CN106460217A - 多层镀膜及具有该多层镀膜的物品 - Google Patents
多层镀膜及具有该多层镀膜的物品 Download PDFInfo
- Publication number
- CN106460217A CN106460217A CN201580031039.2A CN201580031039A CN106460217A CN 106460217 A CN106460217 A CN 106460217A CN 201580031039 A CN201580031039 A CN 201580031039A CN 106460217 A CN106460217 A CN 106460217A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- plated film
- nickel
- tin
- chromium
- nickel plated
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000007747 plating Methods 0.000 title abstract description 79
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 102
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 101
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims abstract description 101
- CLDVQCMGOSGNIW-UHFFFAOYSA-N nickel tin Chemical compound [Ni].[Sn] CLDVQCMGOSGNIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 73
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 12
- 150000003606 tin compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 10
- 150000002816 nickel compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 9
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims abstract description 6
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 154
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 75
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 31
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 19
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 19
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 18
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 18
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 13
- VNNRSPGTAMTISX-UHFFFAOYSA-N chromium nickel Chemical compound [Cr].[Ni] VNNRSPGTAMTISX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 claims description 5
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 claims description 4
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 abstract description 28
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 abstract description 28
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 abstract description 6
- 239000007788 liquid Substances 0.000 abstract description 3
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 20
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 12
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 12
- -1 fluoride Tin-nickel Chemical compound 0.000 description 11
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 11
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 10
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 description 9
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000005864 Sulphur Substances 0.000 description 7
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 6
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 5
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 5
- 150000001845 chromium compounds Chemical class 0.000 description 5
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 5
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 5
- 208000014451 palmoplantar keratoderma and congenital alopecia 2 Diseases 0.000 description 5
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 5
- 230000009182 swimming Effects 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 4
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 4
- 239000006174 pH buffer Substances 0.000 description 4
- 241000894007 species Species 0.000 description 4
- UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N thiourea Chemical compound NC(N)=S UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 241001311547 Patina Species 0.000 description 3
- WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M Potassium chloride Chemical compound [Cl-].[K+] WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 3
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 3
- 210000004243 sweat Anatomy 0.000 description 3
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 3
- YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzothiazole-2-thiol Chemical compound C1=CC=C2SC(S)=NC2=C1 YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N Copper oxide Chemical compound [Cu]=O QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N Magnesium oxide Chemical compound [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- FDGQSTZJBFJUBT-UHFFFAOYSA-N hypoxanthine Chemical compound O=C1NC=NC2=C1NC=N2 FDGQSTZJBFJUBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011859 microparticle Substances 0.000 description 2
