CN109728194A - 显示面板和显示装置 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种显示面板和显示装置。显示面板包括显示区、非显示区、至少一个缺口,显示区包括沿第一方向延伸的数据线,显示面板的边缘沿第二方向朝向显示区内部凹陷形成缺口,非显示区包括与缺口相邻的第一非显示区;衬底基板;阵列层位于衬底基板之上;显示层位于阵列层远离衬底基板一侧,且位于显示区;封装结构位于显示层远离阵列层一侧,包括至少一个有机封装层;在第一非显示区设置有第一挡墙、第二挡墙和缓流挡墙,其中,第二挡墙位于第一挡墙远离显示区一侧,缓流挡墙位于第一挡墙靠近显示区一侧,有机封装层截止于第一挡墙靠近显示区一侧。本发明能够保证封装效果的可靠性。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域,更具体地,涉及一种显示面板和显示装置。
背景技术
现有的显示装置技术中,显示面板主要分为液晶显示面板和有机自发光显示面板两种主流的技术。其中,液晶显示面板通过在像素电极和公共电极上施加电压,形成能够控制液晶分子偏转的电场,进而控制光线的透过实现显示面板的显示功能;有机自发光显示面板采用有机电致发光材料,当有电流通过有机电致发光材料时,发光材料就会发光,进而实现了显示面板的显示功能。
有机发光显示面板具有自发光、超薄、高对比度、超广视角、低功率消耗、显示亮度高、色彩鲜艳,并且能够制作柔性显示等优点成为时下关注的重点。
因此,提供一种性能可靠性好的显示面板和显示装置,是本领域亟待解决的技术问题。
发明内容
有鉴于此,本发明提供了一种显示面板和显示装置,解决了提升性能可靠性的技术问题。
为了解决上述技术问题,第一方面,本发明提供一种显示面板,包括显示区、围绕显示区设置的非显示区、至少一个缺口,显示区包括多条沿第一方向延伸的数据线,显示面板的边缘沿第二方向朝向显示区内部凹陷形成缺口,第二方向与第一方向交叉,非显示区包括第一非显示区,第一非显示区与缺口相邻;还包括:
衬底基板;
阵列层,位于衬底基板之上;
显示层,位于阵列层远离衬底基板一侧,且位于显示区;
封装结构,位于显示层远离阵列层一侧,包括至少一个有机封装层;其中,
在第一非显示区设置有第一挡墙、第二挡墙和缓流挡墙,其中,第二挡墙位于第一挡墙远离显示区一侧,缓流挡墙位于第一挡墙靠近显示区一侧,有机封装层截止于第一挡墙靠近显示区一侧。
基于同一发明构思,第二方面,本发明提供一种显示装置,包括本发明提供的任意一种显示面板。
与现有技术相比,本发明提供的显示面板和显示装置,至少实现了如下的有益效果:
本发明提供的显示面板,在与缺口相邻的第一非显示区内设置有第一挡墙、第二挡墙和缓流挡墙,显示面板在制作封装结构中的有机封装层时,缓流挡墙能够对液态的有机封装层材料起到缓流阻挡的作用,当液态的有机封装层材料由显示区向第一非显示区蔓延时,缓流挡墙能够减缓液态的有机封装层材料的流速,保证有机封装层能够截止在缓流挡墙靠近显示区一侧,或者截止在缓流挡墙与第一挡墙之间,从而能够避免液态有机封装层材料在第一非显示区内造成集中后蔓延过第二挡墙。通过缓流挡墙的设置保证将有机封装层的边缘截止在第一挡墙靠近显示区一侧,封装结构中制作的无机封装层的边缘通常截止在第一挡墙与第二挡墙之间,或者截止在第二挡墙远离显示区一侧,本发明能够保证封装结构的中的无机封装层有效的包覆有机封装层,能够保证封装效果的可靠性。
通过以下参照附图对本发明的示例性实施例的详细描述,本发明的其它特征及其优点将会变得清楚。
附图说明
被结合在说明书中并构成说明书的一部分的附图示出了本发明的实施例,并且连同其说明一起用于解释本发明的原理。
图1为本发明实施例提供的显示面板俯视示意图;
图2为图1中切线A-A'位置处截面一种示意图;
图3为图1中切线A-A'位置处截面另一种示意图;
图4为图1中切线C-C'位置处截面示意图;
图5为本发明实施例提供的显示面板一种可选实施方式俯视示意图;
图6为本发明实施例提供的显示面板一种可选实施方式局部俯视示意图;
图7为本发明实施例提供的显示面板另一种可选实施方式局部俯视示意图;
图8为本发明实施例提供的显示面板另一种可选实施方式俯视示意图;
图9为本发明实施例提供的显示面板另一种可选实施方式局部截面示意图;
图10为本发明实施例提供的显示面板的另一种可选实施方式局部俯视示意图;
图11为本发明实施例提供的显示面板的另一种可选实施方式局部俯视示意图;
图12为本发明实施例提供的显示面板的另一种可选实施方式局部俯视示意图;
图13为本发明实施例提供的显示面板的另一种可选实施方式局部俯视示意图;
图14为本发明实施例提供的显示面板另一种可选实施方式显示区截面示意图;
图15为图14所示的显示面板的部分区域俯视示意图;
图16为本发明实施例提供的显示面板另一种可选实施方式俯视示意图
图17为本发明实施例提供的显示面板另一种可选实施方式截面示意图;
图18为本发明实施例提供的显示面板另一种可选实施方式局部放大示意图;
图19为本发明实施例提供的显示面板另一种可选实施方式俯视示意图;
图20为本发明实施例提供的显示面板另一种可选实施方式俯视示意图;
图21为本发明实施例提供的显示面板另一种可选实施方式局部放大示意图;
图22为本发明实施例提供的显示装置示意图。
