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Die
Erfindung betrifft allgemein die Qualitätskontrolle bei der Produktion
und/oder Verarbeitung von Werkstücken,
insbesondere die optische Erfassung von Fehlern auf oder in Werkstücken.
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Insbesondere
bei der Fertigung von hochintegrierten elektronischen oder optoelektronischen Einrichtungen
werden an die verwendeten Substrate sehr hohe Anforderungen sowohl
an die Oberflächengüte, als
auch an die Defektfreiheit des Substratvolumens gestellt. Insbesondere
in diesem Bereich ist auch eine besonders schnelle Massenfertigung
wünschenswert,
um die Produktionskosten so weit senken zu können, daß die Hersteller in dem hier vorherrschenden
starken Wettbewerb bestehen können.
Um die Produktionskosten zu senken, werden beispielsweise immer
größere Substrate
verwendet, um auf diese Weise die Anzahl parallel auf dem Substrat
hergestellter Bauteile zu erhöhen.
Zwar steigt die Produktionszeit zur Herstellung einer größeren Anzahl
von Bauteilen auf einem Substrat im allgemeinen nicht oder nur wenig
an, allerdings gilt dies im allgemeinen nicht für die Qualitätskontrolle,
da entsprechend größere Flächen oder
eine größere Anzahl von
Bauteilen zu kontrollieren ist.
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Der
Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, eine optische Fehlererkennung
von Substraten bereitstellen zu können, die bei hoher Geschwindigkeit
der Fehlererkennung auch noch höchsten
Anforderungen bei der Qualitätssicherung
genügt.
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Diese
Aufgabe wird bereits in höchst überraschend
einfacher Weise durch den Gegenstand der unabhängigen Ansprüchen gelöst. Vorteilhafte
Weiterbildungen und Ausgestaltungen der Erfindung sind in den Unteransprüchen angegeben.
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Demgemäß sieht
die Erfindung eine Vorrichtung zur Erfassung von Fehlstellen, insbesondere
an Oberflächen
von Werkstücken
vor, bei welcher Strahlung auf ein Werkstück gerichtet ist und vom Werkstück, vorzugsweise
von der Fehlstelle zumindest teilweise beeinflusst wird. Es ist
insbesondere vorgesehen, zumindest ein Teil der von der Fehlstelle
beeeinflussten Strahlung von einem optischen Detektor zu erfassen.
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Der
optische Detektor umfaßt
bevorzugt eine Vielzahl von lichterfassenden Pixeln, die jeweils
von unterschiedlichen Substratbereichen stammendes Licht nachweisen,
um mit hoher Genauigkeit größere Oberflächenbereiche
gleichzeitig untersuchen zu können.
Mit unterschiedlichen Substratbereichen sind hier nicht notwendigerweise
disjunkte Bereiche gemeint, die Bereiche können sich vielmehr beispielsweise
auch teilweise überdecken.
Weiterhin ist eine Beleuchtungseinrichtung vorgesehen, die eine Vielzahl
von Lichtquellpunkten aufweist, die so angeordnet sind, daß auf jeden
der Substratbereiche Licht aus zumindest zwei unterschiedlichen
Einfallsrichtungen fällt.
Dies ist vorteilhaft, um langgestreckte Strukturen, wie etwa Kratzer
nachweisen zu können, da
die Lichtstreuung an derartigen Strukturen im allgemeinen stark
abhängig
vom Winkel zwischen Kratzer und einfallendem Licht ist. Auf diese
Weise können
auch beliebig entlang der Oberfläche verlaufende
und nur leichte Kratzer sicher detektiert werden. Günstig ist
es dabei, wenn die Einfallsrichtungen einen Winkel von zumindest
45 °, bevorzugt
von zumindest 90 °,
besonders bevorzugt von zumindest 120 ° einschließen. Ein Winkel zwischen zwei
Einfallsrichtungen von zumindest 120 ° ist besonders dann günstig, wenn
das Licht aus mehr als zwei Richtungen auf den jeweiligen Oberflächenbereich,
also beispielsweise aus zumindest drei Richtungen auf die Oberfläche fällt. Ein
Lichtquellpunkt muß nicht notwendigerweise
eine eigene Lichtquelle sein. Vielmehr kann auch das Licht einer
oder mehrerer Lichtquellen in geeigneter Weise aufgeteilt werden.
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Besonders
bevorzugt umfaßt
der optische Detektor eine Zeilenkamera, mit welcher entlang der Oberfläche langgestreckte
Bereiche des zu prüfenden
Substrats parallel überprüfbar sind.
Gemäß einer weiteren
Ausgestaltung umfaßt
der optische Detektor eine bildaufzeichnende Kamera, mit welcher
das Substrat entlang der Oberfläche
abschnittweise, oder sogar auf einmal erfaßt werden kann.
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Dem
optischen Detektor kann besonders vorteilhaft eine 4f-Anordnung vorgeschaltet
sein. Es hat sich überraschend
gezeigt, daß eine
derartige Anordnung Lichtstreueffekte an Fehlstellen des Substrats
besonders hervorzuheben vermag. Dies ist insbesondere dann der Fall,
wenn die 4F-Anordnung dergestalt angeordnet ist, daß sie eine
Filterung von Strukturgrössen
vornimmt, welche nicht der Strukturgrösse der zu erfassenden Fehlstellen
entspricht. Ebenso kann mit den gleichen Vorteilen alternativ oder
zusätzlich
der Beleuchtungseinrichtung eine 4F-Anordnung nachgeschaltet sein.
