CN105793740A - 防反射光学部件 - Google Patents

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Abstract

本发明得到一种在宽频带下具有低防反射效果且具有透射率较高的光学特性的防反射光学部件。本发明的防反射光学部件具有依次层叠如下而成的层叠结构：具有大于规定介质的第1折射率的透明基材(10)；含有多个金属微粒(20)的含金属微粒层(12)；及具有大于规定介质的第2折射率的电介质层(14)，多个金属微粒(20)总数的60％以上是直径相对于厚度之比为3以上的扁平金属粒子(20)，扁平金属粒子(20)的主平面在相对于含金属微粒层(12)的表面为0°～30°的范围内面取向，在含金属微粒层(12)中，多个金属微粒(20)以未形成导电路的状态配置，电介质层(14)的厚度为入射光从电介质层(14)的表面侧向层叠结构入射时的电介质层(14)表面上的反射光和电介质层(14)与含金属微粒层(12)的界面上的反射光发生干涉而被抵消的厚度。

Description

防反射光学部件
技术领域
本发明涉及一种对入射光具有防反射功能的防反射光学部件。
背景技术
以往，在显示器的显示部等中，为了防止由外部的光源或风景的映射而引起可见性降低，在透光性部件上设有防反射结构(防反射膜)。
例如，作为对可见光的防反射光学部件，已知有电介质多层膜、或在多层膜中具备由金属微粒层构成的可见光波长吸收层的防反射膜等(专利文献1、2等)。
专利文献1中公开有在基材膜上涂布多个薄膜而成的防反射膜中具备波长550nm下的衰减系数为0.1～5的层的结构，作为一例，举出了具备含有金属微粒而成的层的结构。
专利文献2中公开有使用链状金属胶体的低反射透明导电性层叠膜，并记载有如下内容：通过具备含有链状金属胶体的透明导电层，能够得到具有防静电性、电磁波屏蔽性、防反射性、力学特性及防污性的薄膜。
以往技术文献
专利文献
专利文献1：国际公开2004/031813号小册子(日本专利第4400458号)
专利文献2：日本专利公开2001-281401号公报
发明的概要
发明要解决的技术课题
专利文献1中，波长550nm下的衰减系数为0.1～5的层即为吸收波长550nm的入射光的层，具有通过吸收入射光来提高防反射效果的结构。然而，专利文献1中所记载的结构中，存在因吸收而入射光的透射率下降的问题，并且，虽然对于550nm波长可以得到较高的防反射效果，但存在可以得到较高的防反射效果的带宽非常窄的问题。
专利文献2中，当金属胶体以具有防静电功能的程度相连成链状时，与专利文献1的情况同样地在含有链状金属胶体的层中产生入射光的吸收，可能会产生与专利文献1同样的问题。
本发明是鉴于上述情况而完成的，其目的在于提供一种不会产生透射率的下降且在更宽的带宽下可以得到较高的防反射效果的防反射光学部件。
用于解决技术课题的手段
本发明的防反射光学部件为在规定介质中使用的防反射光学部件，其防止规定波长的入射光的反射，其特征在于，
具有依次层叠如下而成的层叠结构：具有大于规定介质的第1折射率的透明基材；含有多个金属微粒的含金属微粒层；及具有大于规定介质的第2折射率的电介质层，
多个金属微粒的总数的60％以上是直径相对于厚度之比为3以上的扁平金属粒子，
扁平金属粒子的主平面在相对于含金属微粒层的表面为0°～30°的范围内面取向，
在含金属微粒层中，多个金属微粒以未形成导电路的状态配置，
电介质层的厚度为入射光从电介质层的表面侧向层叠结构入射时的电介质层的表面上的反射光和电介质层与含金属微粒层的界面上的反射光发生干涉而被抵消的厚度。
规定波长的入射光是指在本发明的防反射光学部件中应防止反射的光，根据用途会有所不同，但优选规定波长为短于扁平金属微粒的等离子共振波长的短波。
规定介质是指使入射光传播的物质，是本发明的防反射光学部件的至少表面被暴露的大气(空气)、水等。
电介质层的厚度优选为400nm以下。
进而，电介质层的厚度更优选为将规定波长设为λ时光路长度λ/4以下的厚度。其中，电介质层的光路长度是指电介质层的物理厚度和电介质层的折射率相乘而得到的值。
原理上，作为电介质层的厚度，光路长度λ/8为最佳，但根据含金属微粒层的条件，最佳值会在λ/16～λ/4左右的范围内变化，因此只要根据层结构适当设定即可。
根据用扫描型电子显微镜(SEM)得到的图像来判断多个金属微粒是否以未形成导电路的状态配置。具体而言，对于光学部件的含金属微粒层，用扫描型电子显微镜(SEM)观察2.5μm×2.5μm的区域，在从所得到的图像的左端至右端为止，若微粒连续相连则视为形成有导电路，若在中途微粒分离则视为未形成导电路。
本发明中，规定波长的入射光优选为可见光(380nm～780nm)。即，本发明的防反射光学部件优选为对可见光发挥防反射功能的部件。
扁平金属粒子的直径优选为300nm以下。
作为构成金属微粒的金属，可以举出银、金、铝、铜、铑、镍、铂、钛等，最优选银。
作为透明基材的折射率的第1折射率优选小于1.8。
在含金属微粒层中，多个金属微粒只要以未形成导电路的方式配置即可，优选多个金属微粒的总数的10％以上相互孤立地配置，更优选50％以上相互孤立地配置。“相互孤立地配置”是指与最靠近的微粒保持1nm以上的间隔的状态。孤立地配置的微粒与最相邻微粒之间的间隔更优选为10nm以上。
在透明基材与含金属微粒层之间可以具有大于第1折射率的第3折射率的高折射率层。
并且，在透明基材、含金属微粒层、电介质层之间及电介质层的与基材相反的面侧可以设有其他层。
含金属微粒层中的多个金属微粒的俯视观察时的面积率优选为5％以上且70％以下。
本发明的防反射光学部件中，优选入射光的透射率为80％以上。
本发明的防反射光学部件中，优选入射光的反射率为0.5％以下的波长带宽为100nm以上。
发明效果
