinrichtung der eingangs genannten Art erfindungsgemäß dadurch
gelöst, daß den Ablenkspule?1, einer Ablenkstufe
ein Ablenkstrom mittels eines Schaltkreises zugeführt ist, der aus zwei unabhängig voneinander
regelbaren Teilströmen zusammengesetzt ist, von denen einer zur Kompensation der senkrecht zu der
durch die gewünschten Auslenkungen gebildeten Ebene entstehenden Auslenkungen dient.
Die Erfindung bedient sich eines Schaltkreises, mit dessen Hilfe bei der Erzeugung von Ablenkströmen,
die eine Strahlablenkung, beispielsweise in der X-Z-Ebene, bewirken, gleichzeitig ein Ablenkstrom erzeugt
wird, der eine Strahlablenkung in der Y-Z-Ebene bewirkt, wobei diese Str'ime ein festes Ver-
hältnis zueinander haben.
Vorteilhaft ist bei der Erfindung, daß zusätzliche Ablenkspulen vermieden werden können. Es läßt sich
dadurch die Ablenkeinrichtung einfacher ausgestalten, wodurch auch eine bessere Genauigkeit erreicht
wird. Die sich aus den Teilströmen zusammensetzenden Ablenkströme können auch automatisch gemäß
dem variablen Einfallswinkel des Elektronenstrah'.es geregelt werden. Des weiteren wird der Vergleich
zwischen Dunkelfeldbildern und Hellfeldbildern im
selben Probengebiet erleichtert.
Die Zeichnung dient der Erläuterung von Ausführungsbeispielen der Erfindung. Darin zeigen
F i g. 1 a und 1 b schematische Ansichten von Ablenkeinrichtungen,
wie sie bei Geräten gemäß dem Stand der Technik verwendet werden.
F i g. 2, 3, 4 und 5 schematische Blockdiagramme, aus denen Schaltkreise für die Stromversorgung der
Ablenkeinrichtung ersichtlich sind,
F i g. 6 den Strahlengang eines Elektronenstrahles in einer Ablenkeinrichtung,
F i g. 6 den Strahlengang eines Elektronenstrahles in einer Ablenkeinrichtung,
F i g. 7 die Ausrichtung des Elektronenstrahles durch die Ablenkeinrichtung.
Wie in F i g. 1 dargestellt, sind vier Ablenkspulen la, 26, 3 a und 36 um einen Kern 1 herumgewickelt,
dessen Mittelpunktachse Z mit der optischen Achse übereinstimmt. Die Spulen 2a und 26 erzeugen ein
Magnetfeld in Richtung der A'-Achse, während die Ablenkspulen 7>a und 3 6 ein Magnetfeld in Richtung
4er y-Achse erzeugen. 4 und 5 sind die Stromversor- 7 y = / y + f y + / y η
Bungen der Ablenkspulen2ρ, 26,3«und 3fa l *^1 l a i8
FI g. 2 zeigt ein Schaltdiagramm der Stromversor- hx == '8*i + /**« (3)
gung für die Ablenkspulen. Eine Spule L1 durch 7.y = i9yx + /.,ya (4)
welche em Strom / fließt, wird hier stellvertretend für 5 " *·*-·«
WilSiiitef K1SiS ?"' ?6ι·ϊ\?* ßemälS Bei den üblichen Ablenkeinrichtungen, wie sie in
J1 ß<JrS ? d'J IrI 1 TO»"*» der Summe einem Elektronenmikroskop verwendet werden, wird
deH S?SSÄ /Αϊ η Yl?enW *s fließt der Elektronenstrahl um einen Betrag O0-V1 von der
f 1 n»Sh H0Ir S · UrCh d^n Wlderstandflt ersten Ablenkstufe und um einen Betrag von ββχ.
fließt Da jedoch der Strom, normalerweise vernach- « von der zweiten Ablenkstufe abgelenkt, so daß der"
lassjgbar ist, entspncht der Strom / im wesentlichen Elektronenstrahl auf einen Punkt 28 fällt, an dem die
η cf*h' · ■ ♦ ι · u α ο optische Achse die Ebene 27 der Probe schneidet
Der S rom I0 ist gleich der Summe der Ströme Z1, Hierdurch wird der Bestrahlungswinkel θ geregelt.