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Besonders
bevorzugt umfaßt
die Beleuchtung eine Dunkelfeldbeleuchtungsanordnung. Insbesondere
ist der oder sind die optischen Detektoren so angeordnet, daß sie zumindest
Bereiche des Dunkelfelds erfassen. Eine Dunkelfeld-Anordnung ist
durch Ausschaltung des direkten Lichtsignals gerade zur Erkennung
besonders kleiner Fehler, also für
höchste
Anforderungen geeignet. Gemäß noch einer
Weiterbildung der Erfindung ist die Dunkelfeldbeleuchtungsanordnung
konfokal zur optischen Achse des optischen Detektors in Reflektion
angeordnet, um verbleibendes Hintergrundsignal auszuschalten. Dabei
kann die Dunkelfeldbeleuchtungsanordnung konfokal zur optischen
Achse des optischen Detektors in Transmission angeordnet sein.
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Die
Beleuchtung kann weiterhin auch eine Phasenkontrast-Beleuchtungsanordnung
umfassen. Auch mit einer solchen Anordnung lassen sich kleinste
Abweichungen in Oberflächen- oder Volumenstruktur
mit hohem Kontrast nachweisen.
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Die
Beleuchtung kann erfindungsgemäß sowohl
in Transmission, als auch in Reflexion, als auch in Kombination
von Transmission und Reflexion vorgenommen werden.
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Insbesondere
zur Detektion von Oberflächendefekten
ist es weiterhin von Vorteil, wenn die Beleuchtung mit schräg einfallenden
Licht vorgenommen wird. Dabei wird schräg einfallend im Sinne der Erfindung
als schräg
zur beleuchteten Oberfläche des
Substrats einfallend verstanden. Das schräg einfallende Licht kann vorteilhaft
ein schmales Lichtbündel
umfassen, welches im Bildfeld der Kamera nur eine der beiden Hauptoberflächen eines
zu prüfenden
Substrats beleuchtet. Das schräg
einfallende Licht kann in vorteilhafter Weise auch s-polarisiert sein.
Damit wird die Reflexion an defektfreien Bereichen der Oberfläche des
zu prüfenden
Substrats verringert, so daß ein
verbessertes Signal-Rausch-Verhältnis
des von Oberflächenfehlern
stammenden Streulichtsignals erreicht wird. Besonders günstig ist dabei,
wenn das schräg
einfallende Licht relativ zum Werkstück unter dem Brewsterwinkel
eingestrahlt wird. Zusätzlich
oder alternativ kann der optische Detektor mit ähnlichem Effekt einen Polarisator
umfassen, welcher das Licht im wesentlichen senkrecht zur Polarisation
des vom Werkstück
reflektierten Lichts polarisiert. Der Begriff „im wesentlichen" bedeutet diesbezüglich im
Sinne der Erfindung insbesondere, daß dies für die Hauptfläche gilt,
aber beispielsweise nicht für
die Fehlstelle. Mit anderen Worten ist der Polarisator so eingestellt,
daß von
defektfreien Bereichen der Oberfläche reflektiertes Licht geblockt
wird.
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Um
eine saubere Trennung von an Defekten reflektiertem Streulicht und
an defektfreien Oberflächenbereichen
reflektiertem Licht zu ermöglichen,
ist es insbesondere von Vorteil, wenn die Beleuchtung eine seitlich
vom optischen Detektor angeordnete Beleuchtung umfasst, welche geringere
oder keine Lichtanteile senkrecht zur Substratoberfläche aufweist.
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Die
Beleuchtungseinrichtung kann in vorteilhafter Weiterbildung auch
Spiegel zur Strahlformung aufweisen. Gemäß einer Weiterbildung ist diesbezüglich vorgesehen,
daß die
Beleuchtungseinrichtung facettierte Spiegel zur Definition einer
Vielzahl von Foki auf dem Werkstück
umfasst, von welchen Kugelwellen ausgehen. Eine weitere Möglichkeit, eine
Beleuchtung mit einer Vielzahl von Einzellichtquellen zu schaffen,
ist eine Beleuchtungseinrichtung mit zumindest einem holographisch
optischen Element zur Definition einer Vielzahl von Foki auf dem Werkstück. Ein
Teil mit derartigen holografisch optischen Elementen kann ein Phasenhologramm
umfassen, welches vorzugsweise Aufdampfglas enthält. Demgemäß können die holografisch wirksamen Strukturen
Strukturen durch strukturiertes Aufdampfen eines Aufdampfglases
hergestellt werden. Das holographisch optische Element kann insbesondere auf
einem refraktiven Element angeordnet sein, so daß die gewünschte Beleuchtung des Substrats durch
eine oder mehrere Lichtquellen erfolgen kann, welche das holographisch
optische Element durchstrahlen. Gemäß einer anderen Ausführungsform
der Erfindung ist das holographisch optische Element auf einem reflektierenden
Element angeordnet. Die Lichtquelle kann vorteilhaft auch ein holographisch optisches
Element und eine Zylinderlinse umfassen, um die gewünschte Winkelverteilung
des auf das Werkstück
einfallenden Lichts zu erreichen.
