CN1159593A - 带有光源的自动聚焦控制装置 - Google Patents

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Abstract

一种利用像散光学元件的光学定位装置。激光二极管发射椭圆形的不用校正的像散光。第一透镜会聚该光并将该光传送到要定位的物体上。当物体移动时，监测从物体上反射的光。由于像散，第一透镜并不具有实焦点。然而，存在某一点，传送的光的水平和垂直分量相等。第一透镜放置成使该物***于相应于该平衡点处。

Description

带有光源的自动聚焦控制装置
本发明总体上说涉及利用椭圆形光的自动聚焦控制装置。本发明涉及在用于平版印刷半导体制造和CD盘(CD)播放机的设备中、利用椭圆形光将工件置于投影透镜的聚焦深度(focus-depth)范围或将CD盘置于读出光束的聚焦面上的自动聚焦控制装置。
用于平版印刷半导体制造的曝光装置把在掩模上几何形的图形转移到半导体晶片的一薄膜覆盖的表面上。为了转移掩膜上的图形，该晶片和工件必须在投影透镜的聚焦景深之内。
在光盘上以凹痕形式记录信息，再用光源读出该信息。一般以激光器生成读出光束的光源。在读出信息之后，根据由反射光转换的电信号，阅读器将光盘置于激光束的焦点处。
在用于半导体制造和CD播放机的光学***中，使用自动聚焦装置将盘、晶片和工件置于精确的聚焦平面上。
在曝光和光读出装置中，自动聚焦控制利用圆形光。但是，激光二极管发射的为椭圆形的像散光。
例如，曝光装置中的透镜将圆形光会聚到晶片或工件上。然后，曝光装置将反射光会聚到光检测器上。此时，可检测位置的任何变化，也检测晶片和工件的聚焦位置，并将晶片和工件置于聚焦景深之内。
自动聚焦控制装置可以利用象散光。例如，在CD播放机中，将激光二极管发射的椭圆形光束转换为圆形光束，像散能将光盘置位于聚焦平面上。这样，尽管设计摄影透镜以减小像散，但光读出装置却使用最大可能的像散来检测聚焦误差。
利用像散的自动聚焦控制装置将发射光转换为圆形光。然后，柱面透镜将圆形光透镜为椭圆形光。球面透镜将光会聚到工件上。四边分开的方形检测器对工件的反射光进行检测，并通过检测信号检测工件的位置。在上述方式中，自动聚焦控制装置用柱面透镜和球面透镜产生像散。
在下文的介绍中将陈述本发明的优点和目的，由该说明或通过本发明的实施可明显看出或了解到这些优点和目的。借助于在所附权利要求中具体指出的元件和***，本发明的优点和目的将被实现和达到。
本发明的目的之一是提供使用单一激光二极管的自动控制器。
本发明的另一个目的是提供用椭圆形光而不将椭圆形光转换为圆形光来对物体进行自动定位的自动控制器。
本发明的再一个目的是提供将工件、晶片和/或光盘置于投影光学***的聚焦深度之内的自动控制器。
为实现本发明的目的，本发明的结构如下。光源发射由光源产生的椭圆形光。第一反射器反射来自第一球面透镜的椭圆形光并将其传送到一物体上而进行位置检测。
第二反射器反射由该物体反射的光来进行位置检测。第二球面透镜会聚由第二反射器反射的光。光检测器将来自第二球面透镜的光转换为相应的电信号而输出该信号。根据来光检测器的电信号，控制装置读出相应物体的位置信息而检测位置，并根据所读出的信息输出控制信号。位置调节部分接收控制信号并调节物体的位置。
在本发明的最佳实施例的光源通常由激光二极管构成。本发明并不限于这里所描述的实施例而可以在本发明的精神范围内进行修改。
可以理解到，上述的概述和下文的详述都仅仅是解释性和示例性的，并不限定如权利要求所述的本发明。
附图是构成本发明说明书的组成部分，它图示出本发明的几个实施例，结合附图及其说明用来解释本发明的原理，附图中：
图1是本发明的第一实施例的自动聚焦控制装置的透视图；
图2是激光二极管的示意图；
图3是本发明的第一实施例的透射光束横截面形状的示意图；
图4A-4C是照射到光检测器上的光的横截面的状态图；和
图5是本发明的第二实施例的自动聚焦控制装置的透视图。
按照本发明的一最佳实施例，光学定位装置使用像散光学元件。激光二极管发射不经校正的像散的椭圆形光。第一透镜会聚该光并将其透射到要定位的物体上。当物体移动时，监测该物体的反射光。由于像散，第一透镜并不具有实焦点。但是，总有一点处透射光的水平和垂直分量相等。第一透镜放置为使物体所要求的位置对应于这个平衡点。