Z2,13, welche durch die Widerstände rv r, und r3 flie- Da jedoch das von der ersten Ablenkstufe in Rich-
ßen. Mit 6 und 7 sind Differentialverstärker be- i5 tung der X-Achse erzeugte Magnetfeld und das von
zeichnet. , der zweiten Ablenkstufe in Richtung der Af-Achse
Der Ablenkstrom /ist unabhängig von variablen erzeugte Magnetfeld nicht absolut parallel zueinan-
Widerstanden K1, K2, K3 bestimmt. der smdt wir(i unvermeidlicherweise eine Magnet-
Fig. j zeigt eine weitere Ausführungsform der feldkomponente in Richtung der Y-Achse erzeugt.
Stromversorgung fur die Ablenkspulen, welche zwei 20 Dies führt dazu, daß der beleuchtende Elektronen-Stromrege
lungstransistoren 11 und 12 und Differen- strahl um einen Betrag θ.χ in diese Richtung abgetialverstarker
9,10 enthalt. lenkt wird Hierdurch wjrd es außerordentlich
Der Strom ip ist wie in F ι g. ι gleich der Summe schwierig, ein Auswandern dos Punktes, in den der
der Strome I1, i.„ ι.,, welche durch die Widerstände r,. Elektronenstrahl auf die Probe auftritt, zu vermeiden.
/".,, r:, fließen. ,5 onne daß merzu emes oder beide Magnetfelder, die
Die in Fig. 3 beschriebene Schaltung kann an in Y-Richtung wirken, als Kondensatoren aegen diese
Stelle der von F ι g. 2 verwendet werden. Verschiebungen verwendet werden.
Fig. 4 zeigt eine weitere Ausführungsform der Da nun. wie erkannt worden ist. Θ0.νΓ Θ0.ν.,. Θ,.ν
Stromversorgung für die Ablenkspulen, die diesmal und θ zueinander proportional sind, kann man den
drei Stromregelungstransistoren 13. 14 und 15 ent- 30 Proportionalitätskoeffizienten zwischen &oxv ft„x.,
hält. Hier fließen Ströme Z1. Z2, Z, durch Transistoren und O1X und den zwischen ί,.ν,. ί,.ν., und Z1 y., be^
13,14, 15, welche einen Strom Z erzeugen, der durch stimmen. Der Schaltkreis für die 'Stromversorgung
die Spule L fließt. der Abknkspulen ist so ausgebildet, daß sie dieses
Durch eine Regelung der Eingangsspannungen Es1. Verhältnis zwischen I1 .V1, ι.>.ν.Γund i,y., erfüllt, indem
£5., und Es., von Differentialverstärkern 16. 17 und 35 beispielsweise die Widerstände rr f., und r., von
18"läßt sich der Ablenkstrom Z in derselben Weise F i g. 2 entsprechend eingestellt werden",
wie bei der Schaltung von F i g. 2 regeln. Durch die Ausbildung der Stromversorgung für
Fig. 5 zeigt eine weitere Ausführungsform der die Ablenkspulen in der oben beschriebenen Weise
Stromversorgung für die Abknkspulen, welche Diffe- läßt sich der die Probe beleuchtende Elektronenstrahl
rentialvetstärker 19 und 20 enthält. Ströme Z1. Z.„ 40 in X-Richtung vollständig regeln. Eine entsprechende
welche durch die Widerstände R1, R., fließen, erzeu- Regelung des~ die Probe befeuchtenden Elektronengen
einen Strom Z, welcher durch die Spule L fließt. Strahls in Richtung der Y-Achse läßt sich durch eine
Durch die Regelung der variablen Widerstände r,. Regelung von ι',ν,, /.,V1 und ι',.ν., erhalten. Dies führt
ra, r.j werden Spannungen Ei, e, und c, geregelt, so dazu, daß der die Probe beleuchtende Elektronen-
daß der Ablenkstrom Z in der gleichen Weise wie bei 45 strahl hinsichtlich jedes Azimuts vollständig ge-
der Schaltung gemäß F i g. 2 festgelegt wird. rege'n ist.
