CN203720503U - 一种显示装置及其彩膜基板 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种显示装置及其彩膜基板，涉及显示技术领域，能够提高彩膜基板上的隔垫物的支撑强度。该彩膜基板包括阵列排布的若干子像素结构，还包括：位于子像素结构之上的第一墙状隔垫物和/或第二墙状隔垫物，其中，第一墙状隔垫物对应位于两排子像素结构之间的交界处设置，第二墙状隔垫物对应位于两列子像素结构之间的交界处设置。
Description
技术领域
本实用新型涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示装置及其彩膜基板。
背景技术
薄膜晶体管液晶显示面板(Thin film Transistor-Liquid Crystal Display，简称TFT-LCD)主要由彩膜基板和阵列基板对盒而成，两者间以隔垫物隔离出注入液晶的空隙，这个空隙的间距即为液晶层的盒厚。当面板承受到来自外部的压力时，液晶层的盒厚将发生变化，盒厚的变化将导致液晶分子产生不必要地移动，从而导致显示器色偏等不良的发生。目前通常在彩膜基板或阵列基板上制作出隔垫物维持盒厚，为了避免不良的发生，隔垫物的支撑强度就显得尤为重要。
发明人在实现本实用新型的过程中发现，现有的隔垫物的支撑均为点接触式的支撑，支撑强度不高。
实用新型内容
本实用新型所要解决的技术问题在于提供一种显示装置及其彩膜基板，能够提高彩膜基板上的隔垫物的支撑强度。
为解决上述技术问题，本实用新型采用如下技术方案：
本实用新型第一方面提供了一种彩膜基板，包括阵列排布的若干子像素结构，还包括：
位于子像素结构之上的第一墙状隔垫物和/或第二墙状隔垫物，其中，第一墙状隔垫物对应位于两排子像素结构之间的交界处设置，第二墙状隔垫物对应位于两列子像素结构之间的交界处设置。
任意两排子像素结构之间的交界处对应设置有第一墙状隔垫物，并且任意两列子像素结构之间的交界处对应设置有第二墙状隔垫物。
所述第一墙状隔垫物和所述第二墙状隔垫物由黑色树脂制成。
所述第一墙状隔垫物的一面上具有多个突起，每一个突起对应于一个所述子像素结构的薄膜晶体管设置。
所述第一墙状隔垫物延伸至两排所述子像素结构之间，所述第二墙状隔垫物延伸至两列所述子像素结构之间。
所述彩膜基板还包括：平坦层，所述平坦层位于所述子像素结构之上、第一墙状隔垫物和第二墙状隔垫物之下。
所述彩膜基板还包括：公共电极层，所述公共电极层位于所述平坦层之上、第一墙状隔垫物和第二墙状隔垫物之下。
所述彩膜基板还包括：公共电极层，所述公共电极层位于所述子像素结构之上、第一墙状隔垫物和第二墙状隔垫物之下。
在本实用新型实施例的技术方案中，提供了一种彩膜基板，包括阵列排布的若干子像素结构，还包括位于子像素结构之上的第一墙状隔垫物和/或第二墙状隔垫物，墙状隔垫物的支撑为线接触甚至面接触式的支撑，接触面积与现有技术中常用的柱状隔垫物、球状隔垫物等相比，接触面积大大提高，在相同的支撑力下，墙状隔垫物的任一处需要承受的支撑强度远小于柱状隔垫物或球状隔垫物等点接触式支撑的隔垫物，从而可以提高彩膜基板上的隔垫物的支撑强度。
本实用新型第二方面提供了一种显示装置，包括上述的任一种彩膜基板。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本实用新型实施例中的彩膜基板的结构示意图一；
图2为本实用新型实施例中的彩膜基板的结构示意图二；
图3为本实用新型实施例中的彩膜基板的结构示意图三；
图4为图1的A-A＇截面示意图一；
图5为图1的A-A＇截面示意图二；
图6为图1的A-A＇截面示意图三；
图7为图1的A-A＇截面示意图四；
图8为图1的A-A＇截面示意图五。
附图标记说明：
1—子像素结构； 2—第一墙状隔垫物； 3—第二墙状隔垫物；
4—突起； 5—衬底基板； 6—平坦层；
7—公共电极层。
具体实施方式
本实用新型实施例提供一种彩膜基板，如图1、图2和图3所示，包括阵列排布的若干子像素结构1，还包括：
位于子像素结构1之上的第一墙状隔垫物2和/或第二墙状隔垫物3，其中，第一墙状隔垫物2对应位于两排子像素结构1之间的交界处设置，第二墙状隔垫物3对应位于两列子像素结构1之间的交界处设置。
