CN103249497A - 涂布液的涂布方法及涂布装置、以及涂布物的制造方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种在使用模涂机将涂布液涂布于具有挠性的基材片的情况下能够防止发生因异物所造成的缺陷的涂布液的涂布方法及涂布装置、以及涂布物的制造方法。将开始线(P1)与边界线(P2)之间的距离(D1)设为50mm以内，所述开始线(P1)是：通过模涂机(7)的排出口(74)且与基材片(1)正交的假想线(L)、与基材片(1)的第二面相交的线，所述边界线是：在该开始线(P1)的上游侧，基材片(1)的第二面伴随着支承辊(8)的旋转而从该支承辊(8)的外周面离开的线。将假想线(L)与支承辊(8)的外周面相交的辊上线(P3)、与开始线(P1)之间的距离(D2)设为5μm以上。

Description

涂布液的涂布方法及涂布装置、以及涂布物的制造方法
技术领域
本发明涉及用于使用模涂机将涂布液涂布于具有挠性的基材片的涂布方法及涂布装置、以及涂布物的制造方法。
背景技术
已知使用模涂机将涂布液涂布于具有挠性的膜等基材片(腹板(ウェブ))的表面的技术。作为这种技术的一例，在下述专利文献1和2中公开了：对于伴随着支承辊的旋转而被传送的基材片，从与支承辊的相反侧相对的位置，使用狭缝涂布机涂布涂布液。
就支承辊而言，在使基材片中与被涂布涂布液的一侧的第一面为相反侧的第二面与其支承辊周面抵接的状态下，使支承辊进行旋转。在与支承辊中与基材片的抵接处相对的位置，设置用于排出涂布液的狭缝涂布机。通过一边使支承辊旋转而传送基材片，一边从狭缝涂布机中排出涂布液，从而可以在基材片的第一面涂布涂布液。
现有技术文献
专利文献1：日本特开2003-251260号公报
专利文献2：日本专利第4163876号公报
发明内容
发明所要解决的问题
但是，就上述那样的以往的构成而言，在支承辊的外周面与基材片之间咬入了异物的情况下，有时在与该异物相对的场所，涂布于基材片的涂布液会产生厚度薄的部分。在这种情况下，会有在干燥时涂布液的表面没有流平而产生凹下状的点缺陷这样的问题。
图5是用于对在涂布涂布液时在支承辊的外周面与基材片1之间咬入了异物的情况进行说明的概略图。在支承辊的外周面与基材片1之间咬入了异物的情况下，如图5(a)所示，在与该异物相对的场所，基材片1被上推，在基材片1中产生凸部101。在该状态下，在从设置于一定位置的狭缝涂布机向基材片1的第一面涂布涂布液后，当基材片1恢复到原来的形状时，则如图5(b)所示，在与产生凸部101的位置相对的涂布液的表面形成凹部102。如图5(c)所示，有时在具有这样的凹部102的涂布液的表面，干燥后也会残存有凹下状的点缺陷103。
本发明正是鉴于上述实际情况而完成的发明，其目的在于，提供在使用模涂机将涂布液涂布于具有挠性的基材片的情况下，可防止产生因异物所导致的缺陷的涂布液的涂布方法及涂布装置，以及涂布物的制造方法。另外，本发明的目的还在于，提供在使用模涂机将涂布液涂布于具有挠性的基材片的情况下，能够防止产生条纹的涂布液的涂布方法及涂布装置、以及涂布物的制造方法。
用于解决问题的手段
本发明所述的涂布液的涂布方法，一边传送具有挠性的基材片，一边从沿着与该基材片的传送方向正交的宽度方向呈线状延伸的模涂机的排出口，将涂布液涂布于前述基材片的第一面，其特征在于，该方法是在使前述基材片中与被涂布前述涂布液的一侧的第一面为相反侧的第二面与辊的外周面抵接的状态下，一边伴随着前述辊的旋转而传送前述基材片，一边从位于前述辊的下游侧的前述模涂机的排出口将涂布液涂布于前述基材片的第一面的方法；其中，开始线与边界线之间的距离为50mm以内，所述开始线是假想线与前述基材片的第二面相交的线，假想线通过前述模涂机的排出口且与前述基材片正交，所述边界线是：在该开始线的上游侧前述基材片的第二面伴随着前述辊的旋转而从该辊的外周面离开的线，另外，前述假想线与前述辊的外周面相交的辊上线和前述开始线之间的距离为5μm以上。
根据本发明，由于辊上线与开始线之间的距离为5μm以上，辊上线是通过模涂机的排出口且与基材片正交的假想线与辊的外周面相交的线，开始线是前述假想线与基材片的第二面相交的线；因此，即使在辊的外周面与基材片之间咬入了异物的情况下，也能够防止在因该异物而将基材片上推的场所涂布涂布液。因而，能够有效地防止在所涂布的涂布液中产生厚度薄的部分，从而防止产生凹下状的点缺陷。
另外，就开始线而言，其与在该开始线的上游侧、基材片的第二面伴随着辊的旋转而从该辊的外周面离开的边界线之间的距离为50mm以内，因此，与前述边界线的位置同样地在比较平坦的状态下传送基材片。从在与这样的基材片比较平坦的开始线相对的位置设置的模涂机的排出口，将涂布液涂布于基材片的第一面，从而即使没有利用模涂机强烈地按压基材片，也能够平滑地形成涂布液的表面，因此，能够有效地防止因挤压所造成的条纹的产生。
本发明所述的其他的涂布液的涂布方法，一边传送具有挠性的基材片，一边从沿着与该基材片的传送方向正交的宽度方向呈线状延伸的模涂机的排出口，将涂布液涂布于前述基材片的第一面，其特征在于，该方法是在使前述基材片中与被涂布前述涂布液的一侧的第一面为相反侧的第二面与辊的外周面抵接的状态下，一边伴随着前述辊的旋转而传送前述基材片，一边从位于前述辊的上游侧的前述模涂机的排出口将涂布液涂布于前述基材片的第一面的方法；其中，开始线与边界线之间的距离为50mm以内，所述开始线是假想线与前述基材片的第二面相交的线，假想线通过前述模涂机的排出口且与前述基材片正交，所述边界线是：在该开始线的下游侧，前述基材片的第二面开始与前述辊的外周面抵接的边界线，另外，前述假想线与前述辊的外周面相交的辊上线和前述开始线之间的距离为5μm以上。
根据本发明，由于辊上线与开始线之间的距离为5μm以上，因此，即使在辊的外周面与基材片之间咬入了异物的情况下，也能够防止在因该异物而将基材片上推的位置涂布涂布液，所述辊上线是通过模涂机的排出口且与基材片正交的假想线与辊的外周面相交的线，所述开始线是前述假想线与基材片的第二面相交的线。因而，能够防止在所涂布的涂布液中产生厚度薄的部分，从而有效地防止产生凹下状的点缺陷。
另外，就开始线而言，其与在该开始线的下游侧、基材片的第二面开始与辊的外周面抵接的边界线之间的距离为50mm以内，因此，与前述边界线的位置同样地在比较平坦的状态下传送基材片。从在与这样的基材片比较平坦的开始线相对的位置设置的模涂机的排出口，将涂布液涂布于基材片的第一面，从而即使没有利用模涂机强烈地按压基材片，也能够平滑地形成涂布液的表面，因此，能够有效地防止因挤压所造成的条纹的产生。
涂布于前述基材片的涂布液的湿润膜厚优选为10～150μm。
根据本发明，在以10～150μm这样比较厚的湿润膜厚涂布涂布液的情况下，能够有效地防止产生缺陷。通过以10μm以上的比较厚的湿润膜厚涂布涂布液，能够在模涂机不按压基材片的情况下在基材片上涂布涂布液，在这种情况下，能够有效地防止在基材片中产生条纹等。另外，通过以150μm以内的湿润膜厚涂布涂布液，从而能够防止干燥时间变得过长，可易于保持涂布液的表面的平滑性，并且，可防止干燥成本变高。
涂布于前述基材片的涂布液中的固体成分的重量百分比浓度优选为5～70％。
根据本发明，通过将涂布液中的固体成分的重量百分比浓度设为5～70％，从而能够有效地防止例如水系的涂布液产生缺陷。
本发明所述的涂布液的涂布装置，是一边传送具有挠性的基材片，一边从沿着与该基材片的传送方向正交的宽度方向呈线状延伸的模涂机的排出口，将涂布液涂布于前述基材片的第一面的装置，其特征在于，
其具备：
辊，前述辊在使其外周面抵接于前述基材片中与被涂布前述涂布液的一侧的第一面为相反侧的第二面的状态下进行旋转，从而传送前述基材片，和
模涂机，前述模涂机从位于所述辊的下游侧的排出口，将涂布液涂布于前述基材片的第一面；
其中，开始线与边界线之间的距离为50mm以内，所述开始线是假想线与前述基材片的第二面相交的线，假想线通过前述模涂机的排出口且与前述基材片正交，所述边界线是：在该开始线的上游侧前述基材片的第二面伴随着前述辊的旋转而离开该辊的外周面的线，