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N monobenzene Natural products C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002898 organic sulfur compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M potassium bromide Chemical compound [K+].[Br-] IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000001103 potassium chloride Substances 0.000 description 2
- 235000011164 potassium chloride Nutrition 0.000 description 2
- NROKBHXJSPEDAR-UHFFFAOYSA-M potassium fluoride Chemical compound [F-].[K+] NROKBHXJSPEDAR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- JHJLBTNAGRQEKS-UHFFFAOYSA-M sodium bromide Chemical compound [Na+].[Br-] JHJLBTNAGRQEKS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- PUZPDOWCWNUUKD-UHFFFAOYSA-M sodium fluoride Chemical compound [F-].[Na+] PUZPDOWCWNUUKD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 125000000446 sulfanediyl group Chemical group *S* 0.000 description 2
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 2
- YODZTKMDCQEPHD-UHFFFAOYSA-N thiodiglycol Chemical compound OCCSCCO YODZTKMDCQEPHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CWERGRDVMFNCDR-UHFFFAOYSA-N thioglycolic acid Chemical compound OC(=O)CS CWERGRDVMFNCDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZSUXOVNWDZTCFN-UHFFFAOYSA-L tin(ii) bromide Chemical compound Br[Sn]Br ZSUXOVNWDZTCFN-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- JTDNNCYXCFHBGG-UHFFFAOYSA-L tin(ii) iodide Chemical compound I[Sn]I JTDNNCYXCFHBGG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- TXUICONDJPYNPY-UHFFFAOYSA-N (1,10,13-trimethyl-3-oxo-4,5,6,7,8,9,11,12,14,15,16,17-dodecahydrocyclopenta[a]phenanthren-17-yl) heptanoate Chemical compound C1CC2CC(=O)C=C(C)C2(C)C2C1C1CCC(OC(=O)CCCCCC)C1(C)CC2 TXUICONDJPYNPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FTLYMKDSHNWQKD-UHFFFAOYSA-N (2,4,5-trichlorophenyl)boronic acid Chemical compound OB(O)C1=CC(Cl)=C(Cl)C=C1Cl FTLYMKDSHNWQKD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N (S)-malic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N 0.000 description 1
- OQBLGYCUQGDOOR-UHFFFAOYSA-L 1,3,2$l^{2}-dioxastannolane-4,5-dione Chemical compound O=C1O[Sn]OC1=O OQBLGYCUQGDOOR-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- YHMYGUUIMTVXNW-UHFFFAOYSA-N 1,3-dihydrobenzimidazole-2-thione Chemical compound C1=CC=C2NC(S)=NC2=C1 YHMYGUUIMTVXNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IVOBGWLJLIDOKO-UHFFFAOYSA-N 2,3-dihydroxybutanedioic acid;nickel Chemical compound [Ni].OC(=O)C(O)C(O)C(O)=O IVOBGWLJLIDOKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DLLMHEDYJQACRM-UHFFFAOYSA-N 2-(carboxymethyldisulfanyl)acetic acid Chemical compound OC(=O)CSSCC(O)=O DLLMHEDYJQACRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YFOCIEQUCNIEIA-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxypropanoic acid;nickel Chemical compound [Ni].CC(O)C(O)=O YFOCIEQUCNIEIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000208340 Araliaceae Species 0.000 description 1
- 229910021555 Chromium Chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 244000131522 Citrus pyriformis Species 0.000 description 1
- RPNUMPOLZDHAAY-UHFFFAOYSA-N Diethylenetriamine Chemical class NCCNCCN RPNUMPOLZDHAAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UGQMRVRMYYASKQ-UHFFFAOYSA-N Hypoxanthine nucleoside Natural products OC1C(O)C(CO)OC1N1C(NC=NC2=O)=C2N=C1 UGQMRVRMYYASKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- NMOJAXCSURVGEY-UHFFFAOYSA-N N#CC#N.[S] Chemical compound N#CC#N.[S] NMOJAXCSURVGEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FLVIGYVXZHLUHP-UHFFFAOYSA-N N,N'-diethylthiourea Chemical compound CCNC(=S)NCC FLVIGYVXZHLUHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FCSHMCFRCYZTRQ-UHFFFAOYSA-N N,N'-diphenylthiourea Chemical compound C=1C=CC=CC=1NC(=S)NC1=CC=CC=C1 FCSHMCFRCYZTRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QPCDCPDFJACHGM-UHFFFAOYSA-N N,N-bis{2-[bis(carboxymethyl)amino]ethyl}glycine Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(=O)O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O QPCDCPDFJACHGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IPCRBOOJBPETMF-UHFFFAOYSA-N N-acetylthiourea Chemical compound CC(=O)NC(N)=S IPCRBOOJBPETMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021586 Nickel(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000005035 Panax pseudoginseng ssp. pseudoginseng Nutrition 0.000 description 1
