CN206795536U - 一种光学高抛机设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种光学高抛机设备，包括：工作台及设于工作台中央的抛盘，所述工作台上还设有多个可活动调节的支架，支架的一端连接有滚动轮，所述滚动轮面向所述抛盘，并摩擦接触，所述抛盘内灌装有聚氨酯研磨液，所述抛盘中央外接有一软管的一端，软管的另一端伸入到一回收桶中，所述回收桶上安装有水泵。通过上述方式，本实用新型能够实现高效抛光，回收资源，不仅避免浪费，而且提高产能，节约成本。

Description

一种光学高抛机设备

技术领域

本实用新型涉及光学器件技术领域，尤其是涉及一种光学高抛机设备。

背景技术

光学产品广泛应用于精密仪器、微测量***、医疗设施、自动化设备、激光设备以及军事设备。光学产品经过细磨后，其表面尚有厚约2~3mm的裂痕层，要消除此裂痕层的方法即为抛光。抛光所使用的材料有绒布 (cloth)、抛光皮 (polyurethane) 及沥青(pitch)，通常要达到高精度的抛光面，最常使用的材料为高级抛光沥青。利用沥青来抛光，是藉由沥青细致的表面，带动抛光液研磨产品表面生热，使玻璃熔化流动，熔去粗糙的顶点并填平裂痕的谷底，逐渐把裂痕层除去。

图1为现有技术中采用的高抛机设备，其工作台10的中央设有抛盘20，抛盘20内灌装有沥青，工作台上设有若干个可活动调节的支架30，支架30的一端接有滚动轮40，滚动轮40面向抛盘20，且工作台侧壁上安装有控制面板50及线路控制箱60。

但采用沥青抛光时要注意以下事项：1、抛光沥青的表面与抛光液中不可有杂质，不然会造成镜面刮伤。2、抛光沥青表面要与产品表面吻合，否则抛光时会产生跳动，因而咬持抛光粉而刮伤产品表面。3、抛光前必须确定产品表面是否有细磨后所留下的刮伤或刺孔。4、沥青的软硬度与厚度是否适当。5、抛光的过程中必须随时注意镜片表面的状况及精度检查。

且为了控制和稳定抛光条件，工作场地应保持较为稳定的温度（25°C左右）和湿度（相对湿度为60～70%）。传统高抛设备是在硬铝抛盘上填充沥青，抛光时必须专人照看，只能1人看2个轴。在设备底板上灌沥青，盘上要抛光3-4小时，而且使用中剩余的沥青无法回收，只能丢弃，造成资源浪费，也污染环境，此外，这种传统低抛加工艺远满足不了当今快速发展需求，低效率、低产能对说生产企业是一种严重包袱。

除了利用沥青来抛光外，现有技术还采用抛光粉处理，抛光粉通常由氧化铈、氧化铝、氧化硅、氧化铁、氧化锆、氧化铬等组份组成，不同的材料的硬度不同，在水中的化学性质也不同，因此使用场合各不相同。目前抛光光学产品所使用的抛光粉以氧化铈 (CeO2)为主，抛光液调配的比例依产品抛光时期不同而有所不同，一般抛光初期与和抛光模合时使用浓度较高的抛光液，产品表面光亮后，则改用浓度较稀的抛光液，以避免产品产生橘皮现象 (产品表面雾化)。因此这种工序需要暂停抛光处理，停止设备运转，等稀释抛光液或者直接更换浓度较低的抛光液后再继续，效率低，而且频繁开/关设备将影响设备的使用寿命，增加维修成本。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题是：提供一种使用聚氨酯的高抛机设备，可实现高效抛光，回收资源，不仅避免浪费，而且提高产能，节约成本。

为了解决上述技术问题，本实用新型采用的技术方案为：提供一种光学高抛机设备，包括：工作台及设于工作台中央的抛盘，所述工作台上还设有多个可活动调节的支架，支架的一端连接有滚动轮，所述滚动轮面向所述抛盘，并摩擦接触，其特征在于，所述抛盘内灌装有聚氨酯研磨液，所述抛盘中央外接有一软管的一端，软管的另一端伸入到一回收桶中，所述回收桶上安装有水泵。