具体实施方式
现在将参照附图来详细描述本发明的各种示例性实施例。应注意到:除非另外具体说明,否则在这些实施例中阐述的部件和步骤的相对布置、数字表达式和数值不限制本发明的范围。
以下对至少一个示例性实施例的描述实际上仅仅是说明性的,决不作为对本发明及其应用或使用的任何限制。
对于相关领域普通技术人员已知的技术、方法和设备可能不作详细讨论,但在适当情况下,所述技术、方法和设备应当被视为说明书的一部分。
在这里示出和讨论的所有例子中,任何具体值应被解释为仅仅是示例性的,而不是作为限制。因此,示例性实施例的其它例子可以具有不同的值。
应注意到:相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项,因此,一旦某一项在一个附图中被定义,则在随后的附图中不需要对其进行进一步讨论。
图1为本发明实施例提供的显示面板俯视示意图,图2为图1中切线A-A'位置处截面一种示意图。图3为图1中切线A-A'位置处截面另一种示意图。图4为图1中切线C-C'位置处截面示意图。图5为本发明实施例提供的显示面板一种可选实施方式俯视示意图。
如图1所示,显示面板包括显示区AA、围绕显示区AA设置的非显示区BA、至少一个缺口K,显示区AA包括多条沿第一方向a延伸的数据线D(图中的条数仅是示意性表示),显示面板的边缘B沿第二方向b朝向显示区AA内部凹陷形成缺口K,其中,边缘B在未向显示区AA内部凹陷之前为沿第一方向a延伸的边缘,第二方向b与第一方向a交叉,可选的,第一方向a与第二方向b相互垂直。非显示区BA包括第一非显示区BA1,第一非显示区BA1与缺口相邻K。显示面板可以具有两个或者多个缺口K,图1仅以具有一个缺口K为例进行示意说明。
如图2所示的显示面板包括衬底基板101;阵列层102位于衬底基板101之上;显示层103位于阵列层102远离衬底基板101一侧,且位于显示区AA;封装结构104,位于显示层103远离阵列层102一侧,包括至少一个有机封装层104Y。可选的,封装结构104还包括第一无机封装层104W1和第一无机封装层104W2,有机封装层104Y位于第一无机封装层104W1和第一无机封装层104W2之间,第一无机封装层104W1和第一无机封装层104W2的边缘的截止位置也仅是示意性表示。第一无机封装层104W1可以截止在第一挡墙Q1和第二挡墙Q2之间,或者截止在第二挡墙Q2远离显示区AA一侧。第二无机封装层104W2可以截止在第一挡墙Q1和第二挡墙Q2之间,或者截止在第二挡墙Q2远离显示区AA一侧。可选的,显示层103包括多个发光器件(图中并未示出),发光器件可以为有机发光器件。
同时参考图1和图2所示的,在第一非显示区BA1设置有第一挡墙Q1、第二挡墙Q2和缓流挡墙HQ,其中,第二挡墙Q2位于第一挡墙Q1远离显示区AA一侧,缓流挡墙HQ位于第一挡墙Q1靠近显示区AA一侧,有机封装层104Y截止于第一挡墙Q1靠近显示区AA一侧。在第一非显示区BA1的不同位置,有机封装层104Y的截止位置可以不同,图2中示出了有机封装层104Y的边缘截止在第一挡墙Q1与缓流挡墙HQ之间的情况。可选的,参考图3所示的有机封装层104Y的边缘也可以截止在缓流挡墙HQ靠近显示区AA一侧。在显示面板的第一非显示区BA1内也可以是在部分区域内有机封装层104Y的边缘截止在第一挡墙Q1与缓流挡墙HQ之间,而其他部分区域内有机封装层104Y的边缘截止在缓流挡墙HQ靠近显示区AA一侧。
图1中以缺口K的形状为矩形为例,可选的,缺口K的形状也可以为三角形、或者其他形状。如图3所示,显示面板的缺口K的形状也可以为半圆形。
可选的,缓流挡墙的延伸方向与缺口的边缘的延伸方向相同。即如图1和图3中示意出的在第一非显示区BA1内沿缺口K的边缘B设置缓流挡墙HQ。
需要说明的是,图1和图5中仅示意出了非显示区BA内的部分第一挡墙Q1和第二挡墙Q2,实际中为了保证封装结构对显示层的封装效果,在显示面板的俯视图中,第一挡墙Q1可以为包围显示区AA的闭合图形,第二挡墙Q2也可以为包围显示区AA的闭合图形。如图4所示的为显示面板中其他位置处的非显示区的截面示意图,在此位置处有机封装层104Y的边缘截止第一挡墙Q1靠近显示区AA一侧。封装结构104中的第一无机封装层104W1和第一无机封装层104W2均截止在第二挡墙Q2远离显示区AA一侧。在对显示面板进行切割时,第二挡墙Q2靠近切割边缘,由于切割时切割应力较大,可能会导致无机封装层产生裂缝,本发明中设置的第二挡墙Q2能够在一定程度上阻挡无机封装层产生的裂缝向显示区AA内延伸,保证无机封装层的裂缝阻断在第二挡墙Q2位置处,从而避免裂缝延伸到有机封装层104Y所在的区域,从而能够很好的阻挡水氧的侵入,保证封装效果。
在显示层之上制作封装结构时,有机封装层通常采用喷墨打印方式制作,在初期为可流动的液态,液态的有机封装层材料会向非显示区蔓延,当显示面板为规则形状(比如矩形)时,液态的有机封装层材料会均匀的向四周的非显示区蔓延。而在具有缺口的显示面板中,由于缺口的存在导致显示面板呈不规则形状,有机封装层材料向与缺口相邻的第一非显示区内蔓延时,大量的液态有机封装层材料会在第一非显示区内造成集中,有机封装层的边缘有可能会超出预设的边缘位置,导致封装结构的中的无机封装层不能有效的包覆有机封装层,影响封装结构的封装效果,进而影响显示面板的性能。