- 235000003140 Panax quinquefolius Nutrition 0.000 description 1
- ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N Phosphorous acid Chemical compound OP(O)=O ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000219000 Populus Species 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021626 Tin(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- PSDYQSWHANEKRV-UHFFFAOYSA-N [S]N Chemical compound [S]N PSDYQSWHANEKRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQRWBMAEBQOWAF-UHFFFAOYSA-N acetic acid;nickel Chemical compound [Ni].CC(O)=O.CC(O)=O MQRWBMAEBQOWAF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- HTKFORQRBXIQHD-UHFFFAOYSA-N allylthiourea Chemical compound NC(=S)NCC=C HTKFORQRBXIQHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960001748 allylthiourea Drugs 0.000 description 1
- BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N alpha-hydroxysuccinic acid Natural products OC(=O)C(O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005576 amination reaction Methods 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 229950003476 aminothiazole Drugs 0.000 description 1
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 description 1
- DAPUDVOJPZKTSI-UHFFFAOYSA-L ammonium nickel sulfate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[Ni+2].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O DAPUDVOJPZKTSI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- BFNBIHQBYMNNAN-UHFFFAOYSA-N ammonium sulfate Chemical compound N.N.OS(O)(=O)=O BFNBIHQBYMNNAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052921 ammonium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- UYJXRRSPUVSSMN-UHFFFAOYSA-P ammonium sulfide Chemical compound [NH4+].[NH4+].[S-2] UYJXRRSPUVSSMN-UHFFFAOYSA-P 0.000 description 1
- 235000011130 ammonium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- KVBCYCWRDBDGBG-UHFFFAOYSA-N azane;dihydrofluoride Chemical compound [NH4+].F.[F-] KVBCYCWRDBDGBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TYUIKFYBZFUSKL-UHFFFAOYSA-N azanium;nickel;chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-].[Ni] TYUIKFYBZFUSKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 1
- JGIATAMCQXIDNZ-UHFFFAOYSA-N calcium sulfide Chemical compound [Ca]=S JGIATAMCQXIDNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNVMUORYQLCPJZ-UHFFFAOYSA-N carbamothioic s-acid Chemical compound NC(S)=O GNVMUORYQLCPJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N carbonic acid Chemical class OC(O)=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-N carbonic acid monoamide Natural products NC(O)=O KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SKOLWUPSYHWYAM-UHFFFAOYSA-N carbonodithioic O,S-acid Chemical compound SC(S)=O SKOLWUPSYHWYAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- ZCDOYSPFYFSLEW-UHFFFAOYSA-N chromate(2-) Chemical compound [O-][Cr]([O-])(=O)=O ZCDOYSPFYFSLEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L chromic acid Chemical class O[Cr](O)(=O)=O KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001430 chromium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- PHFQLYPOURZARY-UHFFFAOYSA-N chromium trinitrate Chemical compound [Cr+3].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O PHFQLYPOURZARY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSWDMMVNRMROPK-UHFFFAOYSA-K chromium(3+) trichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Cl-].[Cr+3] QSWDMMVNRMROPK-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- WYYQVWLEPYFFLP-UHFFFAOYSA-K chromium(3+);triacetate Chemical compound [Cr+3].CC([O-])=O.CC([O-])=O.CC([O-])=O WYYQVWLEPYFFLP-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- GRWVQDDAKZFPFI-UHFFFAOYSA-H chromium(III) sulfate Chemical compound [Cr+3].[Cr+3].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O GRWVQDDAKZFPFI-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229960004643 cupric oxide Drugs 0.000 description 1
- 238000005034 decoration Methods 0.000 description 1
- PNOXNTGLSKTMQO-UHFFFAOYSA-L diacetyloxytin Chemical compound CC(=O)O[Sn]OC(C)=O PNOXNTGLSKTMQO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- OKGXJRGLYVRVNE-UHFFFAOYSA-N diaminomethylidenethiourea Chemical compound NC(N)=NC(N)=S OKGXJRGLYVRVNE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XQRLCLUYWUNEEH-UHFFFAOYSA-N diphosphonic acid Chemical compound OP(=O)OP(O)=O XQRLCLUYWUNEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000013399 edible fruits Nutrition 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000000219 ethylidene group Chemical group [H]C(=[*])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- 235000008434 ginseng Nutrition 0.000 description 1