根据本发明的防反射光学部件，含金属微粒层起到折射率调整层的作用，能够实现较低的反射率。并且，含金属微粒层中所含的多个金属微粒总数的60％以上是直径相对于厚度之比为3以上的扁平金属粒子，扁平金属粒子的主平面在相对于含金属微粒层的表面为0°～30°的范围内面取向配置，因此与具备球状金属微粒的情况相比，含金属微粒层对可见光的吸收率非常小。因此，对可见光能够得到非常高的透射率。
附图说明
图1是表示本发明的第1实施方式所涉及的防反射光学部件的一例的概略图。
图2是含金属微粒层的俯视观察的SEM图像。
图3是表示扁平金属粒子的一例的概略图。
图4是表示扁平金属粒子的另一例的概略图。
图5是表示扁平金属粒子的每一纵横尺寸的透射率的波长依赖性的模拟试验的图。
图6是表示在本发明的防反射光学部件中含有扁平金属粒子的含金属微粒层的存在状态的概略剖视图，是表示说明含有扁平金属粒子的含金属微粒层(也与基材的平面平行)与扁平金属粒子的主平面(确定当量圆直径D的面)所成的角度(θ)的图。
图7A是表示含金属微粒层中的金属微粒的分布状态(100％孤立)的图。
图7B是表示含金属微粒层中的金属微粒的分布状态(50％孤立)的图。
图7C是表示含金属微粒层中的金属微粒的分布状态(10％孤立)的图。
图7D是表示含金属微粒层中的金属微粒的分布状态(2％孤立)的图。
图8是表示在本发明的防反射光学部件中含有扁平金属粒子的含金属微粒层的存在状态的概略剖视图，是表示含金属微粒层在防反射结构的深度方向上的扁平金属粒子的存在区域的图。
图9是表示在本发明的防反射光学部件中含有扁平金属粒子的含金属微粒层的存在状态的另一例的概略剖视图。
图10是表示本发明的第2实施方式所涉及的防反射光学部件的一例的概略图。
图11是表示实施例的防反射效果的图表。
具体实施方式
以下，对本发明的实施方式进行说明。
图1是表示本发明的第1实施方式的防反射光学部件1的结构的剖面示意图，图2是防反射光学部件1中的含金属微粒层12的俯视观察的扫描型显微镜图像。如图1所示，本实施方式的防反射光学部件1为防止规定波长的入射光的反射且在规定介质中使用的防反射光学部件，具有依次层叠如下而成的层叠结构：具有大于介质的折射率n0的第1折射率n1的透明基材10；含有多个金属微粒20的含金属微粒层12；及具有大于介质的折射率n0的第2折射率n2的电介质层14。
含金属微粒层12中所含的多个金属微粒20总数的60％以上是直径相对于厚度之比(纵横尺寸比)为3以上的扁平金属粒子，扁平金属粒子的主平面在相对于含金属微粒层的表面为0°～30°的范围内面取向，如图2所示，在含金属微粒层12中，多个金属微粒20以未形成导电路的状态配置。
并且，电介质层14的厚度14a为入射光从电介质层14的表面侧向层叠结构入射时的电介质层14的表面上的反射光LR1和电介质层14与含金属微粒层12的界面上的反射光LR2发生干涉而被抵消的厚度。
本发明的防反射光学部件可以是贴附于欲赋予防反射功能的窗玻璃、液晶显示器等的表面而使用的防反射膜(薄膜状的防反射光学部件)，也可以是对表面赋予防反射光学功能而成的透镜等。
规定介质是指充满使用防反射光学部件的空间的介质，是空气(n0＝1)、水(n0＝1.33)等，该折射率大致为1.4以下。然而，规定介质会根据防反射光学部件的用途而不同，本发明中，该规定介质并没有任何限定。因此，各层的折射率可以根据使用用途(使用空间的介质)适当设定。
规定波长的入射光是指欲防止反射的波长的光，可以根据目的任意设定，例如用于液晶显示器等的防反射时，设为眼睛可感知的可见光(380nm～780nm)。
并且，作为防反射效果，例如用于液晶显示器等的防反射时，优选反射率为0.5％以下的波长区域在100nm以上的范围。
对本发明的光学部件的各要件进行更详细的说明。
＜透明基材＞
作为透明基材10，只要具有大于规定介质的折射率n0的第1折射率n1且对规定波长的入射光而言光学上透明，则并没有特别限制，可以根据目的适当选择。例如，当欲防止反射的波长为可见光区域时，作为透明基材，使用可见光线透射率为70％以上的透明基材、优选80％以上的透明基材即可，当欲防止反射的波长为近红外区域时，使用近红外线区域的透射率较高的透明基材即可。
第1折射率n1只要大于规定介质的折射率n0即可，但折射率差越大，光入射到透明基材时的反射变大，防反射的必要性增高，因此当折射率差为规定介质的折射率的12％以上、尤其为20％以上时，本发明更有效果。尤其，当规定介质为空气且n0＝1时，折射率差变大，因此本发明有效果。并且，作为透明基材的折射率，优选小于1.8。
作为透明基材10，对于其形状、结构、大小、材料等没有特别限制，可以根据目的适当选择。
作为形状，例如可以举出薄膜状、扁平状等，结构可以是单层结构，也可以是层叠结构，大小只要根据用途规定即可。
作为透明基材材料，例如可以举出由玻璃、聚乙烯、聚丙烯、聚4-甲基戊烯-1、聚丁烯-1等聚烯烃类树脂；聚对苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯等聚酯类树脂；聚碳酸酯类树脂、聚氯乙烯类树脂、聚苯硫醚类树脂、聚醚砜类树脂、聚乙硫醚类树脂、聚苯醚类树脂、苯乙烯类树脂、丙烯酸类树脂、聚酰胺类树脂、聚酰亚胺类树脂、乙酸纤维素等纤维素类树脂等构成的薄膜或它们的层叠膜。在这些之中，尤其优选三乙酰纤维素(TAC)薄膜、聚对苯二甲酸乙二酯(PET)薄膜。
当透明基材10为扁平状或薄膜状时，其厚度并没有特别限制，可以根据防反射的使用目的适当选择。在薄膜状的情况下，通常是10μm～500μm左右。透明基材10的厚度优选为10μm～100μm，更优选为20μm～75μm，尤其优选为35μm～75μm。透明基材10的厚度越厚，越具有不易引起粘接故障的倾向。并且，透明基材10的厚度越薄，作为防反射膜而贴合于建材或汽车的窗玻璃时，作为材料的弹性不会变得过强，具有容易施工的倾向。另外，透明基材10越是充分薄，越具有透射率越增加、能够抑制原材料费的倾向。
＜含金属微粒层＞