Bei den Stromversorgungen für die Ablenkeinheit Soweit war angenommen worden, daß der begemäß
den Schaltungen der Fi g. 2 bis 5 gibt es drei leuchtende Elektronenstrahl parallel zur optischen
unabhängige Teilströme. Diese Anzahl läßt sich je- Achse verläuft. Wenn er dies nicht tut. muß der
doch leicht erhöhen oder erniedrigen, wenn dies er- 50 Elektronenstrahl entweder mechanisch ausgerichtet
wünscht ist. werden, was durch eine Verschiebung der Elektro-
Die Wirkungsweise der Ablenkeinrichtung soll an nencrzeugungsvorrichtung geschehen kann. Eine wei-
Hand von F i g. 6 erläutert werden. terc bekannte Möglichkeit besteht darin, den Strahl
Der Ablenkstrom Z1 χ von F i g. 6, der das Magnet- elektromagnetisch abzulenken, wobei hierbei zwei
feld in Richtung der ^-Achsc in der ersten Ablenk- 55 Ablenkstufen notwendig sind (vgl. z. B. die DT-PS
stufe erzeugt, läßt sich durch folgenden Ausdruck 899 095).
wiedergeben: Gemäß der Darstellung von F i g. 7 wird der die
Probe beleuchtende Elektronenstrahl von einer erster
/,.v = I1Jt1 -f I1-V2 -L /,.ν., (1) Ablenkstufe 31 α so abgelenkt, daß e>- den Schnitt
5p puiikt zwischen der optischen Achse und der zweiter
In ähnlicher Weise lassen sich der Ablenkstrom Ablenkvorrichtung 31b schneidet. Er wird anschlie
Z1 y zur Erzeugung eines Magnetfeldes in Richtung ßend von der Ablenkstufe 31b so abgelenkt, daß c
der Y-Achse in der ersten Ablenkstufe, der Ablenk- parallel zur optischen Achse verläuft,
strom Z.,.ν zur Erzeugung des Magnetfeldes in X-Ach- Zur Dvrchführung der obengenannten Ausrich
senrichtung in der zweiten Ablenkstufe und der Ab- 65 tung benötigt eine übliche Ablenkeinrichtung zusatz
lenkstrom Z2y für die Erzeugung des Magnetfeldes in liehe Ablenkspulen. Dies ist jedoch nicht der Fall bc
Richtung der Y-Achse in der zweiten Ablenkstufe der erfindungsgemäßcn Ablenkeinrichtung, bei wcl
ausdrücken·. eher die Ablenkströme ι',.ν.,, /ty.,. 1Vv2. i,2y., gemä
den Gleichungen (1), (2), (3) und (4) anstatt zusätzlicher Ablenkspulen verwendet werden.
Zur Erhaltung eines hellen Bildfeldes mit der erfindungsgemäßen Ablenkeinrichtung werden die Ablenkströme
I1Jc1, Z1X2,I1V2,11J)1, i2.T,, I2V1 Null gesetzt
und die Ablenkströme I1Jt3, I1V3, I2Jt2, i2y2 für die
Ausrichtung verwendet. Wenn man dagegen ein Dunlielfeldbild
erhalten will, werden die Ablenkströme I1X3, Z1V3,
ähd d
ähd d
i2 y2 für die Ausrichtung verwendet,
lkö J
13 13 22 2 2
während die Ablenkströme J1-C1, I1JC2, I1V1, I1V2, I2JC1.
Z2V1 für die Regelung der Ntiigung des Elektronenstrahles
verwendet werden.
Indem man Umschalter für die Ablenkströme vorsieht, läßt sich ein Vergleich von Hell- und Dunkel
bildern desselben Probengebictes bemerkenswert ver einfachen.
Hierzu 4 Blatt Zeichnungen
Claims (1)
- Patentanspruch:Ablenkeinrichtung für den Elektronenstrahl in einem Elektronenmikroskop mit in Strablricbtung aufeinanderfolgenden, durch Ablenkspulen gebildeten Ablenkstufen, von denen die erste den Strahl aus der optischen Achse auslenkt und die zweite den Strahl in zur Auslenkung entgegengesetzten Richtung zurücklenkt, so daß er unter einem bestimmten Winkel auf ein Objekt auftrifft, bei der Mittel vorgesehen sind, die etwaige Auslenkungen des Strahles senkrecht zu der durch die gewünschten Auslenkungen gebildeten Ebene kompensieren, dadurch gekennzeichnet, daß den Ablenkspulen einer Ablenkstufe ein Ab lenkstrom mittels eines Schaltkreises zugeführt ist, welcher aus mehr als zwei unabhängig voneinander regelbaren Teilströmen zusammengesetzt ist, von denen einer zur Kompensation der senkrecht zu der durch die gewünschten Auslenkungen gebildeten Ebene entstehenden Auslenkungen dient.