- 125000004836 hexamethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M hexanoate Chemical compound CCCCCC([O-])=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052945 inorganic sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 239000001630 malic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011090 malic acid Nutrition 0.000 description 1
- JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N melamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(N)=N1 JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000002763 monocarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- LNOPIUAQISRISI-UHFFFAOYSA-N n'-hydroxy-2-propan-2-ylsulfonylethanimidamide Chemical compound CC(C)S(=O)(=O)CC(N)=NO LNOPIUAQISRISI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1-sulfonic acid Chemical class C1=CC=C2C(S(=O)(=O)O)=CC=CC2=C1 PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940078494 nickel acetate Drugs 0.000 description 1
- QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L nickel dichloride Chemical compound Cl[Ni]Cl QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001453 nickel ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000159 nickel phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L nickel sulfate Chemical compound [Ni+2].[O-]S([O-])(=O)=O LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- BMGNSKKZFQMGDH-FDGPNNRMSA-L nickel(2+);(z)-4-oxopent-2-en-2-olate Chemical compound [Ni+2].C\C([O-])=C\C(C)=O.C\C([O-])=C\C(C)=O BMGNSKKZFQMGDH-FDGPNNRMSA-L 0.000 description 1
- IPLJNQFXJUCRNH-UHFFFAOYSA-L nickel(2+);dibromide Chemical compound [Ni+2].[Br-].[Br-] IPLJNQFXJUCRNH-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- HZPNKQREYVVATQ-UHFFFAOYSA-L nickel(2+);diformate Chemical compound [Ni+2].[O-]C=O.[O-]C=O HZPNKQREYVVATQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- JMWUYEFBFUCSAK-UHFFFAOYSA-L nickel(2+);octadecanoate Chemical compound [Ni+2].CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O JMWUYEFBFUCSAK-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- DOLZKNFSRCEOFV-UHFFFAOYSA-L nickel(2+);oxalate Chemical compound [Ni+2].[O-]C(=O)C([O-])=O DOLZKNFSRCEOFV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- JOCJYBPHESYFOK-UHFFFAOYSA-K nickel(3+);phosphate Chemical compound [Ni+3].[O-]P([O-])([O-])=O JOCJYBPHESYFOK-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229910000008 nickel(II) carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000363 nickel(II) sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- ZULUUIKRFGGGTL-UHFFFAOYSA-L nickel(ii) carbonate Chemical compound [Ni+2].[O-]C([O-])=O ZULUUIKRFGGGTL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- BFSQJYRFLQUZKX-UHFFFAOYSA-L nickel(ii) iodide Chemical compound I[Ni]I BFSQJYRFLQUZKX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- KBJMLQFLOWQJNF-UHFFFAOYSA-N nickel(ii) nitrate Chemical compound [Ni+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O KBJMLQFLOWQJNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960003330 pentetic acid Drugs 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 239000011698 potassium fluoride Substances 0.000 description 1
- 235000003270 potassium fluoride Nutrition 0.000 description 1
- OTYBMLCTZGSZBG-UHFFFAOYSA-L potassium sulfate Chemical compound [K+].[K+].[O-]S([O-])(=O)=O OTYBMLCTZGSZBG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052939 potassium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011151 potassium sulphates Nutrition 0.000 description 1
- JUOMHRRRIKTLFH-UHFFFAOYSA-L potassium;nickel(2+);sulfate Chemical compound [K+].[Ni+2].[O-]S([O-])(=O)=O JUOMHRRRIKTLFH-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- TVDSBUOJIPERQY-UHFFFAOYSA-N prop-2-yn-1-ol Chemical compound OCC#C TVDSBUOJIPERQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KOUKXHPPRFNWPP-UHFFFAOYSA-N pyrazine-2,5-dicarboxylic acid;hydrate Chemical compound O.OC(=O)C1=CN=C(C(O)=O)C=N1 KOUKXHPPRFNWPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- CVHZOJJKTDOEJC-UHFFFAOYSA-N saccharin Chemical compound C1=CC=C2C(=O)NS(=O)(=O)C2=C1 CVHZOJJKTDOEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940081974 saccharin Drugs 0.000 description 1