参见图1，本发明的第一实施例是投影光学半导体制造装置。掩膜1具有要投影的图形。投影透镜2投影穿过掩膜1的光。工件3包括一晶片和一工件来转移掩膜上的图形。
激光二极管4发射检测工件3的位置的椭圆形光。第一球面透镜5会聚由激光二极管4发射的椭圆形光。第一反射器6将由球面透镜5会聚的光反射到工件3上。第二反射器7将由第一反射器反射的光再次反射到工件3上。第二球面透镜8会聚由第二反射器7反射的光并输出该光。光检测器9检测来自第二球面透镜8的透射光，然后输出相应的电信号。
放大/增益控制器10放大来自光检测器9的电信号。模/数转换器11接收已放大的电信号并将该模拟信号转换为数字信号。控制部分12接收数字信号并确定工件3的位置。然后，控制部分12输出用以定位工件3的控制信号。根据控制部分12发出的控制信号，位置调节装置13控制工件3的位置。
在非吸入式平台(non-drawn stage)(未示出)上重新放置工件3。位置调节装置13移动非吸入式平台，以使该平台位于成像位置。
本发明可用作曝光设备的光调整装置，以读出光盘上的信息。
非吸入式(non-drawn)激光功率控制器被用作曝光设备中的调整光源，它也发射规则成形的光量。
当使用者操作功率装置时，激光二极管4发射光。如图2所示，激光二极管4发射的光有像散和椭圆形。第一球面透镜5会聚来自激光二极管4的椭圆形光，然后反射器6将其传送到工件3。
在本申请中，像散指的是光束的垂直和水平分量之间聚焦点的差异。图3示出了由激光二极管4发射并经第一球面透镜5会聚的光的横截面。由于激光二极管4发射的光有像散，水平光被聚焦在a处；垂直光被聚焦在c处；在b处的横截面为圆形。
回到图3，由于水平光在位置a聚焦而垂直光并不在此聚焦，因而在a处光为椭圆形。由于在位置a处垂直轴不成焦，该横截面的垂直分量就大于水平分量。
透镜5将光的垂直分量聚焦在位置c，但在位置c处水平分量不成焦。光的横截面为具有较长(不成焦的)水平轴的椭圆形。
在位置b，光的水平和垂直分量都不成焦。但在位置b处水平和垂直分量相等而不成焦，因而产生圆形的横截面。
反射器6将光反射到工件3上。把透镜5和反射器6置位成，如果工件3放置合适的话，圆形横截面的光将照射在工件3上，如图3中位置b所示。
在优选实施例中，光检测器9具有按图4A所示进行配置的四个光电二极管。光检测器将光束分为四份a-d而输出相应的电信号。放大/增益控制器10将来自光检测器9的信号调整为适当的值，再由模/数转换器11进行转换。根据上述数字信号，控制部分12调整晶片和工件，即载有工件的平台位置。
图4A示出照射到光检测器9的对应位置a的光的形状和位置。图4B示出当工件3准确地被置于对应于位置b的投影透镜2的成像点处时照射到光检测器9的光的形状和位置。图4c示出当工件3被置于对应于位置c的投影透镜2的成像点内侧时照射到光检测器9的光的形状和位置。
根据来自光检测器9的信号a-d，控制部分12确定工件3的位置。控制部分12进行如下计算：
(a+b)-(c+d)＝α    (1)
(a+c)-(b+d)＝β    (2)
位置调整装置13移动工件3而计算一系列的α值和β值。当α和β为最小值或零时，上述控制部分12就认为工件3位于投影透镜2的成像点处。根据光检测器9的检测信号，控制部分12调整工件3的位置。最好将工件3置于投影透镜2的焦点或至少在可接受的景深范围内。
位置调整部分13和控制部分12是可调的。
本发明的第二实施例也是使用激光二极管的自动聚焦控制装置。参见图5，第二实施例包括用于增加像散的位于激光二极管4和第一球面透镜5之间的柱面透镜14。
按照本发明的实施例，柱面透镜14相对于圆形光来说具有像散。由光检测器9获得工件3的位置信息，其操作***类似于第一实施例中的***。但是，由柱面透镜14发射的光的像散增加了，在位置a、b和c之间的间距被拉长。因此，光检测器9易于获取位置信息。
激光二极管发射的椭圆形光并未被转换为圆形光，定位装置也能进行工作。曝光设备的工件或CD播放机的光盘固定于聚焦深度范围内或准确的聚焦点处。本发明与组合有柱面透镜和球面透镜、并在将椭圆形光变形为圆形光之后产生像散的装置不同。
本发明旨在检测位置信息。并且，采用激光二极管的自动聚焦控制装置减少了产品成本和所占据的面积。
根据本文所公开的有关本发明的说明和实施例，本领域中的技术人员可以明了本发明的其它实施例。说明书和实施例仅仅是示范说明，所附的权利要求书则代表本发明的实际范围和实质内容。