其中，还包括控制面板，设于所述工作台的侧壁上。

其中，还包括线路控制箱，设于所述工作台的侧壁上。

本实用新型的有益效果在于：区别于现有技术，本实用新型所述的高抛机设备在抛盘上灌装聚氨酯研磨液，并在其中央外接软管到回收桶中。这样可实现高效抛光，回收资源，不仅避免浪费，而且提高产能，节约成本。

附图说明

图1为现有技术中高抛机设备的结构示意图；

图2为本实用新型方法所述的光学高抛机设备的结构示意图。

具体实施方式

为详细说明本实用新型的技术内容、所实现目的及效果，以下结合实施方式并配合附图予以说明。

请参照图2，本实用新型提供一种光学高抛机设备，包括：工作台1及设于工作台1中央的抛盘2，所述工作台1上还设有多个可活动调节的支架3，支架3的一端连接有滚动轮4，所述滚动轮4面向所述抛盘2，并摩擦接触，其中，所述抛盘2内灌装有聚氨酯研磨液，所述抛盘2中央外接有一软管5的一端，软管5的另一端伸入到一回收桶6中，所述回收桶6上安装有水泵。

其中，所述光学高抛机设备还包括控制面板7及线路控制箱8，分别设于所述工作台1的侧壁上。

区别于现有技术，本实用新型所述的高抛机设备在抛盘上灌装聚氨酯研磨液，并在其中央外接软管到回收桶中。这样可实现高效抛光，回收资源，不仅避免浪费，而且提高产能，节约成本。

为了解决目前现状，进行研发、改良能替代传统低抛加工艺的最优加工方式，来提高效率和产能，减少成本的浪费，增加企业利润。

在实际应用中，本实用新型即采用人工加抛光液。具体地，高抛机底板材质为硬铝，正常使用规格为Φ320*20mm，底板面型修至百分表0对0（1μm都不差）；然后进行贴聚安脂1-1.5mm厚度抛光皮，用金钢瓦片进行再次修复面型至百分表0对0（1μm都不差）；通过调整抛光机的转速和压力、工件与模具（抛光机下盘）的相对速度、相对位移、摆速等方法进行修改产品面型，随后，逐步提高主轴转速，能增加边缘部位与上模接触区域的抛光强度。若速度过高，抛光表面温度升高，从而使抛光模层硬度降低，影响修改光圈（条纹）的效果。增加荷重以加大压力时，可提高整个抛光模和工件间接触区域的抛光强度，加大摆幅长度，增加摆轴速度会使上盘的中间部位和下盘的边缘部位加速抛光。

本实用新型在高抛机上添加一个水泵，抛光液体进行循环，通过软管在抛盘与回收桶之间进行相互流动，避免了研磨液的浪费，同时可及时向抛盘添加研磨液，避免干磨。抛光过程需不间断进行尺寸测量（如使用尼康测厚仪），面型测量仪器检验（如使用平面干涉仪），并判断线条来区分所达到的面型要求，并在台灯下使用冷光源或显微镜检测外观。如精度高产品可先拆下一片进行Zygo仪器上检测相关指标，达到要求即可下盘清洗送检。这样用聚安脂抛光，调整转速和压力，增加自动抛光液装制，比原来时间缩短2小时左右，在人员方面原来只能1人看2个轴，现增加自动抛光液装制1个人可以看4-6个轴，人员也可减少，这样大大提高产能，节约成本，提高公司效率。

以上所述仅为本实用新型的实施例，并非因此限制本实用新型的专利范围，凡是利用本实用新型说明书及附图内容所作的等同变换，或直接或间接运用在相关的技术领域，均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。

Claims (3)

1.一种光学高抛机设备，包括：工作台及设于工作台中央的抛盘，所述工作台上还设有多个可活动调节的支架，支架的一端连接有滚动轮，所述滚动轮面向所述抛盘，并摩擦接触，其特征在于，所述抛盘内灌装有聚氨酯研磨液，所述抛盘中央外接有一软管的一端，软管的另一端伸入到一回收桶中，所述回收桶上安装有水泵。

2.根据权利要求1所述的光学高抛机设备，其特征在于，还包括控制面板，设于所述工作台的侧壁上。

3.根据权利要求1所述的光学高抛机设备，其特征在于，还包括线路控制箱，设于所述工作台的侧壁上。