- 235000019204 saccharin Nutrition 0.000 description 1
- 239000000901 saccharin and its Na,K and Ca salt Substances 0.000 description 1
- 229940085605 saccharin sodium Drugs 0.000 description 1
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- 239000011775 sodium fluoride Substances 0.000 description 1
- 235000013024 sodium fluoride Nutrition 0.000 description 1
- HYHCSLBZRBJJCH-UHFFFAOYSA-M sodium hydrosulfide Chemical compound [Na+].[SH-] HYHCSLBZRBJJCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052938 sodium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011152 sodium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- VGTPCRGMBIAPIM-UHFFFAOYSA-M sodium thiocyanate Chemical compound [Na+].[S-]C#N VGTPCRGMBIAPIM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- HIEHAIZHJZLEPQ-UHFFFAOYSA-M sodium;naphthalene-1-sulfonate Chemical compound [Na+].C1=CC=C2C(S(=O)(=O)[O-])=CC=CC2=C1 HIEHAIZHJZLEPQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000001119 stannous chloride Substances 0.000 description 1
- 235000011150 stannous chloride Nutrition 0.000 description 1
- 229940108184 stannous iodide Drugs 0.000 description 1
- RCIVOBGSMSSVTR-UHFFFAOYSA-L stannous sulfate Chemical compound [SnH2+2].[O-]S([O-])(=O)=O RCIVOBGSMSSVTR-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- 239000011885 synergistic combination Substances 0.000 description 1
- 150000003566 thiocarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 1
- NJRXVEJTAYWCQJ-UHFFFAOYSA-N thiomalic acid Chemical compound OC(=O)CC(S)C(O)=O NJRXVEJTAYWCQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003585 thioureas Chemical class 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001432 tin ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000375 tin(II) sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- KJAMZCVTJDTESW-UHFFFAOYSA-N tiracizine Chemical compound C1CC2=CC=CC=C2N(C(=O)CN(C)C)C2=CC(NC(=O)OCC)=CC=C21 KJAMZCVTJDTESW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001988 toxicity Effects 0.000 description 1
- 231100000419 toxicity Toxicity 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/56—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys
- C25D3/60—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys containing more than 50% by weight of tin
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B15/00—Layered products comprising a layer of metal
- B32B15/01—Layered products comprising a layer of metal all layers being exclusively metallic
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/10—Electroplating with more than one layer of the same or of different metals
- C25D5/12—Electroplating with more than one layer of the same or of different metals at least one layer being of nickel or chromium
- C25D5/14—Electroplating with more than one layer of the same or of different metals at least one layer being of nickel or chromium two or more layers being of nickel or chromium, e.g. duplex or triplex layers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/60—Electroplating characterised by the structure or texture of the layers
- C25D5/605—Surface topography of the layers, e.g. rough, dendritic or nodular layers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/60—Electroplating characterised by the structure or texture of the layers
- C25D5/623—Porosity of the layers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/627—Electroplating characterised by the visual appearance of the layers, e.g. colour, brightness or mat appearance
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Abstract
本发明的目的在于,提供一种具有优异的耐腐蚀性的多层镀膜。本发明涉及一种多层镀膜,是至少包含铬镀膜及锡‑镍镀膜的多层镀膜,所述铬镀膜为最表面层,所述锡‑镍镀膜是使用含有2价锡化合物、镍化合物、三胺化合物及氟化物的酸性锡‑镍合金镀液形成于比所述铬镀膜更靠下侧的被膜。
Description
技术领域
本发明涉及多层镀膜及具有该多层镀膜的物品。
背景技术
目前,对于汽车、家电制品、水龙头金属零件、杂货、装饰品等,实施了兼具装饰性和耐腐蚀性而具有光亮的镀镍。通常,在被镀物(物品)上实施镀镍后,再作为精加工实施镀铬。另外,为了进一步提高耐腐蚀性,也使用硫含量不同的镍实施多层(2层或3层)镀镍(参照专利文献1、非专利文献1等)。
但是,即使是重叠了多层镀镍层、并在其上实施了镀铬的多层镀膜,也不能说耐腐蚀性充分。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开平5-171468号公报
非专利文献
非专利文献1:镀敷技术指南、东京镀金材料协同组合技术委员会编辑pp.156(1987)
发明内容
发明所要解决的问题
本发明是鉴于上述的以往技术的问题完成的,其主要目的在于,提供具有优异的耐腐蚀性的多层镀膜。
用于解决问题的方法
本发明人等为了达成上述的目的反复进行了深入研究。其结果是发现,通过使用特定的锡-镍镀液可以得到耐腐蚀性高的锡-镍镀膜,将该锡-镍镀膜设于比精加工镀膜(铬镀膜)更靠下侧,由此可以得到具有优异的耐腐蚀性的多层镀膜。本发明基于此种见解,进一步反复进行研究,结果得以完成。
即,本发明提供下述的多层镀膜等。
第一项.一种多层镀膜,是至少包含铬镀膜及锡-镍镀膜的多层镀膜,
所述铬镀膜为最表面层,
所述锡-镍镀膜是使用含有2价锡化合物、镍化合物、三胺化合物及氟化物的酸性锡-镍合金镀液形成于比所述铬镀膜更靠下侧的被膜。
第二项.根据上述第一项中记载的多层镀膜,其中,
所述多层镀膜是:
(1)在锡-镍镀膜上直接形成铬镀膜的双层镀膜、