前述假想线与前述辊的外周面相交的辊上线和前述开始线之间的距离为5μm以上。
本发明所述的其他的涂布液的涂布装置，是一边传送具有挠性的基材片，一边从沿着与该基材片的传送方向正交的宽度方向呈线状延伸的模涂机的排出口，将涂布液涂布于前述基材片的第一面的装置，其特征在于，
其具备：
辊，前述辊在使其外周面抵接于前述基材片中与被涂布前述涂布液的一侧的第一面为相反侧的第二面的状态下进行旋转，从而传送前述基材片，和
模涂机，前述模涂机从位于前述辊的上游侧的排出口将涂布液涂布于所述基材片的第一面；
其中，开始线与边界线之间的距离为50mm以内，前述开始线是假想线与前述基材片的第二面相交的线，假想线通过前述模涂机的排出口且与前述基材片正交，所述边界线是：在该开始线的下游侧前述基材片的第二面开始与前述辊的外周面抵接的线，
前述假想线与前述辊的外周面相交的辊上线和前述开始线之间的距离为5μm以上。
涂布于前述基材片的涂布液的湿润膜厚优选为10～150μm。
涂布于前述基材片的涂布液中的固体成分的重量百分比浓度优选为5～70％。
本发明所述的涂布物的制造方法，其特征在于，通过前述涂布液的涂布方法，制造出将前述涂布液涂布于前述基材片而得的涂布物。
附图说明
图1是表示本发明的一个实施方式所述的涂布液的涂布装置的一例的概略图。
图2是用于对将涂布液涂布于基材片时的样式进行说明的概略剖面图。
图3是用于对将涂布液涂布于基材片时的其他样式进行说明的概略剖面图。
图4是用于对将涂布液涂布于基材片时的其他样式进行说明的概略剖面图。
图5是用于对在涂布涂布液时在支承辊的外周面与基材片之间咬入了异物的情况进行说明的概略图。
具体实施方式
图1是表示本发明的一个实施方式所述的涂布液的涂布装置的一例的概略图。就本实施方式中的涂布装置而言，在将涂布液涂布于具有挠性的基材片1后，通过干燥等使该涂布液固化而形成涂布层，在该涂布层的表面层叠膜构件2，从而形成由层叠体构成的长条的片状制品3。即，通过本实施方式的涂布液的涂布方法，从而能够制造出将涂布液涂布于基材片1而得的涂布物。但是，本发明并不限于这样的装置，还可用于将涂布液涂布于基材片1的各种装置。
作为基材片1，例如可举出由聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等聚酯系聚合物，二乙酰基纤维素、三乙酰基纤维素等纤维素系聚合物，聚碳酸酯系聚合物、聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸系聚合物等透明聚合物形成的膜。另外，还可举出由聚苯乙烯、丙烯腈-苯乙烯共聚物等苯乙烯系聚合物，聚乙烯、聚丙烯、具有环状或降冰片烯结构的聚烯烃，乙烯-丙烯共聚物等烯烃系聚合物，氯乙烯系聚合物，尼龙或芳族聚酰胺等酰胺系聚合物等透明聚合物形成的膜。进而，还可举出由酰亚胺系聚合物、砜系聚合物、聚醚砜系聚合物、聚醚醚酮系聚合物、聚苯硫醚系聚合物、乙烯基醇系聚合物、偏氯乙烯系聚合物、聚乙烯醇缩丁醛系聚合物、芳基化合物系聚合物、聚甲醛系聚合物、环氧系聚合物或前述聚合物的混合物等透明聚合物形成的膜等。特别是在用于光学用途的情况下，优选使用透明且双折射少的膜。
但是，基材片1如果是具有挠性的支承体，则不限于如上所述的膜，而可以由其他的各种材料构成。在该例中，通过将长条的由塑料膜构成的基材片1卷绕而形成卷筒体4，从而一边从该卷筒体4中引出基材片1而进行传送，一边将涂布液涂布于该基材片1的第一面。从卷筒体4中引出的基材片1通过多个传送辊5来传送。基材片1的传送速度(涂敷速度)没有特别限制，例如优选为5～300m/分钟左右。
基材片1的厚度可适当地确定，但是优选为20～100μm，更优选为25～80μm。如果基材片1的厚度为20μm以上，则基材片1的厚度比较厚，因此，易于通过涂布液的液压使基材片1稳定并维持平坦。另外，如果基材片1的厚度为100μm以下，则从传送时的稳定性、经济性方面或环境负荷小这样的观点出发是优选的。
通过前处理装置6对从卷筒体4中引出的基材片1实施前处理。作为前处理，例如可举出电晕处理、等离子体处理、溅射处理、在碱水溶液中的碱化处理、ITRO处理这样的表面改性处理、抛光处理等。但是，也可省略前处理装置6。
通过模涂机7将涂布液涂布于前处理后的基材片1。在与该模涂机7相对的位置设置有支承辊8，在使基材片1的与被涂布涂布液的一侧的第一面为相反侧的第二面与支承辊8的外周面抵接的状态下，一边伴随着该支承辊8的旋转来传送基材片1，一边通过模涂机7将涂布液涂布于基材片1的第一面。此时，相对于支承辊8而言处于基材片1的传送方向正下游侧的传送辊5，作为用于支持支承辊8上的基材片1的传送的支持辊而发挥作用。支承辊8通过由未图示的马达等驱动源所传递的动力而进行旋转。基材片1在被赋予了张力的状态下被传送，在该被赋予了张力的状态下被传送的基材片1的表面涂布涂布液。前述张力优选为5～200N/m，更优选为20～150N/m。
支承辊8例如可通过至少外周面具有弹性的弹性辊来形成。在该例中，就支承辊8而言，在金属制的芯部具有用橡胶层或树脂层覆盖的弹性层。作为芯部的金属材料，例如可举出铁、不锈钢、钛、铝等。优选为金属辊、铁辊。对于弹性层的硬度的下限值而言，从确保弹性的观点出发，另一方面，对于其上限值而言，从防止基材片1的表面的损伤的观点出发，优选硬度为50～80°左右。弹性层优选使用60°以上的弹性层，更优选使用70°以上的弹性层。硬度例如可通过JIS K6253(1997)所公开的方法来测定。
支承辊8的直径例如优选为100～500mm左右，优选使用150～350mm的直径的支承辊。弹性层的厚度例如为3～50mm左右，优选为5～20mm。但是，支承辊8并不限于在其外周面具有弹性层，例如优选外周面为金属制。
作为涂布液，只要为可以从模涂机7中排出、且可形成涂膜层的涂布液，就没有限制，可根据目标涂膜层的功能来选择涂布液。作为能由前述涂布液形成的涂膜层，可举出偏光层、光学补偿层、相位差层、硬涂层、防反射层、防眩层等各种光学功能层，抗静电层、表面保护层、导电功能层、粘合剂层、粘接性层、透明涂层、锚固层、防低聚物层等。另外，还可根据前述涂布液的种类，通过前述前处理装置6来适当地实施与该涂布液的种类相应的前处理。
另外，前述涂布液可使用水溶液、水分散液、乳液等水系涂布液；使用了有机溶剂的溶液这样的溶剂系涂布液；高固体分(high solid)系涂布液；无溶剂型涂布液等各种涂布液。
前述涂布液中根据涂膜层而含有各种涂膜层形成材料。作为涂膜层形成材料，例如可举出热塑型树脂、热固化型树脂、紫外线固化型树脂、电子束固化型树脂、二液混合型树脂等基质材料。前述固化型树脂中除了聚合物以外，还含有单体、低聚物。另外，在涂布液中，除了基质材料之外，还可含有各种粘度调节剂、剥离调节剂、增粘剂、增塑剂、软化剂、玻璃纤维、玻璃珠、金属粉、由其他的无机粉末等构成的填充剂、颜料、着色剂(颜料、染料等)、pH调节剂(酸或碱)、抗氧化剂、紫外线吸收剂、硅烷偶联剂等。
如上所述，本发明的涂布方法中可使用各种涂布液，以下，作为涂布液，以使用水分散型粘合剂的情况作为代表例来详细地进行说明。水分散型粘合剂与溶剂型粘合剂相比，可以将固体成分的重量百分比浓度设定得较高，另外，可将粘度设定为比较小的范围，优选作为本发明的涂布方法中使用的涂布液。
水分散型粘合剂是至少将基质聚合物分散包含在水中而形成的水分散液。作为该水分散液，通常可使用在表面活性剂的存在下基质聚合物进行分散而成的水分散液，但是如果为将基质聚合物分散包含在水中而形成的水分散液，则通过自分散性基质聚合物的自分散，而可使用成为水分散液的液体。
水分散液中的基质聚合物，可举出通过使单体在乳化剂的存在下发生乳化聚合而得的聚合物，或者使单体在表面活性剂的存在下进行分散聚合而得的聚合物。