含金属微粒层12为在粘结剂28中含有多个金属微粒20而成的层。本实施方式中，如图2所示，金属微粒在俯视观察时随机地(非周期性地)配置于层中。
-金属微粒-
如已叙述，含金属微粒层12中所含的多个金属微粒20总数的60％以上为具有两个对置的主平面的扁平金属粒子(扁平状的金属粒子)，优选65％以上、进一步优选70％以上为扁平金属粒子。并且，扁平金属粒子20优选在含金属微粒层12的一侧表面上偏析。
若扁平金属粒子的比例为60个数％以上，则可见光线透射率变高。作为扁平金属粒子，只要是具备对置的两个主平面的粒子，则并没有特别限制，作为其主平面的形状，例如可以举出六边形状、三角形状、圆形状等。在这些之中，从可见光透射率较高的观点考虑，优选为主平面的形状为如图3所示的六边形状或六边形以上的多边形状或者如图4所示的圆形状。
本说明书中，圆形状是指后述的扁平金属粒子的具有平均当量圆直径的50％以上长度的边的个数在一个扁平金属粒子中为0个的形状。作为圆形状的扁平金属粒子，利用透射型电子显微镜(TEM)将扁平金属粒子从主平面的上方观察时只要无角且为圆的形状，则并没有特别限制。
本说明书中、六边形状是指后述的扁平金属粒子的具有平均当量圆直径的20％以上长度的边的个数在一个扁平金属粒子中为6个的形状。作为六边形状的扁平金属粒子，利用透射型电子显微镜(TEM)将扁平金属粒子从主平面的上方观察时只要是六边形状，则并没有特别限制，可以根据目的适当选择，例如，六边形状的角可以是锐角或钝角，从能够减轻可见光区域的吸收的观点考虑，优选钝角的六边形状。作为钝角的程度并没有特别限制，可以根据目的适当选择。
[平均粒径(平均当量圆直径)及变异系数]
当量圆直径以具有与各个粒子的投影面积相等的面积的圆的直径来表示。各个粒子的投影面积能够通过测定在电子显微镜照片上的面积并以摄影倍率校正的公知的方法来得到。并且，平均粒子直径(平均当量圆直径)为利用200个扁平金属粒子的当量圆直径D的统计得到粒径分布(粒度分布)并根据粒径分布通过计算求出的算术平均值。扁平金属粒子的粒度分布中的变异系数为将粒度分布的标准偏差除以前述的平均粒子直径而得到的值(％)。
在本发明的防反射光学部件中，作为扁平金属粒子的粒度分布中的变异系数，优选35％以下，更优选30％以下，尤其优选20％以下。从减少防反射结构中的可见光线的吸收的观点考虑，优选变异系数为35％以下。
作为扁平金属粒子的大小并没有特别限制，可以根据目的适当选择，平均粒子直径优选10～500nm，更优选20～300nm，进一步优选50～200nm。
[扁平金属粒子的厚度/纵横尺寸比]
本发明的防反射光学部件中，扁平金属粒子的厚度T优选为20nm以下，更优选为2～15nm，尤其优选为4～12nm。
粒子厚度T相当于扁平金属粒子的主平面间距离，例如如图3及图4所示。粒子厚度T能够通过原子力显微镜(AFM)或透射型电子显微镜(TEM)来测定。
作为基于AFM的平均粒子厚度的测定方法，例如可以举出在玻璃基板上滴下含有扁平金属粒子的粒子分散液并进行干燥后测定一个粒子的厚度的方法等。
作为基于TEM的平均粒子厚度的测定方法，例如可以举出在硅基板上滴下含有扁平金属粒子的粒子分散液并进行干燥之后，通过碳蒸镀、金属蒸镀来实施包覆处理，并通过聚焦离子束(FIB)加工来制作剖面切片，将其剖面利用TEM进行观察，由此进行粒子的厚度测定的方法等。
在本发明中，扁平金属粒子20的直径(平均当量圆直径)D相对于平均厚度T之比D/T(纵横尺寸比)只要是3以上，则并没有特别限制，可以根据目的适当选择，从减少可见光线的吸收和雾度的观点考虑，优选3～40，更优选5～40。若纵横尺寸比为3以上，则能够抑制可见光线的吸收，若小于40时，还能够抑制可见区域中的雾度。
在图5中示出圆形状金属粒子的纵横尺寸比发生变化时的透射率的波长依赖性的模拟试验结果。作为圆形状金属粒子，对将厚度T设为10nm、直径D改变为80nm、120nm、160nm、200nm、240nm的情况进行了研究。如图5所示，随着纵横尺寸比变大，在等离子共振波长下产生的吸收峰(透射率的底部)向长波长侧位移，随着纵横尺寸比变小，吸收峰向短波长侧位移。若纵横尺寸比小于3，则吸收峰靠近可见区域，纵横尺寸比为1时吸收峰成为可见区域。如此，若纵横尺寸比为3以上，则能够对可见光提高透射率。纵横尺寸比尤其优选为5以上。
[面取向]
在含金属微粒层12中，扁平金属粒子的主面在相对于含金属微粒层12的表面为0°～30°的范围内面取向。即，在图6中，含金属微粒层12的表面与扁平金属粒子20的主平面(确定当量圆直径D的面)或主平面的延长线所成的角度(±θ)为0°～30°。更优选角度(±θ)在0°～20°的范围内面取向，尤其优选在0°～10°的范围内面取向。在观察防反射光学部件的剖面时，扁平金属粒子20更优选以图6所示的倾斜角(±θ)较小的状态取向。若θ超过±30°，则防反射光学部件中的可见光线的吸收有可能增加。
并且，优选上述角度θ在0°～±30°的范围内面取向的扁平金属粒子为所有扁平金属粒子数的50％以上，更优选为70％以上，进一步优选为90％以上。
关于扁平金属粒子的主平面相对于含金属微粒层的一侧表面是否面取向，例如，可以采用制作适当的剖面切片，观察该切片中的含金属微粒层及扁平金属粒子并进行评价的方法。具体而言，可以举出根据使用切片机、聚焦离子束(FIB)来制作防反射光学部件的剖面样品或剖面切片样品并使用各种显微镜(例如，场发射型扫描电子显微镜(FE-SEM)、透射型电子显微镜(TEM)等)对其进行观察而得到的图像进行评价的方法等。
作为如上制作的剖面样品或剖面切片样品的观察方法，只要能够确认样品中扁平金属粒子的主平面相对于含金属微粒层的一侧表面是否面取向，则并没有特别限制，例如可以举出使用FE-SEM、TEM等的方法。在剖面样品的情况下，可以通过FE-SEM进行观察，在剖面切片样品的情况下，可以通过TEM进行观察。当利用FE-SEM进行评价时，优选具有能够明确判断扁平金属粒子的形状和倾斜角(图6的±θ)的空间分辨率。