Claims (17)

1、一种利用像散光学元件而不进行像散校正的物体定位装置，该装置包括：
一用于发射有像散并且是椭圆形光的光源；
一用于会聚由光源发射的椭圆形光并将其传送到物体上的第一透镜；
一用于会聚从物体上反射的光的第二透镜；
一用于接收来自第二透镜的光并将该接收的光转换为电信号的光检测器；和
一用于接收电信号并根据该电信号控制物***置的控制装置。
2、如权利要求1所述的装置，其中第一和第二透镜为球面透镜。
3、如权利要求2所述的装置，还包括一位于第一透镜和物体之间的光径上的第一反射器和一位于该物体与第二透镜之间的光径上的第二反射器。
4、如权利要求2所述的装置，其中该光检测器包括四个光电二极管。
5、如权利要求3所述的装置，其中该控制装置包括：
一用于接收和调节电信号的放大电路；
一用于将来自放大电路的模拟信号转换为数字信号的模拟-数字转换器；
一用于接收该数字信号并根据该数字信号确定物***置的处理器电路，该处理器电路还产生控制信号；和
一根据控制信号移动物体的装置。
6、如权利要求1所述的装置，其中该光源包括激光二极管。
7、一种包括权利要求1中所述装置的光盘播放机。
8、一种包括权利要求1中所述装置的用于制造半导体器件的投影光学***。
9、一种利用像散光学元件而不进行像散校正的物体定位装置，该装置包括：
一用于发射有像散并具有椭圆形光的光源；
一用于会聚由光源发射的椭圆形光并将其传送到物体上的第一透镜；
一位于光源和物体之间的光径上的柱面透镜；
一用于会聚从物体上反射的光的第二透镜；
一用于接收来自第二透镜的光并将该接收的光转换为电信号的光检测器；和
一用于接收电信号并根据该电信号控制物***置的控制装置。
10、如权利要求9所述的装置，其中第一和第二透镜为球面透镜。
11、如权利要求10所述的装置，还包括一位于第一透镜和物体之间的光径上的第一反射器和一位于该物体和第二透镜间的光径上的第二反射器。
12、如权利要求10所述的装置，其中该光检测器包括四个光电二极管。
13、如权利要求11所述的装置，其中该控制装置包括：
一用于接收和调节电信号的放大电路；
一用于将来自放大电路的模拟信号转换为数字信号的模拟-数字转换器；
一用于接收数字信号并根据该数字信号确定物***置的处理器电路，该处理器电路产生控制信号；和
一用于根据控制信号移动物体的装置。
14、如权利要求9所述的装置，其中该光源由激光二极管组成。
15、一种包括权利要求9中所述装置的光盘播放机。
16、一种包括权利要求9中所述装置的用于制造半导体器件的投影光学***。
17、一种利用像散光学元件而不进行像散校正的将物体定位于预定位置的方法，该方法包括以下步骤：
提供一像散光束，该像散光束具有水平分量和垂直分量，并且该像散光束还具有该水平和垂直分量等同脱离焦点的一平衡点；
将光传送到物体上；
移动该物体；
监测从物体上反射的光；和
检测该平衡点。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7547866B2 (en) 2004-04-28 2009-06-16 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Laser irradiation method and method for manufacturing semiconductor device including an autofocusing mechanism using the same