(2)依次形成有半光亮镍镀膜、锡-镍镀膜、以及铬镀膜的三层镀膜、
(3)依次形成有锡-镍镀膜、光亮镍镀膜、以及铬镀膜的三层镀膜、
(4)依次形成有半光亮镍镀膜、锡-镍镀膜、微孔铬用镍镀膜、以及铬镀膜的四层镀膜、
(5)依次形成有半光亮镍镀膜、锡-镍镀膜、光亮镍镀膜、以及铬镀膜的四层镀膜、或
(6)依次形成有半光亮镍镀膜、光亮镍镀膜、锡-镍镀膜、以及铬镀膜的四层镀膜。
第三项.一种物品,其具有上述第一项或第二项中记载的多层镀膜。
第四项.根据上述第三项中记载的物品,其中,所述物品为水龙头金属零件部件,在该水龙头金属零件部件上,形成有上述第二项的(1)、(2)、或(6)的多层镀膜。
发明效果
本发明的多层镀膜由于在最表面层的比铬镀膜更靠下侧具有耐腐蚀性高的锡-镍镀膜,因此与以往的在镍镀膜上具有铬镀膜的镀膜相比耐腐蚀性优异。另外,本发明中使用的锡-镍镀膜除了耐腐蚀性以外,还具有优异的光亮外观,因此通过在汽车等物品的表面形成本发明的多层镀膜,就可以得到具有装饰性及耐腐蚀性的镀敷物品。特别是,在物品为水龙头金属零件部件的情况下,因水龙头金属零件部件的耐腐蚀性提高,而可以防止以往的在铜合金制的部件上依次形成镍镀膜及铬镀膜时出现的问题,即,来自向部件的内侧析出的镍镀膜的镍的溶出。
附图说明
图1是表示本发明的多层镀膜的第一实施方式的示意图。
图2是表示本发明的多层镀膜的第二实施方式的示意图。
图3是表示本发明的多层镀膜的第三实施方式的示意图。
图4是表示本发明的多层镀膜的第四实施方式的示意图。
图5是表示本发明的多层镀膜的第五实施方式的示意图。
图6是表示本发明的多层镀膜的第六实施方式的示意图。
具体实施方式
以下,对本发明的多层镀膜进行具体的说明。
本发明的多层镀膜的特征在于,至少含有铬镀膜及锡-镍镀膜,所述铬镀膜为最表面层,所述锡-镍镀膜是使用含有2价锡化合物、镍化合物、三胺化合物及氟化物的酸性锡-镍合金镀液形成于比所述铬镀膜更靠下侧的被膜。
使用含有2价锡化合物、镍化合物、三胺化合物及氟化物的酸性锡-镍合金镀液形成的锡-镍镀膜与以往的光亮镍镀膜相比耐腐蚀性高。因而,在形成该锡-镍镀膜后,作为最表面层形成铬镀膜,由此可以得到耐腐蚀性高的多层镀膜。另外,由于使用上述镀液形成的锡-镍镀膜具有优异的光亮外观,因此可以作为以往的光亮镍镀膜的替代物使用。
本发明的多层镀膜的锡-镍镀膜存在于比作为最表面层的铬镀膜更靠下侧。例如,可以在锡-镍镀膜上直接形成铬镀膜,也可以在锡-镍镀膜与铬镀膜之间具有其他的镀层。另外,锡-镍镀膜可以在被镀物上直接形成,也可以在被镀物与锡-镍镀膜之间具有其他的镀层。
作为本发明的多层镀膜,例如可以举出如图1~6所示的多层镀膜。具体而言,可以举出:
(1)在锡-镍镀膜上直接形成铬镀膜的双层镀膜(图1)、
(2)依次形成有半光亮镍镀膜、锡-镍镀膜、以及铬镀膜的三层镀膜(图2)、
(3)依次形成有锡-镍镀膜、光亮镍镀膜、以及铬镀膜的三层镀膜(图3)、
(4)依次形成有半光亮镍镀膜、锡-镍镀膜、微孔铬用镍镀膜、以及铬镀膜的四层镀膜(图4)、
(5)依次形成有半光亮镍镀膜、锡-镍镀膜、光亮镍镀膜、以及铬镀膜的四层镀膜(图5)、
(6)依次形成有半光亮镍镀膜、光亮镍镀膜、锡-镍镀膜、以及铬镀膜的四层镀膜(图6)等。这些多层镀膜中,从构成简单且具有高耐腐蚀性的方面考虑,优选(1)在锡-镍镀膜上直接形成铬镀膜的双层镀膜。
在被镀物为水龙头金属零件部件的情况下,优选锡-镍镀膜存在于紧邻铬镀膜的下侧,即,优选在锡-镍镀膜上直接形成铬镀膜。具体而言,形成于水龙头金属零件部件上的多层镀膜优选为上述的(1)在锡-镍镀膜上直接形成铬镀膜的双层镀膜、(2)依次形成有半光亮镍镀膜、锡-镍镀膜、以及铬镀膜的三层镀膜、或(6)依次形成有半光亮镍镀膜、光亮镍镀膜、锡-镍镀膜、以及铬镀膜的四层镀膜的任意一种。
锡-镍镀膜可以使用含有作为金属源的2价锡化合物及镍化合物、作为配位剂的三胺化合物、以及氟化物的酸性锡-镍合金镀液形成。
镀液中所含的2价锡化合物只要是作为锡成分含有2价锡的水溶性化合物,就以没有特别限定地使用。作为2价锡化合物的具体例,可以举出氯化亚锡、硫酸亚锡、乙酸亚锡、溴化亚锡、碘化亚锡、草酸亚锡、二磷酸亚锡、乙基己酸亚锡、氨基磺酸亚锡等。这些2价锡化合物通常可以单独使用1种,或混合使用2种以上。2价锡化合物的浓度例如作为2价锡离子浓度为10~40g/L左右。
作为镍化合物,可以举出氯化镍、氯化镍铵、硫酸镍、硫酸镍铵、硫酸镍钾、氨基磺酸镍、乙酸镍、碳酸镍、溴化镍、乙酰丙酮镍、甲酸镍、硝酸镍、碘化镍、草酸镍、硬脂酸镍、柠檬酸镍、次亚磷酸镍、磷酸镍、酒石酸镍、乳酸镍等。这些镍化合物通常可以单独使用1种,或混合使用2种以上。镍化合物的浓度例如作为镍离子浓度为30~150g/L左右。
本发明中,作为配位剂使用三胺化合物是一大特征。通过使用三胺化合物,能够获得利用以往的锡-镀镍中所使用的氟化物浴难以得到的、具有充分的光亮外观的镀膜。作为三胺化合物,可以举出双(六亚甲基)三胺、二亚乙基三胺、二亚乙基三胺五乙酸、二亚乙基三胺五乙酸钠、1,2,3-苯三胺、三聚氰胺等。三胺化合物的浓度例如为25~200g/L左右。
作为氟化物,可以举出氟化钠、氟化钾、酸性氟化铵、氟化钙等。氟化物的浓度为20~100g/L左右。
镀液的pH通常为pH3~6左右的范围。
本发明中,对于进行锡-镍镀敷时的镀敷条件没有特别限定,只要根据所使用的锡-镍镀液的种类适当地采用条件即可。
例如,对于镀敷操作时的浴温,在低的情况下泳透性提高,然而制膜速度有降低的趋势,反之在浴温高的情况下,制膜速度提高,然而向低电流密度区域的泳透性有降低的趋势,因此可以考虑这一点来确定合适的浴温。作为浴温优选的范围是40~70℃左右的范围。
对于阴极电流密度,也可以根据所使用的镀液、被镀物的种类等适当地确定,优选为0.1~10A/dm2左右。
阳极可以使用单独的镍板、组合镍板与锡板而得的材料、锡-镍合金板、不溶性阳极等的任意一种。阴极可以使用后述的被镀物。
从上述镀浴中析出的锡-镍镀膜可以得到以原子比率计接近Sn∶Ni=1∶1(以Sn量计为67重量%)的组成的镀膜。该情况下,被膜的锡及镍含有率是Sn含有率为50~80重量%及Ni含有率为20~50重量%的范围。所得的锡-镍镀膜的耐腐蚀性优异。另外,即使浴中的金属浓度比[=Sn/(Sn+Ni)]以数倍变化,所得的合金层的组成及光亮状态也大致一定。
锡-镍镀膜的耐腐蚀性不依赖于镀膜厚度,即使减小镀膜厚度,也会显示出优异的耐腐蚀性。作为锡-镍镀膜的膜厚,优选与以往的镍镀膜相同程度的膜厚,如果膜厚为1μm以上,则耐腐蚀性更高,更优选为膜厚3μm以上。
铬镀膜可以利用以往使用的镀铬方法来形成。
铬镀液作为铬成分可以含有6价铬或3价铬的某一种。从操作环境、排水处理的效率等观点考虑,优选使用毒性小的3价铬。此外,从耐盐害性的观点考虑也优选3价铬。
在使用3价铬的情况下,3价铬镀液是包含作为铬成分含有水溶性3价铬化合物的水溶液的镀液,对于具体的组成没有特别限定。通常,在3价铬镀浴中,除了添加水溶性3价铬化合物以外,还会出于防止由阴极反应界面的pH上升造成的铬的氢氧化物等的生成的目的而添加pH缓冲剂,此外,还添加有配位剂、导电性盐、光亮剂等各种添加剂。本发明中,这样的含有各种添加剂的3价铬镀液均可以使用。
此处,已知如果将3价铬镀层与6价铬进行比较,则通常纯度较低。3价铬镀液如上所述,含有大量配位剂、光亮剂等有机物,因此在铬镀膜中会有含有碳、硫、氧等的有机物发生共析。因而,通过向3价铬镀液中添加硫化合物,使镀膜中的硫共析量增加,就可以获得3价铬镀膜特有的黑色外观。黑色外观也可以通过向3价铬镀浴中添加金属氧化物微粒、使之在镀膜中共析、增加镀膜的表面粗糙度来获得。本发明中,作为3价铬镀液,也可以使用如上所述的形成黑色的镀膜的镀液。
本发明的3价铬镀膜的组成没有特别限定,可以在被膜中含有铬以外的金属(例如铁、镍等)、碳、硫、氧、或上述的金属氧化物。
作为该3价铬镀液中所含的水溶性3价铬化合物,只要是作为铬成分含有3价铬的水溶性化合物,就没有特别限定,可以例示出硫酸铬、氯化铬、硝酸铬、乙酸铬等。这些水溶性3价铬化合物通常可以单独使用一种或混合使用两种以上。对于3价铬化合物的浓度,如果举出一例,则作为3价铬离子浓度为1~50g/L左右。
作为pH缓冲剂,可以例示出硼酸、硼酸钠、氯化铝等。这些pH缓冲剂通常可以单独添加一种或混合添加两种以上。对于pH缓冲剂的浓度,如果举出一例,则为10~100g/L左右。
作为配位剂,可以例示出甲酸、乙酸等单羧酸或其盐;草酸、丙二酸、马来酸等二羧酸或其盐;柠檬酸、苹果酸、乙醇酸等羟基羧酸或其盐等。作为上述的各盐,可以例示出钠盐、钾盐等碱金属盐、铵盐等。
作为导电性盐,可以例示出硫酸钠、氯化钠、溴化钠、硫酸钾、氯化钾、溴化钾等碱金属盐;硫酸铵、氯化铵等铵盐等。
作为光亮剂,可以例示出糖精、糖精钠、萘磺酸、萘磺酸钠、丁炔二醇、炔丙醇等。
作为添加到形成黑色外观的3价铬镀膜的3价铬镀液中的硫化合物,可以举出无机硫化合物及有机硫化合物。作为无机硫化合物,例如可以举出硫化钠、硫化铵、硫化钙、硫氰酸钾、硫氰酸钠、硫氢化钠等。作为有机硫化合物,例如可以举出硫脲、烯丙基硫脲、亚乙基硫脲、二乙基硫脲、二苯基硫脲、甲苯基硫脲、脒基硫脲及乙酰硫脲等硫脲化合物;2-巯基乙醇、2-巯基次黄嘌呤、2-巯基苯并咪唑及2-巯基苯并噻唑等巯基化合物;氨基噻唑等氨基化合物;硫代甲酸、硫代乙酸、硫代苹果酸、硫代乙醇酸、硫代二乙醇酸、硫代氨基甲酸、硫代水杨酸等硫代羧酸及其盐;二硫代甲酸、二硫代乙酸、二硫代乙醇酸、二硫代二乙醇酸、二硫代氨基甲酸等二硫代羧酸及其盐。
作为为了在镀膜表面形成凹凸而获得黑色外观的3价铬镀膜所添加的金属氧化物微粒,例如可以举出纳米胶态二氧化硅、硅胶、胶体氧化硅、二氧化硅浆体等二氧化硅化合物;氧化锆、氧化铝、氧化钛、氧化镁、氧化锡、氧化铜、氧化锌、氧化铈、氧化钇、氧化铁、氧化钴、它们的复合氧化物等。
这些添加剂通常可以单独使用一种或混合使用两种以上。对于这些添加剂的浓度没有特别限定,然而如果举出一例,则对于配位剂而言为5~200g/L左右,对于导电性盐而言为10~300g/L左右,对于光亮剂而言为0.5~20g/L左右。硫化合物及金属氧化物微粒分别以0.1~100g/L左右使用。
3价铬镀液的pH与通常的3价镀铬处理时的pH相同,通常为pH2~5左右的范围内。
本发明中,对于进行镀铬时的镀敷条件没有特别限定,可以根据所使用的铬镀液的种类,采用与通常的镀敷条件相同的条件。