作为金属微粒的材料并没有特别限制，可以根据目的适当选择，从热线(近红外线)的反射率较高的观点考虑，优选银、金、铝、铜、铑、镍、铂、氧化铟锡(ITO)、钛或它们的合金等。另外，金、铜等对可见光的吸收较大，因此从提高可见光的透射率的观点考虑，最优选对可见光的吸收较小的银。
作为金属微粒20的分布状态，只要未由多个金属微粒形成导电路，则并没有特别限制。
图7A～图7D是示意地表示含金属微粒层12中的金属微粒20的分布状态的俯视图。图中空白部分为金属微粒20。图7A中，多个金属微粒20在面方向上全部(100％)都孤立分布。图7B表示多个金属微粒20中的50％孤立、另外50％与相邻粒子接触而以局部性的连结状态24分布的状态。图7C表示多个金属微粒20中只有10％孤立存在、其他则与相邻粒子接触而以局部性的连结状态24分布的状态。最优选如图7A所示金属微粒20相互孤立，但只要10％以上孤立配置，则能够充分得到防反射效果。另一方面，图7D是表示多个金属微粒20中只有2％孤立时的金属微粒的分布的图，在图7D中，金属微粒从图像中的一端向另一端连结而形成导电路26。若如此形成导电路26，则基于金属微粒的可见光区域波长的吸收率上升，反射率也增加。因此，本发明需为如图7A～图7C所示那样至少未由金属粒子形成导电路的状态。
另外，关于有无形成导电路，在利用SEM观察的2.5μm×2.5μm的区域中，从区域的一端至对置的另一端为止，若金属微粒连续相连则判断为形成有导电路，若在中途金属微粒分离则判断为未形成导电路。
[含金属微粒层的厚度、金属微粒的存在范围]
图8及图9是表示在本发明的防反射光学部件中金属微粒20在含金属微粒层28中的存在状态的概略剖视图。
本发明的防反射光学部件中，关于含金属微粒层12的涂布膜厚度d，越减小涂布厚度，扁平金属粒子的面取向的角度范围越容易接近0°，能够减少可见光线的吸收，因此优选为100nm以下，更优选为3～50nm，尤其优选为5～40nm。
当含金属微粒层12的涂布膜厚度d相对于扁平金属粒子的平均当量圆直径D而言为d＞D/2时，优选扁平金属粒子的80个数％以上存在于自含金属微粒层的表面起d/2的范围内，更优选存在于d/3的范围内，进一步优选扁平金属粒子的60个数％以上露出在含金属微粒层的一侧表面上。扁平金属粒子存在于自含金属微粒层的表面起d/2的范围内是指，扁平金属粒子的至少一部分含于自含金属微粒层的表面起d/2的范围内。图8是表示含金属微粒层的厚度d为d＞D/2时的示意图，尤其是表示扁平金属粒子的80个数％以上含于f的范围内且f＜d/2的图。
并且，扁平金属粒子在含金属微粒层的一侧表面上露出是指，扁平金属粒子的一侧表面的一部分成为与电介质层的界面位置。图9是表示扁平金属粒子的一侧表面和与电介质层的界面一致时的图。
其中，含金属微粒层中的扁平金属粒子存在分布例如能够根据对防反射光学部件剖面进行SEM观察而得到的图像来测定。
本发明的防反射光学部件中，含金属微粒层的涂布膜厚度d相对于扁平金属粒子的平均当量圆直径D而言，优选d＜D/2的情况，更优选为d＜D/4，进一步优选为d＜D/8。越减小含金属微粒层的涂布厚度，扁平金属粒子的面取向的角度范围越容易接近0°，能够减小可见光线的吸收，因此优选。
含金属微粒层中的扁平金属粒子的等离子共振波长λ(图5中的吸收峰波长)只要是比作为规定波长的欲防止反射的波长长的长波，则并没有特别限制，可以根据目的适当选择，为了屏蔽热线，优选为700nm～2,500nm。
[金属微粒的面积率]
作为从上方观察防反射光学部件时的金属微粒的面积的合计值B相对于基材的面积A(从与含金属微粒层垂直的方向观察时的含金属微粒层的总投影面积A)的比例即面积率〔(B/A)×100〕，优选5％以上，更优选10％以上且小于70％。若面积率为5％以上，则可以得到充分的防反射效果。若面积率小于70％，则不会形成导电路，能够抑制可见光的吸收和反射来抑制透射率的降低。
为了在较宽的波长区域设为低反射率，面积率优选根据扁平金属粒子的厚度T和电介质层的折射率n2设为最佳值。对金属微粒全部都是扁平金属粒子且规定介质为空气(n0＝1)的情况进行研究。例如，扁平金属粒子的厚度为4nm且电介质层的折射率为1.4时，面积率优选40％以上且小于70％，更优选50％以上且小于65％。并且，例如，当扁平金属粒子的厚度为8nm且电介质层的折射率为1.4时，面积率优选5％以上且小于40％，更优选6％以上且小于30％。并且，例如，当扁平金属粒子的厚度为18nm且电介质层的折射率为1.4时，面积率优选5％以上且小于30％，更优选5％以上且小于25％。
其中，面积率例如能够通过对从上方对防反射光学部件进行SEM观察而得到的图像或通过AFM(原子力显微镜)观察而得到的图像进行图像处理来测定。
[扁平金属粒子的排列]
含金属微粒层中的扁平金属粒子的排列优选均匀。在此所说的排列的均匀是指，利用粒子的中心间距离将对各粒子的最靠近粒子为止的距离(最靠近粒子间距离)数值化时，各个粒子的最靠近粒子间距离的变异系数(＝标准偏差÷平均值)较小。最靠近粒子间距离的变异系数越小越优选，优选30％以下，更优选20％以下，更优选10％以下，理想的是0％。当最靠近粒子间距离的变异系数较大时，会在含金属微粒层内产生扁平金属粒子的疏密或粒子间的凝聚，具有雾度恶化的倾向，因此不优选。最靠近粒子间距离能够通过利用SEM等观察含金属微粒层涂布面来测定。
并且，含金属微粒层与电介质层的边界同样能够利用SEM等进行观察来确定，从而能够确定含金属微粒层的厚度d。另外，即使在使用与含金属微粒层中所含的聚合物相同种类的聚合物在含金属微粒层上形成电介质层的情况下，通常能够根据SEM观察到的图像来判别与含金属微粒层的边界，从而能够确定含金属微粒层的厚度d。另外，在边界不明确的情况下，将位于最远离基板的位置上的扁平金属的表面看作边界。
[扁平金属粒子的合成方法]
