CN106971423B - 立方体图形的绘制方法、装置、设备及存储介质 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了立方体图形的绘制方法、装置、设备及存储介质。该方法包括:获取画布中光标绘制点所形成第一绘制点的第一坐标值;监听并获取光标绘制点移动时对应的当前坐标值;根据第一坐标值、当前坐标值以及预设的标准参考信息,确定绘制所述待绘制立方体所需吸附点的吸附坐标值;确定第一绘制点和吸附点为待绘制立方体的顶点,根据吸附坐标值以及第一坐标值,确定其余各顶点的坐标值并突出显示,以连接各顶点形成所述待绘制立方体。利用该方法,能够在画布中确定绘制立方体所需关键点的坐标值,并根据关键点确定构成立方体的各顶点的坐标,简单方便的实现了立方体的精准绘制,由此更好的增强了电子白板中绘画功能的用户体验。
Description
技术领域
本发明涉及电子白板技术领域,尤其涉及立方体图形的绘制方法、装置、设备及存储介质。
背景技术
随着电子技术的发展,越来越多具有交互功能的电子设备出现在人们的学习、工作及生活中,电子白板就是电子设备中常见的一种交互功能软件,具有书写、批注、绘画以及多媒体娱乐等交互功能。
用户在电子白板上绘画时,如果是二维的几何图形,用户还可以根据画布上显示的标尺确定所需的图形尺寸,然而,在进行三维的立方体绘制时,用户很难在画布绘制出一个长、宽和高均相等的标准立方体,由此极大影响了用户的使用体验。
发明内容
本发明实施例提供了立方体图形的绘制方法、装置、设备及存储介质,能够解决用户无法在电子白板中快速绘制立方体的问题。
一方面,本发明实施例提供了一种立方体图形的绘制方法,包括:
获取画布中光标绘制点所形成第一绘制点的第一坐标值;
监听并获取所述光标绘制点在所述画布中移动时对应的当前坐标值;
根据所述第一坐标值、当前坐标值以及预设的标准参考信息,确定绘制所述待绘制立方体所需吸附点的吸附坐标值;
确定所述第一绘制点和吸附点为所述待绘制立方体的顶点,并根据所述吸附坐标值以及第一坐标值,确定所述待绘制立方体其余各顶点的坐标值并突出显示,以连接各顶点形成所述待绘制立方体。
另一方面,本发明实施例提供了一种立方体图形的绘制装置,包括:
第一坐标获取模块,用于获取画布中光标绘制点所形成第一绘制点的第一坐标值;
移动坐标获取模块,用于监听并获取所述光标绘制点在所述画布中移动时对应的当前坐标值;
吸附坐标获取模块,用于根据所述第一坐标值、当前坐标值以及预设的标准参考信息,确定绘制所述待绘制立方体所需吸附点的吸附坐标值;
图形绘制模块,用于确定所述第一绘制点和吸附点为所述待绘制立方体的顶点,并根据所述吸附坐标值以及第一坐标值,确定所述待绘制立方体其余各顶点的坐标值并突出显示,以连接各顶点形成所述待绘制立方体。
又一方面,本发明实施例提供了一种电子设备,包括:
一个或多个处理器;
存储装置,用于存储一个或多个程序;
所述一个或多个程序被所述一个或多个处理器执行,使得所述一个或多个处理器实现本发明实施例提供的立方体图形的绘制方法。
再一方面,本发明实施例提供了一种计算机可读存储介质,其上存储有计算机程序,该程序被处理器执行时实现本发明实施例提供的立方体图形的绘制方法。
在上述立方体图形的绘制方法、装置、设备及存储介质中,首先获取画布中光标绘制点所形成的第一绘制点的第一坐标值;然后监听并获取光标绘制点在画布中的移动时对应的当前坐标值;之后根据第一坐标值、当前坐标值以及预设的标准参考信息确定绘制待绘制立方体所需吸附点的吸附坐标值;最终确定第一绘制点和吸附点为待绘制立方体的顶点,并根据吸附坐标值以及第一坐标值确定待绘制立方体中其余各顶点的坐标值,以连接各顶点形成待绘制立方体。上述立方体图形的绘制方法、装置、设备及存储介质,能够在画布中确定绘制立方体所需关键吸附点的坐标值,并根据关键吸附点确定构成立方体的其他顶点的坐标,简单方便的实现了立方体的绘制,由此更好的增强了电子白板中绘画功能的用户体验。
附图说明
图1为本发明实施例一提供的一种立方体图形的绘制方法的流程示意图;
图2a为本发明实施例二提供的一种立方体图形的绘制方法的流程示意图;
图2b为本发明实施例二中进行标准参考信息确定的具体操作流程图;
图2c为进行标准参考信息确定时标准立方体模型在画布中的投影示意图;
图2d为本发明实施例二中进行吸附坐标值确定的具体操作流程图;
图2e为进行第一吸附坐标值确定时的效果展示图;
图2f为进行第二吸附坐标值确定时的效果展示图;
图2g为根据吸附点的吸附坐标值确定的待绘制立方体的示例图;
图3为本发明实施例三提供的一种立方体图形的绘制装置的结构框图;
图4为本发明实施例四提供的一种电子设备的硬件结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明作进一步的详细说明。可以理解的是,此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本发明,而非对本发明的限定。另外还需要说明的是,为了便于描述,附图中仅示出了与本发明相关的部分而非全部结构。
实施例一
图1为本发明实施例一提供的一种立方体图形的绘制方法的流程示意图,该方法适用于在电子白板中进行立方体绘制的情况,该方法可以由立方体图形的绘制装置执行,其中该装置可由软件和/或硬件实现,并一般可作为电子白板的插件集成在具有电子设备上。
在本实施例中,所述电子设备具体可以是手机、平板电脑、笔记本等移动终端设备,也可以是台式计算机、智能教学白板等固定式的具有交互功能的终端设备。本实施例优选的设定其应用场景为在电子白板的交互功能下进行在绘画功能模块的画布中进行立方体绘制,此时基于本发明提供的绘制方法,可以让绘画者简单快速的绘制长宽高等长的立方体。
如图1所示,本发明实施例一提供的一种立方体图形的绘制方法,包括如下操作:
S101、获取画布中光标绘制点所形成第一绘制点的第一坐标值。
在本实施例中,所述画布具体可指电子白板中进行绘画操作时显示在设备屏幕上的操作界面。一般地,用户可在画布中通过手指或触屏笔进行触屏绘画,也可在画布中通过对鼠标的操作进行绘画,其中,所述光标绘制点具体可理解为对触屏或鼠标操作进行响应后显示在画布中的绘制标识。
具体地,用户可以在画布的任意区域点击鼠标或单击屏幕,本步骤可在响应上述操作后触发光标绘制点在画布中形成第一绘制点,并可获取第一绘制点在设备的屏幕坐标系上对应的像素坐标值,可以理解的是,本实施例默认所述画布所处的坐标系以第一绘制点为原点,其具有的横纵坐标轴可通过第一绘制点的像素坐标值对上述屏幕坐标系进行平移获得,因此,本实施例中第一绘制点在画布所处坐标系中的第一坐标值可看作(0,0)。
S102、监听并获取所述光标绘制点在所述画布中移动时对应的当前坐标值。
可以理解的是,在绘画过程中,可以通过用户对鼠标的拖拽或在屏幕上的触摸滑动来触发画布中的光标绘制点移动,本步骤可以监听所述画布中光标绘制点的移动操作,并可实时获取光标绘制点在屏幕坐标系中对应的当前像素坐标值,由此,根据上述当前像素坐标值以及第一绘制点的像素坐标值,可以实时确定光标绘制点在画布所处坐标系中对应的当前坐标值。
S103、根据上述第一坐标值、当前坐标值以及预设的标准参考信息,确定绘制所述待绘制立方体所需吸附点的吸附坐标值。
在本实施例中,所述第一坐标值具体可指上述第一绘制点在画布所处坐标系中具有的坐标值(一般记为(0,0));所述当前坐标值具体可指光标绘制点移动时当前在画布所处坐标系中具有的坐标值(通常可根据光标绘制点在屏幕坐标系中的当前像素坐标值以及第一绘制点的像素坐标值确定)。
此外,所述标准参考信息具体可指预先设定的用于立方体绘制时吸附点确定的参考信息。具体地,所述标准参考信息可以根据标准正方体模型到画布中投影后投影坐标值确定,其中,所述标准参考信息可以包括画布中作为标准正方体模型顶面的一条边与画布所在横坐标轴所形成夹角的夹角值、作为标准正方体顶面的两条邻边所形成夹角的夹角值以及标准正方体模型投影时对应的变化矩阵等,以用于后续绘制立方体所需吸附点的确定。
一般地,在进行立方体绘制时,需要保证所绘制立方体的长边、宽边以及高边具有相等的长度值,在现有电子白板中绘画时,用户无法直接确定保证立方体长宽高相等的顶点,由此本实施例提供了立方体的绘制方法,以通过确定吸附点作为待绘制立方体的顶点,来保证待绘制立方体的长边、宽边以及高边具有相同的长度。
示例性地,进行吸附点确定的操作可描述为:首先将第一绘制点作为待绘制立方体顶面上的第一顶点,同时将移动的光标绘制点作为待绘制立方体顶面上的第二顶点,且可设定第一顶点与第二顶点为构成顶面的对顶点,此时可确定第一顶点为固定点,第二顶点为移动点,获取到第二顶点移动时对应到当前坐标值后,可以根据第一顶点的第一坐标值、第二顶点的当前坐标值以及标准参考信息,确定构成待绘制立方体顶面的另外两个顶点的当前坐标值;之后可根据第一顶点以及其余三个顶点的当前坐标值获得待绘制立方体的长边和宽边的当前长度值,然后可假设长边和宽边的当前长度值相等,由此可确定长边和宽边相等时第二顶点应该具有的理想坐标值,本步骤将该理想坐标值作为吸附坐标值,将其对应的坐标点作为吸附点,由此可将第二顶点吸附固定到所述吸附点对应的位置上。
可以理解的是,经过上述操作可以确定一个吸附点,根据所确定的吸附点仅可保证待绘制立方体的长边和宽边相等,无法保证高边等同于长边和宽边,因此需要确定待绘制立方体所需的下一吸附点。
示例性地,确定下一吸附点的操作可表述为:在将第二顶点固定到吸附点对应的位置后,再次监听光标绘制点的移动,并确定移动时在画布中的当前坐标值;然后将第二顶点与光标绘制点的连线看作待绘制立方体的高边,根据第二顶点对应的吸附坐标值以及光标绘制点的当前坐标值,确定高边的当前长度值,之后可假设高边的当前长度值与上述长边或宽边的长度值相等,由此可确定高边与长边或宽边相等时光标绘制点应该具有的理想坐标值,本步骤可将该理想坐标值作为下一吸附点的吸附坐标值,同时可将光标绘制点吸附固定到下一吸附点对应的位置上。
经过上述操作,最终确定了绘制立方体所需的至少两个吸附点的吸附坐标值。本实施例后续操作将上述确定的吸附点作为待绘制立方体的顶点,由此保证所绘制立方体的长宽高相等。
S104、确定第一绘制点和吸附点为待绘制立方体的顶点,并根据吸附坐标值以及第一坐标值,确定待绘制立方体其余各顶点的坐标值并突出显示,以连接各顶点形成待绘制立方体。
在本实施例中,首先可以将所述第一绘制点以及所确定的吸附点作为待绘制立方体的固定顶点,之后,可根据上述已确定第一绘制点以及吸附点的坐标值,结合预设的标准参考信息确定所述待绘制立方体其中各顶点的坐标值,并可突出显示,最终,连接突出显示的各顶点,从而在画布中形成长宽高相等立方体。
本发明实施例一提供的一种立方体图形的绘制方法,能够根据所获取第一绘制点的第一坐标值、所监听光标绘制点的当前坐标值以及预设的用于立方体绘制的标准参考信息,确定画布中绘制立方体所需的吸附点,最终根据确定的吸附点坐标值以及第一绘制点的第一坐标值确定立方体中各顶点对应的坐标值,在画布中实现立方体的绘制。利用该方法,能够在电子白板的画布中简单方便的实现立方体的绘制,由此更好的增强了电子白板中绘画功能的用户体验。
实施例二
图2a为本发明实施例二提供的一种立方体图形的绘制方法的流程示意图。本发明实施例以上述实施例为基础进行优化,在本实施例中,优化增加了:将标准正方体模型投影到所述画布中,获取所述标准正方体模型中各顶点在所述画布中的投影坐标值;根据各顶点在所述画布中的投影坐标值,确定所述标准正方体模型在所述画布中的标准参考信息。
如图2a所示,本发明实施例二提供的一种立方体图形的绘制方法,具体包括如下操作:
可以理解的是,本实施例在上述实施例的基础上增加了S201和S202,进而实现了标准参考信息的确定。
S201、将标准正方体模型投影到画布中,获取标准正方体模型中各顶点在画布中的投影坐标值。
本实施例中,可以首先对标准正方体模型进行投影处理,获取标准正方体模型在画布中的投影信息,以用于后续立方体绘制时吸附点的确定。需要说明的是,本实施例所采用的标准正方体模型可通过构建函数构建,且构建出的标准正方体模型具有相应的空间坐标信息。本步骤可以根据标准正方体模型具有的空间坐标信息以及选取的投影变换矩阵实现标准正方体模型到二维画布的投影;还可以直接调用电子设备操作***函数库中的投影所需的函数集合实现标准正方体模型的投影。