例如,对于镀敷操作时的浴温,在低的情况下泳透性提高,然而制膜速度有降低的趋势,反之在浴温高的情况下,制膜速度提高,然而对低电流密度区域的泳透性有降低的趋势,因此可以考虑这一点而确定合适的浴温。作为浴温优选的范围是30~60℃左右的范围。
对于阴极电流密度,也是只要根据所使用的镀液、被镀物的种类等恰当地确定即可,优选为1~20A/dm2左右。
在所形成的铬镀膜为1层的情况下,可以形成3价铬镀膜或6价铬镀膜的某一种。从操作环境、排水处理的效率、耐盐害性等观点考虑,优选3价铬镀膜。此外为了提高耐腐蚀性,可以将铬镀膜制成在3价铬镀膜上形成有6价铬镀膜的2层结构。另外,在需要进一步的耐腐蚀性的情况下,也可以在3价铬镀膜上实施电解铬酸盐处理或浸渍铬酸盐处理、或其两者。
在作为被镀物的物品的表面形成上述的多层镀膜。作为被镀物的物品只要是表面具有导电性、且平滑的物品,就可以没有特别限定地使用。例如,可以举出汽车、家电制品、水龙头金属零件、杂货、装饰品等各种物品。
在上述的(2)~(6)的多层镀膜中形成的、半光亮镍镀膜、光亮镍镀膜、以及微孔铬用镍镀膜可以利用一直以来作为汽车部件等的装饰镀敷采用的镀敷方法来制造。
例如,半光亮镍镀膜可以通过使用将硫析出量设定为小于0.005%的镍镀液进行镀敷来获得。光亮镍镀膜可以通过使用将硫析出量设定为0.05%左右的镍镀液进行镀敷来获得。微孔铬用镍镀膜可以通过在分散或悬浮有非导电性微粒、例如SiO2、TiO2等的镍镀浴中进行非导电性微粒共析镀镍来获得。
具有本发明的多层镀膜的物品由于在铬镀膜的下侧设有具有优异的耐腐蚀性及光亮外观的锡-镍镀膜,因此可以作为具有装饰性及耐腐蚀性的镀敷物品使用。
特别是在物品为水龙头金属零件部件的情况下,水龙头金属零件部件的耐腐蚀性提高,可以防止在以往的水龙头金属零件部件中出现的问题,即,来自向部件的内侧析出的镍镀膜的镍的溶出。具体而言,以往在铜合金制的水龙头金属零件部件上依次形成(铜镀膜)、镍镀膜及铬镀膜,由于镀敷的泳透性的差别,虽然镍镀膜形成至部件的内部,然而在部件的内部没有形成铬镀膜,镍镀膜因流过部件内部的水或熔液而腐蚀,出现镍溶出的问题,然而通过在水龙头金属零件部件上形成本发明的多层镀膜,可以解决上述的问题。该情况下,多层镀膜优选锡-镍镀膜存在于紧邻铬镀膜的下侧,即,优选在锡-镍镀膜上直接形成铬镀膜。具体而言,优选为上述的(1)~(6)的多层镀膜中的(1)在锡-镍镀膜上直接形成铬镀膜的双层镀膜、(2)依次形成有半光亮镍镀膜、锡-镍镀膜、以及铬镀膜的三层镀膜、或(6)依次形成有半光亮镍镀膜、光亮镍镀膜、锡-镍镀膜、以及铬镀膜的四层镀膜的任意的多层镀膜。
实施例
以下,举出实施例而对本发明进行更详细的说明。
在以下的实施例及比较例中,共同的镀敷条件如下所示。
试验原材:黄铜板(50×100mm)
半光亮镀镍浴:
光亮镀镍浴:
微孔铬用镀镍浴:
锡-镀镍浴:
3价铬镀浴:
黑色3价铬镀浴:
而且,在上述镀浴组成中,附带有“※”的是奥野制药工业株式会社制品。
试验例1(CASS试验)
作为试验片使用黄铜板(50×100mm),使用上述的镀浴,在各种条件下进行处理,由此形成具有以下的实施例1~18及比较例1~6的组成的镀膜。对所得的各试样,利用JISH 8502镀层耐腐蚀性试验方法CASS试验方法进行耐腐蚀性评价,对有无铜锈的产生进行了评价。表1~3中,表示出实施例1~18及比较例1~6的镀膜的组成及膜厚及CASS试验的结果。
[表1]
[表2]
[表3]
在铬镀膜下具有锡-镍镀膜的实施例1~18中,即使在80小时的CASS试验后也没有产生铜锈,然而铬镀膜下为镍镀膜、且不具有锡-镍镀膜的比较例1~6中,在80小时的CASS试验后产生很多铜锈。根据这些结果可知,通过在铬镀膜下形成锡-镍镀膜,耐腐蚀性会提高。
试验例2(人工汗试验)
作为试验片使用黄铜板(2.5×2.5cm),使用上述的镀浴,在各种条件下进行处理,由此形成具有以下的实施例19~26及比较例7~10的组成的镀膜。将所得的各试样在液量100ml的人工汗(酸性及碱性)液中在40℃浸渍24小时。详细的条件如下所示。
[表4]
浸渍24小时后,利用目视评价镀层外观,并且利用ICP发光分光分析法测定出Ni、Sn、Cu、以及Zn的溶出量。表5及6中,表示出实施例19~26及比较例7~10的镀膜的组成及评价条件、以及镀层外观及人工汗试验的结果。
[表5]
[表6]
在最表面具有锡-镍镀膜的实施例19~26中,即使在人工汗液中浸渍24小时后也不会溶出镍,在浸渍前后镀层外观看不到变化。另一方面,最表面为镍镀膜、且不具有锡-镍镀膜的比较例7~10中的比较例7、8及10中,在人工汗液中浸渍24小时后检测出镍及锌,比较例9中,检测出镍、锌及铜。另外,利用目视确认,比较例7~10的镀层外观在人工汗试验后,从镍被膜的银白色外观变化为黄铜色或褐色的外观。这表明镍被膜因人工汗而溶解,甚至腐蚀至作为基底的黄铜而溶解。根据这些结果可知,通过取代镍镀膜而形成锡-镍镀膜,或在镍镀膜上形成锡-镍镀膜,可以防止镍的溶出。
符号的说明
1多层镀膜,2锡-镍镀膜,3铬镀膜,4半光亮镍镀膜,5光亮镍镀膜,6微孔铬用镍镀膜。
Claims (4)
1.一种多层镀膜,是至少包含铬镀膜及锡-镍镀膜的多层镀膜,
所述铬镀膜为最表面层,
所述锡-镍镀膜是使用含有2价锡化合物、镍化合物、三胺化合物及氟化物的酸性锡-镍合金镀液,且形成于比所述铬镀膜更靠下侧的被膜。
2.根据权利要求1所述的多层镀膜,其中,
所述多层镀膜是:
(1)在锡-镍镀膜上直接形成铬镀膜的双层镀膜、
(2)依次形成有半光亮镍镀膜、锡-镍镀膜、以及铬镀膜的三层镀膜、
(3)依次形成有锡-镍镀膜、光亮镍镀膜、以及铬镀膜的三层镀膜、
(4)依次形成有半光亮镍镀膜、锡-镍镀膜、微孔铬用镍镀膜、以及铬镀膜的四层镀膜、
(5)依次形成有半光亮镍镀膜、锡-镍镀膜、光亮镍镀膜、以及铬镀膜的四层镀膜、或
(6)依次形成有半光亮镍镀膜、光亮镍镀膜、锡-镍镀膜、以及铬镀膜的四层镀膜。
3.一种物品,其具有权利要求1或2所述的多层镀膜。
4.根据权利要求3所述的物品,其中,
所述物品为水龙头金属零件部件,在该水龙头金属零件部件上,形成有权利要求2的(1)、(2)、或(6)的多层镀膜。
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014128350 | 2014-06-23 | ||
JP2014-128350 | 2014-06-23 | ||
JP2014249580 | 2014-12-10 | ||
JP2014-249580 | 2014-12-10 | ||
PCT/JP2015/067263 WO2015198914A1 (ja) | 2014-06-23 | 2015-06-16 | 多層めっき皮膜及び該多層めっき皮膜を有する物品 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN106460217A true CN106460217A (zh) | 2017-02-22 |
CN106460217B CN106460217B (zh) | 2021-05-04 |
Family
ID=54938004
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201580031039.2A Active CN106460217B (zh) | 2014-06-23 | 2015-06-16 | 多层镀膜及具有该多层镀膜的物品 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20170114470A1 (zh) |
EP (1) | EP3159436B1 (zh) |
JP (1) | JP6327655B2 (zh) |
CN (1) | CN106460217B (zh) |
MY (1) | MY168618A (zh) |
TW (1) | TWI647344B (zh) |
WO (1) | WO2015198914A1 (zh) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017025382A (ja) * | 2015-07-23 | 2017-02-02 | 奥野製薬工業株式会社 | 黒色光沢スズ−ニッケル合金めっき浴、スズ−ニッケル合金めっき方法、黒色光沢スズ−ニッケル合金めっき皮膜及び該皮膜を有する物品 |
WO2019215287A1 (en) * | 2018-05-09 | 2019-11-14 | Atotech Deutschland Gmbh | Nickel comprising layer array and a method for its manufacturing |
CN111663126A (zh) * | 2019-03-06 | 2020-09-15 | 唐文海 | 一种化学镀铬合金装饰镀工艺 |
US20210040637A1 (en) * | 2019-08-08 | 2021-02-11 | Jcu International, Inc. | Chromium plating product and method for producing the same |
JP7520550B2 (ja) * | 2020-03-31 | 2024-07-23 | 株式会社日立製作所 | 積層体、金属めっき液、および積層体の製造方法 |
EP4101948A1 (en) * | 2021-06-10 | 2022-12-14 | Atotech Deutschland GmbH & Co. KG | Method for adjusting the brightness l* of an electroplated chromium layer |
EP4101947A1 (en) * | 2021-06-10 | 2022-12-14 | Atotech Deutschland GmbH & Co. KG | Method for electrodepositing a dark chromium layer, substrate comprising same, and electroplating bath thereof |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4931413B1 (zh) * | 1970-02-24 | 1974-08-21 | ||