作为扁平金属粒子的合成方法并没有特别限制，可以根据目的适当选择，例如可以举出化学还原法、光化学还原法、电化学还原法等液相法等作为能够合成六边形状乃至圆形状的扁平金属粒子的合成方法。在这些之中，从形状和尺寸可控性的观点考虑，尤其优选化学还原法、光化学还原法等液相法。可以在合成六边形～三角形状的扁平金属粒子之后，进行例如使用硝酸、亚硫酸钠等溶解银的溶解物质的蚀刻处理、利用加热的时效处理等，由此使六边形～三角形状的扁平金属粒子的角部变圆来得到六边形状乃至圆形状的扁平金属粒子。
除此以外，作为扁平金属粒子的合成方法，也可以预先将晶种固定在薄膜、玻璃等透明基材的表面之后，在扁平面上使金属粒子(例如Ag)晶体生长。
在本发明的防反射光学部件中，为了赋予所希望的特性，扁平金属粒子可以实施进一步的处理。作为进一步的处理，例如可以举出形成高折射率壳层、添加分散剂、抗氧化剂等各种添加剂等。
-粘结剂-
含金属微粒层12中的粘结剂28优选含有聚合物，更优选含有透明聚合物。作为聚合物，例如可以举出聚乙烯醇缩乙醛树脂、聚乙烯醇树脂、聚乙烯醇缩丁醛树脂、聚丙烯酸酯树脂、聚甲基丙烯酸甲酯树脂、聚碳酸酯树脂、聚氯乙烯树脂、(饱和)聚酯树脂、聚氨酯树脂、明胶及纤维素等天然高分子等高分子等。其中，优选主聚合物为聚乙烯醇树脂、聚乙烯醇缩丁醛树脂、聚氯乙烯树脂、(饱和)聚酯树脂、聚氨酯树脂，从容易使扁平金属粒子的80个数％以上存在于自含金属微粒层的表面起d/2的范围内的观点考虑，更优选为聚酯树脂及聚氨酯树脂。
在聚酯树脂中，从由于不含双键而能够赋予优异的耐候性的观点考虑，更尤其优选为饱和聚酯树脂。并且，从通过用水溶性、水分散性的固化剂等进行固化以得到较高的硬度、耐久性、耐热性的观点考虑，更优选在分子末端具有羟基或羧基。
作为聚合物，还可以优选使用能够在商业上获得的聚合物，例如可以举出GOOCHEMICALCO.,LTD.制的作为水溶性聚酯树脂的PluscoatZ-687等。
并且，本说明书中，含金属微粒层中所含的主聚合物是指占据含金属微粒层中所含的聚合物的50质量％以上的聚合物成分。
优选含金属微粒层中所含的聚酯树脂及聚氨酯树脂相对于金属微粒的含量为1～10000质量％，更优选为10～1000质量％，尤其优选为20～500质量％。
粘结剂的折射率n优选为1.4～1.7。
＜电介质层＞
如已叙述，电介质层14的厚度14a为从电介质层14表面的入射光在电介质层14上的反射光LR1和入射光L在含金属微粒层12上的反射光LR2发生干涉而被抵消的厚度。其中，“反射光LR1和入射光L在含金属微粒层12上的反射光LR2发生干涉而抵消”是指反射光LR1和反射光LR2相互发生干涉而减少作为整体的反射光，并不限定于反射光完全消失的情况。
电介质层14的厚度14a优选为400nm以下，电介质层的厚度更优选为将规定波长设为λ时光路长度λ/4以下的厚度。
原理上，作为电介质层14的厚度，光路长度λ/8为最佳，但根据含金属微粒层的条件，最佳值在λ/16～λ/4左右的范围内变化，因此根据层结构适当设定即可。
电介质层14只要具有大于规定介质的折射率的第2折射率，则其结构材料并没有特别限制。例如，含有粘结剂、消光剂、紫外线吸收剂、防静电剂及表面活性剂，根据需要进一步含有其他成分而成。作为粘结剂并没有特别限制，可以根据目的适当选择，例如可以举出丙烯酸类树脂、硅酮类树脂、三聚氰胺类树脂、氨基甲酸酯类树脂、醇酸类树脂、氟类树脂等热固化型或光固化型树脂等。
＜其他层、成分＞
本发明的防反射光学部件可以具备上述各层以外的层。
[含红外线吸收化合物层]
本发明的防反射光学部件可以为了屏蔽热线而具有含有在红外区域具有吸收的化合物的含红外线吸收化合物层。以下，将含有在红外区域具有吸收的化合物的层也称为含红外线吸收化合物层。另外，含红外线吸收化合物层可以发挥其他功能层的作用。
[粘合剂层]
本发明的防反射光学部件优选具有粘合剂层(以下，也称为粘合层)。粘合层可以含有紫外线吸收剂。
作为粘合层的形成中可利用的材料并没有特别限制，可以根据目的适当选择，例如可以举出聚乙烯醇缩丁醛(PVB)树脂、丙烯酸树脂、苯乙烯/丙烯酸树脂、氨基甲酸酯树脂、聚酯树脂、硅酮树脂等。它们可以单独使用一种，也可以并用两种以上。由这些材料构成的粘合层能够通过涂布或层压来形成。
另外，粘合层中可以添加防静电剂、润滑剂、防粘连剂等。
作为粘合层的厚度，优选0.1μm～10μm。
[硬涂层]
为了附加耐刮伤性，包含具有硬涂性的硬涂层也是优选的。硬涂层中可以含有金属氧化物粒子或紫外线吸收剂。
作为硬涂层并没有特别限制，可以根据目的适当选择其种类及形成方法，例如可以举出丙烯酸类树脂、硅酮类树脂、三聚氰胺类树脂、氨基甲酸酯类树脂、醇酸类树脂、氟类树脂等热固化型或光固化型树脂等。作为硬涂层的厚度并没有特别限制，可以根据目的适当选择，优选1μm～50μm。
[背涂层]
另一方面，在本发明的防反射光学部件中，在透明基材10的与含金属微粒层相反侧的面上可以具有背涂层。作为背涂层并没有特别限制，可以根据目的适当选择，可以设为含有在红外区域具有吸收的化合物的层，也可以设为后述的含金属氧化物粒子层。
[紫外线吸收剂]
本发明的防反射光学部件优选具有含有紫外线吸收剂的层。
含有紫外线吸收剂的层可以根据目的适当选择，可以是粘合层，并且也可以是粘合层与含金属微粒层之间的层。在任一情况下，紫外线吸收剂均优选添加到配置于对含金属微粒层照射太阳光的一侧的层中。
[金属氧化物粒子]
本发明的防反射光学部件可以为了屏蔽热线而含有至少一种金属氧化物粒子。
作为金属氧化物粒子的材料并没有特别限制。可以根据目的适当选择，例如可以举出掺锡氧化铟(以下，略记为“ITO”。)、掺锑氧化锡(以下，略记为“ATO”。)、氧化锌、锑酸锌、氧化钛、氧化铟、氧化锡、氧化锑、玻璃陶瓷、6硼化镧(LaB6)、铯钨氧化物(Cs0.33WO3，以下略记为“CWO”。)等。在这些之中，从热线吸收能力优异且通过与扁平金属粒子组合能够制造具有较宽的热线吸收能的防反射结构的观点考虑，更优选ITO、ATO、CWO、6硼化镧(LaB6)，从将1,200nm以上的红外线屏蔽90％以上且可见光透射率为90％以上的观点考虑，尤其优选ITO。
作为金属氧化物粒子的一次粒子的体积平均粒径，为了降低可见光透射率，优选0.1μm以下。
作为金属氧化物粒子的形状并没有特别限制，可以根据目的适当选择，例如可以举出球状、针状、板状等。
接着，对各层的形成方法进行说明。
-1.含金属微粒层的形成方法-
含金属微粒层12的形成方法并没有特别限制。例如，可以举出通过浸涂器、模具式涂布器、狭缝涂布器、棒式涂布器、凹版涂布器等在透明基材的表面上涂布含有扁平金属粒子的分散液(扁平金属粒子分散液)的方法、利用LB膜法、自组织化法、喷雾涂布等方法进行面取向的方法。
另外，为了促进面取向，可以在涂布扁平金属粒子之后，通过压延辊或层压辊等压接辊。
-2.电介质层的形成方法-
电介质层14优选通过涂布来形成。作为此时的涂布方法并没有特别限定，可以使用公知的方法，例如可以举出通过浸涂器、模具式涂布器、狭缝涂布器、棒式涂布器、凹版涂布器等涂布含有紫外线吸收剂的分散液的方法等。
-3.硬涂层的形成方法-
硬涂层优选通过涂布来形成。作为此时的涂布方法特别限定，可以使用公知的方法，例如可以举出通过浸涂器、模具式涂布器、狭缝涂布器、棒式涂布器、凹版涂布器等涂布含有紫外线吸收剂的分散液的方法等。
-4.粘合层的形成方法-
粘合层优选通过涂布来形成。例如，可以层叠于基材、含金属微粒层、紫外线吸收层等下层的表面上。作为此时的涂布方法并没有特别限定，可以使用公知的方法。
通过制作预先将粘合剂涂布于剥离膜上并进行干燥而得到的薄膜，并且将该薄膜的粘合剂面与本发明的防反射结构表面进行层压，由此能够层叠干燥状态的粘合剂层。作为此时的层压方法并没有特别限定，可以使用公知的方法。
[窗玻璃]
当使用本发明的防反射光学部件对窗玻璃类赋予功能性时，优选层叠粘合剂并贴附于窗玻璃的室内侧或窗玻璃的两面。在窗玻璃上贴附防反射光学部件(防反射膜)时，通过涂布或层压来设置粘合剂层，预先对窗玻璃表面和防反射膜的粘合剂层表面喷雾含有表面活性剂(主要是阴离子类)的水溶液之后，经由粘合剂层在窗玻璃上设置防反射膜即可。在水分蒸发为止期间，粘合剂层的粘合力会下降，因此在玻璃表面上能够调整防反射膜的位置。确定防反射膜对窗玻璃的贴附位置之后，通过使用刮胶器等将残留在窗玻璃与防反射膜之间的水分从玻璃中央朝向端部扫除，由此能够在窗玻璃表面固定防反射膜。如此一来，能够在窗玻璃上设置防反射膜。
对窗玻璃赋予功能性时，可通过使用层压机设备在玻璃板上机械性贴附本发明的防反射光学部件的加热或加压层压等方法来实现。准备玻璃板通过从上部由过加热的金属辊或耐热性橡胶辊夹住、从下部由室温或加热的耐热性橡胶辊夹住的狭缝区域的层压机。在玻璃板上以粘合剂面与玻璃面接触的方式放置该薄膜，并以层压机的上部辊按压该薄膜的方式固定后，使其通过层压机。若根据粘合剂的种类来选择适当的辊加热温度并进行贴附，则粘合力会变强，能够以不混有气泡地贴附。当能够以卷状供给该薄膜时，从上部向加热辊连续供给胶带状薄膜以使加热辊具有90度左右的包角，这会使得该薄膜的粘合层受到预热而容易贴附，能够高度实现气泡的排除和粘合力的提高这两者。
图10是本发明的第2实施方式的防反射光学部件2的示意剖视图。本实施方式的防反射光学部件2与第1实施方式的防反射光学部件1不同点在于，在透明基材10与含金属微粒层12之间具备具有比透明基材10的折射率n1高的折射率n2的高折射率层16。其他构成要件与第1实施方式的构成要件相同，对相同要件标注同一符号。
通过具备具有比透明基材10的折射率n1高的折射率n2的高折射率层16，能够进一步提高防反射效果。
＜高折射率层＞
高折射率层16的折射率优选为1.55以上，尤其优选为1.6以上。
高折射率层16只要折射率大于1.55，则其构成材料并没有特别限制。例如，含有粘结剂、金属氧化物微粒、消光剂及表面活性剂，根据需要进一步含有其他成分而成。作为粘结剂并没有特别限制，可以根据目的适当选择，例如可以举出丙烯酸类树脂、硅酮类树脂、三聚氰胺类树脂、氨基甲酸酯类树脂、醇酸类树脂、氟类树脂等热固化型或光固化型树脂等。
作为金属氧化物微粒的材料，只要使用具有比粘结剂的折射率大的折射率的金属微粒，则并没有特别限制，可以根据目的适当选择，例如可以举出掺锡氧化铟(以下，略记为“ITO”。)、氧化锌、氧化钛、氧化氧化锆等。
实施例
以下，对本发明的实施例及比较例进行说明。
首先，对各实施例及比较例的制作中所使用的各种涂布液的制备及评价进行说明。
-扁平银粒子分散液A1的调液-
向NTKR-4(NipponMetalIndustryCo.,Ltd.制)制的反应容器中计量离子交换水13L，使用具备在SUS316L制的轴上安装有NTKR-4制的螺旋桨4片及NTKR-4制的桨叶4片的搅拌机的腔室，一边搅拌一边添加10g/L的柠檬酸三钠(酐)水溶液1.0L并保温为35℃。添加8.0g/L的聚苯乙烯磺酸水溶液0.68L，再添加使用0.04N的水氧化钠水溶液制备成23g/L的氢化硼钠水溶液0.041L。以5.0L/min添加0.10g/L的硝酸银水溶液13L。
添加10g/L的柠檬酸三钠(酐)水溶液1.0L和离子交换水11L，再添加80g/L的对苯二酚磺酸钾水溶液0.68L。将搅拌提高至800rpm，以0.95L/min添加0.10g/L的硝酸银水溶液8.1L之后，降温至30℃。
添加44g/L的甲基对苯二酚水溶液8.0L，接着添加后述的40℃的明胶水溶液所有量。将搅拌提高至1200rpm，添加后述的亚硫酸银白色沉淀物混合液所有量。
在制备液的pH变化停止的阶段，以0.33L/min添加1N的NaOH水溶液5.0L。其后，添加2.0g/L的1-(间磺苯基)-5-巯基四唑钠水溶液(使用NaOH和柠檬酸(酐)调整为pH＝7.0±1.0后溶解而成)0.18L，再添加70g/L的1,2-苯并异噻唑啉-3-酮(用NaOH将水溶液调节为碱性后溶解而成)0.078L。如此制备扁平银粒子分散液A1。