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Die
eine oder mehreren eingesetzten Lichtquellen können mit Vorteil auch in ihrer
Bandbreite begrenzt sein. Die Streuintensität ist im allgemeinen abhängig sowohl
von der Form als auch der Größe der streuenden
Elemente. Um noch möglichst
kleine Defekte erfassen zu können,
ist diesbezüglich
beispielsweise die Verwendung einer Lichtquelle, deren Spektrum
bei Wellenlängen
kleiner als 300 nm liegt, vorteilhaft.
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Auch
kann die Lichtquelle vorteilhaft Licht bei einer Wellenlänge emittieren,
bei welcher das zu prüfende
Werkstück
nur geringe Transmission, insbesondere eine Transmission kleiner
als 50%, vorzugsweise kleiner als 25%, am bevorzugtesten kleiner
als 15% aufweist. Auf diese Weise kann bei Nachweis eines Oberflächen-Defektes
oder einer Oberflächen-verunreinigung
auch in einfacher Weise unterschieden werden, auf welcher Seite
des Werkstücks der
gefundene Defekt liegt. Bei Verwendung weiterer Lichtquellen, bei
denen das Werkstück
transparent ist, kann dann weiterhin auch zwischen Oberflächen- und
Volumendefekten unterschieden werden.
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Als
intensive und besonders gerichtete Lichtquelle ist beispielsweise
ein Laser oder mehrere Laser geeignet.
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Unter
anderem kann die Lichtquelle ein Scanning-System umfassen, um insbesondere
in Verbindung mit einer Zeilenkamera oder einem anderen Detektor
mit paralleler Erfassung mehrerer Oberflächenbereiche oder mit dem Scanning-System
synchronisierter optischer Detektion das Werkstück abzutasten.
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Besonders
vorteilhaft ist insbesondere der Einsatz mehrerer gleichzeitig betriebener
Lichtquellen, oder Lichtquellen mit gleichzeitig emittierenden Lichtquellpunkten,
um eine hohe Lichtintensität
und damit eine hohe Sensititvität
der erfindungsgemäßen Anordnung
zu erreichen. Geeignet ist dazu beispielsweise ein Laserdiodenarray.
Dabei wird bevorzugt ein lineares Laserdiodenarray verwendet. Eine
derartige Lichtquelle ist unter anderem besonders in Verbindung
mit einer Zeilenkamera als optischem Detektor von Vorteil. Ein Laser
oder Laserdiodenarray kann weiterhin zur Anpassung der longitudinalen
Kohärenz
auf definiert mehreren longitudinalen Moden emittieren. Es ist weiterhin
daran gedacht, daß der Laser
oder das Laserdiodenarray zur Definition erwünschter longitudinaler Kohärenzeigenschaften kurzzeitgepulst
betrieben, beziehungsweise betreibbar ist.
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Der
Laserdiodenarray kann gemäß noch einer
Ausführungsform
der Erfindung zumindest eine FAC und vorzugsweise zusätzlich zumindest
eine SAC-Linse umfassen, welche auf dem Werkstück zumindest einen Fokus erzeugt.
Damit ist ein linienförmiger
Fokus auf dem Werkstück
erzeugbar, was sich wiederum hervorragend im Kombination mit einer
parallel zum Fokus angeordneten Zeilenkamera zum Nachweis von Streulicht
von Fehlern des Werkstücks eignet.
Die Lichtquelle kann zur Definition erwünschter transversaler Kohärenz außerdem einen
Phasenfrontscrambler umfassen. Damit lassen sich insbesondere unerwünschte Interferenzeffekte,
die Scheinsignale hervorrufen, ausschalten.
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Gemäß einer
weiteren Ausführungsform
der Erfindung kann die Lichtquelle auch eine Leuchtstoff- oder Fluoreszenzröhre umfassen.
Mit einer derartigen Lichtquelle lassen sich insbesondere bei einer Anordnung
parallel zur Oberfläche
des Werkstücks eine
Vielzahl von Oberflächenbereichen
so ausleuchten, daß die
jeweiligen Oberflächenbereiche
jeweils von Licht aus unterschiedlichen Richtungen angestrahlt werden.
Für weitergehende
Analysen des Werkstücks
kann auch eine Leuchtstoffröhre
mit mehreren spektralen Emissionsbanden eingesetzt werden. Damit
können
beispielsweise gleichzeitig Fluoreszenz- und Streulichtmessungen
durchgeführt werden.
Vorzugsweise wird eine Leuchtstoff- oder Fluoreszenzröhre parallel
zu einer Zeilenkamera als Bestandteil des optischen Detektors angeordnet.
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Gemäß einer
besonders bevorzugten Ausführungsform
der Erfindung umfaßt
das Werkstück Glas,
beziehungsweise wird Glas als Werkstück untersucht. Insbesondere
kann mit der Erfindung Dünnglas
untersucht werden. Die Erfindung eignet sich diesbezüglich zur Überprüfung der
Qualität
von gefloatetem Dünnglas,
Downdraw-Dünnglas,
Downdraw-Fusion-Dünnglas,
insbesondere Overflow-Downdraw-Glas.