DE2141940C2 (de) * | 1971-08-21 | 1977-02-10 | Bergische Metallwarenfabrik Dillenberg & Co Kg, 5601 Gruiten | Galvanisches bad zum abscheiden von zinn/nickel-, zinn/kobalt- oder zinn/nickel/kobalt-schichten und zugehoeriges galvanisierverfahren |
US4154139A (en) * | 1971-12-15 | 1979-05-15 | M.C.P. Industries, Inc. | Screw threaded fastening means and like products |
US3772168A (en) * | 1972-08-10 | 1973-11-13 | H Dillenberg | Electrolytic plating of tin-nickel, tin-cobalt or tin-nickel-cobalt on a metal base and acid bath for said plating |
US6015482A (en) * | 1997-12-18 | 2000-01-18 | Circuit Research Corp. | Printed circuit manufacturing process using tin-nickel plating |
DE69909411T2 (de) * | 1998-12-03 | 2004-07-08 | Masco Corporation Of Indiana, Indianapolis | Artikel mit schützendem und dekorativem mehrschichtigen Überzug |
JP2000219995A (ja) * | 1999-02-01 | 2000-08-08 | Nippon Steel Corp | 加工後のフィルム密着性および印刷外観に優れためっき鋼板 |
JP2001348679A (ja) * | 2000-06-08 | 2001-12-18 | Toto Ltd | 銅又は銅合金製給水器具のめっき方法及びそのめっき製品 |
CN1229763C (zh) * | 2000-11-14 | 2005-11-30 | 东陶机器株式会社 | 标记形成的方法 |
US6548192B2 (en) * | 2001-04-05 | 2003-04-15 | Vapor Technologies, Inc. | Coated article having the appearance of stainless steel |
JP2003138396A (ja) * | 2001-08-24 | 2003-05-14 | Toto Ltd | ニッケルクロムめっき方法及びそのめっきを施した水道用器具 |
JP4931413B2 (ja) * | 2004-12-24 | 2012-05-16 | 日本電産コパル株式会社 | 画像読取装置 |
DE102006054761A1 (de) * | 2006-11-14 | 2008-05-15 | Hansgrohe Ag | Bereitstellung von wasserführenden Bauteilen aus Messinglegierungen mit verringerter Metallionenfreisetzung |
US9765437B2 (en) * | 2009-03-24 | 2017-09-19 | Roderick D. Herdman | Chromium alloy coating with enhanced resistance to corrosion in calcium chloride environments |
DE102010055968A1 (de) * | 2010-12-23 | 2012-06-28 | Coventya Spa | Substrat mit korrosionsbeständigem Überzug und Verfahren zu dessen Herstellung |
-
2015
- 2015-06-16 US US15/311,989 patent/US20170114470A1/en not_active Abandoned
- 2015-06-16 CN CN201580031039.2A patent/CN106460217B/zh active Active
- 2015-06-16 MY MYPI2016704454A patent/MY168618A/en unknown
- 2015-06-16 JP JP2016529358A patent/JP6327655B2/ja active Active
- 2015-06-16 WO PCT/JP2015/067263 patent/WO2015198914A1/ja active Application Filing
- 2015-06-16 EP EP15812104.6A patent/EP3159436B1/en active Active
- 2015-06-22 TW TW104119982A patent/TWI647344B/zh active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP3159436B1 (en) | 2019-11-20 |
JPWO2015198914A1 (ja) | 2017-04-20 |
US20170114470A1 (en) | 2017-04-27 |
CN106460217B (zh) | 2021-05-04 |
TWI647344B (zh) | 2019-01-11 |
EP3159436A1 (en) | 2017-04-26 |
TW201604336A (zh) | 2016-02-01 |
EP3159436A4 (en) | 2018-02-07 |
WO2015198914A1 (ja) | 2015-12-30 |
JP6327655B2 (ja) | 2018-05-23 |
MY168618A (en) | 2018-11-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN106460217A (zh) | 多层镀膜及具有该多层镀膜的物品 | |
US9650722B2 (en) | Chrome-plated part and manufacturing method of the same | |
CN101421434B (zh) | 用于在锌或锌合金上形成黑色的3价铬化学转化膜的处理溶液和在锌或锌合金上形成黑色的3价铬化学转化膜的方法 | |
CN102936742B (zh) | 一种汽车装饰条用塑胶表面电镀三价黑铬的方法 | |
CN101643924B (zh) | 一种全硫酸盐三价铬镀厚铬溶液及电镀方法 | |
CN106987874B (zh) | 电镀铜镀液 | |
JP2010185116A (ja) | クロムめっき部品及びその製造方法 | |
JP2014500404A (ja) | 耐食コーティングを有する基材およびその製造方法 | |
CN103668369A (zh) | 一种提高金属件耐腐蚀性的电镀方法 | |
JP6951465B2 (ja) | 3価クロムメッキ液およびこれを用いたクロムメッキ方法 | |
JP2009074170A (ja) | クロムめっき部品およびその製造方法 | |
CN110424012A (zh) | 一种电解铜箔表面处理方法 | |
Barbosa et al. | Development of a novel alkaline zinc–iron plating bath containing sorbitol and the chemical, physical and morphological characterization of the Zn–Fe films | |
CN103484901A (zh) | 一种五金件的镀镍工艺 | |
JP2015221944A (ja) | クロムめっき部品及びその製造方法 | |
CN205556812U (zh) | 一种高耐腐蚀性三价铬电镀黑铬的复合镀层结构 | |
CN107604402A (zh) | 一种应用于铝轮毂电镀中的铝合金无氰沉锌剂的制作方式 | |
CN103695977A (zh) | 一种令镀锡层平整且预防长锡须的电镀方法 | |
CN110785516A (zh) | 用于在衬底上沉积装饰用镍涂层的镍电镀浴 | |
CN205115644U (zh) | 一种高耐腐蚀性的三价铬镀铬层结构 | |
KR102194114B1 (ko) | 개선된 내부식성을 갖는 기능성 크롬 층 | |
US1590170A (en) | Process of plating with chromium | |
Gamburg et al. | Technologies for the electrodeposition of metals and alloys: electrolytes and processes | |
JP7350965B1 (ja) | クロムめっき部品及びその製造方法 | |
CN103484927A (zh) | 一种电镀镍废液的处理方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
REG | Reference to a national code |
Ref country code: HK Ref legal event code: DE Ref document number: 1231143 Country of ref document: HK |
|
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant |