CN206795536U - 一种光学高抛机设备 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种光学高抛机设备,包括:工作台及设于工作台中央的抛盘,所述工作台上还设有多个可活动调节的支架,支架的一端连接有滚动轮,所述滚动轮面向所述抛盘,并摩擦接触,所述抛盘内灌装有聚氨酯研磨液,所述抛盘中央外接有一软管的一端,软管的另一端伸入到一回收桶中,所述回收桶上安装有水泵。通过上述方式,本实用新型能够实现高效抛光,回收资源,不仅避免浪费,而且提高产能,节约成本。
Description
技术领域
本实用新型涉及光学器件技术领域,尤其是涉及一种光学高抛机设备。
背景技术
光学产品广泛应用于精密仪器、微测量***、医疗设施、自动化设备、激光设备以及军事设备。光学产品经过细磨后,其表面尚有厚约2~3mm的裂痕层,要消除此裂痕层的方法即为抛光。抛光所使用的材料有绒布 (cloth)、抛光皮 (polyurethane) 及沥青(pitch),通常要达到高精度的抛光面,最常使用的材料为高级抛光沥青。利用沥青来抛光,是藉由沥青细致的表面,带动抛光液研磨产品表面生热,使玻璃熔化流动,熔去粗糙的顶点并填平裂痕的谷底,逐渐把裂痕层除去。
图1为现有技术中采用的高抛机设备,其工作台10的中央设有抛盘20,抛盘20内灌装有沥青,工作台上设有若干个可活动调节的支架30,支架30的一端接有滚动轮40,滚动轮40面向抛盘20,且工作台侧壁上安装有控制面板50及线路控制箱60。
但采用沥青抛光时要注意以下事项:1、抛光沥青的表面与抛光液中不可有杂质,不然会造成镜面刮伤。2、抛光沥青表面要与产品表面吻合,否则抛光时会产生跳动,因而咬持抛光粉而刮伤产品表面。3、抛光前必须确定产品表面是否有细磨后所留下的刮伤或刺孔。4、沥青的软硬度与厚度是否适当。5、抛光的过程中必须随时注意镜片表面的状况及精度检查。
且为了控制和稳定抛光条件,工作场地应保持较为稳定的温度(25°C左右)和湿度(相对湿度为60~70%)。传统高抛设备是在硬铝抛盘上填充沥青,抛光时必须专人照看,只能1人看2个轴。在设备底板上灌沥青,盘上要抛光3-4小时,而且使用中剩余的沥青无法回收,只能丢弃,造成资源浪费,也污染环境,此外,这种传统低抛加工艺远满足不了当今快速发展需求,低效率、低产能对说生产企业是一种严重包袱。
除了利用沥青来抛光外,现有技术还采用抛光粉处理,抛光粉通常由氧化铈、氧化铝、氧化硅、氧化铁、氧化锆、氧化铬等组份组成,不同的材料的硬度不同,在水中的化学性质也不同,因此使用场合各不相同。目前抛光光学产品所使用的抛光粉以氧化铈 (CeO2)为主,抛光液调配的比例依产品抛光时期不同而有所不同,一般抛光初期与和抛光模合时使用浓度较高的抛光液,产品表面光亮后,则改用浓度较稀的抛光液,以避免产品产生橘皮现象 (产品表面雾化)。因此这种工序需要暂停抛光处理,停止设备运转,等稀释抛光液或者直接更换浓度较低的抛光液后再继续,效率低,而且频繁开/关设备将影响设备的使用寿命,增加维修成本。
实用新型内容
本实用新型所要解决的技术问题是:提供一种使用聚氨酯的高抛机设备,可实现高效抛光,回收资源,不仅避免浪费,而且提高产能,节约成本。
为了解决上述技术问题,本实用新型采用的技术方案为:提供一种光学高抛机设备,包括:工作台及设于工作台中央的抛盘,所述工作台上还设有多个可活动调节的支架,支架的一端连接有滚动轮,所述滚动轮面向所述抛盘,并摩擦接触,其特征在于,所述抛盘内灌装有聚氨酯研磨液,所述抛盘中央外接有一软管的一端,软管的另一端伸入到一回收桶中,所述回收桶上安装有水泵。
其中,还包括控制面板,设于所述工作台的侧壁上。
其中,还包括线路控制箱,设于所述工作台的侧壁上。
本实用新型的有益效果在于:区别于现有技术,本实用新型所述的高抛机设备在抛盘上灌装聚氨酯研磨液,并在其中央外接软管到回收桶中。这样可实现高效抛光,回收资源,不仅避免浪费,而且提高产能,节约成本。
附图说明
图1为现有技术中高抛机设备的结构示意图;
图2为本实用新型方法所述的光学高抛机设备的结构示意图。
具体实施方式
为详细说明本实用新型的技术内容、所实现目的及效果,以下结合实施方式并配合附图予以说明。
请参照图2,本实用新型提供一种光学高抛机设备,包括:工作台1及设于工作台1中央的抛盘2,所述工作台1上还设有多个可活动调节的支架3,支架3的一端连接有滚动轮4,所述滚动轮4面向所述抛盘2,并摩擦接触,其中,所述抛盘2内灌装有聚氨酯研磨液,所述抛盘2中央外接有一软管5的一端,软管5的另一端伸入到一回收桶6中,所述回收桶6上安装有水泵。