进一步地,本实施例将所述将标准正方体模型投影到所述画布中,获取所述标准正方体模型中各顶点在所述画布中的投影坐标值,具体优化为:在构建的三维场景中调用预设的虚拟透视相机,根据所述虚拟透视相机在所述画布中对设定的标准正方体模型进行投影;调用设定的投影坐标确定函数,根据所述标准正方体模型各顶点的空间坐标值,确定各顶点在所述画布中的投影坐标值。
在本实施例中,优选地采用操作***函数库中的投影函数集合实现标准正方体模型到画布的投影,其将标准立方体模型投影到画布的具体过程可描述为:首先调用三维场景的构建函数构建一个三维场景;然后在该三维场景中添加预设的虚拟照相机,其中,该虚拟照相机优选为虚拟透视相机;之后调用正方体构建函数在三维场景中构建一个棱长为1的标准正方体模型,最终通过添加的虚拟透视相机将构建的标准正方体模型投影到二维平面上,并可调用投影坐标确定函数根据标准正方体模型的空间坐标信息获取标准正方体模型各顶点在二维平面上对应的投影坐标值。
S202、根据各顶点在画布中的投影坐标值,确定标准正方体模型在画布中的标准参考信息。
在本实施例中,可以根据各顶点在画布中的投影坐标值,在画布中连接形成一个平面的标准正方体。进一步地,本步骤中所述标准参考信息的确定操作可以通过图2b所示的操作步骤实现,其中,图2b为本发明实施例二中进行标准参考信息确定的具体操作流程图,同时,图2c为进行标准参考信息确定时标准立方体模型在画布中的投影示意图。如图2b所示,进行标准参考信息确定的具体操作步骤包括:
S2021、将画布中表示标准正方体模型顶面的顶点记为第一顶点SP1、第二顶点SP2、第三顶点SP3以及第四顶点SP4,并将与所述SP2相对的底面顶点记为第六顶点SP6。
示例性地,如图2c所示,画布20处于屏幕坐标系XOY中,在画布20中点SP1、点SP2、点SP3以及点SP4构成了标准正方体模型的顶面,同时可以确定点SP1和点SP2为顶面中的对顶点;此外,根据图2c所示,在画布20中点SP5、点SP6、点SP7以及点SP8分别与点SP1、点SP2、点SP3以及点SP4相对,并构成了标准正方体模型的底面。
S2022、将SP1与SP3形成的边记为宽边SH1,将SP3与SP2形成的边为长边SH2,以及将SP2与SP6形成的边记为高边SH3。
示例性地,如图2c所示,点SP1和点SP3的连接形成了标准正方体模型的宽边SH1,点SP2和点SP3的连接形成了标准正方体模型的长边SH2,同时,点SP2和点SP6的连接形成了标准正方体模型的宽边SH3。
S2023、根据SP1、SP2、SP3、SP4以及SP6的投影坐标值,确定所述SH1、SH2以及SH3的长度值,并确定SH1与SH2所形成夹角的第一夹角值以及所述SH2与画布所在横坐标轴所形成夹角的第二夹角值。
示例性地,为便于标准参考信息的表示,如图2c所示,本实施例以点SP1为原点构建了平行于屏幕坐标系XOY的xoy坐标系,需要说明的是,本实施例中各点的投影坐标值为xoy坐标系,由此本实施例可以根据各点的投影坐标值确定SH1、SH2以及SH3的长度值,同时可以确定上述各边在xoy坐标系中向量,如,可确定点SP1与点SP3的向量V1,点SP3与点SP2的向量V2,以及点SP1与点SP4的向量V3,点SP1与xoy坐标系中点(1,0)的向量为V4。
此外,如图2c所示,可确定SH1与SH2所形成夹角为β,SH2与画布20所在横坐标轴所形成的夹角相当于SH2与xoy坐标系中x轴所形成的夹角,记为ɑ。具体地,本实施例可以根据向量积公式确定夹角β的第一夹角值以及夹角ɑ的第二夹角值,接上述示例,可确定β的第一夹角值为β=arccos(V1·V2/|V1||V2|);以及可确定ɑ的第二夹角值为ɑ=arccos(V4·V3/|V4||V3|)。
S2024、将画布当前所处的坐标系作为第一坐标系,并将以SH2作为横坐标轴的坐标系看作第二坐标系。
示例性地,如图2c所示,由于画布20当前所处的坐标系为xoy坐标系,因此xoy坐标系可记为第一坐标系,同时可以看出,x`oy`坐标系中的横坐标轴为SH2,由此x`oy`坐标系可记为第二坐标系。
S2025、根据第一夹角值和第二夹角值,确定第一坐标系变换为第二坐标系时对应的第一变换矩阵Mo,以及第二坐标系变换为第一坐标系时对应的第二变换矩阵Mo`。
示例性地,如图2c所示,xoy坐标系到x`oy`坐标系的变换,相当于xoy坐标系顺时针旋转了夹角ɑ变换为x`oy`坐标系,在本实施例中,根据坐标变换规则以及变换夹角ɑ对应的第二夹角值,可确定其对应的变换矩阵Mo可表示为:记为第一变换矩阵;同时,x`oy`坐标系到xoy坐标系的变换,相当于x`oy`坐标系逆时针旋转了夹角ɑ变换为xoy,根据坐标变换规则以及变换夹角ɑ对应的第二夹角值,可确定其对应的变换矩阵Mo`可表示为:记为第二变换矩阵。
S2026、将第一夹角值、Mo和Mo`以及所述SH1、SH2以及SH3的长度值作为预设的标准参考信息。
本实施例中,可以将SH1与SH2所形成夹角β的第一夹角值、第一变换矩阵Mo、第二变换矩阵Mo`看作标准参考信息,同时还将宽边SH1、长边SH2以及高边SH3看作标准参考信息,以供后续操作使用。
S203、获取画布中光标绘制点所形成第一绘制点的第一坐标值。
示例性地,可以响应用户点击鼠标触发光标绘制点在所述画布中形成第一绘制点,且可以以所述第一绘制点为原点构建所述画布所处的第一坐标系,由此,所述第一绘制点的第一坐标值可看作(0,0),可以理解的是,所述第一坐标系可以由屏幕坐标系根据所述第一绘制点在屏幕坐标系中的像素坐标值平移获得。
S204、监听并获取所述光标绘制点在所述画布中移动时对应的当前坐标值。
示例性地,可以监听光标绘制点在画布中的移动,并可获取光标绘制点在屏幕坐标系中对应当前像素坐标值,由此可以根据所述当前像素坐标值,确定光标绘制点在画布所处第一坐标系中的当前坐标值。
S205、根据第一坐标值、当前坐标值以及预设的标准参考信息,确定绘制所述待绘制立方体所需吸附点的吸附坐标值。
在本实施例中,可以根据第一绘制点在第一坐标系中的第一坐标值,光标绘制点的当前坐标值以及预先确定的标准正方体模型投影后所获得的第一夹角值、第一变换矩阵以及第二变换矩阵等标准参考信息,确定待绘制立方体所需吸附点的吸附坐标值。
进一步地,本步骤中吸附坐标值的确定操作可以通过图2d所示的操作流程实现,其中,图2d为本发明实施例二中进行吸附坐标值确定的具体操作流程图,同时,图2e为进行第一吸附坐标值确定时的效果展示图;图2f为进行第二吸附坐标值确定时的效果展示图。如图2d所示,进行吸附坐标值确定的具体操作步骤包括:
S2051、将第一绘制点和光标绘制点作为待绘制立方体中顶面的两个顶点,分别记为P1和P2,其中,所述P1和P2在所述顶面中互为对顶点。
示例性地,如图2e所示,XOY为电子设备的屏幕坐标系,画布20处于该屏幕坐标系中,其中,光标绘制点触发所形成的第一绘制点P1可以看作画布20所处坐标系xoy的原点,且P1可看作待绘制立方体顶面中的一个顶点,其对应的第一坐标值可记为(0,0),在画布20中移动的光标绘制点可作为待绘制立方体顶面的另一个顶点P2,其在xoy坐标系中具有的当前坐标值可通过S204确定。需要知道的是,本实施例将点P1和点P2设置为顶面上的对顶点。
S2052、根据第一夹角值、Mo和Mo`以及P1的第一坐标值和P2的当前坐标值,确定待绘制立方体中顶面的第三顶点P3和第四顶点P4在第一坐标系中的当前坐标值。
本步骤可将待绘制立方体顶面中的其余顶点分别记为第三顶点P3和第四顶点P4,在本实施例中,进行待绘制立方体绘制时,为保证所绘制图形为立方体,首先需要将点P1和点P4所形成棱长HP1P4与x轴之间的夹角默认为ɑ,即,保证HP1P4与x轴所形成夹角的角度值为第二夹角值;同时,还需将点P1和点P3所形成第一棱长HP1P3与点P3和点P2所形成第二棱长HP2P3之间的夹角默认为β,即,保证HP1P3与HP2P3所形成夹角的角度值为第一夹角值。
本步骤根据P1和P2在xoy坐标系中的坐标值以及标准参考信息中记录的第一夹角值、Mo和Mo`,可以确定点P3和点P4在xoy坐标系中对应的当前坐标值(点P3和点P4仅是计算出的当前坐标值,因此图2e中各点之间的连接用虚线表示)。具体地,根据第一变换矩阵Mo,可以确定点P1和点P2在第二坐标系x`oy`上的坐标值,其中,P1`=P1*Mo;P2`=P2*Mo;将点P3`和点P4`分别记为点P3和点P4在第二坐标系中的对应点,则点P3`和点P4`在x`oy`中的坐标值可通过下述公式计算:
P3`=[P1`.x–(P2`.y–P1`.y)*cotβ,P2`.y] (1)
P4`=[P1`.x+(P2`.x–P3`.x),P1`.y] (2)
之后,根据第二变换矩阵Mo`,可确定P3=P3`*Mo`以及P4=P4`*Mo`,进而可确定点P3`和点P4`转换到xoy坐标系中后所对应点P3和点P4的当前坐标值(图2e中示出了点P3和点P4的当前所在位置)。
S2053、根据P1的第一坐标值以及P2、P3以及P4的当前坐标值,确定第一棱长HP1P3以及第二棱长HP2P3的当前棱长值,并根据HP1P3和HP2P3的当前棱长值以及SH1和SH2的长度值,确定HP1P3对应的第一比率值R1和HP2P3对应的第二比率值R2。
在本实施例中,所述第一棱长HP1P3相当于待绘制立方体的宽边,所述第二棱长HP2P3相当于待绘制立方体的长边,为保证待绘制立方体的长宽高相等,首先需要保证HP1P3(宽边)与HP2P3(长边)相等。
由此本实施例可以根据点P1的第一坐标值以及点P2、点P3和点P4的当前坐标值,确定第一棱长HP1P3以及第二棱长HP2P3的当前棱长值;之后可以根据HP1P3和HP2P3的当前棱长值以及标准参考信息中SH1和SH2的长度值,通过公式R1=HP1P3/SH1;R2=HP2P3/SH2确定HP1P3对应的第一比率值R1和所述HP2P3对应的第二比率值R2,以通过各边对应的比率值根据后续吸附坐标值的确定操作保证HP1P3(宽边)与HP2P3(长边)相等。
S2054、当R1与R2的差值不大于设定阈值时,根据R1和R2以及第一夹角值、Mo和Mo`,确定绘制所述待绘制立方体所需的第一吸附点在第一坐标系中的第一吸附坐标值。
本实施例中,为保证待绘制立方体中保证HP1P3(宽边)与HP2P3(长边)相等,可以将R1和R2的值进行比对,并确定其差值是否不大于设定阈值,其中,所述设定阈值可以由***默认设定,也可以根据历史经验人为设定,本实施例优选设定所述设定阈值为0.05。
需要说明的是,当R1和R2的差值大于设定阈值时,本实施例不再进行下述吸附坐标值的确定操作,而是返回S204继续获取光标绘制点移动后重新对应的当前坐标值(本实施例图2a未示出),以及根据光标绘制点的新的当前坐标值重新执行S205(图2a中未示出),且可重复上述操作直至本步骤确定了R1和R2的差值小于或等于设定阈值。
具体地,当R1和R2的差值不大于设定阈值时,确定第一吸附点在第一坐标系中的第一吸附坐标值的过程可描述为:步骤(1),选取R1或R2作为标准比率值R,本步骤以R1作为标准比率值R为例,因此可确定R=R1=HP1P3/SH1,由于R为标准比率值,所以可认为当前HP1P3为标准值,之后需要保证R2等于R,以保证待绘制立方体的宽边(HP1P3)与长边(HP2P3)相等,此时,可通过反推公式HP2P3=(HP1P3/SH1)*SH2来确定HP2P3的标准值;步骤(2),在确定HP2P3的标准值后,可以根据HP2P3的标准值、点P1的第一坐标值以及所述第一夹角值、Mo和Mo`,确定点P2待吸附的第一吸附点对应的第一吸附坐标值(为便于表示,直接将待确定的第一吸附点记为P21)。
具体地,上述步骤(2)的过程可描述为:确定光标移动点P2在画布20所处第一坐标系xoy中移动时对应的象限区域,需要说明的是,本实施例将第一吸附点P21看作光标绘制点P2待吸附的点,且点P2处于不同象限时,可以根据不同的坐标计算公式确定点P2待吸附的第一吸附点P21对应的第一吸附坐标值,其中,坐标计算公式包括:
在第一象限中:
P21`=[P1`.x+HP2P3*cotβ+H1,P1`.y–HP2P3*sinβ]
在第二象限中:
P21`=[P1`.x+HP2P3*cotβ–H1,P1`.y–HP2P3*sinβ]
在第三象限中:
P21`=[P1`.x–HP2P3*cotβ–H1,P1`.y+HP2P3*sinβ]
在第四象限中:
P21`=[P1`.x–HP2P3*cotβ+H1,P1`.y+HP2P3*sinβ]
需要说明的是,上述公式中P1`=P1*Mo,所述HP2P3为根据标准比率值计算所得的标准值,点P21`相当于第一吸附点P21在第二坐标系中x`oy`的对应点,其中,根据P21=P21`*Mo`可以确定第一吸附点P21在第一坐标系xoy中的第一吸附坐标值。
同时,可以看出,图2e中示出的点P2在画布20所处第一坐标系xoy中移动时的象限区域为第四象限,由此可根据第四象限对应的计算公式确定P21的第一吸附坐标值(图2e示出了点P21的所在位置)。
S2055、将P2吸附到第一吸附点的位置上,确定P2的当前坐标值为第一吸附坐标值,并在P2吸附到所述第一吸附点后,记光标绘制点为P6,监听并获取P6在画布中移动时的当前坐标值。
示例性地,根据S2054确定第一吸附点的第一吸附坐标后,本步骤可以将点P2吸附到第一吸附点P21的位置上,并可将点P2的当前坐标值确定为第一吸附坐标值。如图2f所示,点P2吸附到第一吸附点P21的位置上,点P2与点P21为同一点,图2f中同时示出了点P2吸附到点P21后,待绘制立方体顶面中四个顶点的连接关系(具体以粗虚线示出)。
之后,本步骤还将光标绘制点记为P6,光标绘制点P6响应用户的操作,以垂直于画布20纵坐标轴y的轨迹移动,本步骤可以监听光标绘制点的移动,并获取光标绘制点P6的当前像素坐标值,最终根据该当前像素坐标值获得其在第一坐标系xoy中的当前坐标值,图2f示出了点P6在xoy坐标系中的当前位置。
S2056、根据所述P2的第一吸附坐标值以及所述P6的当前坐标值,确定第三棱长HP2P6的当前棱长值,并根据所述HP2P6的当前棱长值以及所述SH3的长度值,确定所述HP2P6的第三比率值R3。
示例性地,如图2f所示,点P2(P21)与点P6连接形成第三棱长HP2P6,其中,所述第三棱长HP2P6相当于待绘制立方体的高边,本步骤可以根据点P2(P21)的第一吸附坐标值以及点P6的当前坐标值,确定HP2P6的当前棱长值。
在本实施例中,根据HP2P6的当前棱长值以及标准参考信息中SH3的长度值,通过下述公式可以确定HP2P6对应的第一比率值R3:其中,R3=HP2P6/SH3。
S2057、当R3与R1和/或R2的差值不大于设定阈值时,根据R1和/或R2、第一吸附坐标值以及R3,确定绘制所述待绘制立方体所需的第二吸附点在第一坐标系中的第二吸附坐标值。
在本实施例中,所述设定阈值同样优选为0.05;根据上述S2054可以通过保证R1和R2相等来保证待绘制立方体的宽边(HP1P3)与长边(HP2P3)相等,本步骤需进一步确定待绘制立方体的高边(HP2P6)同时与宽边(HP1P3)与长边(HP2P3)相等,由此需要确定待绘制立方体中的第二吸附点。
具体地,确定第二吸附点在第一坐标系中的第二吸附坐标值的过程可描述为:步骤(1),选取R1和/或R2作为标准比率值R,本实施例本以R1作为标准比率值R为例,因此可确定R=R1=HP1P3/SH1,由于R为标准比率值,所以同样可认为当前HP1P3为标准值,为保证待绘制立方体的宽边(HP1P3)与高边(HP2P6)相等,需要保证R3等于R,此时,可通过反推公式HP2P6=(HP1P3/SH1)*SH3获取HP2P6的标准值;步骤(2),在确定HP2P6的标准值后,可以根据HP2P6的标准值、点P2的第一吸附坐标值以及公式P61=[P2.x,P2.y+HP2P6],确定点P6待吸附的第二吸附点对应的第二吸附坐标值(为便于表示,直接将待确定的第一吸附点记为P61,图2f示出了点P61的所在位置),其中,所述HP2P6为根据标准比率值计算所得的标准值。
S206、确定第一绘制点和吸附点为待绘制立方体的顶点,并根据吸附坐标值以及第一坐标值,确定待绘制立方体其余各顶点的坐标值并突出显示,以连接各顶点形成所述待绘制立方体。
在本实施例中,可以将确定的第一绘制点、第一吸附点以及第二吸附点确定为待绘制立方体的固定顶点,之后可以根据上述各固定顶点的坐标值以及预设的标准参考信息,确定待绘制立方体中其余各顶点在画布所在坐标系xoy中的坐标值。
具体地,本步骤通过下述操作确定待绘制立方体其余各顶点的坐标值:将所述P6吸附到所述第二吸附点的位置上,确定所述P6的当前坐标值为所述第二吸附坐标值;根据所述P1的第一坐标值、P2的第一吸附坐标值和P6的第二吸附坐标值以及所述第一夹角值、Mo和Mo`,确定所述待绘制立方体其余各顶点的坐标值并突出显示,以在画布上连接各顶点形成所述待绘制立方体。
可以理解的是,在确定第二吸附点P61的第二吸附坐标值后,本步骤同样可以将点P6吸附到第二吸附点P61的位置上,并可将点P6的当前坐标值确定为第二吸附坐标值。图2g为根据吸附点的吸附坐标值确定的待绘制立方体的示例图,如图2g所示,点P6吸附到第二吸附点P61的位置上,标记为P6(P61)。
在本实施例中,可以根据第一绘制点P1的第一坐标值以及第一吸附点P2(P21)的第一吸附坐标值,再次通过本实施例中的公式(1)和公式(2)确定第二坐标系x`oy`下点P3`和点P4`的坐标值,由此再根据第二变换矩阵Mo`以及点P3`和点P4`的坐标值,确定第一坐标系xoy下点P3和点P4的坐标值,并可突出显示。
进一步地,本实施中待绘制立方体顶面上的顶点为P1、P2、P3以及P4,而点P5、P6、P7以及P8为待绘制立方体底面上的分别与上述各点对应的顶点,因此,本实施例可以根据所确定出的点P3和点P4的坐标值,以及HP2P6的标准值,根据下述公式分别确定点P5、点P7以及点P8的坐标值并突出显示:
P5=[P1.X,P2.Y+H3]
P7=[P3.X,P3.Y+H3]
P8=[P4.X,P4.Y+H3]
在本实施例中,可以对上述确定出的并突出显示的各顶点进行连接,由此形成所需的待绘制立方体(如图2g所示),可以确定的是,所绘制出的待绘制立方体中的长边、宽边以及高边相等。
本发明实施例二提供的一种立方体图形的绘制方法,具体增加了标准参考信息的确定操作,同时具体化了待绘制立方体所需吸附点的确定操作,最终根据所确定的吸附点获得了待绘制立方体各顶点的坐标值,并连接形成待绘制立方体。利用该方法,能够在电子白板的画布中简单方便的实现立方体的绘制,由此更好的增强了电子白板中绘画功能的用户体验。
实施例三
图3为本发明实施例三提供的一种立方体图形的绘制装置的结构框图。该方法适用于在电子白板中进行立方体绘制的情况,其中该装置可由软件和/或硬件实现,并一般可作为电子白板的插件集成在具有电子设备上。如图3所示,该装置包括:第一坐标获取模块31、移动坐标获取模块32、吸附坐标获取模块33以及图形绘制模块34。
其中,第一坐标获取模块31,用于获取画布中光标绘制点所形成第一绘制点的第一坐标值;
移动坐标获取模块32,用于监听并获取所述光标绘制点在所述画布中移动时对应的当前坐标值;
吸附坐标获取模块33,用于根据所述第一坐标值、当前坐标值以及预设的标准参考信息,确定绘制所述待绘制立方体所需吸附点的吸附坐标值;
图形绘制模块34,用于确定所述第一绘制点和吸附点为所述待绘制立方体的顶点,并根据所述吸附坐标值以及第一坐标值,确定所述待绘制立方体其余各顶点的坐标值并突出显示,以连接各顶点形成所述待绘制立方体。
在本实施例中,该装置首先通过第一坐标获取模块31获取画布中光标绘制点所形成第一绘制点的第一坐标值;然后通过移动坐标获取模块32监听并获取所述光标绘制点在所述画布中移动时对应的当前坐标值;之后通过吸附坐标获取模块33根据所述第一坐标值、当前坐标值以及预设的标准参考信息,确定绘制所述待绘制立方体所需吸附点的吸附坐标值;最终通过图形绘制模块34确定所述第一绘制点和吸附点为所述待绘制立方体的顶点,并根据所述吸附坐标值以及第一坐标值,确定所述待绘制立方体其余各顶点的坐标值并突出显示,以连接各顶点形成所述待绘制立方体。
本发明实施例三提供的一种立方体图形的绘制装置,能够根据所获取第一绘制点的第一坐标值、所监听光标绘制点的当前坐标值以及预设的用于立方体绘制的标准参考信息,确定画布中绘制立方体所需的吸附点,最终根据确定的吸附点坐标值以及第一绘制点的第一坐标值确定立方体中各顶点对应的坐标值,在画布中实现立方体的绘制。利用该装置,能够在电子白板的画布中简单方便的实现立方体的绘制,由此更好的增强了电子白板中绘画功能的用户体验。
进一步地,该装置还优化包括了:
投影坐标获取模块35,用于将标准正方体模型投影到所述画布中,获取所述标准正方体模型中各顶点在所述画布中的投影坐标值;
参考信息确定模块36,用于根据各顶点在所述画布中的投影坐标值,确定所述标准正方体模型在所述画布中的标准参考信息。
在上述优化的基础上,投影坐标获取模块35,具体用于:
在构建的三维场景中调用预设的虚拟透视相机,根据所述虚拟透视相机在所述画布中对设定的标准正方体模型进行投影;
调用设定的投影坐标确定函数,根据所述标准正方体模型各顶点的空间坐标值,确定各顶点在所述画布中的投影坐标值。
进一步地,参考信息确定模块36,具体用于:
将所述画布中表示所述标准正方体模型顶面的顶点记为第一顶点SP1、第二顶点SP2、第三顶点SP3以及第四顶点SP4,并将与所述SP2相对的底面顶点记为第六顶点SP6;将所述SP1与SP3形成的边记为宽边SH1,将所述SP3与SP2形成的边为长边SH2,以及将所述SP2与SP6形成的边记为高边SH3;根据所述SP1、SP2、SP3、SP4以及SP6的投影坐标值,确定所述SH1、SH2以及SH3的长度值,并确定所述SH1与SH2所形成夹角的第一夹角值以及所述SH2与画布所在横坐标轴所形成夹角的第二夹角值;将所述画布当前所处的坐标系作为第一坐标系,并将以所述SH2作为横坐标轴的坐标系看作第二坐标系;根据所述第一夹角值和第二夹角值,确定所述第一坐标系变换为所述第二坐标系时对应的第一变换矩阵Mo,以及所述第二坐标系变换为所述第一坐标系时对应的第二变换矩阵Mo`;将所述第一夹角值、Mo和Mo`以及所述SH1、SH2以及SH3的长度值作为预设的标准参考信息。
在上述优化的基础上,吸附坐标获取模块33,具体用于:
将所述第一顶点和所述光标绘制点作为所述待绘制立方体中顶面的两个顶点,分别记为P1和P2,其中,所述P1和P2在所述顶面中互为对顶点;根据所述第一夹角值、Mo和Mo`以及所述P1的第一坐标值和P2的当前坐标值,确定所述待绘制立方体中顶面的第三顶点P3和第四顶点P4在所述第一坐标系中的当前坐标值;根据所述P1的第一坐标值以及所述P2、P3以及P4的当前坐标值,确定第一棱长HP1P3以及第二棱长HP2P3的当前棱长值,并根据所述HP1P3和HP2P3的当前棱长值以及SH1和SH2的长度值,确定所述HP1P3对应的第一比率值R1和所述HP2P3对应的第二比率值R2;当所述R1与所述R2的差值不大于设定阈值时,根据所述R1和R2以及所述第一夹角值、Mo和Mo`,确定绘制所述待绘制立方体所需的第一吸附点在所述第一坐标系中的第一吸附坐标值;将所述P2吸附到所述第一吸附点的位置上,确定所述P2的当前坐标值为所述第一吸附坐标值,并在所述P2吸附到所述第一吸附点后,记光标绘制点为P6,监听并获取所述P6在所述画布中移动时的当前坐标值;根据所述P2的第一吸附坐标值以及所述P6的当前坐标值,确定第三棱长HP2P6的当前棱长值,并根据所述HP2P6的当前棱长值以及所述SH3的长度值,确定所述HP2P6的第三比率值R3;当所述R3与所述R1和/或R2的差值不大于所述设定阈值时,根据所述R1和/或R2、所述第一吸附坐标值以及所述R3,确定绘制所述待绘制立方体所需的第二吸附点在第一坐标系中的第二吸附坐标值。