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Selbst
verbleibende Oberflächenfehler
von oberflächenbearbeiteten,
insbesondere polierten Werkstücken
können
noch erkannt werden. Beispielsweise können sogar noch äußerst schwache Polierkratzer
erkannt werden.
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Gedacht
ist insbesondere daran, die erfindungsgemäße Vorrichtung zur Untersuchung
von Glas für
einen Display, insbesondere einen TFT-Display zu verwenden. An derartige
Gläser
werden bezüglich
der Oberflächenbeschaffenheit
besonders hohe Anforderungen gestellt, da selbst kleinste Kratzer,
die beim Polieren oder bei der Handhabung im Produktionsprozeß auftreten
können,
die auf das Glas aufgebrachten Beschichtungen nachteilig beeinflussen
können.
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Es
wird davon ausgegangen, daß selbst großflächige Substrate,
wie Dünnglas
mit eine Breite von mehr als 1,8 Metern und/oder einer Länge von mehr
als 2,0 Metern erfindungsgemäß so schnell überprüft werden
können,
daß der
Produktionsablauf bei der Herstellung von TFT-Displays auf solchen Substraten
nicht oder nur unwesentlich verlangsamt wird.
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Dünnglas,
welches mit einer erfindungsgemäßen Vorrichtung
geprüft
und unter Verwendung der Prüfergebnisse
sortiert wurde, weist auf diese Weise eine deutlich reduzierte Fehlerkonzentration oder
Fehleranzahl auf. Beispielsweise sollte in einer Charge von geprüftem Dünnglas die
Konzentration selbst von Kratzern mit einer Tiefe von 3 bis 30 Nanometern
weniger als 5, bevorzugt weniger als 3, besonders bevorzugt weniger
als 1 pro Quadratmeter betragen.
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Im
folgenden wird die Erfindung anhand von Ausführungsbeispielen und unter
Bezugnahme auf die Zeichnungen näher
erläutert,
wobei gleiche und ähnliche
Elemente mit gleichen Bezugszeichen versehen sind und die Merkmale
verschiedener Ausführungsbeispiele
miteinander kombiniert werden können.
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Es
zeigen:
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1 in
schematischer Ansicht eine Vorrichtung zur Erfassung von Fehlstellen
auf Dünnglas
gemäß eines
Ausführungsbeispiels
der Erfindung,
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2 eine
Variante der in 1 dargestellten Vorrichtung,
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3A, 3B Teile
von Weiterbildungen erfindungsgemäßer Vorrichtungen,
-
4 eine
weitere Ausführungsform
der Erfindung mit Phasenkontrast-Detektion von Fehlstellen,
-
5 den
optischen Strahlengang gemäß einer
Weiterbildung der Erfindung,
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6 ein
Ausführungsbeispiel
mit strahformenden Einrichtungen zur Erzeugung einer Vielzahl von
Foki auf der Substratoberfläche.
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1 zeigt
eine schematische Ansicht einer Vorrichtung zur Erfassung von Fehlstellen
auf und/oder in Werkstücken 3.
Mit der als Ganzes mit dem Bezugszeichen 1 bezeichneten
Vorrichtung dieses Ausführungsbeispiels
werden insbesondere Dünnglas-Substrate 3 auf
das Vorhandensein von Fehlstellen überprüft. Es lassen sich typische
Fehler erkennen, wie sie herstellungsbedingt etwa bei Downdraw-Dünnglas,
Downdraw-Fusion-Dünnglas, insbesondere
Overflow-Downdraw-Glas oder Floatglas, sowie bedingt durch die Nachbhearbeitung
auftreten. Insbesondere eignet sich die Vorrichtung in überraschender
Weise auch zu einer schnellen Prüfung
auch von sehr großen
Substraten, etwa von Dünnglas
mit eine Breite von mehr als 1,8 m und/oder einer Länge von
mehr als 2,0 m.
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Derartige
Fehlstellen können
beispielsweise Polierkratzer auf der Oberfläche 31 des Dünnglas-Substrats 3 sein,
wie sie bei der Oberflächenbearbeitung
zurückbleiben
können.
Mit der Vorrichtung 1 zur Erfassung von Fehlstellen wird
Strahlung mittels einer Beleuchtungseinrichtung 11 auf
das Werkstück
gerichtet und vom Werkstück,
insbesondere von der Fehlstelle zumindest teilweise beeinflusst. Zumindest
ein Teil der von der Fehlstelle beeeinflussten Strahlung wird dann
von einem optischen Detektor 5 erfasst. Bei dem in 1 gezeigten
Ausführungsbeispiel
umfaßt
der optische Detektor insbesondere eine Zeilenkamera 7.
Eine Fokussierungsoptik der Zeilenkamera ist so ausgebildet, daß jeder Pixel
der Kamera 7 einen anderen Oberflächenbereich des Dünnglas-Substrats 3,
beziehungsweise von diesem ausgehendes Licht erfaßt. Die
Gesamtheit der erfaßten
Oberflächenbereiche
ergibt einen langgestreckten Oberflächenbereich 20, welcher
in 1 durch gestrichelte Linien verdeutlicht ist.