另外，水分散液可通过使其他途径制造而得的基质聚合物在乳化剂的存在下在水中进行乳化分散而制得。作为乳化方法，可举出预先将聚合物和乳化剂加热熔融或者不进行加热熔融地，对它们和水例如使用加压捏合机、胶体磨、高速搅拌轴等混合机来施加高剪切而均匀地进行乳化分散，然后以分散粒子不会融合凝聚的方式进行冷却，得到所需的水分散体的方法(高压乳化法)；预先将聚合物溶解在苯、甲苯、乙酸乙酯等有机溶剂中后，添加前述乳化剂和水，例如使用高速乳化机来施加高剪切而均匀地进行乳化分散，然后通过减压-加热处理等将有机溶剂除去而制成所需的水分散体的方法(溶剂溶解法)等。
作为水分散型粘合剂，可使用各种粘合剂，例如可举出橡胶系粘合剂、丙烯酸系粘合剂、硅酮系粘合剂、聚氨酯系粘合剂、乙烯基烷基醚系粘合剂、聚乙烯基醇系粘合剂、聚乙烯吡咯烷酮系粘合剂、聚丙烯酰胺系粘合剂、纤维素系粘合剂、聚酯系粘合剂、氟系粘合剂等。可根据前述粘合剂的种类来选择粘合性的基质聚合物和分散方法。
在前述粘合剂中，就本发明而言，从光学透明性优异、显示出适宜的润湿性和凝聚性和粘接性这样的粘合性、耐候性或耐热性等优异的方面出发，优选使用水分散型丙烯酸系粘合剂。
作为水分散型丙烯酸系粘合剂的基质聚合物的(甲基)丙烯酸系聚合物，例如可通过使以(甲基)丙烯酸烷基酯为主成分的单体成分在乳化剂、自由基聚合引发剂的存在下发生乳化聚合而以共聚物乳液的形式得到。需说明的是，(甲基)丙烯酸烷基酯是指丙烯酸烷基酯和/或甲基丙烯酸烷基酯，与本发明的(甲基)是同样的意思。
作为构成(甲基)丙烯酸系聚合物的主骨架的(甲基)丙烯酸烷基酯，可例示出直链状或支链状的烷基的碳数为1～20的(甲基)丙烯酸烷基酯。例如，作为前述烷基，可例示出甲基、乙基、丙基、异丙基、正丁基、异丁基、仲丁基、叔丁基、戊基、新戊基、异戊基、己基、庚基、2-乙基己基、异辛基、壬基、异壬基、癸基、异癸基、十二烷基、十三烷基、十四烷基、十五烷基、十六烷基、十七烷基、十八烷基、十九烷基、二十烷基等。它们可单独使用或组合使用。这些烷基的平均碳数优选为3～9。尤其是在本发明中，作为上述(甲基)丙烯酸烷基酯，特别优选使用丙烯酸丁酯这样的沸点比水高的单体。
在前述(甲基)丙烯酸系聚合物中，除了(甲基)丙烯酸烷基酯以外，出于水分散液的稳定化、粘合剂层与光学膜等的支承基材的密合性的提高、进而相对于被粘物的初期粘接性的提高等目的，还可以通过共聚而导入(甲基)丙烯酰基或乙烯基等具有不饱和双键这样的聚合性的官能团的、1种以上的共聚单体。
作为前述共聚单体的具体例，没有特别限制，例如可举出(甲基)丙烯酸、衣康酸、马来酸、富马酸、巴豆酸、丙烯酸羧基乙酯、丙烯酸羧基戊酯等含有羧基的单体；例如可举出马来酸酐、衣康酸酐等含有酸酐基的单体；例如可举出(甲基)丙烯酸环己酯、(甲基)丙烯酸冰片酯、(甲基)丙烯酸异冰片酯等(甲基)丙烯酸脂环式烃酯；例如可举出(甲基)丙烯酸苯酯等(甲基)丙烯酸芳基酯；例如可举出醋酸乙烯酯、丙酸乙烯酯等乙烯基酯类；例如可举出苯乙烯、α-甲基苯乙烯等苯乙烯系单体；例如可举出(甲基)丙烯酸缩水甘油酯、(甲基)丙烯酸甲基缩水甘油酯等含有环氧基的单体；例如可举出(甲基)丙烯酸2-羟基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羟基丙酯、(甲基)丙烯酸4-羟基丁酯等含有羟基的单体；例如可举出(甲基)丙烯酰胺、N，N-二甲基(甲基)丙烯酰胺、N，N-二乙基(甲基)丙烯酰胺、N-异丙基(甲基)丙烯酰胺、N-丁基(甲基)丙烯酰胺、N-羟甲基(甲基)丙烯酰胺、N-羟甲基丙烷(甲基)丙烯酰胺、(甲基)丙烯酰基吗啉、(甲基)丙烯酸氨基乙酯、(甲基)丙烯酸N，N-二甲基氨基乙酯、(甲基)丙烯酸叔丁基氨基乙酯等含有氮原子的单体；例如可举出(甲基)丙烯酸甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸乙氧基乙酯等含有烷氧基的单体；例如可举出丙烯腈、甲基丙烯腈等含有氰基的单体；例如可举出2-甲基丙烯酰氧基乙基异氰酸酯等官能性单体；例如可举出乙烯、丙烯、异丙烯、丁二烯、异丁烯等烯烃系单体；例如可举出乙烯基醚等乙烯基醚系单体；例如可举出氯乙烯等含有卤原子的单体；除此以外，例如可举出N-乙烯基吡咯烷酮、N-(1-甲基乙烯基)吡咯烷酮、N-乙烯基吡啶、N-乙烯基哌啶酮、N-乙烯基嘧啶、N-乙烯基哌嗪、N-乙烯基吡嗪、N-乙烯基吡咯、N-乙烯基咪唑、N-乙烯基噁唑、N-乙烯基吗啉等含有乙烯基的杂环化合物，N-乙烯基羧酸酰胺类等。
另外，作为共聚性单体，例如可举出N-环己基马来酰亚胺、N-异丙基马来酰亚胺、N-月桂基马来酰亚胺、N-苯基马来酰亚胺等马来酰亚胺系单体；例如可举出N-甲基衣康酰亚胺、N-乙基衣康酰亚胺、N-丁基衣康酰亚胺、N-辛基衣康酰亚胺、N-2-乙基己基衣康酰亚胺、N-环己基衣康酰亚胺、N-月桂基衣康酰亚胺等衣康酰亚胺系单体；例如可举出N-(甲基)丙烯酰氧基亚甲基琥珀酰亚胺、N-(甲基)丙烯酰基-6-氧基六亚甲基琥珀酰亚胺、N-(甲基)丙烯酰基-8-氧基八亚甲基琥珀酰亚胺等琥珀酰亚胺系单体；例如可举出苯乙烯磺酸、烯丙基磺酸、2-(甲基)丙烯酰胺-2-甲基丙烷磺酸、(甲基)丙烯酰胺丙烷磺酸、磺基丙基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酰氧基萘磺酸等含有磺酸基的单体。
另外，作为共聚性单体，可举出含有磷酸基的单体。作为含有磷酸基的单体，例如可举出下述通式(1)表示的磷酸基或其盐所示的含有磷酸基的单体，
Figure BDA00003266967600111
在通式(1)中，R1表示氢原子或甲基，R2表示碳数1～4的亚烷基，m表示2以上的整数，M1和M2各自独立地表示氢原子或阳离子。
需说明的是，通式(1)中，m为2以上，优选为4以上，通常为40以下，m表示氧亚烷基的聚合度。另外，作为聚氧亚烷基，例如可举出聚氧亚乙基、聚氧亚丙基等，上述聚氧亚烷基可以为它们的无规、嵌段或接枝单元等。另外，磷酸基的盐涉及的阳离子没有特别限定，例如可举出钠、钾等碱金属的无机阳离子，例如可举出钙、镁等碱土类金属等的无机阳离子，例如可举出季铵类等有机阳离子等。
另外，作为共聚性单体，例如可举出(甲基)丙烯酸聚乙二醇酯、(甲基)丙烯酸聚丙二醇酯、(甲基)丙烯酸甲氧基乙二醇酯、(甲基)丙烯酸甲氧基聚丙二醇酯等二醇系丙烯酸酯单体；除此以外，例如还可举出(甲基)丙烯酸四氢糠酯、氟(甲基)丙烯酸酯等含有杂环、卤原子的丙烯酸酯系单体等。
进而，作为共聚性单体，可举出硅酮系不饱和单体。硅酮系不饱和单体可含有硅酮系(甲基)丙烯酸酯单体、硅酮系乙烯基单体等。作为硅酮系(甲基)丙烯酸酯单体，例如可举出(甲基)丙烯酰氧基甲基-三甲氧基硅烷、(甲基)丙烯酰氧基甲基-三乙氧基硅烷、2-(甲基)丙烯酰氧基乙基-三甲氧基硅烷、2-(甲基)丙烯酰氧基乙基-三乙氧基硅烷、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基-三甲氧基硅烷、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基-三乙氧基硅烷、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基-三丙氧基硅烷、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基-三异丙基硅烷、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基-三丁氧基硅烷等(甲基)丙烯酰氧基烷基-三烷氧基硅烷；例如可举出(甲基)丙烯酰氧基甲基-甲基二甲氧基硅烷、(甲基)丙烯酰氧基甲基-甲基二乙氧基硅烷、2-(甲基)丙烯酰氧基乙基-甲基二甲氧基硅烷、2-(甲基)丙烯酰氧基乙基-甲基二乙氧基硅烷、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基-甲基二甲氧基硅烷、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基-甲