-明胶水溶液的制备-
向SUS316L制的溶解罐中计量离子交换水16.7L。一边利用SUS316L制的搅拌机进行低速搅拌，一边添加实施了去离子处理的碱处理牛骨明胶(GPC重均分子量20万)1.4kg。另外，添加实施了去离子处理、蛋白质分解酶处理及基于过氧化氢的氧化处理的碱处理牛骨明胶(GPC重均分子量2.1万)0.91kg。其后，升温至40℃，并同时进行明胶的溶胀和溶解而使其完全溶解。
-亚硫酸银白色沉淀物混合液的制备-
向SUS316L制的溶解罐中计量离子交换水8.2L，并添加100g/L的硝酸银水溶液8.2L。一边利用SUS316L制的搅拌机进行高速搅拌，一边在短时间内添加140g/L的亚硫酸钠水溶液2.7L，从而制备含有亚硫酸银的白色沉淀物的混合液。该混合液是在即将使用之前制备的。
-扁平银粒子分散液B1的调液-
向离心管中采取800g前述的扁平银粒子分散液A1，使用1N的NaOH和/或1N的硫酸在25℃下调整为pH＝9.2±0.2。使用离心分离机(HitachiKokiCo.,Ltd.制himacCR22GIII，AngleRotorR9A)，设定为35℃后进行9000rpm、60分钟的离心分离操作之后，舍去上清液784g。向沉淀的扁平银粒子中加入0.2mM的NaOH水溶液而使之合计为400g，并使用搅拌棒进行手搅拌而使之成为粗分散液。通过与其相同的操作，共制备24份的粗分散液而使之合计为9600g，并添加到SUS316L制的罐中进行混合。另外，添加Pluronic31R1(BASF公司制)的10g/L溶液(用甲醇:离子交换水＝1:1(体积比)的混合液进行稀释)10cc。使用PRIMIXCorporation制Automixer20型(搅拌部为均质混合器MARKII)，对罐中的粗分散液混合物以9000rpm实施120分钟的分批式分散处理。分散中的液温保持为50℃。分散后，降温至25℃之后，使用profileIIfilter(NIHONPALLLTD.制，产品型号MCY1001Y030H13)进行单通道的过滤。
如此，对分散液A1实施脱盐处理及再分散处理来制备扁平银粒子分散液B1。
-扁平金属粒子的评价-
确认到在扁平银粒子分散液A1中生成了六边形状乃至圆形状及三角形状的扁平粒子。另外，在分散液A1中金属微粒全部是扁平金属粒子。将通过扁平银粒子分散液A的TEM观察而得到的图像取入图像处理软件ImageJ中，实施图像处理。对于从几个视场的TEM图像中任意抽出的500个粒子进行图像分析，并计算相同面积的当量圆直径。基于这些母群体进行统计处理的结果，平均直径为120nm。
同样地测定扁平银粒子分散液B1的结果，包括粒度分布的形状在内，得到与扁平银粒子分散液A1大致相同的结果。
将扁平银粒子分散液B1滴加到硅基板上并进行干燥，并且通过FIB-TEM法测定扁平银粒子每一个的厚度。对扁平银粒子分散液B1中的10个扁平银粒子进行测定，平均厚度为8nm。
-扁平银粒子分散液A2～A4、B2～B4的调液-
在扁平银粒子分散液A1及B1的调液中，以厚度、直径及纵横尺寸比成为表1所示的方式调整制作时的各溶液的濃度、加热温度及pH，从而制备扁平银粒子分散液A2～A4及B2～B4。
[表1]
-含金属微粒层用涂布液、电介质层用涂布液、高折射率层用涂布液的制备-
以表2所示的材料的组成比制备涂布液C1A、C1B、C1C、C2～C4、D1及E1。
[表2]
在表2中，各值的单位为质量份。
另外，表2的含金属微粒层用的涂布液C1A中，代替扁平银粒子分散液B1而使用SigmaAldrich公司制的银纳米粒子(直径10nm且纵横尺寸比1的球状粒子)分散水溶液，除此以外，与涂布液C1A同样地制备而得到涂布液C5。
使用如上制备而得到的涂布液C1A、C1B、C1C、C2～C5、D1及E1来分别制作作为本发明的防反射光学部件的实施例及比较例的防反射膜。将各实施例及比较例的层结构总结示于表3。
[表3]
对各实施例及比较例的防反射光学部件(防反射膜)的制作方法进行说明。
[实施例1]
使用绕线棒，将含金属微粒层用的涂布液C1A以干燥后的平均厚度成为20nm的方式涂布于TAC薄膜(FUJITAC、80μm、折射率1.5)的表面上。其后，在130℃下加热1分钟并进行干燥、固化，从而形成含金属微粒层。使用绕线棒，将电介质层用的涂布液D1以干燥后的平均厚度成为60nm的方式涂布于所形成的含金属微粒层上。其后，在130℃下加热1分钟并进行干燥、固化，从而得到实施例1的防反射光学部件。
[实施例2-6、比较例1、4]
在实施例1中将含金属微粒层用的涂布液C1A分别改变为表中所记载的涂布液，除此以外，通过与实施例1相同的方法，在TAC薄膜(FUJITAC、80μm、折射率1.5)的表面上得到实施例2-6、比较例4的防反射光学部。
[实施例7]
作为实施例7，制作具有图10所示的具有高折射率层14的层结构的防反射光学部件。
使用绕线棒，将高折射率层用的涂布液E1以干燥后的平均厚度成为55nm的方式涂布于TAC薄膜(FUJITAC、80μm、折射率1.5)的表面上。其后，使用绕线棒，以干燥后的平均厚度成为10nm的方式涂布含金属微粒层用的涂布液C1A。其后，在130℃下加热1分钟并进行干燥、固化，从而形成含金属微粒层。使用绕线棒，将电介质层用的涂布液D1以干燥后的平均厚度成为70nm的方式涂布于所形成的含金属微粒层上。其后，在130℃下加热1分钟并进行干燥、固化，从而得到实施例7的防反射光学部件。
[比较例2]
在实施例1中将含金属微粒层用的涂布液C1A改变为高折射率层用的涂布液E1来将干燥后的平均厚度改变为85nm，并将电介质层用的涂布液D1的干燥后的平均厚度改变为100nm，除此以外，与实施例1同样地在TAC薄膜(FUJITAC、80μm、折射率1.5)的表面上制作比较例2的防反射光学部件。