Der Oberflächenbereich 20 erstreckt
sich insbesondere entlang der gesamten Breite des Substrats 3,
so daß die
gesamte Oberfläche 31,
beziehungsweise das gesamte Substrat 3 durch ein einmaliges
Vorbeibewegen vom Substrat am optischen Detektor 5 erfasst werden
kann. Dazu kann sowohl das Substrat 3, als auch der Detektor
bewegt werden.
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Die
Beleuchtungseinrichtung 11 ist dergestalt ausgebildet,
daß eine
Vielzahl von Lichtquellpunkten gebildet wird, die so angeordnet
sind, daß auf
jeden der Substratbereiche welche die einzelnen Pixel der Zeilenkamera
erfassen, Licht aus zumindest zwei unterschiedlichen Einfallsrichtungen
fällt.
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Bei
dem in 1 gezeigten Beispiel wird dies gelöst, indem
die Lichtquelle eine Leuchtstoffröhre 13 umfasst. Diese
erstreckt sich parallel zur Zeilenkamera. Und ist in geeigneter
Weise kollimiert und mittels einer Zylinderlinse 15 fokussiert,
so daß im
wesentlichen nur der schmale Oberflächenbereich 20 ausgeleuchtet
wird. Außerdem
wird die Beleuchtung mit schräg
einfallenden Licht vorgenommen, während die Zeilenkamera im wesentlichen
senkrecht auf die Oberfläche
blickt, so daß kein
direkt reflektiertes Licht in die Zeilenkamera 7 gelangen
kann. Die Leuchtstoffröhre
emittiert ihr Licht isotrop, so daß jeder beliebige Längsabschnitt
der Leuchtstoffröhre einen
Lichtquellpunkt bildet. Auf diese Weise fällt auf jeden der erfassten
Substratbereiche Licht aus vielen verschiedenen Richtungen. So fällt auf
einen Bereich ganz am Rand des Substrats 3 bei der in 1 gezeigten
Anordnung Licht unter allen möglichen
Einfallsrichtungen, die sich maximal um einen Winkel α unterscheiden.
Die Länge
der Leuchtstoffröhre
und ihr Abstand zum Bereich 20 kann dann so gewählt werden,
daß die
verschiedenen Einfallsrichtungen einen Winkel von zumindest 45 °, bevorzugt
von zumindest 90 °,
besonders bevorzugt von sogar zumindest 120 ° einschließen. Auf diese Weise können auch
Kratzer, welche entlang beliebiger Richtungen der Oberfläche verlaufen,
sicher detektiert werden. Weiterhin ist, wie anhand der 1 zu
erkennen ist, die seitlich vom optischen Detektor angeordnet, wobei
die Beleuchtung durch die Beleuchtungseinrichtung 11 geringere
oder hier insbesondere keine Lichtanteile senkrecht zur Substratoberfläche 31 aufweist.
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Um
weitere Informationen hinsichtlich der Beschaffenheit von Fehlstellen
zu gewinnen, kann die Leuchtstoffröhre mehrere spektrale Emissionsbanden
aufweisen. Auf diese Weise können
beispielsweise in Verbindung mit geeigneten Filtern des optischen
Detektors Fluoreszenzsignale und/oder Streusignale bei verschiedenen
Wellenlängen
erfaßt werden.
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Aufgrund
der Anordnung mit schrägem
Lichteinfall und senkrechtem Nachweis wird vom optischen Detektor
nur Streulicht nachgewiesen. Dementsprechend stellt die Beleuchtung
dieses Ausführungsbeispiels
insbesondere auch eine Dunkelfeldbeleuchtungsanordnung dar.
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In 2 ist
eine Variante der in 1 gezeigten Vorrichtung 1 dargestellt.
Bei dieser Variante der Erfindung umfaßt der optische Detektor 5 in
Abwandlung des in 1 gezeigten Ausführungsbeispiels
eine bildaufzeichnende Kamera 17, deren Pixel einen quadratischen
oder rechteckförmigen
Bereich 20 auf der Oberfläche erfassen. Außerdem umfaßt die Beleuchtungseinrichtung 11 bei
diesem Beispiel mehrere entsprechend dem in 1 dargestellten
Ausführungsbeispiel
ausgestaltete Fluoreszenzröhren 13,
welche ebenfalls so angeordnet sind, daß sie die Oberfläche 31 des
Substrats 3, insbesondere den von den Pixeln erfassten
Oberflächenbereich 20 unter
schrägem
Lichteinfall beleuchten und eine Dunkelfeld-Beleuchtung realisieren.
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Auch
bei diesem Ausführungsbeispiel
sind die Lichtquellpunkte entlang der Fluoreszenzröhren so
angeordnet, daß auf
jeden der Substratbereiche Licht aus zumindest zwei unterschiedlichen
Einfallsrichtungen fällt,
wobei die Einfallsrichtungen für
jeden der von den jeweiligen Pixeln erfassten Oberflächenbereichen
innerhalb des Bereichs 20 einen Winkel α von zumindest 45 °, bevorzugt
von zumindest 90 °, besonders
bevorzugt von zumindest 120 ° einschließen.
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3A und 3B Teile
von Weiterbildungen erfindungsgemäßer Vorrichtungen. Dabei zeigt 3A einen
optischen Detektor 5 mit einer Zeilenkamera 7,
wobei dem optischen Detektor 5 eine 4F-Anordnung 25 vorgeschaltet
ist. Die 4F-Anordnung umfaßt
zwei Zylinderlinsen 26, 27, in deren gemeinsamer
Fokalebene eine Blende 30 angeordnet ist.
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In
analoger Weise ist bei dem in 3B gezeigten
Beispiel der Beleuchtungseinrichtung 11 mit kollimierter
und fokussierter Fluoreszenzröhre 13 eine
4F-Anordnung entsprechenden Aufbaus nachgeschaltet. Derartige Beleuchtungseinrichtungen und
optischen Detektoren mit nach-, beziehungsweise vorgeschalteter
4F-Anordnung können
beispielsweise in den in 1 oder 2 gezeigten
Ausführungsbeispielen
eingesetzt werden.
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Mittels
der Blende 30 der 4F-Anordnung kann die 4F-Anordnung 25 eine
Filterung von Strukturgrössen
bewirken, welche nicht der Strukturgrösse der zu erfassenden Fehlstellen
entsprechen.
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In 4 ist
ein weitere Ausführungsbeispiel einer
erfindungsgemäßen Vorrichtung 1 zur
Erfassung von Fehlstellen dargestellt. Diese Ausführungsform
der Erfindung basiert auf einem Phasenkontrast-Nachweis von Fehlstellen,
wie insbesondere von Kratzern auf der Oberfläche 31 eines Dünnglas-Substrats
für TFT-Displays.
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Der
Grundaufbau ähnelt
dem in 1 dargestellten Beispiel, allerdings ist der optische
Detektor so aufgebaut, daß dessen
optische Achse im von der Oberfläche 31 reflektierten
Lichtstrahl der Beleuchtungsanordnung liegt.
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Vor
der Beleuchtungseinrichtung 11 ist eine Schlitzblende und
eine Zylinderlinse angeordnet, welche das Licht der Schlitzblende 30 auf
die Substratoberfläche 31 fokussiert.
Im reflektierten Strahl ist vor der Zeilenkamera 7 des
optischen Detektors 5 eine weitere Zylinderlinse 36 und
eine Phasenplatte 38 mit einem linienförmigen lichtabschwächenden Bereich 39 angeordnet.
Die Phasenplatte 38 ist dabei so angeordnet, daß das direkt
reflektierte Licht durch den linienförmigen Bereich 39 abgeschwächt wird. Sind
auf der Oberfläche 31 oder
auch im Volumen des Dünnglas-Substrats 3 Fehlstellen
oder auch Verschmutzungen vorhanden, so führen diese zu einer Lichtstreuung.
Das gestreute Licht weist dann eine vom Spiegelstrahl abweichende
Richtung auf und gelangt seitlich am linienförmigen abschwächenden Bereich 39 der
Platte 38 vorbei in die Zeilenkamera. Auf den jeweiligen
Pixeln der Zeilenkamera 7 kommt es. dann zu einer Interferenz
des gestreuten mit dem abgeschwächten
direkten Lichtstrahl, so daß Fehlstellen
durch die auftretenden Interferenzerscheinungen leicht erkannt werden
können.
Auch hier bildet jeder beliebige Längsabschnitt der Blende 30 wieder einen
Lichtquellpunkt, so daß jeder
durch den Schlitz der Blende 30 beleuchtete Oberflächenbereich
aus mehreren verschiedenen Richtungen angestrahlt wird. Um beispielsweise
wieder in beliebiger Richtung verlaufende Kratzer detektieren zu
können
ist es dabei besonders vorteilhaft, wenn die Einfallsrichtungen
einen Winkel von zumindest 45 °,
bevorzugt von zumindest 90 °,
besonders bevorzugt von zumindest 120 ° einschließen.
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Bei
allen in den 1 bis 4 dargestellten
Ausführungsformen
kann außerdem
vorteilhaft polarisiertes Licht verwendet werden. Wird, wie bei diesen
Ausführungsbeispielen
in Reflexion gemessen, bietet es sich dabei auch an, eine Beleuchtungseinrichtung 11 zu
verwenden, die bezüglich
der Oberfläche 31 s-polarisiertes
Licht abgibt. Damit wird die Reflexion an fehlerfreien Oberflächenbereichen
unterdrückt
und ein verbessertes Signal-Hintergrund-Verhältnis erreicht. Bei allen diesen
Anordnungen kann die Beleuchtungseinrichtung 11 vorteilhaft dann
auch so angeordnet werden, daß das
Licht im oder im Bereich um den Brewster-Winkel auf die Oberfläche fällt.
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Weiterhin
können
auch in allen diesen Ausführngsbeispielen
die Beleuchtungseinrichtungen auf der der Seite 31 gegenüberliegenden
Seite 32 des Substrats 3 angeordnet werden, so
daß das
Licht nicht reflektiert, sondern durch das Substrat 3 transmittiert
wird. Die Position der Beleuchtungseinrichtung 11 ist dabei
gegenüber
der in den 1, 2, 4 gezeigten
Position jeweils am Substrat 3 gespiegelt.
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Weiterhin
können
bei den in den 1 und 4 gezeigten
Ausführungsbeispielen
die von der Beleuchtungseinrichtung linienförmig ausgeleuchteten Bereiche
mittels geeigneter Kollimierung und/oder Fokussierung bei schrägem Lichteinfall
so schmal gehalten werden, daß im
von der Zeilenkamera erfaßten
Bereich 20, beziehungsweise im Bildfeld nur eine der beiden
Hauptoberflächen,
also eine der Oberflächen 31, 32 beleuchtet
wird. Eine derartige Anordnung ist in 5 skizziert,
welche den Strahlengang gemäß dieser
Weiterbildung der Erfindung darstellt. Die Anordnung von optischem
Detektor 5 und der hier nicht dargestellten Beleuchtungseinrichtung
kann beispielsweise dem in 1 gezeigten
Beispiel entsprechen. Das schräg
einfallende Lichtbündel 40 beleuchtet
auf der Oberfläche 31 einen
Bereich 41 und auf der gegenüberliegenden Oberfläche 32 einen
Bereich 42. Die Brechung des Lichtbündels wurde bei der Darstellung
nicht berücksichtigt.
Der von der Zeilenkamera 7 des optischen Detektors 5 erfasste
Bereich 20 liegt innerhalb des Bereiches 41, jedoch
außerhalb
des Bereiches 42. Dementsprechend wird im Bildfeld der
Kamera 7 nur eine der beiden Oberflächen beleuchtet. Dies ist besonders
nützlich,
da auf diese Weise Signale, welche durch Streulicht von Fehlstellen
auf der Oberfläche 32 stammen,
unterdrückt
werden. So kann beispielsweise ein Substrat 3 für die Herstellung
von TFT-Displays unter Umständen
noch verwendet werden, wenn auf der Beschichtungsseite keine Kratzer
vorhanden sind, obwohl möglicherweise
auf der gegenüberliegenden
Seite ein Kratzer vorhanden ist, der zwar die Beschichtungen beeiträchtigen
würde,
jedoch optisch völlig
unauffälllig
ist. Durch eine Anordnung, wie sie 5 zeigt,
kann daher der Ausschuss beträchtlich
reduziert werden.
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Es
sind noch weitere Maßnahme
denkbar, um die Detektion von Fehlstellen auf der gegenüberliegenden
Seite 32 zu vermeiden. Kommt es beispielsweise bei der Überprüfung der
Werkstücke
nur noch auf Oberflächen-Fehler,
wie Kratzer an, kann auch Licht einer geeigneten Wellenlänge verwendet werden,
welches das Substrat 3 nicht durchdringt. So kann für Floatglas
beispielsweise eine in ihrer Bandbreite begrenzte Lichtquelle die
einem Spektrum von Wellenlängen
kleiner als 300 nm aufweist, verwendet werden. Licht dieser kurzen
Wellenlängen
wird nicht mehr transmittiert, so daß nur oberflächliche
oder allenfalls oberflächennahe
Defekte erkannt werden. Allgemein kann es zur Unterscheidung von
Fehlstellen auf Ober- und Unterseite des Werkstücks oder sogar zu Ausschluss
der Detektion von Fehlstellen auf der gegenüberliegenden Seite vorteilaft
sein, eine Lichtquelle zu verwenden, die Licht bei einer Wellenlänge emittiert,
bei welcher das Werkstück
nur geringe Transmission, insbesondere eine Transmission kleiner
als 50%, vorzugsweise kleiner als 25%, am bevorzugtesten kleiner
als 15% aufweist.
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Wird,
wie oben erwähnt,
polarisiertes, vorzugsweise unter dem Brewster-Winkel einfallendes Licht
verwendet, kann gemäß noch einer
Weiterbildung der Erfindung ein wie in 5 dargestellter
optischer Detektor 5 mit einem Polarisator 45 vorgesehen
werden, welcher das Licht im wesentlichen senkrecht zur Polarisation
des vom Substrat 3 reflektierten Lichts polarisiert. Dementspreched
würde man bei
Verwendung von s-polarisiertem Licht den Polarisator so einstellen,
daß reflektiertes
s-polarisiertes Licht durch den Polarisator 45 geblockt
wird.
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6 zeigt
eine weitere Variante des in 1 gezeigten
Beispiels. Bei diesem Beispiel wird anstelle der Leuchtstoffröhre ein
Laser, insbesonere ein Laser-Barren 50, beispielsweise
ein Laserdiodenarray mit einer Vielzahl von linear in Richtung parallel
zur Oberfläche 31 angeordnete
Laserdioden verwendet. Das Laserdiodenarray kann zumindest eine FAC
und vorzugsweise zusätzlich
zumindest eine SAC-Linse umfassen, welche auf dem Werkstück zumindest
einen Fokus erzeugen. Zur Vermeidung unerwünschter Interferenzeffekte
kann zusätzlich
ein Phasenfrontscrambler vorgesehen sein. Weiterhin kann das Laserdiodenarray
zur Anpassung der longitudinalen Kohärenz auf definiert mehreren
longitudinalen Moden emittieren und/oder zur Definition erwünschter
longitudinaler Kohärenzeigenschaften kurzzeitgepulst
betrieben werden.