基二乙氧基硅烷、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基-甲基二丙氧基硅烷、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基-甲基二异丙氧基硅烷、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基-甲基二丁氧基硅烷、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基-乙基二甲氧基硅烷、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基-乙基二乙氧基硅烷、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基-乙基二丙氧基硅烷、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基-乙基二异丙氧基硅烷、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基-乙基二丁氧基硅烷、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基-丙基二甲氧基硅烷、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基-丙基二乙氧基硅烷等(甲基)丙烯酰氧基烷基-烷基二烷氧基硅烷，与它们对应的(甲基)丙烯酰氧基烷基-二烷基(单)烷氧基硅烷等。另外，作为硅酮系乙烯基单体，例如可举出乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、乙烯基三丙氧基硅烷、乙烯基三异丙氧基硅烷、乙烯基三丁氧基硅烷等乙烯基三烷氧基硅烷，除此以外，可举出与它们对应的乙烯基烷基二烷氧基硅烷或乙烯基二烷基烷氧基硅烷，例如可举出乙烯基甲基三甲氧基硅烷、乙烯基甲基三乙氧基硅烷、β-乙烯基乙基三甲氧基硅烷、β-乙烯基乙基三乙氧基硅烷、γ-乙烯基丙基三甲氧基硅烷、γ-乙烯基丙基三乙氧基硅烷、γ-乙烯基丙基三丙氧基硅烷、γ-乙烯基丙基三异丙氧基硅烷、γ-乙烯基丙基三丁氧基硅烷等乙烯基烷基三烷氧基硅烷，除此以外，可举出与它们对应的(乙烯基烷基)烷基二烷氧基硅烷、(乙烯基烷基)二烷基(单)烷氧基硅烷等。
进而，作为共聚性单体，为了调整水分散型粘合剂的凝胶分率等，可使用多官能性单体。作为多官能单体，可举出具有(甲基)丙烯酰基、乙烯基等不饱和双键2个以上的化合物等。例如，可举出乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二甘醇二(甲基)丙烯酸酯、三甘醇二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、四甘醇二(甲基)丙烯酸酯等(单或多)乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、丙二醇二(甲基)丙烯酸酯等(单或多)丙二醇二(甲基)丙烯酸酯等(单或多)亚烷基二醇二(甲基)丙烯酸酯，除此以外，可举出新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、1，6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等(甲基)丙烯酸与多元醇的酯化物；二乙烯基苯等多官能乙烯基化合物；(甲基)丙烯酸烯丙酯、(甲基)丙烯酸乙烯酯等具有反应性的不饱和双键的化合物等。另外，作为多官能性单体，还可使用在聚酯、环氧基、聚氨酯等骨架中加成了2个以上的(甲基)丙烯酰基、乙烯基等不饱和双键作为与单体成分相同的官能团而得的聚酯(甲基)丙烯酸酯，环氧基(甲基)丙烯酸酯、聚氨酯(甲基)丙烯酸酯等。
在上述的共聚单体中，从确保水分散液(乳液等)的稳定化、由该水分散液形成的粘合剂层的与作为被粘物的玻璃面板的密合性的观点出发，优选使用丙烯酸等含有羧基的单体、含有磷酸基的单体、硅酮系不饱和单体。
(甲基)丙烯酸系聚合物以(甲基)丙烯酸烷基酯作为主成分，其配合比例相对于单体成分总量而言为50重量％以上，优选为60重量％以上，进一步优选为70重量％以上。另外，其上限没有特别限定，例如为100重量％，优选为99重量％，进一步优选为98重量％。若(甲基)丙烯酸烷基酯的配合比例不足50重量％，则粘合剂层的粘接力等粘合特性会降低。
另外，关于共聚性单体的配合比例，相对于单体成分总量而言，例如不足50重量％，优选不足40重量％，进一步优选不足30重量％。共聚性单体可根据各共聚性单体的种类而适当地选择配合比例。例如，在共聚性单体为含有羧基的单体的情况下，其比例相对于单体成分总量而言优选为0.1～6重量％，在为含有磷酸基的单体的情况下，其比例优选为0.5～5重量％，在为硅酮系不饱和单体的情况下，其比例优选为0.005～0.2重量％。
就前述单体成分的乳化聚合而言，通过常规方法而使单体成分与水发生乳化后，通过乳化聚合而进行。由此来制备(甲基)丙烯酸系聚合物水分散液。就乳化聚合而言，例如可与上述的单体成分一起在水中适当地配合乳化剂、自由基聚合引发剂、以及根据需要配合的链转移剂等。更具体而言，例如可采用一次投料法(一次聚合法)、单体滴加法、单体乳液滴加法等公知的乳化聚合法。需说明的是，就单体滴加法、单体乳液滴加法而言，可适当地选择连续滴加或分次滴加。还可适当地将上述方法加以组合。反应条件等可适当地选择，但是聚合温度例如为0～150℃左右，聚合时间为2～15小时左右。
作为乳化剂，没有特别限制，可使用在乳化聚合中通常使用的各种乳化剂。例如，可举出十二烷基硫酸钠、十二烷基硫酸铵、十二烷基苯磺酸钠、聚氧亚乙基十二烷基硫酸钠、聚氧亚乙基烷基醚硫酸钠、聚氧亚乙基烷基苯基醚硫酸铵、聚氧亚乙基烷基苯基醚硫酸钠、聚氧亚乙基烷基磺基琥珀酸钠等阴离子系乳化剂；例如可举出聚氧亚乙基烷基醚、聚氧亚乙基烷基苯基醚、聚氧亚乙基脂肪酸酯、聚氧亚乙基聚氧亚丙基嵌段聚合物等非离子系乳化剂等。另外，可举出在上述阴离子系乳化剂或非离子系乳化剂中导入丙烯基或烯丙基醚基等自由基聚合性官能团(自由基反应性基团)而得的自由基聚合性乳化剂等。这些乳化剂可适当地单独使用或并用。在上述乳化剂中，具有自由基聚合性官能团的自由基聚合性乳化剂，从水分散液(乳液)的稳定性、粘合剂层的耐久性的观点出发而优选使用。
前述乳化剂的配合比例，相对于以前述(甲基)丙烯酸烷基酯为主成分的单体成分100重量份而言，例如为0.1～5重量份左右，优选为0.4～3重量份。乳化剂的配合比例若为该范围，则可实现耐水性、粘合特性、以及聚合稳定性、机械稳定性等的提高。
作为自由基聚合引发剂，没有特别限制，可使用乳化聚合中通常使用的公知的自由基聚合引发剂。例如，可举出2，2′-偶氮双异丁腈、2，2′-偶氮双(2-甲基丙脒)二硫酸盐、2，2′-偶氮双(2-甲基丙脒)二盐酸盐、2，2′-偶氮双(2-脒基丙烷)二盐酸盐、2，2′-偶氮双[2-(2-咪唑啉-2-基)丙烷]二盐酸盐等偶氮系引发剂；例如可举出过硫酸钾、过硫酸铵等过硫酸盐系引发剂；例如可举出过氧化苯甲酰、叔丁基过氧化氢、过氧化氢等过氧化物系引发剂；例如可举出苯基取代乙烷等取代乙烷系引发剂；例如可举出芳香族羰基化合物等羰基系引发剂等。在前述自由基聚合引发剂中，偶氮系的自由基聚合引发剂可提高在本发明中所形成的粘合剂层的透明性，因而优选。这些聚合引发剂可适当单独使用或并用。另外，自由基聚合引发剂的配合比例可适当地选择，相对于单体成分100重量份而言，例如为0.02～0.5重量份左右，优选为0.08～0.3重量份。若不足0.02重量份，则作为自由基聚合引发剂的效果有时会降低，若超过0.5重量份，则水分散型的(甲基)丙烯酸系聚合物的分子量有时会降低，水分散型粘合剂组合物的粘合性有时会降低。