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1111472B1 (en) * 1999-12-22 2007-03-07 ASML Netherlands B.V. Lithographic apparatus with a position detection system
TWI231405B (en) 1999-12-22 2005-04-21 Asml Netherlands Bv Lithographic projection apparatus, position detection device, and method of manufacturing a device using a lithographic projection apparatus
JP2005505929A (ja) * 2001-10-10 2005-02-24 アクセント オプティカル テクノロジーズ，インク． 断面解析による焦点中心の決定
DE10312682B4 (de) * 2002-03-22 2015-07-16 Carl Zeiss Meditec Ag Mikroskopieanordnung mit Autofokus und astigmatisch geformtem Analyselichtstrahl
DE10244618A1 (de) * 2002-09-25 2004-04-08 Olympus Biosystems Gmbh Einrichtung und Verfahren zur optischen Objektuntersuchung oder/und Erfassung oder/und Untersuchung von Schichten
EP1684503B1 (en) * 2005-01-25 2016-01-13 Canon Kabushiki Kaisha Camera and autofocus control method therefor
US20130256286A1 (en) * 2009-12-07 2013-10-03 Ipg Microsystems Llc Laser processing using an astigmatic elongated beam spot and using ultrashort pulses and/or longer wavelengths
KR101033873B1 (ko) * 2009-12-30 2011-05-11 피에스아이 주식회사 픽업의 포커스 바이어스를 이용한 오토포커싱 방법
US10001622B2 (en) * 2011-10-25 2018-06-19 Sanford Burnham Medical Research Institute Multifunction autofocus system and method for automated microscopy
EP2866051B1 (en) 2013-10-23 2018-10-03 Ladar Limited A laser detection and ranging device for detecting an object under a water surface
CN107407551B (zh) 2015-02-18 2020-06-09 雅培实验室 用于使显微镜自动聚焦到基片上的方法、***及装置
JP2018138990A (ja) 2016-12-08 2018-09-06 ウルトラテック インク 再構成ウェハーのリソグラフィ処理のための焦点制御のための走査方法

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5588001A (en) * 1978-12-11 1980-07-03 Canon Inc Distance measuring optical system
NL7904580A (nl) * 1979-06-12 1980-12-16 Philips Nv Inrichting voor het schrijven van patronen in een laag op een substraat met een bundel elektrisch geladen deeltjes.
JPH0652708B2 (ja) * 1984-11-01 1994-07-06 株式会社ニコン 投影光学装置
JPS61183928A (ja) * 1985-02-12 1986-08-16 Nippon Kogaku Kk <Nikon> 投影光学装置
DE3709709A1 (de) * 1986-03-25 1987-10-08 Asahi Optical Co Ltd Hilfslicht projizierende vorrichtung fuer ein entfernungsfeststellsystem
EP0261545A1 (de) * 1986-09-17 1988-03-30 Siemens Aktiengesellschaft Detektoranordnung zum Ermitteln des Fokussierfehlers bei einem optischen Datenspeicher
JP2735220B2 (ja) * 1987-12-02 1998-04-02 株式会社日立製作所 非点収差を有する光束を用いた焦点ずれ検出方法及び光ディスク装置
EP0342061B1 (en) * 1988-05-13 1995-11-02 Canon Kabushiki Kaisha Projection exposure apparatus
JP2924344B2 (ja) * 1991-08-09 1999-07-26 キヤノン株式会社 投影露光装置
JP2532818B2 (ja) * 1993-02-01 1996-09-11 松下電器産業株式会社 対物レンズおよび光ヘッド装置
JP3265504B2 (ja) * 1993-10-12 2002-03-11 株式会社ニコン 露光方法及び装置、並びに半導体素子の製造方法

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7547866B2 (en) 2004-04-28 2009-06-16 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Laser irradiation method and method for manufacturing semiconductor device including an autofocusing mechanism using the same
US7777210B2 (en) 2004-04-28 2010-08-17 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Laser irradiation method in which a distance between an irradiation object and an optical system is controlled by an autofocusing mechanism and method for manufacturing semiconductor device using the same
US8022380B2 (en) 2004-04-28 2011-09-20 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Laser irradiation method in which a distance between an irradiation object and an optical system is controlled by an autofocusing mechanism and method for manufacturing semiconductor device using the same
CN101604627B (zh) * 2004-04-28 2012-05-23 株式会社半导体能源研究所 激光辐射方法和使用其方法制造半导体装置的方法

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