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Publication Number | Publication Date |
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Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4209698A (en) * | 1971-12-28 | 1980-06-24 | Max-Planck-Gesellschaft Zur Forderung Der Wissenschaften E.V. | Transmission-type charged particle beam apparatus |
US3914608A (en) * | 1973-12-19 | 1975-10-21 | Westinghouse Electric Corp | Rapid exposure of micropatterns with a scanning electron microscope |
JPS55121259A (en) * | 1979-03-14 | 1980-09-18 | Hitachi Ltd | Elelctron microscope |
DE2937136A1 (de) * | 1979-09-13 | 1981-04-02 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Verfahren und vorrichtung zur schnellen ablenkung eines korpuskularstrahls |
JPS57212754A (en) * | 1981-06-24 | 1982-12-27 | Hitachi Ltd | Electron-beam controller for electron microscope |
US4687936A (en) * | 1985-07-11 | 1987-08-18 | Varian Associates, Inc. | In-line beam scanning system |
JP2591548B2 (ja) * | 1991-07-26 | 1997-03-19 | 富士通株式会社 | 荷電粒子線露光装置及び荷電粒子線露光方法 |
ES2198619T3 (es) * | 1992-02-20 | 2004-02-01 | Deutsche Thomson-Brandt Gmbh | Unidad de desviacion para un tubo de imagen de un receptor de television. |
JP2002170764A (ja) * | 2000-12-04 | 2002-06-14 | Nikon Corp | 荷電粒子線露光装置、荷電粒子線露光装置の調整方法及び半導体デバイスの製造方法 |
JP5097512B2 (ja) * | 2006-11-21 | 2012-12-12 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子ビーム用軌道補正器、及び荷電粒子ビーム装置 |
DE102015210941B9 (de) | 2015-06-15 | 2019-09-19 | Carl Zeiss Microscopy Gmbh | Teilchenstrahlgerät und Verfahren zum Betrieb eines Teilchenstrahlgeräts |
WO2018042505A1 (ja) * | 2016-08-30 | 2018-03-08 | 株式会社 日立ハイテクノロジーズ | 電磁偏向器、及び荷電粒子線装置 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
USB326594I5 (de) * | 1960-07-08 | |||
DE1227272B (de) * | 1963-06-08 | 1966-10-20 | Telefunken Patent | Schaltungsanordnung zur Erzeugung eines Signals, z. B. eines Helltast-Ausloesesignals in Elektronenstrahlroehren, nach Ablauf eines Einstellvorganges |
US3427494A (en) * | 1965-10-28 | 1969-02-11 | Ibm | Corrected deflection circuit for cathode ray tube |
DE1299088C2 (de) * | 1966-06-10 | 1974-10-17 | Siemens AG, Berlin und München, 8000 München | Ablenkeinrichtung fuer den korpuskularstrahl in einem korpuskularstrahlgeraet, insbesondere elektronenmikroskop |
US3417284A (en) * | 1966-08-31 | 1968-12-17 | Sperry Rand Corp | Electromagnetic gross beam positioning system |
US3500114A (en) * | 1967-08-24 | 1970-03-10 | Sony Corp | Convergence system for a color picture tube |
US3540032A (en) * | 1968-01-12 | 1970-11-10 | Ibm | Display system using cathode ray tube deflection yoke non-linearity to obtain curved strokes |
US3480827A (en) * | 1969-01-14 | 1969-11-25 | Ibm | Flyback in double-yoke-drive cathode ray tubes |
-
1969
- 1969-12-25 JP JP44104540A patent/JPS4922351B1/ja active Pending
-
1970
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Also Published As
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NL7018708A (de) | 1971-06-29 |
DE2063598A1 (de) | 1971-07-08 |
JPS4922351B1 (de) | 1974-06-07 |
NL166576B (nl) | 1981-03-16 |
GB1340209A (en) | 1973-12-12 |
NL166576C (nl) | 1981-08-17 |
US3749964A (en) | 1973-07-31 |
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