链转移剂是根据需要来调节水分散型的(甲基)丙烯酸系聚合物的分子量的成分，通常可使用在乳化聚合中通常使用的链转移剂。例如可举出1-十二烷硫醇、巯基乙酸、2-巯基乙醇、巯基乙酸2-乙基己酯、2，3-二巯基-1-丙醇、巯基丙酸酯类等硫醇类等。上述链转移剂可适当地单独使用或并用。另外，链转移剂的配合比例相对于单体成分100重量份而言，例如为0.001～0.3重量份。
通过上述的乳化聚合，可制备水分散型的(甲基)丙烯酸系聚合物而作为水分散液(乳液)。这样的水分散型的(甲基)丙烯酸系聚合物的平均粒径例如为0.05～3μm，优选被调整为0.05～1μm。若平均粒径比0.05μm小，则水分散型粘合剂的粘度有时会上升，若比1μm大，则粒子间的融合性有时会降低，凝聚力会降低。
另外，为了保持前述水分散液的分散稳定性，在前述水分散液涉及的(甲基)丙烯酸系聚合物含有含羧基的单体等作为共聚性单体的情况下，优选将该含羧基的单体等加以中和。中和例如可利用氨、氢氧化碱金属等进行。
就本发明的水分散型的(甲基)丙烯酸系聚合物而言，通常重均分子量优选为100万以上。尤其是以重均分子量计为100万～400万的聚合物，在耐热性、耐湿性方面优选。若重均分子量不足100万，则耐热性、耐湿性降低而不优选。另外，就利用乳化聚合而得的粘合剂而言，根据其聚合机制而使分子量达到非常高，因而优选。但是，利用乳化聚合而得的粘合剂通常因为凝胶部分多而无法利用GPC(凝胶渗透气相色谱法)进行测定，因此大多数情况下难以支持与分子量相关的实际测定。
本发明的水分散型粘合剂，除了上述的基质聚合物之外，还可含有交联剂。作为在水分散型粘合剂为水分散型丙烯酸系粘合剂的情况下所使用的交联剂，可使用异氰酸酯系交联剂、环氧系交联剂、噁唑啉系交联剂、氮丙啶系交联剂、碳二亚胺系交联剂、金属螯合物系交联剂等通常所使用的交联剂。这些交联剂通过使用含有官能团的单体，从而具有与导入到聚合物中的官能团发生反应而进行交联的效果。
基质聚合物与交联剂的配合比例没有特别限定，但是通常相对于基质聚合物(固体成分)100重量份而言，以交联剂(固体成分)为10重量份左右以下的比例加以配合。前述交联剂的配合比例优选为0.001～10重量份，进一步优选为0.01～5重量份左右。
接着，在形成粘合剂层时，对于所涂布的水分散型粘合剂，通过干燥装置9来实施干燥。干燥温度通常为80～170℃左右，优选为80～160℃，干燥时间为0.5～30分钟左右，优选为1～10分钟。通过使基材片1通过干燥装置9，从而在基材片1的第一面固定膜厚比湿润状态的涂布液小的涂布层。在该例中，通过使用粘合剂作为涂布液，从而可在干燥后的基材片1的第一面形成粘合剂层。但是，涂布液并不限于通过干燥装置9而被固定于基材片1的第一面，例如还可以通过使用UV固化装置进行固化而加以固定，或者使用其他的装置来加以固定。
干燥后的基材片1可隔着粘合剂层而层叠膜构件2。作为膜构件2，可举出偏振板、相位差板、视角补偿膜或亮度提高膜等光学膜。在该例中，在使用聚乙烯醇系膜所形成的偏振片的两面层叠保护膜而成的偏振板，可用作膜构件2。但是，膜构件2并不限于偏振板，也可以是具有其他光学特性的光学膜，还可以是除光学膜以外的膜所形成的膜构件。
膜构件2是由宽度与基材片1相对应的长条的膜构成的，通过将该膜构件2卷绕，从而形成了卷筒体10。对于从该卷筒体10中引出的膜构件2，通过底涂装置11实施底涂。例如，为了提高与粘合剂层之间的密合性，而可形成锚固层，或在实施电晕处理、等离子体处理等各种易粘接处理后形成粘合剂层。另外，也可以对粘合剂层的表面进行易粘接处理。但是，也可省略底涂装置11。
基材片1和膜构件2通过相互抵接的1对贴合辊12之间时被压接，形成基材片1与膜构件2隔着粘合剂层层叠而成的片状制品3。将所形成的片状制品3卷绕，作为卷筒体13提供。基材片1与粘合剂层的粘合力比膜构件2与粘合剂层的粘合力弱，在从片状制品3上剥离基材片1时，粘合剂层残留在膜构件2一侧。
图2是用于对将涂布液70涂布于基材片1时的样式进行说明的概略剖面图。就模涂机7而言，例如将利用真空搅拌脱泡机等进行脱泡而被传送的涂布液70，从形成于唇部71的前端的排出口74排出，涂布于基材片1。就模涂机7而言，具有与基材片1的宽度方向(与传送方向正交的方向)平行的长条的形状，沿着前述宽度方向呈线状延伸的模涂机7的排出口74，以从基材片1的宽度方向一个端部到另一个端部与基材片1相对的方式，以与基材片1的宽度大致相同的宽度或在其以上的宽度而形成。
在模涂机7内形成有从长度方向的一个端部延伸至另一个端部的由管构成的分流器72。在模涂机7中的与基材片1相对的面形成的唇部71由向基材片1侧突出的突条构成，且从模涂机7的长度方向的一个端部延伸至另一个端部。即，模涂机7形成为唇部71与分流器72相互平行地延伸。
模涂机7内形成有从分流器72连通至唇部71的槽73。槽73沿着与基材片1正交的方向延伸，借助该槽73而供给至唇部71的涂布液70从形成于唇部71的前端的排出口74涂布于基材片1的第一面。如上所述，排出口74被配置成从基材片1的宽度方向的一个端部到另一个端部与基材片1相对，因此，通过一边传送基材片1，一边从模涂机7向基材片1的第一面供给涂布液70，从而可在基材片1的第一面整面上涂布涂布液70。相对于从沿着基材片1的宽度方向呈线状延伸的排出口74将涂布液70涂布于基材片1的第一面的涂布线而言，夹着基材片1而处于表里的关系且位于与基材片1的第一面为相反侧的第二面上的线是后述的开始线P1。开始线P1与前述涂布线并行且与基材片1的传送方向正交。需说明的是，开始线P1沿着与图2的纸面正交的方向延伸。
形成于唇部71的前端的排出口74作为涂布液70的排出口来发挥功能。沿着基材片1的传送方向的排出口74的宽度优选为0.05～10mm的范围内，更优选为0.10～1mm的范围内。但是。唇部71的形状优选在前述范围内根据涂布液70的粘度而适当地设定。唇部71的前端可以如本实施方式所述，不对基材片1的第一面进行按压而以非接触的状态涂布涂布液，如图3所示，也可以对基材片1的第一面进行按压。
作为模涂机7，可举出狭缝涂布机、滑动式涂布机、挤压涂布机等。在该例中，使用狭缝涂布机作为模涂机7，但并不限于此，还可使用其他的模涂机7。
就本实施方式而言，可从位于支承辊8的下游侧的模涂机7的排出口74将涂布液涂布于基材片1的第一面。开始线P1与边界线P2之间的距离D1为50mm以内，所述开始线P1是假想线L与基材片1的第二面相交的线，其中假想线L通过模涂机7的排出口74且与基材片1正交；所述边界线P2是：在该开始线P1的上游侧基材片1的第二面伴随着支承辊8的旋转而从该支承辊8的外周面离开的线。假想线L通过沿着基材片1的宽度方向延伸的排出口74的一部分(例如与基材片1的宽度方向中央部相对应的位置)，且相对于基材片1的第一面垂直地延伸，并与支承辊8的外周面的辊上线P3相交。在图2中，开始线P1与辊上线P3平行地相对。而且，假想线L与支承辊8的外周面相交的辊上线P3和开始线P1之间的距离D2为5μm以上。上述距离D1优选为1～25mm，更优选为1～5mm。上述距离D2优选为8μm以上，更优选为15μm以上。基材片1与支承辊8的外周面在涂布液70的排出方向(图2中的左右方向)上相对，因此上述距离D1和D2需要为支承辊8的半径以内的距离。
辊上线P3与开始线P1之间的距离为5μm以上，所述辊上线P3是：通过模涂机7的排出口74且与基材片1相交的假想线L和支承辊8的外周面相交的线，开始线P1是假想线L与基材片1的第二面相交的线，因此，即使在支承辊8的外周面与基材片1之间咬入了异物100的情况下，也可防止在因该异物100而将基材片1上推的位置涂布涂布液70。因而，能够有效地防止所涂布的涂布液70产生厚度薄的部分而产生凹下状的点缺陷。
另外，就开始线P1而言，其与边界线P2的距离D1为50mm以内，其中边界线P2是在该开始线P1的上游侧、基材片1的第二面伴随着支承辊8的旋转而从该支承辊8的外周面离开的线，因此，可与前述边界线P2的位置同样地在比较平坦的状态下传送基材片1。从在与这样的基材片1比较平坦的开始线P1相对的位置设置的模涂机7的排出口74，将涂布液70涂布于基材片1的第一面，从而即使没有利用模涂机7强烈地按压基材片1，也能够平滑地形成涂布液的表面，因此，能够有效地防止因按压所造成的条纹的产生。