其中,所述光学高抛机设备还包括控制面板7及线路控制箱8,分别设于所述工作台1的侧壁上。
区别于现有技术,本实用新型所述的高抛机设备在抛盘上灌装聚氨酯研磨液,并在其中央外接软管到回收桶中。这样可实现高效抛光,回收资源,不仅避免浪费,而且提高产能,节约成本。
为了解决目前现状,进行研发、改良能替代传统低抛加工艺的最优加工方式,来提高效率和产能,减少成本的浪费,增加企业利润。
在实际应用中,本实用新型即采用人工加抛光液。具体地,高抛机底板材质为硬铝,正常使用规格为Φ320*20mm,底板面型修至百分表0对0(1μm都不差);然后进行贴聚安脂1-1.5mm厚度抛光皮,用金钢瓦片进行再次修复面型至百分表0对0(1μm都不差);通过调整抛光机的转速和压力、工件与模具(抛光机下盘)的相对速度、相对位移、摆速等方法进行修改产品面型,随后,逐步提高主轴转速,能增加边缘部位与上模接触区域的抛光强度。若速度过高,抛光表面温度升高,从而使抛光模层硬度降低,影响修改光圈(条纹)的效果。增加荷重以加大压力时,可提高整个抛光模和工件间接触区域的抛光强度,加大摆幅长度,增加摆轴速度会使上盘的中间部位和下盘的边缘部位加速抛光。
本实用新型在高抛机上添加一个水泵,抛光液体进行循环,通过软管在抛盘与回收桶之间进行相互流动,避免了研磨液的浪费,同时可及时向抛盘添加研磨液,避免干磨。抛光过程需不间断进行尺寸测量(如使用尼康测厚仪),面型测量仪器检验(如使用平面干涉仪),并判断线条来区分所达到的面型要求,并在台灯下使用冷光源或显微镜检测外观。如精度高产品可先拆下一片进行Zygo仪器上检测相关指标,达到要求即可下盘清洗送检。这样用聚安脂抛光,调整转速和压力,增加自动抛光液装制,比原来时间缩短2小时左右,在人员方面原来只能1人看2个轴,现增加自动抛光液装制1个人可以看4-6个轴,人员也可减少,这样大大提高产能,节约成本,提高公司效率。
以上所述仅为本实用新型的实施例,并非因此限制本实用新型的专利范围,凡是利用本实用新型说明书及附图内容所作的等同变换,或直接或间接运用在相关的技术领域,均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。
Claims (3)
1.一种光学高抛机设备,包括:工作台及设于工作台中央的抛盘,所述工作台上还设有多个可活动调节的支架,支架的一端连接有滚动轮,所述滚动轮面向所述抛盘,并摩擦接触,其特征在于,所述抛盘内灌装有聚氨酯研磨液,所述抛盘中央外接有一软管的一端,软管的另一端伸入到一回收桶中,所述回收桶上安装有水泵。
2.根据权利要求1所述的光学高抛机设备,其特征在于,还包括控制面板,设于所述工作台的侧壁上。
3.根据权利要求1所述的光学高抛机设备,其特征在于,还包括线路控制箱,设于所述工作台的侧壁上。
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CN201720707058.9U CN206795536U (zh) | 2017-06-16 | 2017-06-16 | 一种光学高抛机设备 |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN110640618A (zh) * | 2019-09-26 | 2020-01-03 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 一种抛光模修盘周期的检测装置及检测方法 |
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CN110640618A (zh) * | 2019-09-26 | 2020-01-03 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 一种抛光模修盘周期的检测装置及检测方法 |
CN110640618B (zh) * | 2019-09-26 | 2024-05-17 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 一种抛光模修盘周期的检测装置及检测方法 |
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