本发明提供的显示面板,在与缺口相邻的第一非显示区内设置有第一挡墙、第二挡墙和缓流挡墙,显示面板在制作封装结构中的有机封装层时,缓流挡墙能够对液态的有机封装层材料起到缓流阻挡的作用,当液态的有机封装层材料由显示区向第一非显示区蔓延时,缓流挡墙能够减缓液态的有机封装层材料的流速,保证有机封装层能够截止在缓流挡墙靠近显示区一侧,或者截止在缓流挡墙与第一挡墙之间,从而能够避免液态有机封装层材料在第一非显示区内造成集中后蔓延过第二挡墙。通过缓流挡墙的设置保证将有机封装层的边缘截止在第一挡墙靠近显示区一侧,封装结构中制作的无机封装层的边缘通常截止在第一挡墙与第二挡墙之间,或者截止在第二挡墙远离显示区一侧,本发明能够保证封装结构的中的无机封装层有效的包覆有机封装层,能够保证封装效果的可靠性。本发明中在第一非显示区内设置的缓流挡墙的延伸方向与缺口的边缘的延伸方向相同,即缓流挡墙为非闭合形状,且仅设置在于缺口相邻的第一非显示区内。在显示面板的其他非显示区内可以如上述图4示出的设置第一挡墙和第二挡墙共两层挡墙,在显示面板中正常的显示区(不与第一非显示区相邻的显示区)的边界基本为规则形状,在制作有机封装层时,液态的有机封装层材料均匀的由显示区向非显示区扩散,此时第一挡墙能够用于阻挡有机封装层,保证其截止在第一挡墙内,同时设置第二挡墙用于防止切割应力导致的无机封装层的裂纹延伸到有机封装层所在的区域,设置两层挡墙即能够保证良好的封装效果。假定在不与缺口相邻的其他非显示区内:在第一挡墙靠近显示区一侧同样设置缓流挡墙,则会占用非显示区的空间,导致边框变宽增大显示面板整体尺寸(包括显示区和全部非显示区的尺寸),也会影响显示面板的屏占比。而本发明中仅在与缺口相邻的第一非显示区内设置有缓流挡墙,缓流挡墙导致第一非显示区宽度增大后,也仅会导致缺口变小,并不会影响显示面板整体的尺寸。另外,本发明设置的缺口相当于非显示区向显示区的内部凹陷,则与第一非显示区相邻的显示区的边界的形状大致与缺口的边缘形状相同,在制作有机封装层时,液态的有机封装材料容易在此处集中蔓延,设置缓流挡墙用于减缓有机封装材料的流速,本保证将有机封装层截止在第一挡墙靠近显示区一侧,从而保证封装效果的可靠性。
另外,在本发明具有缺口的显示面板中,在制作显示层中用到的掩膜板(比如在阴极层制作工艺或者其他有机膜层制作工艺中用到)在缺口位置也会做相应的变形设计以适应缺口的形状,在膜层蒸镀的工艺中由于掩膜板制作精度和对位精度的影响,在缺口附近的掩膜板对显示面板中像素定义层的划伤较大,可能会进一步导致封装失效,本发明中在与缺口相邻的第一非显示区内设置缓流挡墙,缓流挡墙能够用于支撑掩膜板,从而避免掩膜板对像素定义层造成划伤。同时在第一非显示区内设置缓流挡墙之后,在第一非显示区内包括第一挡墙、第二挡墙和缓流挡墙共三层挡墙,能够增加封装结构中各封装膜层(包括有机封装层和无机封装层)的高低起伏,从而能够增大各封装膜层与阵列层之间的粘附性,避免缺口周围区域发生弯折时封装结构中发生膜层剥离现象。
继续参考图2所示,缓流挡墙HQ具有远离衬底基板101一侧的第一表面M1,第一表面M1距衬底基板101的距离为d1;第一挡墙Q1具有远离衬底基板101一侧的第二表面M2,第二表面M2距衬底基板101的距离为d2;第二挡墙Q2具有远离衬底基板101一侧的第三表面M3,第三表面M3距衬底基板101的距离为d3;其中,d1≤d2,且d1≤d3。可选的,d2与d3可以相等也可不相等。图2中,d1、d2和d3均以距衬底基板101靠近阵列层102一侧的表面的距离来计算。该实施方式中,显示面板在与缺口相邻的第一非显示区内设置有第一挡墙、第二挡墙和缓流挡墙,在制作有机封装层时,缓流挡墙能够对液态的有机封装层材料起到缓流阻挡的作用,能够减缓液态的有机封装层材料的流速,保证有机封装层能够截止在缓流挡墙靠近显示区一侧,或者截止在缓流挡墙与第一挡墙之间。能够保证封装结构的中的无机封装层有效的包覆有机封装层,能够保证封装效果的可靠性。同时设置缓流挡墙距衬底基板的距离小于等于第一挡墙距衬底基板的距离,且小于等于第二挡墙距衬底基板的距离,缓流挡墙的设置能够起到延缓液态有机封装层材料流速的同时,保证缓流挡墙对显示面板的整体厚度没有影响,符合显示面板薄型化要求。假定设置缓流挡墙的高度高于第一挡墙和第二挡墙,则在缓流挡墙位置处会导致对有机封装材料的过度拦截,导致缓流挡墙所在位置处有机封装材料的过度堆积,导致有机封装材料相对于衬底基板的高度会高于第一挡墙和第二挡墙,则此时,过度堆积的有机封装材料会沿着缓流挡墙的延伸方向蔓延,当蔓延到缓流挡墙的截止位置(缓流挡墙为非闭合设计,所以一定存在边缘即截止位置)时,有机封装材料最终会漫过缓流挡墙,也有可能会在不设置缓流挡墙的位置漫过第一挡墙,导致有机封装层的边缘超出了预设的边缘位置。所以该实施方式中设置d1≤d2,且d1≤d3,能够避免上述情况的发生,保证缓流挡墙能够减缓有机封装材料流速的同时,又避免有机封装材料在缓流挡墙位置处过度堆积。
另外,该实施方式中在与缺口相邻的第一非显示区内设置缓流挡墙,在制作显示层中的膜层蒸镀工艺中,缓流挡墙能够用于支撑掩膜板,从而避免掩膜板对像素定义层造成划伤。同时在第一非显示区内设置缓流挡墙之后,在第一非显示区内包括第一挡墙、第二挡墙和缓流挡墙共三层挡墙,能够增加封装结构中各封装膜层(包括有机封装层和无机封装层)的高低起伏,从而能够增大各封装膜层与阵列层之间的粘附性,避免缺口周围区域发生弯折时封装结构中发生膜层剥离现象。