模涂机7并不限于相对于支承辊8而设置于基材片1的传送方向下游侧的构成，如图4所示，可以为从在基材片1的传送方向上游侧设置的模涂机7的排出口74将涂布液涂布于基材片1的第一面的构成。在这种情况下，上述距离D1可以是开始线P1与边界线P4之间的距离，所述开始线P1是假想线L与基材片1的第二面相交的线，其中假想线L通过模涂机7的排出口74且与基材片1正交，所述边界线P4是：在该开始线P1的下游侧基材片1的第二面与支承辊8的外周面开始抵接的线。此时，相对于支承辊8而言位于基材片1的传送方向正上游侧的传送辊5，作为用于支持支承辊8上的基材片1的传送的支持辊而发挥功能。
涂布于基材片1的涂布液70的湿润膜厚、即通过干燥装置9进行干燥之前的膜厚，没有特别限定，优选为10～150μm。这样，在以10～150μm这样比较厚的湿润膜厚涂布涂布液70时，根据本实施方式，能够有效地防止产生缺陷。通过以10μm以上的比较厚的湿润膜厚涂布涂布液70，从而在模涂机7不对基材片1进行按压的情况下，就能够在基材片1上涂布涂布液70，在这种情况下，能够有效地防止在基材片1中产生条纹等。另外，通过以150μm以内的湿润膜厚来涂布涂布液70，从而能够防止干燥时间变得过长，而易于保持涂布液70的表面的平滑性，并且能够防止干燥成本变高。在基材片1涂布的涂布液70的湿润膜厚更优选为30～150μm。
涂布于基材片1的涂布液70中的固体成分的重量百分比浓度(基质)没有特别地限定，优选为5～70％。由此，例如可有效地防止在水系的涂布液70中产生缺陷。在使用水系的涂布液70的情况下，涂布液70的基质更优选为20～60％，进一步优选为30～60％。特别是从防止在涂布液70的表面产生凹下状的缺陷这样的观点出发，涂布液70的基质优选为20％以上，更优选为30％以上。另外，如果涂布液70的基质为70％以内，则涂布液70的粘度不会显著地变高，因而优选。需说明的是，在涂布液70的基质较低的情况下，湿润膜厚变大而易于流平，因此不易产生因异物的存在等而在涂布液70的表面残存凹下状的缺陷这样的问题。
涂布液70的粘度没有特别地限定，优选为5～50000mPa·s，更优选为100～20000mPa·s。在使用水系的涂布液70时，涂布液70的粘度更优选为200～10000mPa·s，进一步优选为500～3000mPa·s。如果涂布液70的粘度为5mPa·s以上，则不易受到干燥时的风等而造成的摄动，易于获得平滑性，因而优选。另外，若涂布液70的粘度为50000mPa·s以下，则易于形成稳定的液珠(ビ一ド)，不易产生条纹等，因此优选。
若从上述这样的涂布液70的基质与粘度的方面看，本发明尤其对于光学用粘合剂所使用的粘合剂溶液的涂布而言是有用的。另外，如果在水分散型粘合剂(乳液)、高固体分型粘合剂的涂布中使用本发明，则能够兼顾有助于高基质所致的平滑性和防止凹下状的缺陷，在产业上特别有用。
【实施例】
以下，使用如图1和图2所示的涂布液70的涂布装置，在各种条件下将粘合剂涂布于基材片1，从而制造出光学用粘合片(带有粘合剂层的偏振板)，对于在各条件下所制造出的光学用粘合片，观察有无凹下状的缺陷以及条纹的产生，对于观察结果进行说明。在该光学用粘合片的制造工序中，对于作为基材片1的聚对苯二甲酸乙二醇酯制脱模膜，一边使用支承辊(直径300mm)和支持辊(直径100mm)来传送，一边涂布粘合剂。然后，通过干燥装置9使粘合剂干燥，使干燥后的粘合剂层与作为膜构件2的光学膜(偏振板)贴合后，卷绕成卷筒状。
就对在各条件下制造出的光学用粘合片中的凹下状的缺陷进行的观察而言，通过对于层叠有聚对苯二甲酸乙二醇酯制脱模膜的一侧的面，使用反射光，以目测来计数凹下状的缺陷而进行。使用WYKO NT3300(非接触三维粗糙度测定装置、日本Veeco公司制)对典型的凹下状的缺陷进行观察，结果可知为3～5mm的直径，且具有1～2μm的深度。就凹下状的缺陷的数量而言，以所制造的光学用粘合片每1m的个数来计数，如果为3个/m以下，则判断为可有效地抑制凹下状的缺陷的产生。结果示于下述表1。
就观察在各条件下所制造出的光学用粘合片中的条纹而言，通过对于层叠有聚对苯二甲酸乙二醇酯制脱模膜的一侧的面，使用反射光，以目测来计数条纹状的缺陷，从而进行观察。对于条纹的观察，如下所示地进行分级，如果为3级以上，则判断为可有效地抑制条纹状的缺陷的产生。结果示于下述表1。
1级：整面地发现强的条纹
2级：整面地发现21条以上的弱的条纹
3级：每1m中发现6～20条弱的条纹
4级：每1m中发现1～5条弱的条纹
5级：完全没有发现条纹
(实施例1)
在实施例1中，使用水分散型丙烯酸系粘合剂作为涂布液70。在制备该水分散型丙烯酸系粘合剂时，在容器中加入作为原料的丙烯酸丁酯55554份、丙烯酸2776份、单[聚(环氧丙烷)甲基丙烯酸酯]磷酸酯(环氧丙烷的平均聚合度5.0)1665份、以及3-甲基丙烯酰氧基丙基-三乙氧基硅烷(信越化学工业(株)制，KBM-503)5份而进行混合，得到单体混合物。然后，向所制备的单体混合物60000份中加入作为反应性乳化剂的AQUALON HS-10(第一工业制药公司制)1300份、离子交换水38700份，使用均质机(特殊机化工业(株)制)在7000rpm下搅拌10分钟，制备出单体乳液。然后，在带有冷却管、氮导入管、温度计、滴加漏斗和搅拌桨的反应容器中投入如上所述制备出的单体乳液中的20000份和离子交换水35000份，然后对反应容器充分进行了氮置换后，添加过硫酸铵10份，在60℃下聚合1小时。接着，将残存的单体乳液中的80000份用3小时滴加到反应容器中，然后进行3小时的聚合。进而，然后一边进行氮置换，一边在65℃下聚合5小时，得到固体成分浓度45％的水分散型粘合剂水溶液。然后，将上述乳液溶液冷却至室温后，添加浓度10％的氨水30份，进一步用蒸馏水调制固体成分而达到39％。使用B型粘度计(东机产业制)，在23℃、转子转速20rpm下对该液体进行测定，结果为2000mPa·s。
就实施例1而言，设成上述距离D1为2.1mm、上述距离D2为15μm，从模涂机7的排出口74将涂布液70涂布于基材片1的第一面。基材片1的厚度为38μm。所涂布的涂布液70的湿润膜厚为59μm，在120℃下干燥后的膜厚为23μm。在涂布涂布液70时，将涂敷宽度设为1250mm，将涂敷速度设为20m/分钟。
对所制造的光学用粘合片中的凹下状的缺陷进行观察，结果可知，没有发生凹下状的缺陷，可有效地抑制凹下状的缺陷的产生。另外，可知所制造的光学用粘合片中的条纹的观察结果为5级，还可有效地抑制条纹状的缺陷的产生。
(实施例2)
在实施例2中，设成上述距离D1为3.、上述距离D2为40μm，从模涂机7的排出口74将涂布液70涂布于基材片1的第一面。其他的条件与实施例1的情况相同。
对于所制造的光学用粘合片中的凹下状的缺陷进行观察，结果发现，没有产生凹下状的缺陷，可有效地抑制凹下状的缺陷的产生。另外，可知所制造的光学用粘合片中的条纹的观察结果为5级，还可有效地抑制条纹状的缺陷的产生。
(实施例3)
在实施例3中，设成上述距离D1为5.0mm、上述距离D2为83μm，从模涂机7的排出口74将涂布液70涂布于基材片1的第一面。其他的条件与实施例1的情况相同。
对于所制造的光学用粘合片中的凹下状的缺陷进行观察，结果发现，没有产生凹下状的缺陷，可有效地抑制凹下状的缺陷的产生。另外，可知所制造的光学用粘合片中的条纹的观察结果为5级，还可有效地抑制条纹状的缺陷的产生。
(实施例4)
在实施例4中，设成上述距离D1为24.0mm、上述距离D2为1930μm，从模涂机7的排出口74将涂布液70涂布于基材片1的第一面。其他的条件与实施例1的情况相同。
