CN202187224U - 抗紫外线合成革 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及合成革领域，特别的涉及一种抗紫外线合成革，包括基布层及覆于基布层上的PU层，在所述PU层的上表面设有一陶瓷粉末层，所述陶瓷粉末层为纳米TiO2颗粒层，本实用新型的合成革紫外线透过率最低只有0.4％，即紫外线遮盖率可达99％以上，在热辐射对比试验中，防紫外线织物比普通织物的温度要低3-5℃，是用于制作服装、帐篷、日光伞等的理想材料。
Description
技术领域
本实用新型涉及合成革领域，特别的涉及一种抗紫外线合成革。
背景技术
现有的合成革和人造革一般是由纺织布底基或无纺布底基，分别用聚氨酯涂复并采用特殊发泡处理制成，随着科技的进步，合成革在人们的日常生活中，发挥着越来越大的作用，广泛用于制作日用品及工业用品等，但现有的合成革在太阳光照射下，易因产生的高温不适，也防止不了太阳紫外线对人体的伤害。
实用新型内容
本实用新型的目的在于克服上述不足，提供一种结构简单的抗紫外线合成革。
为实现上述目的，本实用新型的技术解决方案是：一种抗紫外线合成革，包括基布层及覆于基布层上的PU层，在所述PU层的上表面设有一陶瓷粉末层。
所述陶瓷粉末层为纳米TiO2颗粒层。
所述陶瓷粉末层涂覆有紫外线吸收层。
通过采用上述的技术方案，本实用新型的有益效果是：本实用新型的合成革紫外线透过率最低只有0.4％，即紫外线遮盖率可达99％以上，在热辐射对比试验中，防紫外线织物比普通织物的温度要低3-5℃，是用于制作服装、帐篷、日光伞等的理想材料。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图。
具体实施方式
以下结合附图和具体实施例来进一步说明本实用新型。
如图1所示，本实用新型的抗紫外线合成革，包括基布层1及覆于基布层上的PU层2，在所述PU层2的上表面设有一纳米TiO2颗粒层3，用于吸收和反射日光中特定区域的电磁波，所述纳米TiO2颗粒层3涂覆有紫外线吸收层，可高效吸收紫外线光。
以上所述的，仅为本实用新型的一较佳实施例而已，不能限定本实用实施的范围，凡是依本实用新型申请专利范围所作的均等变化与装饰，皆应仍属于本实用新型涵盖的范围内。
Claims (3)
1.抗紫外线合成革，包括基布层(1)及覆于基布层上的PU层(2)，其特征在于：在所述PU层(2)的上表面设有一陶瓷粉末层(3)。
2.根据权利要求1所述的抗紫外线合成革，其特征在于：所述陶瓷粉末层(3)为纳米TiO2颗粒层。
3.根据权利要求1或2所述的抗紫外线合成革，其特征在于：所述陶瓷粉末层(3)涂覆有紫外线吸收层。
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| CN2011202126453U CN202187224U (zh) | 2011-06-18 | 2011-06-18 | 抗紫外线合成革 |
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| CN (1) | CN202187224U (zh) |
Cited By (2)
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|---|---|---|---|---|
| CN104480732A (zh) * | 2014-10-23 | 2015-04-01 | 合肥金伶俐服饰有限公司 | 一种高效抑菌pu合成革及其生产方法 |
| CN104480730A (zh) * | 2014-10-23 | 2015-04-01 | 合肥金伶俐服饰有限公司 | 一种防紫外线pu合成革及其生产方法 |
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