在一种实施例中,图6为本发明实施例提供的显示面板一种可选实施方式局部俯视示意图,如图6所示的,缓流挡墙HQ具有至少一个第一断口DK1,缓流挡墙HQ在第一断口DK1处不连续。该实施方式中,设置缓流挡墙为不连续的结构,在制作有机封装层时,液态的有机封装层材料由显示区蔓延到缓流挡墙所在的位置时,部分有机封装层材料由第一断口穿过缓流挡墙后向第一挡墙蔓延,部分有机封装层材料翻过缓流挡墙后向第一挡墙蔓延。第一断口的设置相当于能够消除有机封装层材料的在局部区域的过度聚集,比如当大量的液态有机封装层聚集在一起冲破连续的缓流挡墙的瞬间可能冲力比较大,而设置第一断口后,部分有机封装层材料由第一断口穿过缓流挡墙,相当于分散了部分冲力,减缓了有机封装层漫过缓流挡墙后的流速。另外,第一断口的设置在保证缓流挡墙对有机封装层缓流作用的同时,也能够减少缓流挡墙的制作材料,有利于节省制作成本。另外在第一非显示区将缓流挡墙设置成不连续的结构,当显示面板的缺口位置发生弯折时,第一断口能够提供弯折路径,减少显示面板承受的弯折引力,提高缺口位置处的耐弯折性能。本发明设置的缺口相当于非显示区向显示区的内部凹陷,则与第一非显示区相邻的显示区与第一非显示区共有的边界向显示区内部凹陷,在制作有机封装层时,液态的有机封装材料由显示区向周边的非显示区蔓延,向第一非显示区蔓延的有机封装材料的量会比向其他的非显示蔓延的量更多,所以有机封装材料首先被缓流挡墙拦截后,容易在缓流挡墙位置处造成堆积,该实施方式中缓流挡墙设置第一断口,能够保证部分有机封装材料从第一断口流过缓流挡墙,避免造成有机封装材料的堆积。
可选的,继续参考上述图5所示,可以在缓流挡墙HQ中在区域Z1中第一断口DK1的设置密度大于区域Z2中第一断口DK1的设置密度,其中,区域Z1与区域Z2相比在第二方向b上更加靠近显示区AA的中心的。其中设置密度指沿着缓流挡墙延伸方向,单位距离内的第一断口的数量。
可选的,也可以是在缓流挡墙HQ中区域Z1中设置的多个第一断口的总长度大于区域Z2中多个第一断口DK1的总长度。第一断口DK1的总长度为沿着缓流挡墙延伸方向,单位距离内的多个第一断口的总长度。在制作有机封装层时,由于区域Z1位置处更加靠近显示区AA的中心,在该位置处缓流挡墙HQ拦截的有机封装材料会比区域Z2位置处的缓流挡墙HQ拦截的量更多,即区域Z1位置处更加容易造成有机封装材料的堆积,本发明中通过在区域Z1位置处增大第一断口设置密度或者增大第一断口设置总长度,来避免区域Z1位置处有机封装材料过度堆积,从而平衡第一非显示区的不同位置处被缓流挡墙拦截的有机封装层的高度,该实施方式能够通过缓流挡墙中第一断口的设置保证被缓流挡墙拦截的各个位置的有机封装层的高度基本一致,同时能够防止有机封装材料发生局部堆积的问题。
在一种实施例中,图7为本发明实施例提供的显示面板另一种可选实施方式局部俯视示意图,如图7所示的,第一挡墙Q1具有至少一个第二断口DK2,第一挡墙Q1在第二断口处不连续,由缓流挡墙HQ指向第一挡墙Q1的方向上:第二断口DK2与第一断口DK1不交叠。该实施方式中第一断口的设置能够消除有机封装层材料在局部区域的过度聚集,第一断口和第二断口不交叠,部分由第一断口穿过缓流挡墙的有机封装层材料会被第一挡墙截止,避免第一断口和第二断口相交叠导致对液态有机封装层材料的缓流作用减弱,该实施方式中,具有第一断口的缓流挡墙和具有第二断口的第一挡墙相互配合保证有机封装层截止在第一挡墙靠近显示区一侧。另外,第一断口和第二断口的设置能够减少缓流挡墙和第一挡墙的制作材料的使用,有利于节省制作成本。另外,交错设置的第一断口和第二断口均能够释放弯折应力,从而提升显示面板的耐弯折性能,而且交错设置的第一断口和第二断口能够在多个位置分别阻断弯折裂纹的延伸通道,避免裂纹延伸到显示区,该实施方式能够进一步增加水氧的阻隔能力。在第一非显示区中的缓流挡墙远离阵列层一侧可能还需要设置一些金属走线,由于设置第一挡墙、第二挡墙、缓流挡墙这些结构后,会导致第一非显示区内存在断差,容易引起金属线断线或者断路,当金属走线需要换层走线时也有可能发生打孔工艺不彻底,或者打孔工艺过刻的发生,本发明中提供的第一断口和第二断***错的设计,可以将金属走线设置在第一断口或者第二断口的附近进行走线,或者将金属换线位置设置在断口所在的位置,能够避免上述不良问题的发生。
在一种实施例中,图8为本发明实施例提供的显示面板另一种可选实施方式俯视示意图,如图8所示的,非显示区BA还包括第二非显示区BA2,第二非显示区BA2与第一非显示区BA1相邻,且与缺口K不相邻;在第二非显示区BA2内设置有沿第一方向a延伸的延伸挡墙YQ,延伸挡墙YQ与缓流挡墙HQ相连接。如图8所示的,显示面板中包括两个第二非显示区BA2,可以仅在一侧的第二非显示区BA2内设置延伸挡墙YQ,或者在两个第二非显示区BA2内均设置有延伸挡墙YQ。该实施方式中,首先在第一非显示区内设置缓流挡墙,缓流挡墙能够减缓液态的有机封装层的流速,保证有机封装层能够截止在缓流挡墙靠近显示区一侧,或者截止在缓流挡墙与第一挡墙之间,封装结构中制作的无机封装层的边缘通常截止在第一挡墙与第二挡墙之间,或者截止在第二挡墙远离显示区一侧,本发明能够保证封装结构的中的无机封装层有效的包覆有机封装层,能够保证封装效果的可靠性。其次在第二非显示区内设置延伸挡墙,延伸挡墙与缓流挡墙相连接,延伸挡墙同样能够起到减缓液态的有机封装层材料的流速的作用,保证在与第一非显示区相邻的位置也能够有效的减缓有机封装层的流速,避免在第一非显示区和第二非显示区相连接的位置造成液态有机封装层的集中蔓延,从而进一步保证了有机封装层能够截止在第一挡墙靠近显示区一侧,进而保证封装效果的可靠性。本发明提供的设置缺口的显示面板中,由于缺口的设置导致非显示区向显示区的内部凹陷,即第一非显示区向显示区内部凹陷,在制作有机封装层时液态的有机封装材料由显示区向周边的非显示区蔓延,会首先蔓延到第一非显示区被缓流挡墙拦截到,且在第一非显示区内拦截的有机封装材料的量会比其他的非显示拦截的量更多,在不设置延伸挡墙的情况下,缓流挡墙拦截的大量有机封装材料会在缓流挡墙的截止位置(缓流挡墙为非闭合设计,所以一定存在边缘即截止位置)倾泻而出,导致漫过第一挡墙。通常情况下在不与缺口相邻的非显示区(比如第二非显示区)内有机封装材料能够向非显示区均匀蔓延,本发明中通过设置延伸到第二非显示区内的延伸挡墙,能够将在第一非显示区内被缓流挡墙拦截的有机封装材料沿延伸挡墙向第二非显示区内蔓延,从而通过与第一非显示区相邻的第二非显示区来分担部分被缓流挡墙堆积的有机封装材料。同时可以通过适当的调整延伸挡墙的长度,避免占用过多的第二非显示区面积。继续参考图8所示,延伸挡墙YQ在第一方向上的长度为d4,其中,10μm≤d4≤200μm。如图8所示的,显示面板包括两个第二非显示区BA2,需要说明的是,在两个第二非显示区BA2内设置的延伸挡墙YQ的长度可以相等也可以不相等。该实施方式中,在第二非显示区内设置延伸挡墙,延伸挡墙与缓流挡墙相连接,延伸挡墙同样能够起到减缓液态的有机封装层材料的流速的作用,避免在第一非显示区和第二非显示区相连接的位置造成液态有机封装层的集中蔓延,从而进一步保证了有机封装层能够截止在第一挡墙靠近显示区一侧,进而保证封装效果的可靠性。同时设置延伸挡墙的长度满足一定范围,避免延伸挡墙的长度过小对有机封装层流速的减缓能力过小,同时避免延伸挡墙的长度过长,导致延伸挡墙在第二非显示区占据空间过大。
在一种实施例中,图9为本发明实施例提供的显示面板另一种可选实施方式局部截面示意图,如图9所示的,在第一非显示区BA1还设置有缓流凹槽HC,缓流凹槽HC位于阵列层102,缓流凹槽HC的槽口位于阵列层102远离衬底基板101一侧的表面上,缓流凹槽HC在衬底基板101上的投影为第一投影;第一挡墙Q1在衬底基板101的投影为第二投影,显示区AA的边界在衬底基板101的投影为第三投影,第一投影位于第二投影与第三投影之间。需要说明的是,向衬底基板的正投影即为沿垂直显示面板的方向的投影,沿图9中方向e观察显示面板时,缓流凹槽HC和第一投影重合,第一挡墙Q1和第二投影重合,显示区AA的边界和第三投影重合,所以图9中并未标记第一投影、第二投影和第三投影。本发明中沿方向e观察显示面板时,缓流凹槽HC位于第一挡墙Q1和显示区AA的边界之间。显示区AA的边界即为显示面板中能够用于显示的区域的边界,显示面板中能够用于显示的区域设置有多个像素,显示区AA的边界即为与非显示相邻的多个像素的靠近非显示区的边缘形成的与非显示区之间的界限。该实施方式中,与缺口相邻的第一非显示区内设置缓流挡墙,缓流挡墙能够减缓液态的有机封装层材料的流速,保证有机封装层能够截止在缓流挡墙靠近显示区一侧,或者截止在缓流挡墙与第一挡墙之间,从而能够避免液态有机封装层材料在第一非显示区内造成集中后蔓延过第二挡墙。发明能够保证封装结构的中的无机封装层有效的包覆有机封装层,能够保证封装效果的可靠性。另外,在阵列层还设置有缓流凹槽,缓流凹槽位于缓流挡墙与显示区的边界之间,当制作有机封装层时,液态的有机封装层需要首先流过缓流凹槽才能到达缓流挡墙,缓流凹槽内具有一定的空间,能够保证部分有机封装层材料填充在缓流凹槽内,然后才能向缓流挡墙的方向蔓延。另外,在第一非显示区内设置缓流凹槽后,能够进一步减缓有机封装材料的流速,保证有机封装材料在第一非显示区内均匀蔓延,避免局部堆积造成成膜后有机封装层厚度不均(即在缓流挡墙区域较高,而其他区域较低),导致在有机封装层之上再制作其他膜层结构时膜层涂覆不均匀引起断线或者短路,本发明能够保证封装结构之上制作的金属走线时,避免金属走线断线或者短路,能够提高性能可靠性。另外,在第一非显示区内设置有多个挡墙结构会导致在第一非显示区的封装结构之上存在断差,容易引起金属线断线或者断路,当金属走线需要换层走线时也有可能发生打孔工艺不彻底,或者打孔工艺过刻的发生,本发明中在缓流挡墙与显示区之间设置缓流凹槽,可以将金属走线设置在缓流凹槽附近走线,或者将金属换线位置设置在缓流凹槽所在的位置,能够避免上述不良问题的发生。
在显示面板中,在显示区的边界和第一挡墙之间存在多个边界,比如阴极层的边界、像素定义层的边界、周边电路的边界等,图10为本发明实施例提供的显示面板的另一种可选实施方式局部俯视示意图。如图10所示,在显示面板的第一非显示区BA1包括阴极层的边界(第一边界J1),周边电路Z所在区域,还包括像素定义层的边界,像素定义层至少包括两个边界(第二边界J2和第三边界J3,需要说明的是,第二边界J2和第三边界J3仅作为命名方式,并不代表像素定义层的第二个边界和第三个边界),其中,在第二边界J2和第三边界J3之间的区域O内形成PDL岛,即在该区域O内对像素定义层进行图案化,阴极层在该区域O内电连接到下方的金属走线,从而金属走线能够向阴极层施加电压信号。第二边界J2即为PDL岛靠近显示区AA一侧的边界,第三边界J3即为PDL岛远离显示区AA一侧的边界。可选的,像素定义层还可以具有第四边界J4,即在整面铺设像素定义层时自然形成的边界,当对像素定义层进行图案化形成PDL岛时,可以将第四边界J4刻蚀掉,使得在第一非显示区BA1内仅存在像素定义层的第二边界J2和第三边界J3;或者也可以不对第四边界J4进行刻蚀,使得第一非显示区BA1内存在有第二边界J2、第三边界J3和第四边界J4。
在一种实施例中,图11为本发明实施例提供的显示面板的另一种可选实施方式局部俯视示意图。如图11所示,缓流凹槽HC位于像素定义层的第二边界J2与缓流挡墙HQ之间。图11仅是示意性表示出一个缓流凹槽HC,可选的,显示面板也可以同时具有多个缓流凹槽。缓流凹槽位于显示面板的阵列层,像素定义层在显示层的制作工艺中制作,即像素定义层位于阵列层之上,图11中俯视图即为垂直于显示面板的方向上观看,缓流凹槽HC可以与PDL岛区域O存在交叠。
在一种实施例中,图12为本发明实施例提供的显示面板的另一种可选实施方式局部俯视示意图。如图12所示,缓流凹槽HC位于像素定义层的第三边界J3与缓流挡墙HQ之间。
在一种实施例中,图13为本发明实施例提供的显示面板的另一种可选实施方式局部俯视示意图。如图13所示,缓流凹槽HC位于像素定义层的第四边界J4与缓流挡墙HQ之间。
在一种实施例中,图14为本发明实施例提供的显示面板另一种可选实施方式显示区截面示意图。图15为图14所示的显示面板的部分区域俯视示意图,如图14所示的,显示层103包括阴极层1031、发光层1032和阳极层1033,显示层103还可以包括空穴注入层(HIL)、空穴传输层(HTL)、电子传输层(ETL)和电子注入层(EIL)中的至少一个。
如图15所示的,阴极层1031包括位于第一非显示区BA1的第一边界J1,第一边界J1在衬底基板的投影为第四投影Y4,缓流凹槽HC在衬底基板上的投影为第一投影Y1;显示区AA的边界在衬底基板的投影为第三投影Y3,第一投影Y1位于第四投影Y4与第三投影Y3之间。该实施方式中,通过在与缺口相邻的第一非显示区内设置缓流挡墙,缓流挡墙能够减缓液态的有机封装层材料的流速,保证有机封装层能够截止第一挡墙靠近显示区一侧,能够保证封装结构的中的无机封装层有效的包覆有机封装层,能够保证封装效果的可靠性。另外,在阵列层还设置有位于缓流挡墙与显示区的边界之间的缓流凹槽,能够进一步减缓液态有机封装层材料的流速,通过缓流挡墙和缓流凹槽的共同作用,保证有机封装层能够截止在第一挡墙靠近显示区一侧。同时将缓流凹槽设置在阴极层的边界与显示区的边界之间,即相当于将阴极层的边界与显示区的边界之间的阵列层做减薄,当制作采用蒸镀工艺制作显示层中的膜层(如上述空穴注入层、空穴传输层等膜层)时,部分膜层使用的掩膜板的边缘位于阴极层的边界与显示区的边界之间,本发明的设计能够防止蒸镀使用的掩膜板的边缘划伤像素定义层,从而保证显示面板性能可靠性。
在一种实施例中,图16为本发明实施例提供的显示面板另一种可选实施方式俯视示意图,如图16所示的,在第一非显示区BA1设置有周边电路Z,缓流凹槽HC位于显示区AA的边界AAB与周边电路Z之间。周边电路可以为包括栅极驱动电路和一些电路走线,栅极驱动电路包括驱动显示面板中栅极线的移位寄存器。在采用蒸镀工艺制作显示层中的膜层时,部分膜层使用的掩膜板的边缘位于周边电路与显示区的边界之间,本发明的设计通过在周边电路与显示区的边界之间设置缓流凹槽,相当于对缓流凹槽所在的位置进行厚度的减薄,能够防止该区域蒸镀使用的掩膜板的边缘划伤像素定义层,从而保证显示面板性能可靠性。
上述图11、图12和图13中均以显示面板中第一非显示区内包括周边电路Z进行示意。其中,周边电路可以是栅极驱动电路或者仅是部分电路走线。可选的,在上述实施例中,第一非显示区内也可以不设置周边电路,有利于实现第一非显示区的窄化。
本发明中阵列层包括延伸至第一非显示区中的缓冲层、栅极绝缘层、层间绝缘层或者平坦化层等膜层。其中,可以在薄膜晶体管的有源层制作工艺之前制作缓冲层,在薄膜晶体管的栅极制作工艺之后制作栅极绝缘层,在薄膜晶体管的源极和漏极的制作工艺之后制作层间绝缘层,可选的可以在层间绝缘层之上制作一层平坦化层。
可选的,缓流凹槽形成于阵列层中的至少一个膜层。在一种实施例中,可以刻蚀平坦化层形成缓流凹槽。在另一种实施例中,可以刻蚀平坦化层和层间绝缘层形成缓流凹槽。在另一种实施例中,可以刻蚀平坦化层、层间绝缘层和栅极绝缘层形成缓流凹槽。在另一种实施例中,可以将这阵列层中衬底基板之上的所有绝缘膜层都刻蚀掉形成缓流凹槽。
在一种实施例中,图17为本发明实施例提供的显示面板另一种可选实施方式截面示意图。如图17所示,阵列层102包括缓冲层1021和多个薄膜晶体管T;在显示区AA,缓冲层1021位于薄膜晶体管T与衬底基板101之间,在显示区AA缓冲层1021的厚度为d5,缓冲层1021延伸至第一非显示区BA1,在缓流凹槽HC所在的区域缓冲层1021的厚度为d6,其中,d6<d5。需要说明的是,图17中为简化图,仅示意出显示面板中部分结构。该实施方式中,通过在与缺口相邻的第一非显示区内设置缓流挡墙,缓流挡墙能够减缓液态的有机封装层材料的流速,保证有机封装层能够截止第一挡墙靠近显示区一侧,能够保证封装结构的中的无机封装层有效的包覆有机封装层,能够保证封装效果的可靠性。另外,在阵列层还设置有位于缓流挡墙与显示区的边界之间的缓流凹槽,能够进一步减缓液态有机封装层材料的流速,通过缓流挡墙和缓流凹槽的共同作用,保证有机封装层能够截止在第一挡墙靠近显示区一侧。在阵列层的膜层结构中缓冲层的厚度通常设置的比较厚,该实施方式中相当于在第一非显示区内刻蚀掉部分缓冲层形成缓流凹槽,能够保证缓冲层之上的制作工艺均不做改变,工艺相对简单。
在一种实施例中,沿缺口的边缘的延伸方向上,缓流凹槽的长度小于等于缓流挡墙的长度。本发明提供的显示面板中由于缺口的形状可以为多边形或者也可以为半圆形,所以缺口的边缘形状不固定,但是,无论缺口的边缘为任何形状,在对缺口的边缘的局部进行放大时,该边缘均会趋近于直线,下面仅以放大状态下的缺口的边缘进行示意。图18为本发明实施例提供的显示面板另一种可选实施方式局部放大示意图。如图18所示,仅示意出显示面板的部分区域,缺口的边缘为B,在边缘B的延伸方向上,缓流凹槽HC的长度d7小于缓流挡墙HQ的长度d8。该实施方式在缓流挡墙靠近显示区一侧是指缓流凹槽,且缓流凹槽的长度小于等于缓流挡墙的长度,制作有机封装层时,有机封装材料漫过缓流凹槽后,由缓流凹槽的边缘向外溢出时,能够保证在与缓流凹槽的边缘相对应的位置也进一步有缓流挡墙的阻挡,能够避免液态的有机封装材料在缓流凹槽的边缘位置溢出后直接向第一挡墙蔓延,该实施方式保证保证液态有机封装层材料能够经两次缓流作用后再向第一挡墙蔓延,实现有效的将有机封装层的边界截止在第一挡墙靠近显示区一侧,进而能够保证封装结构的中的无机封装层有效的包覆有机封装层,能够保证封装效果的可靠性。
在一种实施例中,沿缺口的边缘的延伸方向上,多个缓流凹槽依次排列。图19为本发明实施例提供的显示面板另一种可选实施方式俯视示意图。如图19所示,仅以缺口K的形状为矩形为例,沿缺口K的边缘B的延伸方向上,多个缓流凹槽HC依次排列。该实施方式中设置多个缓流凹槽,制作显示面板的有机封装层时,多个缓流凹槽在第一非显示区的不同位置同时对液态的有机封装层材料的蔓延起到延缓作用,尽量保证液态的有机封装层材料能够在第一非显示区内均匀的蔓延,避免在局部集中蔓延超出预设的位置(第一挡墙靠近显示区一侧),影响封装效果。另外该实施方式中,能够在缓流挡墙和显示区的边界之间均匀的设置多个缓流凹槽,保证第一非显示区结构上的均一,从而保证机械强度的稳定性。另外,读个缓流凹槽能够为缺口位置发生弯折时提供弯折路径,减少显示面板的第一非显示承受的弯折应力,提高耐弯折性能。
在一种实施例中,图20为本发明实施例提供的显示面板另一种可选实施方式俯视示意图。如图20所示,缓流挡墙HQ具有至少一个第一断口DK1,缓流挡墙HQ在第一断口DK1处不连续;由显示区AA指向第一挡墙Q1的方向上,相邻的两个缓流凹槽HC之间的间隔与第一断口DK1交错设置。该实施方式中,液态的有机封装层材料由显示区向第一非显示区蔓延时,在具有缓流凹槽的位置液态的有机封装层材料首先填充缓流凹槽后才能向第一断口的方向蔓延,在相邻的两个缓流凹槽之间的间隔位置对应的缓流挡墙能够对有机封装层材料起到阻挡作用,避免相邻的两个缓流凹槽之间的间隔位置与第一断口相对应导致有机封装层材料漫过缓流凹槽后再直接经由第一断口蔓延,导致对有机封装层材料的缓流作用减弱。本发明通过缓流凹槽和缓流挡墙的配合,保证有机封装层截止在第一挡墙靠近显示区一侧。
在一种实施例中,沿缺口的边缘的延伸方向上,缓流凹槽的长度大于等于第一断口的长度。图21为本发明实施例提供的显示面板另一种可选实施方式局部放大示意图。如图21所示,仅示意出显示面板的部分区域,缺口的边缘为B,在边缘B的延伸方向上,缓流凹槽HC的长度为d9,第一断口DK1的长度为d10。该实施方式中相当于设置由显示区指向第一非显示区方向上相对应的缓流凹槽和第一断口之间的长度大小关系,保证在设置有第一断口的显示面板中,部分有机封装层材料填充缓流凹槽后再向第一断口位置蔓延,而部分不填充缓流凹槽的有机封装层材料直接由缓流挡墙来阻挡,同时保证由缓流凹槽的边缘溢出的有机封装层材料会也被缓流挡墙阻挡,保证了缓流凹槽和缓流挡墙相互配合,有效的将有机封装层截止在第一挡墙靠近显示区一侧。
本发明还提供一种显示装置,图22为本发明实施例提供的显示装置示意图,如图22所示的包括本发明任意实施例提供的显示面板100。本发明实施例提供的显示装置可以是任何具有显示功能的电子产品,包括但不限于以下类别:电视机、笔记本电脑、桌上型显示器、平板电脑、数码相机、手机、智能手环、智能眼镜、车载显示器、医疗设备、工控设备、触摸交互终端等。
通过上述实施例可知,本发明提供的显示面板和显示装置,至少实现了如下的有益效果:
本发明提供的显示面板,在与缺口相邻的第一非显示区内设置有第一挡墙、第二挡墙和缓流挡墙,显示面板在制作封装结构中的有机封装层时,缓流挡墙能够对液态的有机封装层材料起到缓流阻挡的作用,当液态的有机封装层材料由显示区向第一非显示区蔓延时,缓流挡墙能够减缓液态的有机封装层材料的流速,保证有机封装层能够截止在缓流挡墙靠近显示区一侧,或者截止在缓流挡墙与第一挡墙之间,从而能够避免液态有机封装层材料在第一非显示区内造成集中后蔓延过第二挡墙。通过缓流挡墙的设置保证将有机封装层的边缘截止在第一挡墙靠近显示区一侧,封装结构中制作的无机封装层的边缘通常截止在第一挡墙与第二挡墙之间,或者截止在第二挡墙远离显示区一侧,本发明能够保证封装结构的中的无机封装层有效的包覆有机封装层,能够保证封装效果的可靠性。
虽然已经通过例子对本发明的一些特定实施例进行了详细说明,但是本领域的技术人员应该理解,以上例子仅是为了进行说明,而不是为了限制本发明的范围。本领域的技术人员应该理解,可在不脱离本发明的范围和精神的情况下,对以上实施例进行修改。本发明的范围由所附权利要求来限定。
Claims (16)
1.一种显示面板,其特征在于,包括显示区、围绕所述显示区设置的非显示区、至少一个缺口,所述显示区包括多条沿第一方向延伸的数据线,所述显示面板的边缘沿第二方向朝向所述显示区内部凹陷形成所述缺口,所述第二方向与所述第一方向交叉,所述非显示区包括第一非显示区,所述第一非显示区与所述缺口相邻;还包括:
衬底基板;
阵列层,位于所述衬底基板之上;
显示层,位于所述阵列层远离所述衬底基板一侧,且位于所述显示区;
封装结构,位于所述显示层远离所述阵列层一侧,包括至少一个有机封装层;其中,
在所述第一非显示区设置有第一挡墙、第二挡墙和缓流挡墙,其中,所述第二挡墙位于所述第一挡墙远离所述显示区一侧,所述缓流挡墙位于所述第一挡墙靠近所述显示区一侧,所述有机封装层截止于所述第一挡墙靠近所述显示区一侧。
2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,
所述缓流挡墙具有远离所述衬底基板一侧的第一表面,所述第一表面距所述衬底基板的距离为d1;
所述第一挡墙具有远离所述衬底基板一侧的第二表面,所述第二表面距所述衬底基板的距离为d2;
所述第二挡墙具有远离所述衬底基板一侧的第三表面,所述第三表面距所述衬底基板的距离为d3;其中,
d1≤d2,且d1≤d3。
3.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,
所述缓流挡墙具有至少一个第一断口,所述缓流挡墙在所述第一断口处不连续。
4.根据权利要求3所述的显示面板,其特征在于,
所述第一挡墙具有至少一个第二断口,所述第一挡墙在所述第二断口处不连续,由所述缓流挡墙指向所述第一挡墙的方向上:所述第二断口与所述第一断口不交叠。
5.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,
所述非显示区还包括第二非显示区,所述第二非显示区与所述第一非显示区相邻,且与所述缺口不相邻;
在所述第二非显示区内设置有沿所述第一方向延伸的延伸挡墙,所述延伸挡墙与所述缓流挡墙相连接。
6.根据权利要求5所述的显示面板,其特征在于,
所述延伸挡墙在所述第一方向上的长度为d4,其中,10μm≤d4≤200μm。
7.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,
在所述第一非显示区还设置有缓流凹槽,所述缓流凹槽位于所述阵列层,所述缓流凹槽的槽口位于所述阵列层远离所述衬底基板一侧的表面上,所述缓流凹槽在所述衬底基板上的投影为第一投影;所述第一挡墙在所述衬底基板的投影为第二投影,所述显示区的边界在所述衬底基板的投影为第三投影,所述第一投影位于所述第二投影与所述第三投影之间。
8.根据权利要求7所述的显示面板,其特征在于,
所述显示层包括阴极层,所述阴极层包括位于所述第一非显示区的第一边界,所述第一边界在所述衬底基板的投影为第四投影,所述第一投影位于所述第四投影与所述第三投影之间。
9.根据权利要求7所述的显示面板,其特征在于,
在所述第一非显示区设置有周边电路,所述缓流凹槽位于所述显示区的边界与所述周边电路之间。
10.根据权利要求7所述的显示面板,其特征在于,
所述第一非显示区包括像素定义层的边界,所述缓流凹槽位于所述像素定义层的边界与所述缓流挡墙之间。
11.根据权利要求7所述的显示面板,其特征在于,
所述阵列层包括缓冲层和多个薄膜晶体管;
在所述显示区,所述缓冲层位于所述薄膜晶体管与所述衬底基板之间,在所述显示区所述缓冲层的厚度为d5,
所述缓冲层延伸至所述第一非显示区,在所述缓流凹槽所在的区域所述缓冲层的厚度为d6,其中,d6<d5。
12.根据权利要求7所述的显示面板,其特征在于,
沿所述缺口的边缘的延伸方向上,所述缓流凹槽的长度小于等于所述缓流挡墙的长度。
13.根据权利要求7所述的显示面板,其特征在于,
沿所述缺口的边缘的延伸方向上,多个所述缓流凹槽依次排列。
14.根据权利要求11所述的显示面板,其特征在于,
所述缓流挡墙具有至少一个第一断口,所述缓流挡墙在所述第一断口处不连续;
由所述显示区指向所述第一挡墙的方向上,相邻的两个所述缓流凹槽之间的间隔与所述第一断***错设置。
15.根据权利要求14所述的显示面板,其特征在于,
沿所述缺口的边缘的延伸方向上,所述缓流凹槽的长度大于等于所述第一断口的长度。
16.一种显示装置,其特征在于,包括权利要求1至15任一项所述的显示面板。
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