对所制造的光学用粘合片中的凹下状的缺陷进行观察，结果发现，没有产生凹下状的缺陷，可有效地抑制凹下状的缺陷的产生。另外，可知所制造的光学用粘合片中的条纹的观察结果为4级，还可在一定程度上有效地抑制条纹状的缺陷的产生。
(实施例5)
在实施例5中，设成上述距离D1为48.0mm、上述距离D2为7890μm，从模涂机7的排出口74将涂布液70涂布于基材片1的第一面。其他的条件与实施例1的情况相同。
对所制造的光学用粘合片中的凹下状的缺陷进行观察，结果发现，没有产生凹下状的缺陷，可有效地抑制凹下状的缺陷的产生。另外，可知所制造的光学用粘合片中的条纹的观察结果为3级，还可相对地抑制条纹状的缺陷的产生。
(实施例6)
在实施例6中，设成上述距离D1为1.5mm、上述距离D2为8μm，从模涂机7的排出口74将涂布液70涂布于基材片1的第一面。其他的条件与实施例1的情况相同。
对所制造的光学用粘合片中的凹下状的缺陷进行观察，结果发现，产生了若干凹下状的缺陷，可在一定程度上有效地抑制凹下状的缺陷的产生。另外，可知所制造的光学用粘合片中的条纹的观察结果为5级，还可有效地抑制条纹状的缺陷的产生。
(实施例7)
在实施例7中，设成上述距离D1为48.0mm、上述距离D2为7890μm，从模涂机7的排出口74将涂布液70涂布于基材片1的第一面。基材片1的厚度为75μm。其他的条件与实施例1的情况相同。
对制造的光学用粘合片中的凹下状的缺陷进行观察，结果发现，没有产生凹下状的缺陷，可有效地抑制凹下状的缺陷的产生。另外，可知所制造的光学用粘合片中的条纹的观察结果为4级，还可在一定程度上有效地抑制条纹状的缺陷的产生。
(实施例8)
在实施例8中，将上述距离D1和距离D2设成与实施例1相同，从模涂机7的排出口74将涂布液70涂布于基材片1的第一面。所涂布的涂布液70的湿润膜厚为144μm，在120℃下干燥后的膜厚为55μm。其他的条件与实施例1的情况相同。
对所制造的光学用粘合片中的凹下状的缺陷进行观察，结果发现，没有产生凹下状的缺陷，可有效地抑制凹下状的缺陷的产生。另外，可知所制造的光学用粘合片中的条纹的观察结果为5级，还可有效地抑制条纹状的缺陷的产生。
(实施例9)
在实施例9中，将上述距离D1和距离D2设成与实施例1相同，从模涂机7的排出口74将涂布液70涂布于基材片1的第一面。所涂布的涂布液70的湿润膜厚为30μm，在120℃下干燥后的膜厚为12μm。其他的条件与实施例1的情况相同。
对所制造的光学用粘合片中的凹下状的缺陷进行观察，结果发现，没有产生凹下状的缺陷，可有效地抑制凹下状的缺陷的产生。另外，可知所制造的光学用粘合片中的条纹的观察结果为3级，还可相对地抑制条纹状的缺陷的产生。
(实施例10)
在实施例10中，使用溶剂型丙烯酸系粘合剂作为涂布液70。在带有冷却管、氮导入管、温度计、滴加漏斗和搅拌桨的反应容器中，将丙烯酸丁酯50000份、丙烯酸25份、丙烯酸羟丁酯25份、过氧化苯甲酰100份溶解投入到甲苯120000份中。然后，在对反应容器充分进行了氮置换后，在搅拌下，在约70℃下反应3小时，从而得到含有重均分子量为70万的丙烯酸系聚合物(固体成分30％)的溶液。在上述丙烯酸系聚合物溶液中，相对于聚合物固体成分100份加入作为异氰酸酯系多官能化合物的三井武田聚氨酯公司制Takenate D110N1.3份。使用B型粘度计(东机产业制)，在23℃、转子转速20rpm下对该液体进行测定，结果为11000mPa·s。
在实施例10中，将上述距离D1和距离D2设成与实施例1相同，从模涂机7的排出口74将涂布液70涂布于基材片1的第一面。基材片1的厚度为38μm。所涂布的涂布液70的湿润膜厚为77μm，在120℃下干燥后的膜厚为23μm。在涂布涂布液70时，将涂敷宽度设为1250mm，将涂敷速度设为20m/分钟。
对所制造的光学用粘合片中的凹下状的缺陷进行观察，结果发现，没有产生凹下状的缺陷，可有效地抑制凹下状的缺陷的产生。另外，可知所制造的光学用粘合片中的条纹的观察结果为5级，还可有效地抑制条纹状的缺陷的产生。
(实施例11)
在实施例11中，使用水分散型丙烯酸系粘合剂作为涂布液70。在制备该水分散型丙烯酸系粘合剂时，向容器中加入作为原料的丙烯酸丁酯55554份、丙烯酸1667份、单[聚(环氧丙烷)甲基丙烯酸酯]磷酸酯(环氧丙烷的平均聚合度5.0)833份、以及3-甲基丙烯酰氧基丙基-三乙氧基硅烷(信越化学工业(株)制，KBM-503)5份而进行混合，从而得到单体混合物。接着，向所制备的单体混合物58060份中，加入作为反应性乳化剂的AQUALON HS-10(第一工业制药公司制)871份、离子交换水24011份，使用均质机(特殊机化工业(株)制)在7000rpm下搅拌10分钟，制备单体乳液。接着，向带有冷却管、氮导入管、温度计、滴加漏斗和搅拌桨的反应容器中投入如上所述制备而得的单体乳液中的10000份以及离子交换水10703份，然后对反应容器充分进行了氮置换后，添加过硫酸铵10份，在60℃下聚合1小时。接着，将残存的单体乳液中的72941份向反应容器中滴加3小时，然后聚合3小时。进而，在其后，一边进行氮置换，一边在65℃下聚合5小时，得到固体成分浓度为62％的水分散型粘合剂水溶液。接着，将上述乳液溶液冷却至室温后，添加浓度10％的氨水20份，进而用蒸馏水调制固体成分而达到60％。使用B型粘度计(东机产业制)，在23℃、转子转速20rpm下对该液体进行测定，结果为5000mPa·s。
在实施例11中，设成上述距离D1为2.1mm、上述距离D2为15μm，从模涂机7的排出口74将涂布液70涂布于基材片1的第一面。基材片1的厚度为38μm。所涂布的涂布液70的湿润膜厚为38μm，在120℃下干燥后的膜厚为23μm。在涂布涂布液70时，将涂敷宽度设为1250mm，将涂敷速度设为20m/分钟。
对所制造的光学用粘合片中的凹下状的缺陷进行观察，结果发现，没有产生凹下状的缺陷，可有效地抑制凹下状的缺陷的产生。另外，可知所制造的光学用粘合片中的条纹的观察结果为5级，还可有效地抑制条纹状的缺陷的产生。
(实施例12)
在实施例12中，使用水分散型丙烯酸系粘合剂作为涂布液70。在制备该水分散型丙烯酸系粘合剂时，向容器中加入作为原料的丙烯酸丁酯55554份、丙烯酸2776份、单[聚(环氧丙烷)甲基丙烯酸酯]磷酸酯(环氧丙烷的平均聚合度5.0)1665份、以及3-甲基丙烯酰氧基丙基-三乙氧基硅烷(信越化学工业(株)制，KBM-503)5份而进行混合，得到单体混合物。接着，在所制备的单体混合物58060份中加入作为反应性乳化剂的AQUALON HS-10(第一工业制药公司制)1300份、离子交换水38700份，使用均质机(特殊机化工业(株)制)在7000rpm下搅拌10分钟，制备单体乳液。然后，在带有冷却管、氮导入管、温度计、滴加漏斗以及搅拌桨的反应容器中投入如上所述制备而得的单体乳液中的20000份以及离子交换水35000份，接着对反应容器充分进行氮置换，然后添加过硫酸铵10份，在60℃下聚合1小时。然后，将残存的单体乳液中的80000份向反应容器中滴加3小时，然后聚合3小时，进而，在其后，一边进行氮置换，一边在65℃下聚合5小时，得到固体成分浓度为45％的水分散型粘合剂水溶液。接着，将上述乳液溶液冷却至室温后，添加10％的氨水，调制为pH8，进而相对于乳液的固体成分100，进一步添加改性聚丙烯酸系增稠剂SN THICKENER640(SANNOPCO(株)制)1.5份，进而加入离子交换水而制备成固体成分20％。使用B型粘度计(东机产业制)，在23℃、转子转速20rpm下对该液体进行测定，结果为500mPa·s。
在实施例12中，设成上述距离D1为2.1mm、上述距离D2为15μm，从模涂机7的排出口74将涂布液70涂布于基材片1的第一面。基材片1的厚度为38μm。所涂布的涂布液70的湿润膜厚为125μm，在120℃下干燥后的膜厚为25μm。在涂布涂布液70时，将涂敷宽度设为1250mm，将涂敷速度设为20m/分钟。
对所制造的光学用粘合片中的凹下状的缺陷进行观察，结果发现，没有产生凹下状的缺陷，可有效地抑制凹下状的缺陷的产生。另外，可知所制造的光学用粘合片中的条纹的观察结果为3级，还可相对地抑制条纹状的缺陷的产生。