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Laser
sind zwar besonders vorteilhaft, da sie intensives, hochgradig paralleles
Licht abgeben, jedoch ist dieser Effekt gerade störend, wenn
man erfindungsgemäß für jeden
von den Pixeln der Zeilenkamera 7 erfassten Oberflächenbereich
Licht aus verschiedenen Einfallsrichtungen verwenden möchte. Um
dies zu erreichen, ist dem Laser eine entsprechende strahlformende
Einrichrung nachgeschaltet. Bei dem in 6 gezeigten
Beispiel ist umfaßt
dazu die Beleuchtungseinrichtung 11 holographisch optische
Elemente zur Definition einer Vielzahl von Foki auf dem Substrat.
Insbesondere umfaßt
das holographisch optische Element ein Phasenhologramm. Speziell
ist eine Phasenhologramm-Platte 52 vor dem Laserbarren 50 angeordnet.
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Das
Phasenhologramm kann vorteilhaft durch strukturiertes Aufdamfen
von Aufdampfglas auf. einer Glasplatte als refraktivem Element hergestellt
werden. Mit dem Phasenhologramm werden die Lichtstrahlen auch in
Richtung der Oberfläche
abgelenkt und fokussiert, so daß wieder
auf jeden der von den Pixeln erfassten Oberflächenbereiche Licht aus verschiedenen
Einfallsrichtungen fällt.
Anstelle einer Glasplatte kann als refraktives Element auch eine
Zylinderlinse verwendet werden. So kann beispielsweise die Fokussierung
in lateraler Richtung durch die Zylilnderlinse und die Fokussierung
unter verschiedenen Einfallsrichtungen entlang der Oberfläche 31 durch
das Phasenhologramm erfolgen.
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Die
Beleuchtungseinrichtung umfasst bei diesem Beispiel außerdem Spiegel
zur Strahlformung. Insbesondere ist bei diesem Beispiel ein facettierter
Spiegel 54 mit Hohlspiegel-Facetten vorgesehen, welcher
ebenfalls zur Definition einer Vielzahl von Foki auf dem Werkstück dient.
Dieser ist im Spiegelstrahl so angeordnet, daß das Licht gerade wieder zurückreflektiert
wird, um die Lichtintensität
auf dem ausgeleuchteten Oberflächenbereich
zu erhöhen.
-
Anstelle
oder zusätzlich
zu Hohlspiegel-Facetten kann auch der Spiegel 54 als reflektierendes Element
und Träger
für holografisch
optische Elemente ausgestaltet sein, um Licht unter verschiedenen
Einfallsrichtungen auf den erfassten Oberflächenbereich zurückzureflektieren.
-
Bei
mit einer Vorrichtung gemäß einem
der vorstehenden Ansprüche
geprüftem
Dünnglas
kann die Konzentration von Kratzern durch Aussortieren von als fehlerhaft
erkannten Gläsern
erheblich gesenkt werden. Bei geprüftem Dünnglass kann so die Konzentration
von Kratzern mit einer Tiefe von 3 bis 30 Nanometern auf weniger
als 5, bevorzugt weniger als 3, besonders bevorzugt weniger als
1 pro Quadratmeter gesenkt werden. Eine Fertigungsstrecke, insbesondere
zur Herstellung von TFT-Displays, welche solche erfindungsgemäße Vorrichtung
umfaßt, ist
damit in der Lage, schnell qualitativ hochwertige Endprodukte bereitzustellen.
-
Auch
kann bei Fertigungsstrecken, beispielsweise zur Glasherstellung
auch eine online-Rückkopplung
der mit der erfindungsgemäßen Vorrichtung
erhaltenen Ergebnisse in den Herstellungsprozeß vorgenommen werden. Damit
kann der Herstellungsprozeß direkt
unter Verwendung der Vorrichtung zur Erfassung von Fehlstellen gesteuert
und optimiert werden.
-
Es
ist dem Fachmann ersichtlich, dass die Erfindung nicht auf die vorstehend
beschriebenen beispielhaften Ausführungsformen beschränkt ist, sondern
vielmehr in vielfältiger
Weise variiert werden kann. Insbesondere können die Merkmale der einzelnen
Ausführungsbeispiele
auch miteinander kombiniert werden.
-
- 1
- Vorrichtung
zur Erfassung von Fehlstellen
- 3
- Dünnglas-Substrat
- 5
- optischer
Detektor
- 7
- Zeilenkamera
- 9
- Fokussierungsoptik
von 7
- 11
- Beleuchtungseinrichtung
- 13
- Leuchtstoffröhre
- 15
- Zylinderlinse
- 17
- bildaufzeichnende
Kamera
- 20
- von 11 beleuchteter
Oberflächenbereich
- 25
- 4F-Anordnung
- 26,
27
- Linsen
von 25
- 30
- Blende
- 31,
32
- Oberfläche von 3
- 35,
36
- Linsen
- 38
- Phasenplatte
- 39
- teildurchlässiger Bereich
- 40
- einfallendes
Lichtbündel
- 41
- von 40 ausgeleuchteter
Bereich auf 31
- 42
- von 40 ausgeleuchteter
Bereich auf 32
- 45
- Polarisator
- 50
- Laser-Barren
- 52
- Phasenhologramm-Platte
- 54
- Spiegel