需要说明的是，由于在实际的彩膜基板上至少设置有三种不同颜色的子像素结构1，因此，图1、图2和图3中利用三种填充图案表示三种颜色的子像素结构1。
具体的，可以根据实际需要选择在哪两排子像素结构1之间设置第一墙状隔垫物2，如图2所示，此时彩膜基板设置有四排子像素结构1，仅在第一和第二排子像素结构1之间的交界处对应设置第一墙状隔垫物2，也可以如图1所示，任意两排子像素结构1之间的交界处均对应设置有第一墙状隔垫物2；类似的，也可以根据实际需要选择在哪两列子像素结构1之间设置第二墙状隔垫物3，如图3所示，此时彩膜基板设置有六列子像素结构1，仅在第二和第三列子像素结构1之间的交界处对应设置第二墙状隔垫物3，也可以如图1所示，任意两列子像素结构1之间的交界处均对应设置有第二墙状隔垫物3。
显然，墙状隔垫物的支撑为线接触甚至面接触式的支撑，接触面积与现有技术中常用的柱状隔垫物、球状隔垫物等相比，接触面积大大提高，在相同的支撑力下，墙状隔垫物的任一处需要承受的支撑强度远小于柱状隔垫物或球状隔垫物等点接触式支撑的隔垫物，从而可以提高彩膜基板上的隔垫物的支撑强度。
同时，由于第一墙状隔垫物2对应设置于两排子像素结构1之间的交界处，第二墙状隔垫物3对应设置于两列子像素结构1之间的交界处，结合现有技术可知，第一墙状隔垫物2和第二墙状隔垫物3均可对应现有技术中的黑矩阵设置，即无论是第一墙状隔垫物2还是第二墙状隔垫物3，均不会对彩膜基板光线透过率产生影响，保证了彩膜基板的显示效果，保证了用户的使用体验。
在本实施例的技术方案中，提供了一种彩膜基板，包括阵列排布的若干子像素结构，还包括位于子像素结构之上的第一墙状隔垫物和/或第二墙状隔垫物，墙状隔垫物的支撑为线接触甚至面接触式的支撑，接触面积与现有技术中常用的柱状隔垫物、球状隔垫物等相比，接触面积大大提高，在相同的支撑力下，墙状隔垫物的任一处需要承受的支撑强度远小于柱状隔垫物或球状隔垫物等点接触式支撑的隔垫物，从而可以提高彩膜基板上的隔垫物的支撑强度。
优选的，如图1所示，任意两排子像素结构1之间的交界处对应设置有第一墙状隔垫物2，并且任意两列子像素结构1之间的交界处对应设置有第二墙状隔垫物3，这种排布方式可以最大程度地提高墙状隔垫物的支撑强度。
由于第一墙状隔垫物2和第二墙状隔垫物3的高度关系到彩膜基板和阵列基板之间的液晶层的厚度，由于第一墙状隔垫物2和第二墙状隔垫物3是通过构图工艺形成的，因此，可通过调节形成第一墙状隔垫物2和第二墙状隔垫物3的涂层厚度来调节第一墙状隔垫物2和第二墙状隔垫物3的高度，进而调节液晶层的厚度。
在现有技术中，TFT-LCD的背光源往往设置在阵列基板的背部，因此，背光源发出的光首先经过阵列基板、液晶层后，才进入彩膜基板，背光源发出的光在阵列基板内受到折射、反射等作用，部分光线会从阵列基板斜射入液晶层中，这部分自阵列基板斜射出的光线会影响到TFT-LCD的显示效果。而在本实用新型实施例中，由于彩膜基板设置有第一墙状隔垫物2和第二墙状隔垫物3，该第一墙状隔垫物2和第二墙状隔垫物3可将斜射的光线有效地阻挡，提高TFT-LCD的显示效果。
进一步的，所述第一墙状隔垫物2和所述第二墙状隔垫物3可由黑色树脂制成，可提高第一墙状隔垫物2和第二墙状隔垫物3阻隔自阵列基板斜射出的光线的能力，提高了显示装置的显示效果；同时，由黑色树脂制成的第一墙状隔垫物2和第二墙状隔垫物3还可以充当彩膜基板的黑矩阵，使得黑矩阵和隔垫物在同一次构图工艺中形成，与现有技术相比，减少了一次形成黑矩阵的构图工艺，简化了彩膜基板的制作工艺，减小了彩膜基板的制作成本，同时提高了彩膜基板的良品率。同时，由黑色树脂制成的第一墙状隔垫物2和第二墙状隔垫物3可将斜射的光线吸收，进一步地提高TFT-LCD的显示效果。
在本实用新型中，所使用的黑色树脂优选三菱公司生产的萘酚蓝黑（Naphthol Blue Black，简称BCS）材料，其光密度值为0.8，其弹性回复率为95%，曝光能量为30-60mJ/cm2。特别的，由于BCS材料弹性形变量较大（可压缩3-5微米），而实际应用中墙状隔垫物高度通常为5微米左右；因此，在本实用新型实施例中，可设计构图工艺后制得的墙状隔垫物高度为7-10微米，在之后的对盒工艺中，通过调节对盒压力来最终控制墙状隔垫物的高度，进而调整液晶层的厚度。