(比较例1)
在比较例1中，设成上述距离D1为0mm、上述距离D2为0μm，即，设成开始线P1与边界线P2相一致，从模涂机7的排出口74将涂布液70涂布于基材片1的第一面。其他的条件与实施例1的情况相同。
可知所制造的光学用粘合片中的条纹的观察结果为等级5，条纹状的缺陷的产生受到抑制。另一方面，对所制造的光学用粘合片中的凹下状的缺陷进行观察，结果发现，凹下状的缺陷在1m中产生了48个，无法防止凹下状的缺陷。
(比较例2)
在比较例2中，设成上述距离D1为55.0mm、上述距离D2为10450μm，从模涂机7的排出口74将涂布液70涂布于基材片1的第一面。其他的条件与实施例1的情况相同。
对所制造的光学用粘合片中的凹下状的缺陷进行观察，结果发现，没有产生凹下状的缺陷，抑制了凹下状的缺陷的产生。另一方面，可知所制造的光学用粘合片中的条纹的观察结果为1级，无法防止条纹状的缺陷。
(比较例3)
在比较例3中，设成上述距离D1为1.1mm、上述距离D2为4μm，从模涂机7的排出口74中将涂布液70涂布于基材片1的第一面。其他的条件与实施例1的情况相同。
可知所制造的光学用粘合片中的条纹的观察结果为5级，抑制了条纹状的缺陷的产生。另一方面，对所制造的光学用粘合片中的凹下状的缺陷进行观察，结果发现凹下状的缺陷在1m中产生了20个，无法防止凹下状的缺陷。
(比较例4)
在比较例4中，设成上述距离D1为55.0mm、上述距离D2为10450μm，从模涂机7的排出口74将涂布液70涂布于基材片1的第一面。基材片1的厚度为75μm。其他的条件与实施例1的情况相同。
对所制造的光学用粘合片中的凹下状的缺陷进行观察，结果发现，没有产生凹下状的缺陷，抑制了凹下状的缺陷的产生。另一方面，可知所制造的光学用粘合片中的条纹的观察结果为2级，无法防止条纹状的缺陷。
(比较例5)
在比较例5中，设成上述距离D1为1.1mm、上述距离D2为4μm，从模涂机7的排出口74将涂布液70涂布于基材片1的第一面。基材片1的厚度为39μm。所涂布的涂布液70的湿润膜厚为170μm，在120℃下干燥后的膜厚为65μm。其他的条件与实施例1的情况相同。
可知所制造的光学用粘合片中的条纹的观察结果为4级，抑制了条纹状的缺陷的产生。另一方面，对所制造的光学用粘合片中的凹下状的缺陷进行观察，结果发现，凹下状的缺陷在1m中产生了5个，无法有效地防止凹下状的缺陷。
(比较例6)
在比较例6中，设成上述距离D1为100.0mm、上述距离D2为38200μm，从模涂机7的排出口74将涂布液70涂布于基材片1的第一面。基材片1的厚度为39μm。所涂布的涂布液70的湿润膜厚为20μm，在120℃下干燥后的膜厚为8μm。其他的条件与实施例1的情况相同。
对所制造的光学用粘合片中的凹下状的缺陷进行观察，结果发现，没有产生凹下状的缺陷，抑制了凹下状的缺陷的产生。另一方面，可知所制造的光学用粘合片中的条纹的观察结果为1级，无法防止条纹状的缺陷。
实验结果如下述表1所述。
【表1】
Figure BDA00003266967600291
符号说明
1    基材片
2    膜构件
3    片状制品
4    卷筒体
5    传送辊
6    前处理装置
7    模涂机
8    支承辊
9    干燥装置
10   卷筒体
11   底涂装置
12   贴合辊
13   卷筒体
70   涂布液
71    唇部
72    分流器
73    槽
74    排出口
100   异物
P1    开始线
P2    边界线
P3    辊上线
P4    边界线

Claims (9)

1.一种涂布液的涂布方法，一边传送具有挠性的基材片，一边从沿着与该基材片的传送方向正交的宽度方向呈线状延伸的模涂机的排出口，将涂布液涂布于所述基材片的第一面，其特征在于，
在使所述基材片中与被涂布所述涂布液的一侧的第一面为相反侧的第二面与辊的外周面抵接的状态下，一边伴随着所述辊的旋转来传送所述基材片，一边从位于所述辊的下游侧的所述模涂机的排出口将涂布液涂布于所述基材片的第一面，
其中，开始线与边界线之间的距离为50mm以内，所述开始线是假想线与所述基材片的第二面相交的线，所述假想线通过所述模涂机的排出口且与所述基材片正交，所述边界线是：在该开始线的上游侧所述基材片的第二面伴随着所述辊的旋转而从该辊的外周面离开的线，
所述假想线与所述辊的外周面相交的辊上线和所述开始线之间的距离为5μm以上。
2.一种涂布液的涂布方法，一边传送具有挠性的基材片，一边从沿着与该基材片的传送方向正交的宽度方向呈线状延伸的模涂机的排出口，将涂布液涂布于所述基材片的第一面，其特征在于，
在使所述基材片中与被涂布所述涂布液的一侧的第一面为相反侧的第二面与辊的外周面抵接的状态下，一边伴随着所述辊的旋转来传送所述基材片，一边从位于所述辊的上游侧的所述模涂机的排出口将涂布液涂布于所述基材片的第一面，
其中，开始线与边界线之间的距离为50mm以内，所述开始线是假想线与所述基材片的第二面相交的线，所述假想线通过所述模涂机的排出口且与所述基材片正交，所述边界线是：在该开始线的下游侧所述基材片的第二面开始与所述辊的外周面抵接的线，
所述假想线与所述辊的外周面相交的辊上线和所述开始线之间的距离为5μm以上。
3.根据权利要求1或2所述的涂布液的涂布方法，其特征在于，
涂布于所述基材片的涂布液的湿润膜厚为10～150μm。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的涂布液的涂布方法，其特征在于，
涂布于所述基材片的涂布液中的固体成分的重量百分比浓度为5～70％。
5.一种涂布液的涂布装置，其是一边传送具有挠性的基材片，一边从沿着与该基材片的传送方向正交的宽度方向呈线状延伸的模涂机的排出口，将涂布液涂布于所述基材片的第一面的装置，其特征在于，
其具备：
辊，所述辊在使其外周面抵接于所述基材片中与被涂布所述涂布液的一侧的第一面为相反侧的第二面的状态下进行旋转，从而传送所述基材片，和
模涂机，所述模涂机从位于所述辊的下游侧的排出口将涂布液涂布于所述基材片的第一面；
其中，开始线与边界线之间的距离为50mm以内，所述开始线是假想线与所述基材片的第二面相交的线，所述假想线通过所述模涂机的排出口且与所述基材片正交，所述边界线是：在该开始线的上游侧所述基材片的第二面伴随着所述辊的旋转而从该辊的外周面离开的线，
所述假想线与所述辊的外周面相交的辊上线和所述开始线之间的距离为5μm以上。
6.一种涂布液的涂布装置，其是一边传送具有挠性的基材片，一边从沿着与该基材片的传送方向正交的宽度方向呈线状延伸的模涂机的排出口将涂布液涂布于所述基材片的第一面的装置，其特征在于，
其具备：
辊，所述辊在使其外周面抵接于所述基材片中与被涂布所述涂布液的一侧的第一面为相反侧的第二面的状态下进行旋转，从而传送所述基材片，和
模涂机，所述模涂机从位于所述辊的上游侧的排出口将涂布液涂布于所述基材片的第一面；
其中，开始线与边界线之间的距离为50mm以内，所述开始线是假想线与所述基材片的第二面相交的线，所述假想线通过所述模涂机的排出口且与所述基材片正交，所述边界线是：在该开始线的下游侧，所述基材片的第二面开始与所述辊的外周面抵接的线，
所述假想线与所述辊的外周面相交的辊上线和所述开始线之间的距离为5μm以上。
7.根据权利要求5或6所述的涂布液的涂布装置，其特征在于，
涂布于所述基材片的涂布液的湿润膜厚为10～150μm。
8.根据权利要求5～7中任一项所述的涂布液的涂布装置，其特征在于，
涂布于所述基材片的涂布液中的固体成分的重量百分比浓度为5～70％。
9.一种涂布物的制造方法，其特征在于，
通过权利要求1～4中任一项所述的涂布液的涂布方法，制造出将所述涂布液涂布于所述基材片而得的涂布物。
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