[比较例3]
在实施例1中将电介质层用的涂布液D1的干燥后的平均厚度改变为650nm，除此以外，与实施例1同样地在TAC薄膜(FUJITAC、80μm、折射率1.5)的表面上制作比较例3的防反射光学部件。
对于各实施例及比较例，测定可见光的反射率、透射率、0.5％带宽并确认有无形成导电路。
＜反射率的测定方法＞
使用OTSUKAELECTRONICSCo.,LTD.制反射膜厚分光计FE3000，测定光从电介质层侧入射到各例的光学膜时的波长550nm下的反射率。将反射率为0.5％以上时评价为不良(NG)，将反射率小于0.5时评价为良好(OK)。
＜透射率的测定方法＞
使用HitachiHigh-TechnologiesCorporation制分光光度计U4000，测定光从电介质层侧入射到各例的光学膜时的波长550nm下的透射率。透射率小于80％时评价为不良(NG)，透射率为80％以上时评价为良好(OK)。
＜0.5％带宽的测定方法＞
使用OTSUKAELECTRONICSCo.,LTD.制反射膜厚分光计FE3000，测定光从电介质层侧入射到各例的光学膜时的反射率，将反射率成为0.5％以下的波长带宽定义为“0.5％带宽”。将0.5％带宽小于100nm时评价为不良(NG)，将100nm以上时评价为良好(OK)。
＜导电路形成的确认方法＞
对于所得到的防反射膜，利用扫描型电子显微镜(SEM)在2.5μm×2.5μm的区域进行观察，在从所得到的图像的左端至右端为止，若微粒连续相连则判断为形成有导电路，若在中途微粒分离则判断为未形成导电路。
＜金属微粒的面积率＞
在制作各实施例和比较例时，将形成含金属微粒层之后且形成电介质层之前利用扫描型电子显微镜(SEM)进行观察而得到的图像进行二值化，求出从上方观察含金属微粒层时金属微粒的面积的合计值B相对于基材的面积A的比例即面积率[(B/A)×100]。
将对于各实施例、比较例的测定结果及评价结果示于表4。
[表4]
如表4所示，对于实施例1至7，关于反射率、透射率、0.5％带宽均得到了良好的结果。尤其，具备高折射率层的实施例7得到了非常低的反射率且较大的带宽。另一方面，对于比较例1～4，反射率、透射率、0.5％带宽中的至少任意一个为不良。
图11是对于作为透明基材的TAC、实施例1类似结构(实施例1的2)、实施例7类似结构(实施例7的2)的光学膜的表示反射率的波长依赖性的防反射效果相关的实验结果。实验在作为规定介质的空气(n0＝1)中进行。
图11中的实施例1的2设为TAC(n1＝1.5；80μm)、含金属微粒层10nm、电介质层(n2＝1.35；65nm)，实施例7的2设为TAC(n1＝1.5；80μm)、高折射率层(n3＝1.6；60nm)、含金属微粒层10nm、电介质层(n2＝1.35；70nm)。
如图11所示，与透明基材本身的反射率相比，实施例1的2、实施例7的2通过含金属膜层及电介质层的层叠结构均能够实现较低的反射率。尤其，实施例7的2中，遍及宽频带能够将反射率设为0.5％以下。

Claims (13)

1.一种在规定介质中使用的防反射光学部件，其防止规定波长的入射光的反射，其特征在于，
具有依次层叠如下而成的层叠结构：
具有大于所述规定介质的第1折射率的透明基材；
含有多个金属微粒的含金属微粒层；及
具有大于所述规定介质的第2折射率的电介质层，
所述多个金属微粒的总数的60％以上是直径相对于厚度之比为3以上的扁平金属粒子，
所述扁平金属粒子的主平面在相对于所述含金属微粒层的表面为0°～30°的范围内面取向，
在所述含金属微粒层中，所述多个金属微粒以未形成导电路的状态配置，
所述电介质层的厚度为所述入射光从该电介质层的表面侧向所述层叠结构入射时的该电介质层的表面上的反射光和该电介质层与所述含金属微粒层的界面上的反射光发生干涉而被抵消的厚度。
2.根据权利要求1所述的防反射光学部件，其中，
所述规定波长为短于所述扁平金属粒子的等离子共振波长的短波。
3.根据权利要求1或2所述的防反射光学部件，其中，
所述电介质层的厚度为400nm以下。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的防反射光学部件，其中，
所述电介质层的厚度为将所述规定波长设为λ时光路长度λ/4以下的厚度。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的防反射光学部件，其中，
所述规定波长的入射光为可见光。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的防反射光学部件，其中，
所述直径为300nm以下。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的防反射光学部件，其中，
所述金属微粒由银构成。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的防反射光学部件，其中，
所述第1折射率小于1.8。
9.根据权利要求1至8中任一项所述的防反射光学部件，其中，
在所述含金属微粒层中，所述多个金属微粒中的50％以上相互孤立地配置。
10.根据权利要求1至9中任一项所述的防反射光学部件，其中，
在所述透明基材与所述含金属微粒层之间具备具有大于所述第1折射率的第3折射率的高折射率层。
11.根据权利要求1至10中任一项所述的防反射光学部件，其中，
所述含金属微粒层中的所述多个金属微粒的俯视观察时的面积率为5％以上且70％以下。
12.根据权利要求1至11中任一项所述的防反射光学部件，其中，
所述入射光的透射率为80％以上。
13.根据权利要求1至12中任一项所述的防反射光学部件，其中，
所述入射光的反射率为0.5％以下的波长带宽为100nm以上。
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