进一步地,图形绘制模块34,具体用于:
将所述P6吸附到所述第二吸附点的位置上,确定所述P6的当前坐标值为所述第二吸附坐标值;根据所述P1的第一坐标值、P2的第一吸附坐标值和P6的第二吸附坐标值以及所述第一夹角值、Mo和Mo`,确定所述待绘制立方体其余各顶点的坐标值并突出显示,以在所述画布上连接各顶点形成所述待绘制立方体。
实施例四
图4为本发明实施例四提供的一种电子设备的硬件结构示意图,如图4所示,本发明实施例四提供的电子设备,包括:
处理器41和存储装置42。该电子设备中的处理器可以是一个或多个,图4中以一个处理器41为例,所述电子设备中的处理器41和存储装置42也通过总线或其他方式连接,图4中以通过总线连接为例。
可以理解的是,本实施例的电子设备可以集成电子白板的交互功能,使用户可以进行绘画。
该电子设备中的存储装置42作为一种计算机可读存储介质,可用于存储一个或多个程序,所述程序可以是软件程序、计算机可执行程序以及模块,如本发明实施例中立方体图形的绘制方法对应的程序指令/模块(例如,附图3所示的立方体图形的绘制装置中的模块,包括:第一坐标获取模块31、移动坐标获取模块32、吸附坐标获取模块33以及图形绘制模块34)。处理器41通过运行存储在存储装置42中的软件程序、指令以及模块,从而执行电子设备的各种功能应用以及数据处理,即实现上述方法实施例中立方体图形的绘制方法。
存储装置42可包括存储程序区和存储数据区,其中,存储程序区可存储操作***、至少一个功能所需的应用程序;存储数据区可存储根据设备的使用所创建的数据等(如上述实施例预设的标准参考信息)。此外,存储装置42可以包括高速随机存取存储器,还可以包括非易失性存储器,例如至少一个磁盘存储器件、闪存器件、或其他非易失性固态存储器件。在一些实例中,存储装置42可进一步包括相对于处理器41远程设置的存储器,这些远程存储器可以通过网络连接至设备。上述网络的实例包括但不限于互联网、企业内部网、局域网、移动通信网及其组合。
并且,当上述电子设备所包括一个或者多个程序被所述一个或者多个处理器41执行时,程序进行如下操作:
获取画布中光标绘制点所形成第一绘制点的第一坐标值;监听并获取所述光标绘制点在所述画布中移动时对应的当前坐标值;根据所述第一坐标值、当前坐标值以及预设的标准参考信息,确定绘制所述待绘制立方体所需吸附点的吸附坐标值;确定所述第一绘制点和吸附点为所述待绘制立方体的顶点,并根据所述吸附坐标值以及第一坐标值,确定所述待绘制立方体其余各顶点的坐标值并突出显示,以连接各顶点形成所述待绘制立方体。
此外,本发明实施例还提供一种计算机可读存储介质,其上存储有计算机程序,该程序被控制装置执行时实现本发明实施例一或实施例二提供的立方体图形的绘制方法,该方法包括:获取画布中光标绘制点所形成第一绘制点的第一坐标值;监听并获取所述光标绘制点在所述画布中移动时对应的当前坐标值;根据所述第一坐标值、当前坐标值以及预设的标准参考信息,确定绘制所述待绘制立方体所需吸附点的吸附坐标值;确定所述第一绘制点和吸附点为所述待绘制立方体的顶点,并根据所述吸附坐标值以及第一坐标值,确定所述待绘制立方体其余各顶点的坐标值并突出显示,以连接各顶点形成所述待绘制立方体。
通过以上关于实施方式的描述,所属领域的技术人员可以清楚地了解到,本发明可借助软件及必需的通用硬件来实现,当然也可以通过硬件实现,但很多情况下前者是更佳的实施方式。基于这样的理解,本发明的技术方案本质上或者说对现有技术做出贡献的部分可以以软件产品的形式体现出来,该计算机软件产品可以存储在计算机可读存储介质中,如计算机的软盘、只读存储器(Read-Only Memory,ROM)、随机存取存储器(RandomAccess Memory,RAM)、闪存(FLASH)、硬盘或光盘等,包括若干指令用以使得一台计算机设备(可以是个人计算机,服务器,或者网络设备等)执行本发明各个实施例所述的方法。
注意,上述仅为本发明的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员会理解,本发明不限于这里所述的特定实施例,对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、重新调整和替代而不会脱离本发明的保护范围。因此,虽然通过以上实施例对本发明进行了较为详细的说明,但是本发明不仅仅限于以上实施例,在不脱离本发明构思的情况下,还可以包括更多其他等效实施例,而本发明的范围由所附的权利要求范围决定。
Claims (10)
1.一种立方体图形的绘制方法,其特征在于,包括:
获取画布中光标绘制点所形成第一绘制点的第一坐标值;
监听并获取所述光标绘制点在所述画布中移动时对应的当前坐标值;
根据所述第一坐标值、当前坐标值以及预设的标准参考信息,确定待绘制立方体所需两个吸附点的吸附坐标值,其中,所述标准参考信息包括标准正方体模型在画布中的长边、宽边和高边、在画布中作为所述标准正方体模型顶面的相邻两边所形成夹角的第一夹角值以及画布所处坐标系与指定坐标系转换所需的变换矩阵,所述指定坐标系为以画布中作为标准正方体模型顶面上的长边为横坐标轴的坐标系;
确定所述第一绘制点及两个吸附点为所述待绘制立方体的顶点,并根据各所述吸附坐标值以及第一坐标值,确定所述待绘制立方体其余各顶点的坐标值并突出显示,以连接各顶点形成所述待绘制立方体,其中,所述两个吸附点包括:所述两个吸附点包括:第一吸附点和第二吸附点,第一吸附点与所述第一绘制点为待绘制立方体顶面的对顶点,第一吸附点与第二吸附点的连线为待绘制立方体的高。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,还包括:
将标准正方体模型投影到所述画布中,获取所述标准正方体模型中各顶点在所述画布中的投影坐标值;
根据各顶点在所述画布中的投影坐标值,确定所述标准正方体模型在所述画布中的标准参考信息。
3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述将标准正方体模型投影到所述画布中,获取所述标准正方体模型中各顶点在所述画布中的投影坐标值,包括:
在构建的三维场景中调用预设的虚拟透视相机,根据所述虚拟透视相机在所述画布中对设定的标准正方体模型进行投影;
调用设定的投影坐标确定函数,根据所述标准正方体模型各顶点的空间坐标值,确定各顶点在所述画布中的投影坐标值。
4.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述根据各顶点在所述画布中的投影坐标值,确定所述标准正方体模型在所述画布中的标准参考信息,包括:
将所述画布中表示所述标准正方体模型顶面的顶点记为第一顶点SP1、第二顶点SP2、第三顶点SP3以及第四顶点SP4,并将与所述SP2相对的底面顶点记为第六顶点SP6;
将所述SP1与SP3形成的边记为宽边SH1,将所述SP3与SP2形成的边为长边SH2,以及将所述SP2与SP6形成的边记为高边SH3;
根据所述SP1、SP2、SP3、SP4以及SP6的投影坐标值,确定所述SH1、SH2以及SH3的长度值,并确定所述SH1与SH2所形成夹角的第一夹角值以及所述SH2与画布所在横坐标轴所形成夹角的第二夹角值;
将所述画布当前所处的坐标系作为第一坐标系,并将以所述SH2作为横坐标轴的坐标系看作第二坐标系;
根据所述第一夹角值和第二夹角值,确定所述第一坐标系变换为所述第二坐标系时对应的第一变换矩阵Mo,以及所述第二坐标系变换为所述第一坐标系时对应的第二变换矩阵Mo`;
将所述第一夹角值、Mo和Mo`以及所述SH1、SH2以及SH3的长度值作为预设的标准参考信息。
5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,所述根据所述第一坐标值、当前坐标值以及预设的标准参考信息,确定待绘制立方体所需两个吸附点的吸附坐标值,包括:
将所述第一绘制点和所述光标绘制点作为所述待绘制立方体中顶面的两个顶点,分别记为P1和P2,其中,所述P1和P2在所述顶面中互为对顶点;
根据所述第一夹角值、Mo和Mo`以及所述P1的第一坐标值和P2的当前坐标值,确定所述待绘制立方体中顶面的第三顶点P3和第四顶点P4在所述第一坐标系中的当前坐标值;
根据所述P1的第一坐标值以及所述P2、P3以及P4的当前坐标值,确定第一棱长HP1P3以及第二棱长HP2P3的当前棱长值,并根据所述HP1P3和HP2P3的当前棱长值以及SH1和SH2的长度值,确定所述HP1P3对应的第一比率值R1和所述HP2P3对应的第二比率值R2;
当所述R1与所述R2的差值不大于设定阈值时,根据所述R1和R2以及所述第一夹角值、Mo和Mo`,确定绘制所述待绘制立方体所需的第一吸附点在所述第一坐标系中的第一吸附坐标值;
将所述P2吸附到所述第一吸附点的位置上,确定所述P2的当前坐标值为所述第一吸附坐标值,并在所述P2吸附到所述第一吸附点后,记光标绘制点为P6,监听并获取所述P6在所述画布中移动时的当前坐标值;
根据所述P2的第一吸附坐标值以及所述P6的当前坐标值,确定第三棱长HP2P6的当前棱长值,并根据所述HP2P6的当前棱长值以及所述SH3的长度值,确定所述HP2P6的第三比率值R3;
当所述R3与所述R1和/或R2的差值不大于所述设定阈值时,根据所述R1和/或R2、所述第一吸附坐标值以及所述R3,确定绘制所述待绘制立方体所需的第二吸附点在第一坐标系中的第二吸附坐标值。
6.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,所述根据各所述吸附坐标值以及第一坐标值,确定所述待绘制立方体各顶点的坐标值并突出显示,以连接各顶点形成所述待绘制立方体,包括:
将所述P6吸附到所述第二吸附点的位置上,确定所述P6的当前坐标值为所述第二吸附坐标值;
根据所述P1的第一坐标值、P2的第一吸附坐标值和P6的第二吸附坐标值以及所述第一夹角值、Mo和Mo`,确定所述待绘制立方体其余各顶点的坐标值并突出显示,以在所述画布上连接各顶点形成所述待绘制立方体。
7.一种立方体图形的绘制装置,其特征在于,包括:
第一坐标获取模块,用于获取画布中光标绘制点所形成第一绘制点的第一坐标值;
移动坐标获取模块,用于监听并获取所述光标绘制点在所述画布中移动时对应的当前坐标值;
吸附坐标获取模块,用于根据所述第一坐标值、当前坐标值以及预设的标准参考信息,确定待绘制立方体所需两个吸附点的吸附坐标值,其中,所述标准参考信息包括标准正方体模型在画布中的长边、宽边和高边、在画布中作为所述标准正方体模型顶面的相邻两边所形成夹角的第一夹角值以及画布所处坐标系与指定坐标系转换所需的变换矩阵,所述指定坐标系为以画布中作为标准正方体模型顶面上的长边为横坐标轴的坐标系;
图形绘制模块,用于确定所述第一绘制点及两个吸附点为所述待绘制立方体的顶点,并根据各所述吸附坐标值以及第一坐标值,确定所述待绘制立方体其余各顶点的坐标值并突出显示,以连接各顶点形成所述待绘制立方体,其中,所述两个吸附点包括:所述两个吸附点包括:第一吸附点和第二吸附点,第一吸附点与所述第一绘制点的连线为待绘制立方体顶面的对角线,第一吸附点与第二吸附点的连线为待绘制立方体的高。
8.根据权利要求7所述的装置,其特征在于,还包括:
投影坐标获取模块,用于将标准正方体模型投影到所述画布中,获取所述标准正方体模型中各顶点在所述画布中的投影坐标值;
参考信息确定模块,用于根据各顶点在所述画布中的投影坐标值,确定所述标准正方体模型在所述画布中的标准参考信息。
9.一种电子设备,其特征在于,包括:
一个或多个处理器;
存储装置,用于存储一个或多个程序;
所述一个或多个程序被所述一个或多个处理器执行,使得所述一个或多个处理器实现如权利要求1-6中任一项所述的立方体图形的绘制方法。
10.一种计算机可读存储介质,其上存储有计算机程序,其特征在于,该程序被处理器执行时实现如权利要求1-6中任一项所述的立方体图形的绘制方法。
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