由于在本实用新型实施例中，墙状隔垫物充当黑矩阵，现有技术中的黑矩阵不仅需要提高各子像素结构的对比度，还需要充分遮挡栅线、数据线和薄膜晶体管单元等需遮光的结构。在本发明中，第一墙状隔垫物2恰好起到遮挡栅线的作用，第二墙状隔垫物3恰好起到遮挡数据线的作用，另外，如图1或2所示，所述第一墙状隔垫物的一面上具有多个突起4，每一个突起4对应于一个所述子像素结构1的薄膜晶体管设置，相当于每一个突起4都起到遮挡薄膜晶体管单元的作用，保证薄膜晶体管单元的正常工作。
如图4所示，该彩膜基板由下至上依次包括阵列排布的子像素结构1和墙状隔垫物（图4中为第二墙状隔垫物2），另外，为了进一步提高TFT-LCD的对比度，如图5所示，所述第一墙状隔垫物2延伸至两排所述子像素结构1之间（图中未示出），所述第二墙状隔垫物3延伸至两列所述子像素结构1之间，即第一墙状隔垫物2（图中未示出）、第二墙状隔垫物3直接设置在衬底基板5上。
另外，为了使得该彩膜基板的子像素结构的表面更加平整，降低墙状隔垫物的制作工艺难度，如图6所示，在图4的基础上，该彩膜基板还包括：平坦层6，所述平坦层6位于所述子像素结构1之上、第一墙状隔垫物2（图中未示出）和第二墙状隔垫物3之下。
若该彩膜基板为扭曲向列型（Twisted Nematic，简称TN）模式的TFT-LCD的彩膜基板，则该彩膜基板上还应包括有与阵列基板上的像素电极配合、驱动液晶层中的液晶分子的公共电极层，因此，如图8所示，所述公共电极层7位于所述平坦层6之上、第一墙状隔垫物2（图中未示出）和第二墙状隔垫物3之下；或者如图7所示，所述公共电极层7位于所述子像素结构1之上、第一墙状隔垫物2和第二墙状隔垫物3之下。
进一步的，本实用新型实施例中还提供了一种显示装置，包括上述的彩膜基板，该显示装置可以为：液晶面板、液晶电视、液晶显示器、数码相框、手机、平板电脑等具有任何显示功能的产品或部件。
以上所述，仅为本实用新型的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此，本实用新型的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。
Claims (9)
1.一种彩膜基板，包括阵列排布的若干子像素结构，其特征在于，还包括：
位于子像素结构之上的第一墙状隔垫物和/或第二墙状隔垫物，其中，第一墙状隔垫物对应位于两排子像素结构之间的交界处设置，第二墙状隔垫物对应位于两列子像素结构之间的交界处设置。
2.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，任意两排子像素结构之间的交界处对应设置有第一墙状隔垫物，并且任意两列子像素结构之间的交界处对应设置有第二墙状隔垫物。
3.根据权利要求2所述的彩膜基板，其特征在于，所述第一墙状隔垫物和所述第二墙状隔垫物由黑色树脂制成。
4.根据权利要求3所述的彩膜基板，其特征在于，
所述第一墙状隔垫物的一面上具有多个突起，每一个突起对应于一个所述子像素结构的薄膜晶体管设置。
5.根据权利要求1-4任一项所述的彩膜基板，其特征在于，所述第一墙状隔垫物延伸至两排所述子像素结构之间，所述第二墙状隔垫物延伸至两列所述子像素结构之间。
6.根据权利要求1-4任一项所述的彩膜基板，其特征在于，还包括：
平坦层，所述平坦层位于所述子像素结构之上、第一墙状隔垫物和第二墙状隔垫物之下。
7.根据权利要求6所述的彩膜基板，其特征在于，还包括：
公共电极层，所述公共电极层位于所述平坦层之上、第一墙状隔垫物和第二墙状隔垫物之下。
8.根据权利要求1-4任一项所述的彩膜基板，其特征在于，还包括：
公共电极层，所述公共电极层位于所述子像素结构之上、第一墙状隔垫物和第二墙状隔垫物之下。
9.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-8任一项所述的彩膜基板。
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